JPS61210545A - Forgery-prevented card - Google Patents

Forgery-prevented card

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Publication number
JPS61210545A
JPS61210545A JP60051999A JP5199985A JPS61210545A JP S61210545 A JPS61210545 A JP S61210545A JP 60051999 A JP60051999 A JP 60051999A JP 5199985 A JP5199985 A JP 5199985A JP S61210545 A JPS61210545 A JP S61210545A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
card
optical
optical recording
adhesive
Prior art date
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Pending
Application number
JP60051999A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Wataru Kuramochi
倉持 渉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP60051999A priority Critical patent/JPS61210545A/en
Publication of JPS61210545A publication Critical patent/JPS61210545A/en
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Abstract

PURPOSE:To prevent easily forgery by adhering an optical recording part and protective layer or card base material at the adhesive power varied within the adhesive surface so that the optical recording part is ruptured at the bound ary between the different adhesive powers in the stage of stripping said part. CONSTITUTION:A primer treated part 5 is formed to part of the adhesive surfaces between the optical recording part 2 and the protective layer 3 and the primer treated part 5 is formed to part of the adhesive surfaces between the optical recording part 2 and a card base material 4. The adhesive power between the 1st recording layer and the layer 3 is varied within the adhesive surfaces thereof in the case of constituting the recording part 2 of the 1st record ing layer consisting of a light transmitting part and light shielding part and the 2nd recording layer consisting of a thin reflective metallic film layer. The recording part 2 is then ruptured at the boundary between the different adhesive powers when the optical card 1 is stripped at every constituting part. The forgery of the card 1 is thus prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は光記録部を有する光カードに関し、さらに詳
しくは、光記録部の偽造を防止することのできる光カー
ドに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical card having an optical recording section, and more particularly to an optical card that can prevent counterfeiting of the optical recording section.

〔従来技術およびその問題点〕[Prior art and its problems]

光学的に情報が記録・再生される光記録部を有する光カ
ードは、磁気材料が埋設された磁気カードに比較して、
高密度に情報を記録・再生することができ、光記録部の
記録寸法が1.5〜50μmのように微細であることか
ら光記録部自体を複製して偽造することが容易でないと
いう特徴を持っている。したがって、光カードは磁気カ
ードに代ってもしくは磁気と併用して、クレジットカー
ド、バンクカード、キャッシュカード、10カードなど
の種々のカードに広く利用されつつある。
Optical cards that have an optical recording section on which information is optically recorded and reproduced have a
Information can be recorded and reproduced with high density, and the recording dimensions of the optical recording section are minute, such as 1.5 to 50 μm, so it is not easy to copy and counterfeit the optical recording section itself. have. Therefore, optical cards are being widely used in place of magnetic cards or in combination with magnetic cards for various cards such as credit cards, bank cards, cash cards, and 10 cards.

しかしながら、光カードは、通常、カード基材、光記録
部およびその保護層とから主に構成され、各部にill
を持たせつつそれと接合・積層して製造されている(例
えば、特願昭57−49716号)。また、光記録部を
写真的複製法によって調製し、読み取り専用情報(Re
ad Only M emory)、書き込み用ガイド
およびアドレス番号などを事前に記録する製造法(例え
ば、特願昭55−91586号、特願昭59−7158
2号、特願昭59−71583号)においても、光カー
ドはカード基材、光記録部およびその保護層とから主に
構成され、それらが結合されて製造されている。
However, optical cards are usually mainly composed of a card base material, an optical recording section, and a protective layer thereof, and each part has illumination.
It is manufactured by bonding and laminating it with the same material (for example, Japanese Patent Application No. 57-49716). In addition, an optical recording part was prepared by a photographic reproduction method, and read-only information (Re
ad Only Memory), a manufacturing method in which writing guides and address numbers are recorded in advance (e.g., Japanese Patent Application No. 55-91586, Japanese Patent Application No. 59-7158).
No. 2, Japanese Patent Application No. 59-71583), an optical card is mainly composed of a card base material, an optical recording section, and its protective layer, and these are manufactured by bonding them together.

したがって、光記録部自体の複製偽造が困難であっても
、カード流通中にカードの構成部分ごとに接合部で剥離
して光記録部を改変・再接合することが比較的に容易で
あるために、従来の光カードには、偽造・悪用されると
いう問題点がある。
Therefore, even if it is difficult to copy or forge the optical recording part itself, it is relatively easy to peel off each constituent part of the card at the joint and modify and rejoin the optical recording part during card distribution. Another problem with conventional optical cards is that they can be counterfeited or misused.

この発明は上述の問題点を解決するためになされたもの
であり、その目的とするところは容易に偽造することの
できない光カードを提供することである。
This invention was made to solve the above-mentioned problems, and its purpose is to provide an optical card that cannot be easily counterfeited.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明の光カードは、カード基材上に光記録部および
保iI層を積層されたものであって、光記録部と挾着す
る保護層および/またはカード基材と光記録部との接着
力が接着面内で相違することを特徴とするものである。
The optical card of the present invention has an optical recording section and an insulating II layer laminated on a card base material, and includes a protective layer that clamps the optical recording section and/or an adhesive between the card base material and the optical recording section. It is characterized in that the force is different within the adhesive surface.

この発明における光記録部は、光学的に情報が記録・再
生される領域、さらに具体的には光透過度の相違および
/または光反射率の相違によって情報の書き込みおよび
読み出しが行なわれる領域である。
The optical recording section in this invention is an area where information is optically recorded and reproduced, and more specifically, an area where information is written and read based on differences in light transmittance and/or differences in light reflectance. .

この発明において、光記録部と保護層との間の接着力が
、もしくは光記録部とカード基材との間の接着力が、そ
れぞれの接着面内で相違するように光カードが形成され
る。この相違させる方法として、種々のものがあり、例
えば、光記録部またはカード基材の表面の一部にブライ
マー処理して接着力を部分的に強める方法、逆に光記録
部またはカード基材の表面に剥離処理を施して接着力を
部分的に弱める方法、また接合用の接着剤を部分的に変
える方法がある。これらについての処理法として通常の
コーティング法の他、プラズマ処理、PVD、CVDな
どの薄膜処理などがある。
In this invention, the optical card is formed such that the adhesive force between the optical recording part and the protective layer or the adhesive force between the optical recording part and the card base material is different within each adhesive surface. . There are various ways to make this difference. For example, a method of applying a primer treatment to a part of the surface of the optical recording part or card base material to strengthen the adhesive force partially, and conversely, There are methods of partially weakening the adhesive force by subjecting the surface to peeling treatment, and methods of partially changing the bonding adhesive. Processing methods for these include ordinary coating methods, plasma processing, thin film processing such as PVD, and CVD.

例えば、第1図および第3図に示す光カード1では、光
記録部2と保fI層3との間の接着面の一部にブライマ
ー処理部5を、また、光記憶部2とカード基材4との間
の接着面の一部にブライマー処理部5を形成する。
For example, in the optical card 1 shown in FIG. 1 and FIG. A brimer-treated portion 5 is formed on a part of the bonding surface with the material 4.

この発明において接着力を相違させる場合、接着力が変
化する境界を、複製困難な地紋などの偶然性の^いパタ
ーンに重ねることが好ましい。このことにより高い偽造
防止効果が期待される。
In the case where the adhesive strength is varied in the present invention, it is preferable that the boundary where the adhesive strength changes is overlapped with a random pattern such as a background pattern that is difficult to reproduce. This is expected to provide a high counterfeit prevention effect.

さらに、光記録部が、光透過部および遮光部からなる第
1記録層と反射性金属薄膜層からなる第2記録層とから
なる場合、少なくとも第1記録層と保護層との間の接着
力をその接着面内で相違するように実施することが望ま
しい。
Furthermore, when the optical recording section is composed of a first recording layer consisting of a light transmitting section and a light blocking section and a second recording layer consisting of a reflective metal thin film layer, the adhesive force between at least the first recording layer and the protective layer It is desirable to carry out the method differently within its adhesive surface.

〔作用および発明の効果〕[Action and effect of the invention]

この発明の光カードにおいて、光記録部の接着面内で接
着力が相違しているために、カードの構成部分ごとに剥
離しようとすると光記録部が、接着力が相違する境界か
ら破断する。したがって、光記録部の記録寸法が1.5
〜50μ汎のように微細であって光記録部自体を複製・
偽造することが容易でないことと、この発明の効果とが
相俟って光カードの偽造をほぼ完全に防止することがで
きる。
In the optical card of the present invention, since the adhesive strength is different within the adhesive surface of the optical recording part, when an attempt is made to peel off each constituent part of the card, the optical recording part breaks at the boundary where the adhesive strength is different. Therefore, the recording dimension of the optical recording section is 1.5
The optical recording section itself can be replicated and
The combination of the fact that it is not easy to forge and the effects of the present invention makes it possible to almost completely prevent forgery of optical cards.

〔実施例〕〔Example〕

以下、この発明の光カードの一実施例と、図面と参照し
つつ示して、この発明を具体的に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to an embodiment of the optical card of the present invention and the drawings.

この実施例の光カード1は、第2図に示すように、保護
層3と光記録部2とカード基材4とから主に構成され、
それらが接合一体化されたものである。
As shown in FIG. 2, the optical card 1 of this embodiment is mainly composed of a protective layer 3, an optical recording section 2, and a card base material 4.
They are joined and integrated.

この実施例において光記録部2は、第1記録層2aとそ
れと隣接する第2記録層2bとからなる。
In this embodiment, the optical recording section 2 consists of a first recording layer 2a and a second recording layer 2b adjacent thereto.

第1記録層2aは保護層3の下面に設けられ、他方第2
記録層2bは接着剤層7を介してカード基材4面と接合
されている。
The first recording layer 2a is provided on the lower surface of the protective layer 3, and the second
The recording layer 2b is bonded to the four surfaces of the card base material via the adhesive layer 7.

この実施例におけるカード基材4は、不透明基材層4a
と透明基材層4bとの積層体からなる。
The card base material 4 in this example has an opaque base material layer 4a.
and a transparent base material layer 4b.

場合によっては、カード基材4の下面もしくは保護層3
の上面に磁気記録体を設けてもよい。また、光記録部2
をカード面の全体もしくはその一面に設けてもよい。さ
らに、必要に応じてICメモリー、写真、彫刻画像し、
文字、マーク、インプリントと称する浮き出し文字など
を、光カードの表面に併設してもよい。このようにする
ことによって、1枚のカードで種々の再生方式に対応で
きる。
In some cases, the lower surface of the card base material 4 or the protective layer 3
A magnetic recording body may be provided on the upper surface of the . In addition, the optical recording section 2
may be provided on the entire card surface or one surface thereof. Furthermore, we can store IC memory, photos, and engraving images as necessary.
Characters, marks, raised characters called imprints, etc. may also be provided on the surface of the optical card. By doing so, one card can support various playback methods.

実施例において、保護層の外側表面に表面硬化層6が設
けられ、さらにこの発明に従って第1記録1i2aと保
護層3との接合面の一部に、また第2記録層の接合面の
一部にブライマー処理が施されている。
In the embodiment, a surface hardening layer 6 is provided on the outer surface of the protective layer, and furthermore, according to the invention, a surface hardening layer 6 is provided on a part of the joint surface between the first recording layer 1i2a and the protective layer 3, and also on a part of the joint surface of the second recording layer. is treated with brimer treatment.

以下、この実施例の光カードの構成部材について詳細に
説明づる。
The constituent members of the optical card of this embodiment will be explained in detail below.

カード基材 カード基材4としては、通常のカードの基材として用い
ることができるあらゆる材料が用いられうる。具体的に
は、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体
、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチルなどの
アクリル系重合体、ポリスチレン、ポリビニルブチラー
ル、アセチルセルロース、スチレン/ブタジェン共重合
体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート
などが用いられる。場合によっては、鉄、ステンレス、
アルミニウム、スズ、銅、亜鉛などの金属シート、合成
紙、紙なども用いられうる。さらに、上記のような材料
の積層体も用いられる。このうち、不透明材料層4aと
しては、白色硬質ポリ塩化ビニルが好ましく、透明材料
層4bとしては、透明硬質ポリ塩化ビニルが好ましい。
Card base material As the card base material 4, any material that can be used as a base material for a normal card can be used. Specifically, polyvinyl chloride, vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, polyvinylidene chloride, acrylic polymers such as polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl butyral, acetylcellulose, styrene/butadiene copolymer, polyethylene, Polypropylene, polycarbonate, etc. are used. In some cases, iron, stainless steel,
Metal sheets of aluminum, tin, copper, zinc, etc., synthetic paper, paper, etc. may also be used. Furthermore, a laminate of the materials mentioned above may also be used. Among these, white hard polyvinyl chloride is preferable as the opaque material layer 4a, and transparent hard polyvinyl chloride is preferable as the transparent material layer 4b.

保護層 保護層3としては、光透過性であるガラス、セラミック
、紙、プラスチックフィルム、織布、不織布などあらゆ
るタイプの材料が用いられうるが、生産性および平滑性
の点からガラスあるいはプラスチックフィルムが好まし
い。プラスチックとしては、セルロース誘導体、ポリエ
ステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ビニル系樹脂、ポ
リイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエーテル樹脂、
ポリスルホン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリメチルペンテ
ン樹脂、トリアセテートなどを用いることができ、透明
性および平滑性の点から、セルローストリアセテート、
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、アク
リル、ポリ塩化ビニル、ポリサルホン、ポリメチルペン
テンなどが特に好ましい。この保護層3にこの発明に従
って部分的にコロナ放電処理、プラズマ処理、ブライマ
ー処理などの接着性改良のための前処理をしてもよい。
Protective layer The protective layer 3 can be made of any type of material that is transparent, such as glass, ceramic, paper, plastic film, woven fabric, or nonwoven fabric. However, from the viewpoint of productivity and smoothness, glass or plastic film is preferable. preferable. Plastics include cellulose derivatives, polyester resins, polycarbonate resins, vinyl resins, polyimide resins, acrylic resins, polyether resins,
Polysulfone resin, polyamide resin, polymethylpentene resin, triacetate, etc. can be used, and from the viewpoint of transparency and smoothness, cellulose triacetate,
Particularly preferred are polyethylene terephthalate, polycarbonate, acrylic, polyvinyl chloride, polysulfone, polymethylpentene, and the like. According to the present invention, this protective layer 3 may be partially pretreated to improve adhesion, such as corona discharge treatment, plasma treatment, and brimer treatment.

第1記録層 第1記録層2aは、光透過部および遮光部から構成され
ている。この第1記録層2aは、たとえば未露光部が光
透過性となり露光部が遮光性となる感光材をパターン露
光し、次いで現像することによって形成され。場合によ
っては、未露光部が遮光性となり、露光部が光透過性と
なる感光材をパターン露光し次いで現像することによっ
て、第1記録層2aを形成してもよい。
First Recording Layer The first recording layer 2a is composed of a light transmitting part and a light shielding part. The first recording layer 2a is formed, for example, by exposing a photosensitive material in a pattern such that unexposed areas are light-transmissive and exposed areas are light-blocking, and then developed. In some cases, the first recording layer 2a may be formed by exposing a photosensitive material in a pattern such that unexposed areas are light-shielding and exposed areas are light-transmitting, followed by development.

感光材は、たとえば(イ)バインダーとしての透明樹脂
、(ロ)ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現
像抑制剤および(ハ)還元されて金属現像核となる金属
錯化合物または金属化合物から構成されている。この感
光材においては、バインダーとしての透明樹脂100重
量部に対して、ジアゾ基またはアジド基を有する光分解
性の現像抑制剤は1〜100重量部好ましくは20〜5
0重量部の量で存在し、還元されて金属現像核となる金
属錯化合物または金属化合物は0.1〜100重量部好
ましくは1〜10重量部の量で存在している。上記の現
像抑制剤、金属錯化合物または金属化合物は、バインダ
ーとしての透明樹脂中に溶解あるいは分散されているが
、好ましくは溶解されている。
The photosensitive material is made of, for example, (a) a transparent resin as a binder, (b) a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound or metal compound that is reduced to become a metal development nucleus. It is configured. In this photosensitive material, the amount of a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group is 1 to 100 parts by weight, preferably 20 to 5 parts by weight, per 100 parts by weight of a transparent resin as a binder.
The metal complex compound or metal compound which is reduced to become metal development nuclei is present in an amount of 0.1 to 100 parts by weight, preferably 1 to 10 parts by weight. The development inhibitor, metal complex compound, or metal compound described above is dissolved or dispersed in the transparent resin as a binder, and is preferably dissolved.

透明樹脂としては、親油性あるいは親水性の透明樹脂の
いずれもが使用できる。親油性透明樹脂としては、ポリ
酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル/アクリル酸エステル共重
合樹、脂、アクリル酸/酢酸ビニル共重合樹脂、エチレ
ン/酢酸ビニル共重合樹脂などのエステル基を有する樹
脂、酢酸セルロースなどの水酸基を有する樹脂、カルボ
ン酸基あるいはスルホン酸基を含む変性酢酸ビニル系樹
脂などが挙げられる。
As the transparent resin, either lipophilic or hydrophilic transparent resin can be used. Lipophilic transparent resins include polyvinyl acetate resin, vinyl acetate/acrylic acid ester copolymer resin, resin, resin having ester groups such as acrylic acid/vinyl acetate copolymer resin, ethylene/vinyl acetate copolymer resin, and cellulose acetate. Examples include resins having a hydroxyl group such as, modified vinyl acetate resins containing a carboxylic acid group or a sulfonic acid group, and the like.

また、光記録特性上はヒートモードで変形する性質を有
するニトロセルロースなどのセルロース誘導体をこれら
の親油性透明樹脂に添加することも高感度化のために有
効である。
Furthermore, in terms of optical recording properties, it is also effective to add cellulose derivatives such as nitrocellulose, which have the property of deforming in a heat mode, to these lipophilic transparent resins to increase sensitivity.

また、親水性の透明樹脂としては、ゼラチン、カゼイン
、グル−、アラビアゴム、セラックなどの天然高分子化
合物、カルボキシメチルセルロース、卵白アルブミン、
ポリビニルアルコール(部分ケン化ポリ酢酸ビニル)、
ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロ
リドン、ポリエチレンオキシド、無水マレイン酸共重合
体などの合成樹脂が用いられるが、水溶性ないし親水性
樹脂である限りにおいて、上記以外のものも使用可能で
ある。バインダーとしての親水性透明樹脂には、この透
明樹脂により感光材層を形成して物理現像液と接触させ
る際に、物理現像液が感光剤層に浸透して物理現像が可
能となる程度の親水性を有することが好ましい。
In addition, hydrophilic transparent resins include natural polymer compounds such as gelatin, casein, glue, gum arabic, and shellac, carboxymethyl cellulose, egg albumin,
Polyvinyl alcohol (partially saponified polyvinyl acetate),
Synthetic resins such as polyacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, and maleic anhydride copolymers are used, but other resins than the above can also be used as long as they are water-soluble or hydrophilic resins. The hydrophilic transparent resin used as a binder has such hydrophilicity that when a photosensitive material layer is formed using this transparent resin and brought into contact with a physical developer, the physical developer penetrates into the photosensitive material layer and physical development is possible. It is preferable that the

また光記録特性上はヒートモードで変形し易い性質のあ
る、ニトロセルロースなどの低分子量物質をエタノール
溶解して上記の親水性透明樹脂に添加することも有効で
ある。
In addition, it is also effective to dissolve a low molecular weight substance such as nitrocellulose, which has a property of being easily deformed in a heat mode in terms of optical recording properties, in ethanol and add it to the above-mentioned hydrophilic transparent resin.

現像抑制剤としては、ジアゾ基またはアジド基を有する
化合物が用いられる。ジアゾ基を有する化合物としては
ジアゾ基を有する塩化亜鉛複塩もしくはホウフッ化塩、
またはこれらの化合物とパラホルムアルデヒドより得ら
れる綜合生成物である化合物が好ましい。より具体的に
は、I)−N。
As the development inhibitor, a compound having a diazo group or an azide group is used. Examples of compounds having a diazo group include zinc chloride double salts or fluoroborate salts having a diazo group;
Alternatively, compounds which are synthesis products obtained from these compounds and paraformaldehyde are preferred. More specifically, I)-N.

N−ジエチルアミノベンゼンアゾニウム塩化亜鉛複、塩
、p−N−エチル−N−βヒドロキシエチルアミノベン
ゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、4−モルフォリノ−2
,6−ジェトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、
4−モルフォリノ−2゜5−ジブトキシベンゼンジアゾ
ニウム塩化亜鉛複塩、4−ベンゾイルアミノ−2,5−
ジェトキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、4−(
4’−メトキシベンゾイルアミノ)−2,5−ジェトキ
シベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛複塩、4−(p−トル
イルメルカプト)−2,5−ジメトキシベンゼンジアゾ
ニウム塩化亜鉛複塩、4−ジアゾ−4′−メトキシジフ
ェニルアミン塩化亜鉛複塩、4−ジアゾ−3−メトキシ
−ジフェニルアミン塩化亜鉛複塩などのジアゾ基を有す
る塩化亜鉛複塩もしくは以上のような塩化亜鉛複塩の代
わりに上記のホウフッ化塩、硫酸塩、リン酸塩なども使
用できる。
N-diethylaminobenzeneazonium zinc chloride double salt, p-N-ethyl-N-β hydroxyethylaminobenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-morpholino-2
, 6-jethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt,
4-morpholino-2゜5-dibutoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-benzoylamino-2,5-
Jetoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-(
4'-methoxybenzoylamino)-2,5-jethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-(p-tolylmercapto)-2,5-dimethoxybenzenediazonium zinc chloride double salt, 4-diazo-4'-methoxy In place of the zinc chloride double salt having a diazo group such as diphenylamine zinc chloride double salt, 4-diazo-3-methoxy-diphenylamine zinc chloride double salt, or the above zinc chloride double salt, the above borofluoride salt, sulfate, Phosphates can also be used.

アジド基を有する化合物としては、p−アジドアセトフ
ェノン、4.4′−ジアジドカルコン、2.6−ビス−
(4′−アジドベンザル)−アセトン、2.6−ビス−
(4′−アジドベンザル)−シクロヘキサノン、2,6
−ビス=(4′−アジドベンザル)−4−メチルシクロ
ヘキサノン、2.6−ビス(4′−アジドスチリル)−
アセトン、アジドピレンなどが使用できる。ジアゾ因も
しくはアジド基を有する限り上記以外の化合物も使用す
ることもでき、また、上記したジアゾ基もしくはアジド
基を有する化合物を任意に2種以上併用して使用するこ
ともできる。
Compounds having an azide group include p-azidoacetophenone, 4,4'-diazidechalcone, 2,6-bis-
(4'-azidobenzal)-acetone, 2,6-bis-
(4'-azidobenzal)-cyclohexanone, 2,6
-bis=(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanone, 2,6-bis(4'-azidostyryl)-
Acetone, azidopyrene, etc. can be used. Compounds other than those mentioned above can also be used as long as they have a diazo group or an azide group, and two or more of the above-described compounds having a diazo group or an azide group can also be used in combination.

なおジアゾ基を有する化合物を用いる場合には、この化
合物を安定化させる安定化剤を用いるとよく、有機カル
ボン酸や有機スルホン酸がこの安定化剤として用いるこ
とができ、より実際的にはp−トルエンスルホン酸など
を用いることが好ましい。
In addition, when using a compound having a diazo group, it is recommended to use a stabilizer that stabilizes this compound. Organic carboxylic acids and organic sulfonic acids can be used as this stabilizer, and more practically p - It is preferable to use toluenesulfonic acid or the like.

次に還元されて金属現懺核となる金属錯化合物もしくは
金属化合物について説明する。
Next, the metal complex compound or metal compound which is reduced to become a metal nucleus will be explained.

まず、還元されて金属現像核となる金属錯化合物として
は、パラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の錯化合
物がmいられ、これらの金属に対し電子ドナーとなる配
位子としては通常知られているものを用いることが・で
きる。具体的には、下記のような金属錯化合物が用いら
れる。
First, as metal complex compounds that are reduced and become metal development nuclei, complex compounds of metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper are used, and as ligands that become electron donors for these metals, Commonly known materials can be used. Specifically, the following metal complex compounds are used.

ビス(エチレンジアミン)パラジウム(I)ju、ジク
ロロエチレンジアミンパラジウム(I)13!、ジクロ
ロ(エチレンジアミン)白金(Vl塩、テトラクロロジ
アンミン白金(rV)塩、ジクロロビス(エチレンジア
ミン)白金(rV)塩、テ1−ラエチルアンモニウム銅
(In2、ビス(エチレンジアミン銅(n)F。
Bis(ethylenediamine)palladium(I)ju, dichloroethylenediaminepalladium(I)13! , dichloro(ethylenediamine)platinum (Vl salt, tetrachlorodiamineplatinum(rV) salt, dichlorobis(ethylenediamine)platinum(rV) salt, Te1-raethylammonium copper(In2, bis(ethylenediaminecopper(n)F).

さらに金属の錯化合物を形成する配位子としては、2力
所以上で配位して環状構造をとるいわゆるキレート化剤
を用いると、形成される金属錯化合物の安定性が高いた
めに好適である。キレート化剤としては第1級、第2級
もしくは第3級アミン類、オキシム類、イミン類、ケト
ン類を挙げることができ、より具体的にはジメチルグリ
オキシム、ジチオン、オキシン、アセチルアセトン、グ
リジン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ウ
ラミルニ酢酸などの化合物が用いられる。
Furthermore, as a ligand for forming a metal complex compound, it is preferable to use a so-called chelating agent that forms a cyclic structure by coordinating at two or more sites because the stability of the metal complex compound formed is high. be. Examples of chelating agents include primary, secondary or tertiary amines, oximes, imines, and ketones; more specifically, dimethylglyoxime, dithion, oxine, acetylacetone, glycine, Compounds such as ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, and uramyl diacetic acid are used.

上記のキレート化剤を用いたものとしては、ビス(2,
2’ −ビピリジン)パラジウム(ff)塩、ビス(ア
セチルアセトナート)パラジウム(n)、ビス(N、N
−ジエチルエチレンジアミン)銅(II)塩、ビス(2
,2’ −ビピリジン)銅(II)塩、ビス1.10−
フェナントロリン)銅(IF)塩、ビス(ジメチルグリ
オキシマート)銅(II)、ビス(アセチルアセトナー
ト)銅(■)、ビス(アセチルアセトナート)白金(I
I)などが好ましい。
Examples using the above chelating agent include bis(2,
2'-bipyridine)palladium(ff) salt, bis(acetylacetonato)palladium(n), bis(N,N
-diethylethylenediamine) copper(II) salt, bis(2
,2'-bipyridine) copper(II) salt, bis1.10-
phenanthroline) copper (IF) salt, bis(dimethylglyoximate) copper(II), bis(acetylacetonato)copper (■), bis(acetylacetonato)platinum(I)
I) etc. are preferred.

還元されて台底現像核を与える金属化合物としては、パ
ラジウム、金、銀、白金、銅などの金属の塩化物、硝酸
塩などの水溶性塩などの金属化合物が用いられ、具体的
には無電解メッキのアクチベーター液中に含まれる塩化
パラジウム、硝酸銀、四塩化水素金などの塩が好ましい
が、このうちパラジウムの塩が特に好ましい。
As the metal compound that is reduced and provides the bottom development nucleus, metal compounds such as water-soluble salts such as chlorides and nitrates of metals such as palladium, gold, silver, platinum, and copper are used. Salts such as palladium chloride, silver nitrate, and gold tetrachloride contained in the plating activator solution are preferred, and among these, palladium salts are particularly preferred.

上述のような、(イ)バインダーとしての透明樹脂、(
ロ)ジアゾ基またはアジド基を有する光分解性の現像抑
制剤および(ハ)還元されて金属現像核となる金属錯化
合物または金属化合物は、バインダーとしての透明樹脂
に応じて選択された溶剤とともに混合されて、塗布に適
した粘度である10〜1000センチボイズを有する感
光材層形成用塗布液とされる。この感光材層形成用塗布
液は、保IJ13上に通常0.1〜3011mのIll
厚に塗布されて感光材層が形成される。
As mentioned above, (a) transparent resin as a binder, (
b) A photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound or metal compound which is reduced and becomes a metal development nucleus, and is mixed with a solvent selected according to the transparent resin used as the binder. The coating liquid for forming a photosensitive material layer has a viscosity of 10 to 1000 centivoise, which is suitable for coating. This coating solution for forming a photosensitive material layer is applied onto the Ill.
A photosensitive material layer is formed by applying a thick coating.

バインダーとしての透明樹脂を溶解する溶剤としては、
種々の溶剤が使用できるが、親水性透明樹脂を用いる場
合には、水、低級アルコール、ケトン、エーテルなどの
水混和性溶媒、あるいは水の水混和性溶媒との混合溶剤
が用いられる。また、親油性透明樹脂を用いる場合には
、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコールなどの低級アルコール類、アセトン、メチル
エチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢Mn−ブ
チルなどのエステル類、メチルセロソルブなどの極性の
高い溶剤が好ましく用いられる。
As a solvent for dissolving the transparent resin as a binder,
Various solvents can be used, but when using a hydrophilic transparent resin, water, a water-miscible solvent such as a lower alcohol, a ketone, or an ether, or a mixed solvent of water and a water-miscible solvent are used. In addition, when using a lipophilic transparent resin, lower alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, and isopropyl alcohol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, esters such as ethyl acetate and Mn-butyl acetate, and methyl cellosolve may be used. A highly polar solvent is preferably used.

なお、親水性の透明樹脂を用いる場合には、感光材層を
形成後、物理現像処理中の現像液へのバインダーなどの
溶出を抑制するため、硬膜処理を行うことが望ましい。
In addition, when using a hydrophilic transparent resin, it is desirable to perform hardening treatment after forming the photosensitive material layer in order to suppress elution of the binder and the like into the developer during physical development.

硬膜処理は、たとえば下記化合物を感光材形成用塗布液
中に透明樹脂100部に対して0.1〜50部の量で予
じめ混合するか、あるいは下記化合物の水溶液をすでに
形成された感光材層上に塗布することにより行なうこと
ができる。
For example, the hardening treatment can be carried out by pre-mixing the following compound in a coating solution for forming a photosensitive material in an amount of 0.1 to 50 parts per 100 parts of the transparent resin, or by adding an aqueous solution of the following compound to the coating solution that has already been formed. This can be done by coating on the photosensitive material layer.

カリ明パン、アンモニウム明パンなどのA1化合物ニク
ロム明パン、硫酸クロムなどのCr化合物;ホルムアル
デヒド、グリオキザル、グルタルアルデヒド、2−メチ
ルグルタルアルデヒド、サクシナルデヒドなどのアルデ
ヒド類、;0−ベンゾキノン、p−ベンゾキノン、シク
ロヘキサン−1,2−ジオン、シクロペンタン−1,2
−ジオン、ジアセチル、2,3−ペンタンジオン、2゜
5−ヘキサンジオン、2.5−ヘキセンジオンなどのジ
ケトン;トリグリシジルイソシアヌル酸塩などのエポキ
シド;テトラフタロイルクロリド、4.4′−ジフェニ
ルメタンジスルフオニルクロリドなどの酸無水物;タン
ニン酸、没食子酸、2゜4−ジクロo−6−ヒドロキシ
−5−トリアジン、ならびに一般式R2NPOx2 R−N−C=N−R’  (ここでRは炭素2〜6のア
ルキル基、R′は (CH) N+ (CH3)3X−基、XはFまたはC
j、nは1または2)で表わされるリン化合物またはカ
ルボジイミド;スチレン/マレイン酸共重合体、ビニル
ピロリドン/マレイン酸共重合体、ビニルメチルエーテ
ル/マレイン酸共重合体、エチレンイミン/マレイン酸
共重合体、メタクリルl/メタグリOニトリル共重合体
、ポリメタクリルアミド、メタクリル酸エステル共重合
体などの樹脂類、グルタル酸、コハク酸、リンゴ酸、乳
酸、クエン酸、アスパラギ′ン酸、ゲルコール酸、酒石
酸など。
Aldehydes such as formaldehyde, glyoxal, glutaraldehyde, 2-methylglutaraldehyde, succinaldehyde; 0-benzoquinone, p- Benzoquinone, cyclohexane-1,2-dione, cyclopentane-1,2
- Diones, diacetyl, diketones such as 2,3-pentanedione, 2゜5-hexanedione, 2.5-hexanedione; epoxides such as triglycidyl isocyanurate; tetraphthaloyl chloride, 4,4'-diphenylmethanedis Acid anhydrides such as fluoronyl chloride; tannic acid, gallic acid, 2゜4-dichloroo-6-hydroxy-5-triazine, and the general formula R2NPOx2 R-N-C=N-R' (where R is C2-6 alkyl group, R' is (CH) N+ (CH3)3X- group, X is F or C
j, n are 1 or 2) phosphorus compound or carbodiimide; styrene/maleic acid copolymer, vinylpyrrolidone/maleic acid copolymer, vinyl methyl ether/maleic acid copolymer, ethyleneimine/maleic acid copolymer Resins such as methacrylic l/methacrylic nitrile copolymer, polymethacrylamide, methacrylic acid ester copolymer, glutaric acid, succinic acid, malic acid, lactic acid, citric acid, aspartic acid, gelcholic acid, tartaric acid Such.

このようにして、保1層3上に設けられた感光材層をパ
ターン露光し、次いで現像して未露光部である光透過部
および露光部である遮光部とからなる第1記録層2aを
形成する。パターン露光は、たとえばホトマスクなどの
マスクを介して行なうことができる。
In this way, the photosensitive material layer provided on the first layer 3 is exposed to light in a pattern, and then developed to form the first recording layer 2a, which is made up of a light-transmitting area that is an unexposed area and a light-blocking area that is an exposed area. Form. Pattern exposure can be performed, for example, through a mask such as a photomask.

また照射光をビーム状に集光して感光材層に直接照射し
てパターン状に遮光部を形成することもできる。
It is also possible to form light shielding portions in a pattern by condensing the irradiation light into a beam and irradiating it directly onto the photosensitive material layer.

第1記録層2aにおける光透過部および遮光部によりも
たらされる画像情報は、情報そのものあるいは情報を読
取る際に、トラッキングおよびプレフォーマットとして
の働きをしている。
The image information provided by the light transmitting portions and the light shielding portions in the first recording layer 2a functions as tracking and preformat when reading the information itself or the information.

感光材層における露光部では、ジアゾ基またはアジド基
を有する光分解性の現像抑制剤は、露光量に応じて分解
されて潜像が形成される。
In the exposed area of the photosensitive material layer, the photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group is decomposed according to the amount of exposure to form a latent image.

露光に際して使用される光源としては、ジアゾ基もしく
はアジド基を有する化合物を分解しうる光源ならば任意
に用いることができ、通常超高圧水銀灯が好ましく用い
られる。
As the light source used for exposure, any light source that can decompose a compound having a diazo group or an azide group can be used, and an ultra-high pressure mercury lamp is usually preferably used.

上記のようなパターン露光によりジアゾ基もしくtまア
ジド基を有する化合物の分解により形成された潜像を、
還元剤水溶液と接触させて金属現像核を発生させる。な
お未露光部では、ジアゾ基またはアジド基を有する現像
抑制剤は分解されていないため、還元剤水溶液と接触し
ても金属現像核は発生せずそのまま光透過部として残存
している。
A latent image formed by decomposition of a compound having a diazo group or an azide group by pattern exposure as described above,
Metal development nuclei are generated by contacting with an aqueous reducing agent solution. Note that in the unexposed area, the development inhibitor having a diazo group or an azide group is not decomposed, so even when it comes into contact with the reducing agent aqueous solution, no metal development nuclei are generated and it remains as a light-transmitting area.

この際用いられる還元剤としては、塩化第1スズ、Ti
Al1!第1スズ、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチル
アミンボラザン、ジエチルアミンボラザン、トリメチル
アミンボラザンなどのボラン系化合物、ボラン、ジボラ
ン、メチルジボランなどのボラン系化合物、ヒドラジン
などが用いられる。このうち、酸性塩化第1スズ溶液、
硫酸第1スズ溶液(’5eiSS液)あるいは市販の無
電解メッキ用のセンシタイザ−液などが特に好ましいが
、一般には、強力な還元剤であればすべて使用できる。
The reducing agents used at this time include stannous chloride, Ti
Al1! Borane compounds such as stannous, sodium borohydride, dimethylamine borazane, diethylamine borazane, and trimethylamine borazane, borane compounds such as borane, diborane, and methyldiborane, hydrazine, and the like are used. Among these, acidic stannous chloride solution,
A stannous sulfate solution ('5eiSS solution) or a commercially available sensitizer solution for electroless plating is particularly preferred, but in general, any strong reducing agent can be used.

次いで、このようにして得られた金属現像核と物理現像
液とを接触させると、物理現像液中に含まれる金属が還
元されて、前記金属現像核を中心として析出し、遮光部
4が形成される。
Next, when the metal development nuclei thus obtained are brought into contact with a physical developer, the metal contained in the physical developer is reduced and precipitated around the metal development nuclei, forming the light-shielding portion 4. be done.

物理現像液としては、水溶性の被還元性金属塩および還
元剤を含む水溶液が、低温または必要に応じて加温した
状態で使用される。
As the physical developer, an aqueous solution containing a water-soluble reducible metal salt and a reducing agent is used at a low temperature or in a heated state if necessary.

被還元性金属塩としては、たとえばニッケル、コバルト
、鉄およびクロムなどのvtb族金属、銅などのIb族
金属の水溶性塩が単独でまたは混合して使用される。ま
た−口調塩溶液で物理現像した後、塩化第一錫や硫酸錫
で置換メッキを行い錫ないし錫・銅系の金属層を得るこ
とも可能である。
As the reducible metal salt, water-soluble salts of VTB group metals such as nickel, cobalt, iron and chromium, and Ib group metals such as copper are used alone or in combination. It is also possible to obtain a tin or tin/copper metal layer by performing physical development with a salt solution and then performing displacement plating with stannous chloride or tin sulfate.

これらの中でも安全性、保存性を考慮するとニッケル、
銅、錫が好ましい。但し、蒸着と異なり原料の純度、メ
ッキ安定化剤などから少量の異種金属やリン、イオウな
どの元素が混入することはあり得るが、特に光記録材料
としての特性に影響を与えるものではない。
Among these, considering safety and preservation, nickel,
Copper and tin are preferred. However, unlike vapor deposition, small amounts of different metals and elements such as phosphorus and sulfur may be mixed in due to the purity of the raw materials, plating stabilizers, etc., but this does not particularly affect the properties as an optical recording material.

適当な水溶性の被還元性金属塩としては、具体的には以
下のものが用いられる。
Specifically, the following are used as suitable water-soluble reducible metal salts.

塩化第一コバルト、ヨウ化第−コバルト、臭化第一鉄、
塩化第一鉄、臭化第ニクロム、ヨウ化第ニクロム、塩化
第二銅などの重金属ハライド:硫酸ニッケル、硫酸第一
鉄、硫酸第一コバルト、硫酸第二りOム、硫酸第二銅な
どの重金属硫l!l塩:硝酸ニッケル、硝酸第一鉄、硝
酸第一コバルト、硝酸第ニクロム、硝酸第二銅などの重
金属硝酸塩:フェラスアセテート、コバルタスアセテ−
1〜、クロミックアセテート、キューブリックフォルメ
ートなどの金属の有様酸塩。
Cobaltous chloride, cobaltous iodide, ferrous bromide,
Heavy metal halides such as ferrous chloride, nichrome bromide, nichrome iodide, cupric chloride; nickel sulfate, ferrous sulfate, cobaltous sulfate, ferrous sulfate, cupric sulfate, etc. Heavy metal sulfur! Heavy metal nitrates such as nickel nitrate, ferrous nitrate, cobaltous nitrate, dichromic nitrate, cupric nitrate: ferrus acetate, cobalt acetate
1~, metal chromic acid salts such as chromic acetate and Kubrick formate.

これら被還元性重金属塩は物理現像液中にたとえば10
〜100g/jの量で含まれることが好ましい。
These reducible heavy metal salts are contained in a physical developer solution, for example, 10
It is preferably included in an amount of ~100 g/j.

還元剤としては、たとえば次亜リン酸、次亜リン酸ナト
リウム、水素化ホウ素ナトリウム、ヒドラジン、ホルマ
リン、ジエチルアミンボラン、ジメチルアミンボラン、
トリメチルアミンボラン、ボラン、ジボラン、メチルジ
ボラン、ジボラザン、ボラザン、ボラジン、t−ブチル
アミンボラザン、ボラゼン、ボラジン、t−ブチルアミ
ンボラザン、ピリジンボラン、2.6−ルチシンボラン
、エチレンジアミンボラン、ヒドラジンジボラン、ジメ
チルホスフィンボラン、フェニルボスフィンボラン、ジ
メチルアルシンボラン、フェニルアルシンボラン、ジメ
チルスチビンボラン、ジエチルスチビンボランなどが使
用できる。
Examples of reducing agents include hypophosphorous acid, sodium hypophosphite, sodium borohydride, hydrazine, formalin, diethylamine borane, dimethylamine borane,
Trimethylamine borane, borane, diborane, methyldiborane, diborazane, borazane, borazine, t-butylamine borazane, borazine, borazine, t-butylamine borazane, pyridine borane, 2,6-ruticine borane, ethylenediamine borane, hydrazine diborane, dimethylphosphine borane , phenylbosphineborane, dimethylarsineborane, phenylarsineborane, dimethylstibineborane, diethylstibinborane, and the like can be used.

これらの還元剤は、物理現像液中に、たとえば0.1〜
50g/ρのmで用いられることが好ましい。
These reducing agents are contained in the physical developer in an amount of, for example, 0.1 to
Preferably, m of 50 g/ρ is used.

物理現像液中には、前記した被還元性重金属塩の溶解に
より生成する重金属イオンが水酸化物として沈澱するの
を防止するために、たとえばモノカルボン酸、ジカルボ
ン酸、リンゴ酸、乳酸などのヒドロキシカルボン酸、コ
ハク酸、クエン酸、アスパラギン酸、グリコール酸、酒
石酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、グルコン酸、糖酸
、キニン酸などの有機カルボン酸からなる錯塩化剤の一
種または二種以上を含ませることができる。これら錯塩
化剤は、物理現像液中にたとえば1〜1009/IQの
母で用いられることが好ましい、3さらに、物理現像液
には、現像液の保存性および操作性ならびに得られる画
像の質を改善するために、酸および塩基などのpH調節
剤、緩衝剤、防腐剤、増白剤、界面活性剤などが常法に
従い必要に応じて添加される。
In order to prevent heavy metal ions generated by dissolving the above-mentioned reducible heavy metal salts from precipitating as hydroxides, hydroxyl acids such as monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, malic acid, and lactic acid are added to the physical developer. One or more complexing agents consisting of organic carboxylic acids such as carboxylic acid, succinic acid, citric acid, aspartic acid, glycolic acid, tartaric acid, ethylenediaminetetraacetic acid, gluconic acid, sugar acid, and quinic acid may be included. can. It is preferable that these complex chloride agents are used in a physical developer in a matrix of, for example, 1 to 1009/IQ. For improvement, pH adjusters such as acids and bases, buffers, preservatives, brighteners, surfactants, etc. are added as necessary according to conventional methods.

この添加剤のうち、pHを上げるためにはアンモニア水
もしくは水酸化ナトリウム水溶液を用いることが特に好
ましい。
Among these additives, it is particularly preferable to use aqueous ammonia or aqueous sodium hydroxide solution in order to raise the pH.

また、物理現像は、次亜リン酸ナトリウム還元剤を用い
た65℃から90℃の高温ニッケルメッキ浴または同メ
ッキ浴中で高速メッキ条件下で行ってもよい。この際得
られた画像を、たとえば塩酸5%または硝酸の5%の水
溶液で5分間程度処理することにより光透過部の透明樹
脂を一部選択的に除去することもできる。
Physical development may also be carried out under high speed plating conditions in a high temperature nickel plating bath of 65° C. to 90° C. using a sodium hypophosphite reducing agent or the same plating bath. It is also possible to selectively remove a portion of the transparent resin in the light transmitting portion by treating the image obtained at this time with an aqueous solution of 5% hydrochloric acid or 5% nitric acid for about 5 minutes, for example.

また、感光材では、上述のような透明樹脂、現像抑制剤
、金属錯化合物または金属化合物からなる系のほかに、
(イ)ハロゲン化銀、ドライシルバー(登録商標)など
の有機銀塩に代表される銀塩系材料、(ロ)ジアゾニウ
ム塩とカプラーとの組合せ系、(ハ)カルバ−フィルム
(登録商標)、PDブOセス(登録商標)材料などに代
表されるジアゾ系材料、(ニ)アクリルモノマー、ポリ
ビニルケイ皮酸などに代表される光重合型光槽かけ型の
フォトポリマー系材料(ホ)トナー像を形成するCd 
51Zn O、ポリビニルカルバゾールどの電子写真感
光体あるいはその転写体、(へ)フロスト像を形成する
サーモプラスチックス電子写真感光体などの電子写真系
材料、(ト)ロイコ染料と四臭化炭素との組合せ系、(
チ)グイラックス(登録商標)コバルト錯体とロイコ染
料との組合せ系、(す)シュウ酸第二酸と鉄塩との組合
せ系、(ヌ)スピロピラン、モリブデンタングステン化
合物などの顔料または色素の画像を形成する材料などが
用いられうる。
Furthermore, in photosensitive materials, in addition to the above-mentioned transparent resin, development inhibitor, metal complex compound, or metal compound system,
(a) Silver salt materials represented by organic silver salts such as silver halides and Dry Silver (registered trademark), (b) combination systems of diazonium salts and couplers, (c) Carbafilm (registered trademark), (d) Photopolymerizable photopolymer materials such as acrylic monomers, polyvinyl cinnamic acid, etc. (e) Toner image Cd forming
Electrophotographic photoreceptors such as 51Zn O and polyvinyl carbazole or their transfer bodies, electrophotographic materials such as thermoplastic electrophotographic photoreceptors that form (to)frost images, combinations of (to)leuco dyes and carbon tetrabromide system,(
H) Forming images of pigments or dyes such as Guirax (registered trademark) combination system of cobalt complex and leuco dye, (S) combination system of dioxalic acid and iron salt, (N) spiropyran, molybdenum tungsten compound, etc. Materials that can be used may be used.

上記の感光材のうち、ある種のものは露光部が遮光性と
なり未露光部が光透過性であるが、またある種のものは
露光部が光透過性となり未露光部が遮光性である。いず
れにしても露光した後に必要に応じて現像することによ
って、光透過部分と遮光部分とからなる記録を行ないう
るような感光材であれば使用できる。
Among the above-mentioned photosensitive materials, some types have light-shielding properties in exposed areas and light-transmitting properties in unexposed areas, while others have light-transmitting properties in exposed areas and light-blocking properties in unexposed areas. . In any case, any photosensitive material can be used as long as it can perform recording consisting of a light-transmitting area and a light-blocking area by developing as necessary after exposure.

但し、上記の感光材のうち、(イ)バインダーとしての
透明樹脂、(口)ジアゾ基またはアジド基を有する光分
解性の現像抑制剤および(ハ)還元されて金属現像核と
なる金属錯化合物または金属化合物から構成されている
感光材を用いると遮光部が近赤外線を使用した読取りの
際にも高濃度のものとして読取り可能であり、解像度を
高く、しかも明室で取り扱える利点がある。
However, among the above photosensitive materials, (a) a transparent resin as a binder, (a) a photodegradable development inhibitor having a diazo group or an azide group, and (c) a metal complex compound that becomes a metal development nucleus upon reduction. Alternatively, if a photosensitive material made of a metal compound is used, the light-shielding part can be read as a high-density material even when reading using near-infrared rays, and has the advantage of having high resolution and being able to be handled in a bright room.

このような感光材への照射光としては、紫外線、可視光
線、赤外線、X線、電子線などが用いられうる。
As the light for irradiating such a photosensitive material, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, X-rays, electron beams, etc. can be used.

第2記録層 光透過部および遮光部とからなる第1記録層2a上に、
反射性金属7s膜層からなる第2記録層2bを形成する
On the first recording layer 2a consisting of a second recording layer light transmitting part and a light shielding part,
A second recording layer 2b made of a reflective metal 7s film layer is formed.

反射性金属7s膜層は、Cr 、Ti 、Fe 、Co
、Ni 、Cu1Ao、Au,Ge,AN,Ma、Sb
 、Te 、Pb 、Pd 、Cd 、Bi  、Sn
 、Se、In、Ga、Rhなどの金属を単独もしくは
二種以上組合せて用いて形成される。
The reflective metal 7s film layer is made of Cr, Ti, Fe, Co.
, Ni, Cu1Ao, Au, Ge, AN, Ma, Sb
, Te, Pb, Pd, Cd, Bi, Sn
, Se, In, Ga, Rh, etc. alone or in combination.

反射性金[9119層からなる第2記録層2bに情報を
エネルギービームの照(ト)によりさらに書込む場合に
は、低融点金属であるTe 、 Zn 、 Pb 。
When information is further written in the second recording layer 2b consisting of reflective gold [9119 layer] by irradiation with an energy beam, low melting point metals such as Te, Zn, and Pb are used.

Cd、Bi、Sn、Se、In1Qa、Rbなどの金属
を主成分として反射性金ff4its膜を構成すること
が好ましく、特に7e −3e 、 Te −8e −
Pb 、 Te −Pb 、 Te −3n −8,S
n −Cu 1Te −Cu 、Te −Cu−Pbな
どの合金が好ましい。
It is preferable that the reflective gold ff4its film is composed mainly of metals such as Cd, Bi, Sn, Se, In1Qa, and Rb, particularly 7e-3e, Te-8e-
Pb, Te-Pb, Te-3n-8,S
Alloys such as n -Cu 1Te -Cu and Te -Cu-Pb are preferred.

さらにこれらの合金のうち、5〜40原子数パーセント
のCuを含むTe−CLI合金あるいは5〜40原子数
パーセントのCuおよびCuに対して1〜50原子数パ
ーセントのPbを含むT+3−Cu−Pb合金が、読出
し用照射エネルギービームの波長を650 rv以上と
する場合に特に好ましい。これらの合金からなる反射性
金属薄膜層を第2記録層として用いると、外周部での乱
れが少ない記録ビットが得られ、しかも読出し用照射エ
ネルギービームの波長が650 no+以上特に700
〜900 n11である場合に、記録部であるビットに
おける反射率と未記録部である金属′a膜における反射
率すなわち相対反射率が小さいという優れた情報読出し
特性を有する反射性金属薄膜が得られる5さらに、1〜
40原子数パーセントのCUを含む3n−Cu合金を用
いると記録ビット形状の外周部の乱れが少なく、かつ毒
性の低い反射性金属薄膜が得られる。
Further, among these alloys, Te-CLI alloy containing 5 to 40 atomic percent Cu or T+3-Cu-Pb containing 5 to 40 atomic percent Cu and 1 to 50 atomic percent Pb to Cu. Alloys are particularly preferred when the wavelength of the readout irradiation energy beam is greater than or equal to 650 rv. When a reflective metal thin film layer made of these alloys is used as the second recording layer, recorded bits with less disturbance at the outer periphery can be obtained, and the wavelength of the readout irradiation energy beam is 650 no+ or more, especially 700 nm.
~ 900 n11, a reflective metal thin film can be obtained that has excellent information readout characteristics such that the reflectance in the bits, which are recorded areas, and the reflectance, that is, the relative reflectance, in the metal 'a film, which is an unrecorded area, are small. 5 Furthermore, 1~
When a 3n-Cu alloy containing 40 atomic percent of CU is used, a reflective metal thin film with less disturbance in the outer periphery of the recording bit shape and with low toxicity can be obtained.

反射性金属WIwA層からなる第2記録層2bに情報を
書込まずに単に反射層として使用する場合には、Aj 
SCr 、Ni 、A(J 、A(1などの特に光反射
性に優れた金属あるいは合金により反射性金属薄膜層を
形成することが好ましい。
When the second recording layer 2b made of the reflective metal WIwA layer is used simply as a reflective layer without writing information, Aj
It is preferable to form the reflective metal thin film layer using a metal or alloy having particularly excellent light reflectivity, such as SCr 2 , Ni 2 , A(J 2 , A(1), etc.).

このような反射性金rf4薄膜層を第1記録層上に形成
するには、上記のような金属あるいは合金を準備し、こ
れをスパッタリング法、真空蒸着法、イオンブレーティ
ング法、電気メツキ法などの従来既知の方法によって第
1記録層上に成膜すればよい。この反射性金IF!薄膜
層のIll厚は、200〜10.000人好ましくは1
000〜5000八であることが好ましい。場合によっ
ては、上記金属からなる多層膜たとえばln膜とTea
!との多層膜も反射性金属薄膜として用いられる。また
、上記金属と有機化合物または無機酸化物との複合物た
とえばTe −CH、Te −C8、Te −スチレン
、Sn −802、Ge 5−8n 、Sn S−Sナ
ト(F)1111アルイハSi 02 /Ti /Si
 02/AΩなどの多層膜も反射性金till膜として
用いられうる。
In order to form such a reflective gold RF4 thin film layer on the first recording layer, the above-mentioned metal or alloy is prepared and coated using a sputtering method, vacuum evaporation method, ion blating method, electroplating method, etc. The film may be formed on the first recording layer by a conventionally known method. This reflective gold IF! The thickness of the thin film layer is 200 to 10,000, preferably 1
It is preferable that it is 000-50008. In some cases, a multilayer film made of the above metals, such as a ln film and a tea film, may be used.
! A multilayer film of 1 and 2 is also used as a reflective metal thin film. Further, composites of the above metals and organic compounds or inorganic oxides such as Te-CH, Te-C8, Te-styrene, Sn-802, Ge5-8n, Sn S-S Nato (F) 1111 Al-IhaSi02/ Ti/Si
Multilayer films such as 02/AΩ may also be used as reflective gold till films.

さらに、シアニンなどの色素を凝集させて光反射性を与
えた薄膜、ニトロセルロース、ポリスチレン、ポリエチ
レンなどの熱可塑性樹脂中に色素または銀などの金属粒
子を分散させたもの、あるいはこの熱可塑性樹脂の表面
に色素または金属粒子を凝集させたものなどが反射性金
JilEIIIlとして用いられうる。
In addition, there are thin films made by aggregating pigments such as cyanine to give light reflectivity, films in which pigments or metal particles such as silver are dispersed in thermoplastic resins such as nitrocellulose, polystyrene, and polyethylene, or films made from thermoplastic resins such as pigments or metal particles such as silver. Reflective gold having pigments or metal particles aggregated on its surface can be used as the reflective gold.

さらにまた、エネルギービームの照射により相転移が生
じてその反射率が変化する、Tea化物、sba化物、
MO酸化物、Gem化物、Vjl化物、Sl酸化物、あ
るいはTe酸化物−Ge 、 Te −3nなどの化合
物が、反射性金属薄膜として用いられつる。
Furthermore, a Tea compound, an SBA compound, whose reflectance changes due to a phase transition caused by energy beam irradiation,
Compounds such as MO oxide, Gem oxide, Vjl oxide, Sl oxide, Te oxide-Ge, and Te-3n are used as the reflective metal thin film.

また、カルコーゲンあるいは発色型のM2O3−CIJ
 1MOO3−8n−Ctlが反射性金属薄膜として用
いられ、場合によっては泡形成型の有機薄膜と金属N膜
との多層体も反射性金属薄膜として用いられうる。
In addition, chalcogen or colored M2O3-CIJ
1MOO3-8n-Ctl is used as the reflective metal thin film, and in some cases, a multilayer body of a bubble-forming organic thin film and a metal N film can also be used as the reflective metal thin film.

さらに光磁記録材料であるQdCo、7bCo。Furthermore, magneto-optical recording materials such as QdCo and 7bCo.

Gd Fe 、 Dy Fe 、 Gd Tb Fc 
GdFe, DyFe, GdTbFc
.

Gd Fe Bi 、Tb Dy Fe 、Mn Cu
 Biなども反射性金属薄膜として用いられつる。
Gd Fe Bi , Tb Dy Fe , Mn Cu
Bi and the like are also used as reflective metal thin films.

上記のような各種のタイプの反射性金属薄膜を組合せて
用いることも可能である。
It is also possible to use a combination of various types of reflective metal thin films as described above.

L皿里土1 表面硬化層6は、光カード1の光記録部側の表面の硬度
を高めてその保護をすることにより、カードの携帯や使
用時における表面損傷を防止する。
L Plate 1 The hardened surface layer 6 increases the hardness of the surface of the optical recording section side of the optical card 1 and protects it, thereby preventing surface damage when the card is carried or used.

これにより、カードの耐久性と書込み、読取り精度を高
めて信頼性を向上させる。
This increases the durability and writing/reading accuracy of the card, thereby improving its reliability.

この表面硬化層の材料としては、シリコン系、アクリル
系、メラミン系、ウレタン系、エポキシ系硬化剤やAJ
 203 、S f 02などの金B酸化物の他、プラ
ズマ重合膜などが用いられる。
Materials for this surface hardening layer include silicone-based, acrylic-based, melamine-based, urethane-based, epoxy-based hardeners, AJ
In addition to gold B oxides such as 203 and S f 02, plasma polymerized films and the like are used.

11互韮 この実施例に係る光カードの製造方法について説明する
11 A method for manufacturing an optical card according to this embodiment will be explained.

まず、保護層となる材料の表面の一部をブライマー処理
して、その表面に第1記録層および第2記録層を設は光
記録部を形成する。この保護層は、光カードとして組立
てられた場合に、カード保護層としての役割を果してい
る。
First, a part of the surface of the material that will become the protective layer is subjected to a blimmer treatment, and a first recording layer and a second recording layer are provided on the surface to form an optical recording section. This protective layer serves as a card protective layer when assembled as an optical card.

次に、カード基材と保護層とを、光記録部の第2記録層
がカード基材と接するように、熱接着剤などの接着剤層
を介して重ね合わせた後、90〜150℃程度に加熱さ
れた熱ロールなどにて圧着することにより光カードを製
造できる。
Next, the card base material and the protective layer are laminated via an adhesive layer such as a thermal adhesive so that the second recording layer of the optical recording section is in contact with the card base material, and then heated to a temperature of about 90 to 150°C. An optical card can be manufactured by pressing with a heated roll or the like.

場合によっては、以下のようにして光カードを製造する
こともできる。すなわち保r!1層材料の表面の一部を
プライマー処理し、その表面に親水性樹脂をバインダー
として含む第1記録層および第2記録層を設けた後、第
2記録層である反射性金属薄膜上に、アクリル樹脂等の
保護膜をスクリーン印刷などにより塗布し、この部分を
耐水性とする。この際保ii!層の周辺縁部にはその保
護膜は設けない。次いでこの光記録部を温水に浸漬し、
保護膜の設けられていない部分の親水性樹脂を除去した
後乾燥する。
Depending on the case, an optical card can also be manufactured as follows. In other words, it is safe! After treating a part of the surface of the single layer material with a primer and providing a first recording layer and a second recording layer containing a hydrophilic resin as a binder on the surface, on the reflective metal thin film which is the second recording layer, A protective film such as acrylic resin is applied by screen printing to make this part water resistant. At this time, Ho ii! The peripheral edges of the layer are not provided with the protective coating. Next, this optical recording section is immersed in warm water,
After removing the hydrophilic resin in the area where the protective film is not provided, drying is performed.

一方、白色ポリ塩化ビニルフィルムなどのカード基材に
は、必要に応じて、熱プレス法などによって光記録部の
第1記録層および第2記録層を嵌込むための凹部を形成
することも表面に接着剤層を設ける。
On the other hand, if necessary, recesses for inserting the first and second recording layers of the optical recording section may be formed on the card base material such as white polyvinyl chloride film by heat pressing or the like. An adhesive layer is provided on.

次に、光記録部とカード基材とを、光記録部の第2記録
層がカード基材と接するようにして巾ね合わせ、熱ロー
ルなどにて圧着することにより光カードを製造できる。
Next, an optical card can be manufactured by folding the optical recording part and the card base material so that the second recording layer of the optical recording part is in contact with the card base material, and pressing them together with a hot roll or the like.

証!二11 反射性金属薄膜層への情報の書込みおよび光カードに書
込まれた情報の読出しについて説明する。
proof! 211 Writing information to the reflective metal thin film layer and reading information written to the optical card will be explained.

反射性台fiiWIIJiへの情報の書込みは、この金
rAN膜層に波長300〜110001のレーザビーム
などのエネルギービームをレンズなどにより集光して照
射し、照射部分の金属を蒸散あるいは偏在させて記録ビ
ットを形成することにより行なう。
To write information on the reflective table fiiWIIJi, this gold rAN film layer is irradiated with an energy beam such as a laser beam with a wavelength of 300 to 110,001, focused by a lens, etc., and the metal in the irradiated area is evaporated or unevenly distributed and recorded. This is done by forming bits.

この際エネルギービームの強度は、0.1〜100′I
rLW1パルス11]は5 n5ec 〜500 m5
ec、ビーム径は、0.1〜100μmであることが好
ましい。
At this time, the intensity of the energy beam is 0.1 to 100'I
rLW1 pulse 11] is 5 n5ec ~ 500 m5
ec, the beam diameter is preferably 0.1 to 100 μm.

反射性金属薄膜層上に照射されるエネルギービームとし
ては、半導体レーザ、アルゴンレーザ、ヘリウム−ネオ
ンレーザなどのレーザビーム、赤外線フラッシュなどが
用いられる。
As the energy beam irradiated onto the reflective metal thin film layer, a laser beam such as a semiconductor laser, an argon laser, a helium-neon laser, an infrared flash, or the like is used.

−力木発明に係る光カードに書込まれた情報の読出しは
、反射性金属薄膜層を溶融させない程度の低エネルギー
のエネルギービームあるいは白色光、タングステン光な
どをレンズなどを介して光カードの保護層側から光透過
部および遮光部からなる第1記録層ならびに第2記録層
上に集光して照射し、反射光の強度と位相変化とを関連
づけて検出することによって行なわれる。
- To read the information written on the optical card according to Rikiki's invention, the optical card is protected by using a low-energy energy beam, white light, tungsten light, etc. that does not melt the reflective metal thin film layer through a lens, etc. This is carried out by condensing and irradiating light onto the first recording layer and the second recording layer, which are made up of a light-transmitting part and a light-blocking part, from the layer side, and detecting the intensity of the reflected light in association with the phase change.

−第1記録層における遮光部は、前述のように金属現像
核を中心にその付近に金属が析出して黒色に近い色調に
形成されているため、この遮光部に読出し用照射ビーム
が照射されると、照射ビームはこの部分で吸収されて反
射率は小さくなる。一方光透過部では照射ビームにあま
り吸収されずに反射性金属薄膜層に達するため、この光
透過部における反射率は大きい値となる。
- As mentioned above, the light-shielding part in the first recording layer is formed with a color close to black due to metal precipitated around the metal development nucleus, so the readout irradiation beam is irradiated onto this light-shielding part. Then, the irradiation beam is absorbed in this part and the reflectance becomes small. On the other hand, in the light transmitting part, the irradiation beam reaches the reflective metal thin film layer without being absorbed much, so the reflectance in this light transmitting part becomes a large value.

また、反射性金rIf4薄HEにおける未記録部に相当
する金属薄膜層では高い反射率が得られるのに対し、記
録部に相当するビット部では低い反射率となる。
Further, in the reflective gold rIf4 thin HE, a high reflectance is obtained in the metal thin film layer corresponding to the unrecorded part, whereas a low reflectance is obtained in the bit part corresponding to the recorded part.

このようにして、第1記録層では遮光部と光透過部とに
おける透過度の相違、また第2記録層ではビット部と未
記録部とにおける反射率の相違を位相変化とIll i
lづけて読出すことによって、本発明に係る光カードに
書込まれた情報を読出すことができる。。
In this way, the difference in transmittance between the light-shielding part and the light-transmitting part in the first recording layer, and the difference in reflectance between the bit part and the unrecorded part in the second recording layer, can be considered as a phase change.
The information written on the optical card according to the present invention can be read out by reading out the information written in the optical card according to the present invention. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の光カードの一実施例を示すカードの
断面図、第2図はこの発明の光カードの他の実施例を示
す断面図、第3図はこの発明の光カードの一実施例を示
1カードの平面図である。 1・・・光カード、2・・・光記録部、2a・・・第1
記録層、2b・・・第2記録層1.3・・・保護層、4
・・・カー17塁材、4a・・・不透明基材、4b・・
・透明基材、5・・・ブライマー処理、6・・・表面硬
化層、7・・・接着剤層。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an optical card according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view of another embodiment of an optical card according to the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view of an optical card according to the present invention. FIG. 2 is a plan view of one card showing an example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Optical card, 2... Optical recording part, 2a... 1st
Recording layer, 2b...Second recording layer 1.3...Protective layer, 4
... Car 17 base material, 4a... Opaque base material, 4b...
- Transparent base material, 5... Brimer treatment, 6... Surface hardening layer, 7... Adhesive layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] カード基材上に光記録部および保護層が積層された光カ
ードであって、光記録部を挾着する保護層および/また
はカード基材と光記録部との接着力が接着面内で相違す
ることを特徴とする光カード。
An optical card in which an optical recording part and a protective layer are laminated on a card base material, and the adhesive force between the protective layer that clamps the optical recording part and/or the card base material and the optical recording part is different within the adhesive surface. An optical card that is characterized by:
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