JPS61202400A - Semiconductor memory device - Google Patents
Semiconductor memory deviceInfo
- Publication number
- JPS61202400A JPS61202400A JP60045078A JP4507885A JPS61202400A JP S61202400 A JPS61202400 A JP S61202400A JP 60045078 A JP60045078 A JP 60045078A JP 4507885 A JP4507885 A JP 4507885A JP S61202400 A JPS61202400 A JP S61202400A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- memory cell
- signal
- cell selection
- address
- data
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
この発明は、半導体記憶装置に関し、特に、メモリセル
の機能テスト時に、複数のメモリセルに同一データを同
時に書込むことができる半導体記憶装置に関するもので
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device that can simultaneously write the same data to a plurality of memory cells during a functional test of the memory cells. It is something.
[従来の技術]
第4図は、従来の半導体記憶装置の主に入力(書込)回
路の電気的構成を示す概略ブロック図である。[Prior Art] FIG. 4 is a schematic block diagram mainly showing the electrical configuration of an input (write) circuit of a conventional semiconductor memory device.
まず、第4図に示した半導体記憶装置の構成について説
明する。第4図において、入力データWは、データ書込
用端子1を介してデータ入力バッファ2に与えられる。First, the configuration of the semiconductor memory device shown in FIG. 4 will be explained. In FIG. 4, input data W is applied to a data input buffer 2 via a data write terminal 1. In FIG.
これに応じて、データ人力バッファ2は、入力データW
と、Wを反転した信号Wとを出力する。データ入力パン
ツ72から出力された信号Wはさらに、トランジスタ3
,5゜7および9の各々の一方の導通端子に与えられ、
データ人力バッファ2から出力された信号Wはざらに、
トランジスタ4.6.8および10の各々の一方の導通
端子に与えられる。トランジスタ3および4の各々の他
方の導通端子からの出力は、前1増幅器11を介して増
幅された後、1ピツトのメモリセル15に結合される。In response, the data manual buffer 2 inputs the input data W
and a signal W which is an inversion of W. The signal W output from the data input pants 72 is further connected to the transistor 3
, 5° is given to one conduction terminal of each of 7 and 9,
The signal W output from the data human buffer 2 is roughly as follows.
Applied to one conduction terminal of each of transistors 4.6.8 and 10. The output from the other conductive terminal of each of transistors 3 and 4 is amplified through a first amplifier 11 and then coupled to a one-pit memory cell 15.
同様に、トランジスタ5および6の各々の他方の導通端
子からの出力は、前I増幅器12を介して増幅された後
、1ピツトのメモリセル16に結合され、トランジスタ
7および8の各々の他方の導通端子からの出力は、前置
増幅器13を介して増幅された後、1ピツトのメモリセ
ル17に結合され、トランジスタ9および10の各々の
他方の導通端子からの出力は、前置増幅器14を介して
増幅された後、1ピツトのメモリセル18に結合される
。トランジスタ3および4のオン・オフはメモリセル選
択回路1つの出力信@C1によって制御され、トランジ
スタ5および6のオン・オフはメモリセル選択回路20
の出力信号C2によって制御され、トランジスタ7およ
び8のオン・オフはメモリセル選択回路21の出力信号
C,によって制御され、トランジスタ98′3よび10
のオン・オフはメモリセル選択回路22の出力信号C4
によって制御される。端子23にはアドレス信号A、が
、端子24にはアドレス信号A、が、端子25にはアド
レス信@A、が、端子26にはアドレス信号へ、が与え
られ、これらのアドレス信号によってメモリセル選択回
路19ないし22のいずれかが選択されて駆動される。Similarly, the output from the other conduction terminal of each of transistors 5 and 6 is amplified via pre-I amplifier 12 and then coupled to a 1-pit memory cell 16, and the output from the other conduction terminal of each of transistors 7 and 8 is The output from the conduction terminal is amplified via preamplifier 13 and then coupled to one pit memory cell 17, and the output from the other conduction terminal of each of transistors 9 and 10 is coupled to preamplifier 14. After being amplified through the signal, it is coupled to one pit of memory cell 18. The on/off of transistors 3 and 4 is controlled by the output signal @C1 of one memory cell selection circuit, and the on/off of transistors 5 and 6 is controlled by the memory cell selection circuit 20.
The on/off of transistors 7 and 8 is controlled by the output signal C of the memory cell selection circuit 21, and the transistors 98'3 and 10 are controlled by the output signal C2 of the memory cell selection circuit 21.
ON/OFF is determined by the output signal C4 of the memory cell selection circuit 22.
controlled by The address signal A is applied to the terminal 23, the address signal A is applied to the terminal 24, the address signal @A is applied to the terminal 25, and the address signal @A is applied to the terminal 26. These address signals cause the memory cell to be One of the selection circuits 19 to 22 is selected and driven.
これらのメモリセル選択回路19ないし22の各々は、
通常入力された2つのアドレス信号が双方ともローレベ
ルである場合にのみ選択され駆動されるように構成され
ているものとする。たとえば、第4図に示した回路にお
いて、アドレス信号A、およびAcが共にローレベルで
ある場合には、メモリセル選択回路19が選択されてそ
の出力信号C7がハイレベルになる。一方、メモリセル
選択回路20にはアドレス信号A、およびAcが入力さ
れているが、上述の場合にはAcがローレベルであるた
めAcはハイレベルであり、したがってこのメモリセル
選択回路20は選択されない。Each of these memory cell selection circuits 19 to 22 is
It is assumed that the configuration is such that it is selected and driven only when two normally input address signals are both at low level. For example, in the circuit shown in FIG. 4, when address signals A and Ac are both at low level, memory cell selection circuit 19 is selected and its output signal C7 becomes high level. On the other hand, address signals A and Ac are input to the memory cell selection circuit 20, but in the above case, since Ac is at a low level, Ac is at a high level, so this memory cell selection circuit 20 selects Not done.
ざらに、メモリセル選択回路2113よび22も上述の
場合には同様に選択されない。In general, memory cell selection circuits 2113 and 22 are also not selected in the above case.
次に、第4図に示した従来の半導体記憶装置の動作につ
いて説明する。データ書込時には、データ書込用端子1
に入力データWが与えられる。そしてデータ人力バッフ
ァ2は相補的な信号の組(W、W)を出力する。この状
態で、信号(W。Next, the operation of the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 4 will be explained. When writing data, data write terminal 1
Input data W is given to . The data manual buffer 2 then outputs a complementary signal set (W, W). In this state, the signal (W).
W)が各メモリセルに到達し、そこに書込まれるために
は、トランジスタ3ないし10がオン状態でなければな
らない。従来の半導体記憶装置においては、アドレス信
号Am 、Am 、Ac 、Acによって指定された1
つのメモリセル選択回路(たとえば、メモリセル選択回
路19)によって1組のトランジスタ(たとえば、トラ
ンジスタ3および4)がオン状態にされ、1ピツトのメ
モリセル(たとえばメモリセル15)にだけデータが書
込まれる。次に、アドレス信号を変化させることによっ
て、他のメモリセル選択回路を順次指定し、順番に1ピ
ツトずつ各メモリセルにデータを書込む。In order for W) to reach and be written into each memory cell, transistors 3 to 10 must be on. In a conventional semiconductor memory device, 1 specified by address signals Am, Am, Ac, and Ac
One set of transistors (for example, transistors 3 and 4) is turned on by one memory cell selection circuit (for example, memory cell selection circuit 19), and data is written to only one pit of memory cell (for example, memory cell 15). It will be done. Next, by changing the address signal, other memory cell selection circuits are sequentially designated, and data is sequentially written into each memory cell one pit at a time.
ところで、一般に従来の半導体記憶装置では、半導体記
憶装置をパッケージに組入れる前のウェハ状態でメモリ
セルの機能テストを行なっている。Incidentally, in conventional semiconductor memory devices, memory cells are generally tested for function in a wafer state before the semiconductor memory device is assembled into a package.
この機能テストは、メモリ試験袋M(図示せず)と半導
体記憶装置との間の信号のやりとりによって実行される
。たとえば、最初に半導体記憶装置を構成するすべての
メモリセルに、メモリ試験装置によって一定の論理値(
たとえば“0”)を書込む。次に、メモリセルを1ピツ
トずつ読出し、予め書込まれている論理値と一致するか
否かを調べることによって当該メモリセルが正常に機能
しているか否かを判定する。従来の半導体記憶装置では
、上述の機能テストのための各メモリセルへのデータの
書込は、第4図に示した従来のデータ入力回路を介して
行なわれていた。This functional test is executed by exchanging signals between the memory test bag M (not shown) and the semiconductor storage device. For example, a memory tester first assigns a certain logical value (
For example, write "0"). Next, it is determined whether the memory cell is functioning normally by reading out the memory cell one pit at a time and checking whether it matches a logic value written in advance. In a conventional semiconductor memory device, writing of data to each memory cell for the above-mentioned functional test was performed via the conventional data input circuit shown in FIG.
[発明が解決しようとする問題点]
従来の半導体記憶装置は、上述のように、メモリセルの
機能テスト時に、複数のメモリセルにテスト用データを
1ピツトずつ書込まなければならなかったので、半導体
記憶amの大容量化に伴ない、1つの半導体記憶装置あ
たりの機能テスト時間が非常に長くなるという問題点が
あった。[Problems to be Solved by the Invention] As mentioned above, in the conventional semiconductor memory device, test data had to be written into a plurality of memory cells one pit at a time during a functional test of the memory cells. As the capacity of semiconductor memory am has increased, there has been a problem in that the functional test time per semiconductor memory device has become extremely long.
それゆえに、この発明の主たる目的は、上述の問題点を
解消し、メモリセル機能テスト時に複数のメモリセル選
択回路を同時に駆動することによって、複数のメモリセ
ルへ同一データを同時に書込むことができ、機能テスト
時間を大幅に短縮することができる半導体記憶1ull
提供することである。Therefore, the main object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to be able to simultaneously write the same data to multiple memory cells by simultaneously driving multiple memory cell selection circuits during a memory cell function test. , 1ull semiconductor memory that can significantly shorten functional test time
It is to provide.
[問題点を解決するための手段]
この発明にかかる半導体記憶@置では、通常の動作時に
は、データを書込むべきメモリセルを指定するメモリセ
ル指定信号がそのままの状態でメモリセル選択手段に与
えられ、この結果、指定されたメモリセルにのみデータ
が書込まれる一方で、テストモード時には、メモリセル
指定信号に関係なく、メモリセル選択手段をずべて同時
に駆動するように構成したものである。[Means for Solving the Problems] In the semiconductor memory device according to the present invention, during normal operation, a memory cell designation signal that designates a memory cell in which data is to be written is supplied as is to the memory cell selection means. As a result, data is written only to the designated memory cell, while in the test mode, all the memory cell selection means are driven simultaneously regardless of the memory cell designation signal.
[作用]
この発明においては、複数のメモリセルの中から1ピツ
トずつメモリセルを選択してデータを書込む通常の書込
手段に加えて、すべてのメモリセル選択回路を同時に駆
動する機能を設番プだので、複数ビットのメモリセルに
同一データを同時に富込むことができる。[Function] In addition to the normal writing means that selects one memory cell from a plurality of memory cells one by one and writes data, a function is provided to simultaneously drive all memory cell selection circuits. Since it is a multiple-bit memory cell, multiple bits of memory cells can be filled with the same data at the same time.
[実飽例]
第1図は、この発明の一実施例である半導体記憶装置の
電気的構成を示す概略ブロック図である。[Actual Example] FIG. 1 is a schematic block diagram showing the electrical configuration of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
jIl!1図に示した実施例の構成は、以下の点を除い
て第4図に示した従来の半導体記憶装置の構成と同じで
ある。すなわち、アドレス信号入力端子23ないし26
と、゛メモリ選択回119ないし22との間にアドレス
制御回路27が設けられており、さらにテストモード切
換信号(以下、TM倍信号入力端子28からTM倍信号
アドレス制御回路27に与えられていることである。jIl! The structure of the embodiment shown in FIG. 1 is the same as the structure of the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 4 except for the following points. That is, address signal input terminals 23 to 26
An address control circuit 27 is provided between the memory selection circuits 119 to 22, and a test mode switching signal (hereinafter, a test mode switching signal (hereinafter referred to as a signal supplied from the TM double signal input terminal 28 to the TM double signal address control circuit 27) is provided between the memory selection circuits 119 to 22. That's true.
次に、第1図に示した実施例の動作の概略について説明
する。TM倍信号、テストモード時にハイレベルに立上
がる信号であり、テストモード時以外の場合(以下、ノ
ーマルモードという)にはローレベルに立下がる信号で
ある。Next, an outline of the operation of the embodiment shown in FIG. 1 will be explained. The TM double signal is a signal that rises to a high level in the test mode, and falls to a low level in cases other than the test mode (hereinafter referred to as normal mode).
まず、ノーマルモードの場合には、第1図に示した回路
は、アドレス制御回路27を含まない第4図の従来の回
路と全く同一の動作をする。すなわち、TM倍信号ロー
レベルのときには、アドレス信号Aa 、A++ 、A
c 、A−によって選択された1つのメモリセル選択回
路が働いてその関連するトランジスタの組をオン状態に
制御し、上述のアドレス信号によって指定されたいずれ
かのメモリセルに従来通りの手順で入力データを書込む
。First, in the normal mode, the circuit shown in FIG. 1 operates exactly the same as the conventional circuit shown in FIG. 4, which does not include the address control circuit 27. That is, when the TM double signal is at low level, the address signals Aa, A++, A
c, one memory cell selection circuit selected by A- operates to control its associated transistor set to the ON state, and inputs data to one of the memory cells specified by the above address signal in the conventional procedure. Write data.
一方、テストモード時すなわちTM倍信号ハイレベルに
立ち上がったときには、アドレス制御回路27によって
、メモリセル選択回路19ないし22に入力されるアド
レス信号はすべてローレベルにされるので、メモリセル
選択回路19ないし22は、関連するトランジスタの組
をオン状態に駆動するハイレベルの信号C盲〜C6を同
時に出力する。すなわち、TM倍信号ハイレベルのとき
には、トランジスタ3ないし1oはすべてオン状態とな
り、データ入力バッフ72の出力信号(W。On the other hand, in the test mode, that is, when the TM double signal rises to high level, all the address signals input to the memory cell selection circuits 19 to 22 are set to low level by the address control circuit 27. 22 simultaneously outputs a high level signal C~C6 which drives the associated set of transistors on. That is, when the TM double signal is at a high level, transistors 3 to 1o are all turned on, and the output signal (W) of the data input buffer 72 is turned on.
W)はメモリセル15ないし18のすべてに書込まれる
ことになる。W) will be written to all memory cells 15-18.
次に、第2図は第1図に示したアドレス制御回路27の
詳細を示す回路図である。Next, FIG. 2 is a circuit diagram showing details of the address control circuit 27 shown in FIG. 1.
まず、第2図に示したアドレス制御回路27の構成につ
いて説明する。アドレス制御回路27は、第1図のアド
レス信号入力端子23ないし26がらアドレス信号を受
取るとともにTM信号入力端子28からTM倍信号受取
り、さらにアドレス信号入力の各々に対応する出力端子
23′ないし26′を有している。First, the configuration of the address control circuit 27 shown in FIG. 2 will be explained. The address control circuit 27 receives the address signal from the address signal input terminals 23 to 26 shown in FIG. have.
ざらに、アドレス信号入力端子23はトランジスタ29
のドレインに接続され、このトランジスタ29のゲート
は、プルアップ用の高抵抗38とトランジスタ37のド
レインとの接続点である内部ノードNに接続され、さら
にトランジスタ29のソースはアドレス信号出力端子2
3−に接続されている。また、アドレス信号入力端子2
4はトランジスタ30のドレインに接続され、トランジ
スタ30のゲートは内部ノードNに接続され、トランジ
スタ30のソースはアドレス信号出力端子24−に接続
されている。また、アドレス信号入力端子25はトラン
ジスタ31のドレインに接続され、トランジスタ31の
ゲートは内部ノードNに接続され、トランジスタ31の
ソースはアドレス信号出力端子25′に接続されている
。また、アドレス信号入力端子26はトランジスタ32
のドレインに接続され、トランジスタ32のゲートは内
部ノードNに接続され、トランジスタ32のソースはア
ドレス信号出力端子26′に接続されている。Roughly speaking, the address signal input terminal 23 is a transistor 29.
The gate of this transistor 29 is connected to the internal node N, which is the connection point between the high pull-up resistor 38 and the drain of the transistor 37, and the source of the transistor 29 is connected to the address signal output terminal 2.
3- is connected. In addition, address signal input terminal 2
4 is connected to the drain of the transistor 30, the gate of the transistor 30 is connected to the internal node N, and the source of the transistor 30 is connected to the address signal output terminal 24-. Further, the address signal input terminal 25 is connected to the drain of the transistor 31, the gate of the transistor 31 is connected to the internal node N, and the source of the transistor 31 is connected to the address signal output terminal 25'. Further, the address signal input terminal 26 is connected to the transistor 32.
The gate of the transistor 32 is connected to the internal node N, and the source of the transistor 32 is connected to the address signal output terminal 26'.
ざらに、アドレス信号出力端子23′は、トランジスタ
33のドレインにも接続されており、トランジスタ33
のゲートはTM信号入力端子28に接続され、トランジ
スタ33のソースは接地されている。また、アドレス信
号出力端子24−はトランジスタ34のドレインにも接
続されており、トランジスタ34のゲートはTM信号入
力端子28に接続され、トランジスタ34のソースは接
地されている。また、アドレス信号出力端子25′はト
ランジスタ35のドレインにも接続されており、トラン
ジスタ35のゲートはTM信号入力端子28に接続され
、トランジスタ35のソースは接地されている。また、
アドレス信号出力端子26′はトランジスタ36のドレ
インにも接続されており、トランジスタ36のゲートは
TM信号入力端子28に接続され、トランジスタ36の
ソースは接地されている。トランジスタ37のドレイン
は内部ノードNに接続され、そのゲートはTM信号入力
端子28に接続され、そのソースは接地されている。高
抵抗38の一端は電源Vccに接続され、その他端は内
部ノードNに接続されている。Roughly speaking, the address signal output terminal 23' is also connected to the drain of the transistor 33.
The gate of the transistor 33 is connected to the TM signal input terminal 28, and the source of the transistor 33 is grounded. Further, the address signal output terminal 24- is also connected to the drain of the transistor 34, the gate of the transistor 34 is connected to the TM signal input terminal 28, and the source of the transistor 34 is grounded. Further, the address signal output terminal 25' is also connected to the drain of the transistor 35, the gate of the transistor 35 is connected to the TM signal input terminal 28, and the source of the transistor 35 is grounded. Also,
The address signal output terminal 26' is also connected to the drain of the transistor 36, the gate of the transistor 36 is connected to the TM signal input terminal 28, and the source of the transistor 36 is grounded. The drain of transistor 37 is connected to internal node N, its gate is connected to TM signal input terminal 28, and its source is grounded. One end of the high resistance 38 is connected to the power supply Vcc, and the other end is connected to the internal node N.
次に、第2図に示したアドレス制御回路27の動作につ
いて説明する。まず、ノーマルモードの場合、すなわち
TM倍信号ローレベルのときに11、トランジスタ33
ないし37はオフ状態にある。Next, the operation of the address control circuit 27 shown in FIG. 2 will be explained. First, in the normal mode, that is, when the TM double signal is at low level, transistor 11 and transistor 33
37 are in the off state.
したがって、内部ノードNは高抵抗38を通じてハイレ
ベルになっており、このためトランジスタ29ないし3
2はオン状態になるので、アドレス信号出力端子23′
ないし26′には、それぞれ対応する入力端子23ない
し26からのアドレス信号がそのまま出力される。すな
わち、ノーマルモード時には、アドレス制御回路27は
通常のデータ書込動作に全く影響を及ぼさない。Therefore, the internal node N is at a high level through the high resistance 38, and therefore the transistors 29 to 3
2 is turned on, the address signal output terminal 23'
Address signals from the corresponding input terminals 23 to 26 are output as they are to the corresponding input terminals 23 to 26'. That is, in the normal mode, the address control circuit 27 does not affect the normal data write operation at all.
次に、テストモード時、すなわちTM倍信号ノ\イレベ
ルのときには、トランジスタ33なし1シ37はオン状
態にある。トランジスタ37のオン抵抗と高抵抗38の
抵抗値とを適当に選択すれば、内部ノードNをローレベ
ルにすることができる。Next, in the test mode, that is, when the TM double signal is at the level, the transistors 33 and 37 are in an on state. By appropriately selecting the on-resistance of the transistor 37 and the resistance value of the high resistance 38, the internal node N can be brought to a low level.
この場合、トランジスタ29ないし32はオフ状態にな
るので、入力端子23ないし26のアドレス信号は出力
端子23′ないし26′からは出力されない。また一方
で、トランジスタ33な6% L/36がオン状態にあ
るので、アドレス信号出力端子23′ないし26′は、
これらのトランジスタ33ないし36を通じてすべて接
地されており、ローレベルにクランプされる。すなわち
、テストモード時には、メモリセル選択回路19ないし
22のすべてにローレベルの信号のみが与えられ、これ
らのメモリセル選択回路はすべて選択されて駆動される
ことになる。In this case, since the transistors 29 to 32 are turned off, the address signals of the input terminals 23 to 26 are not outputted from the output terminals 23' to 26'. On the other hand, since the transistor 33 6% L/36 is in the on state, the address signal output terminals 23' to 26' are
All of these transistors 33 to 36 are grounded and clamped to a low level. That is, in the test mode, only low level signals are applied to all of the memory cell selection circuits 19 to 22, and all of these memory cell selection circuits are selected and driven.
なお、上述の実施例では、メモリセル選択回路19ない
し22がNOR型の場合、すなわち各メモリセル選択回
路に入力されたアドレス信号がすべてローレベルである
場合にのみ当該メモリセル選択回路が選択されるように
構成されている場合に適したアドレス制御回路27の一
例を示したが、メモリセル選択回路19ないし22がO
R型の場合、すなわち各メモリセル選択回路に入力され
たアドレス信号のうち、少なくとも1つがハイレベルで
ある場合に当該メモリセル−選択回路が選択されるよう
に構成されている場合に適したアドレス制御回路27の
一例を第3図に示している。第3図に示したアドレス制
御回路27は、トランジスタ33ないし36の各導通経
路が、電圧源Vccと各アドレス信号ラインとの間に接
続されているという点で第2図に示したアドレス制御回
路27と異なっている。すなわち、第2図に示したアド
レス制御回路の接続をわずかに変更するだけでOR型メ
モリセル選択回路に適したアドレス制御回路を得ること
ができる。In the above embodiment, the memory cell selection circuit is selected only when the memory cell selection circuits 19 to 22 are of the NOR type, that is, when all the address signals input to each memory cell selection circuit are at low level. Although an example of the address control circuit 27 suitable for the case where the memory cell selection circuits 19 to 22 are configured as
An address suitable for the R type case, that is, when the memory cell selection circuit is configured to be selected when at least one of the address signals input to each memory cell selection circuit is at a high level. An example of the control circuit 27 is shown in FIG. The address control circuit 27 shown in FIG. 3 is similar to the address control circuit shown in FIG. 2 in that each conduction path of the transistors 33 to 36 is connected between the voltage source Vcc and each address signal line. It is different from 27. That is, by only slightly changing the connections of the address control circuit shown in FIG. 2, an address control circuit suitable for an OR type memory cell selection circuit can be obtained.
なお、上述の実施例では1つのデータ書込用端子から4
ピツトのメモリセルにデータが書込まれる半導体記憶装
置について説明したが、これは何ビットであってもよく
、半導体記憶装置の形式も、どのようなものであっても
よい。In addition, in the above-mentioned embodiment, 4
Although the semiconductor memory device in which data is written into pit memory cells has been described, the number of bits may be any number of bits, and the semiconductor memory device may be of any type.
ざらに、複数ビットの並列読出手段を兼備えれば、さら
にテスト時間を短縮できることは明白である。In general, it is clear that the test time can be further shortened if a multi-bit parallel reading means is also provided.
〔発明の効果]
以上のように、この発明によれば、簡単な回路構成のア
ドレス制御回路を設けることによって、複数ビットのメ
モリセルに同一データを同時に書込むことができるので
、テスト時のメモリセルの書込時間を短縮することがで
き、大容量の半導体記憶装!であっCもその機能テスト
時間を大幅に短縮することができる。[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, by providing an address control circuit with a simple circuit configuration, the same data can be written to multiple bits of memory cells at the same time. High-capacity semiconductor memory device that can shorten cell write time! Also, the time required for functional testing can be significantly reduced.
第1図はこの発明の一実施例の電気的構成を示す概略ブ
ロック図である。第2図はこの発明の一実施例を構成す
るアドレス制御回路の回路図である。第3図はこの発明
の他の実施例を構成するアドレスlIIIJ1m回路の
回路図である。第4図は従来の半導体記憶装置の電気的
構成を示す概略ブロック図である。
図において、1はデータ書込用端子、2はデータ人力バ
ッファ、11.12.13.14は前置増幅器、15.
16.17.18はメモリセル。
19.20.21.22はメモリセル選択回路、23.
24,25.26はアドレス信号入力端子、27はアド
レス制御回路、28はテストモード切換信号入力端子を
示す。
代理人 大 岩 増 雄
第1 図
第2 図
第3 図FIG. 1 is a schematic block diagram showing the electrical configuration of an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram of an address control circuit constituting an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a circuit diagram of an address lIIIJ1m circuit constituting another embodiment of the invention. FIG. 4 is a schematic block diagram showing the electrical configuration of a conventional semiconductor memory device. In the figure, 1 is a data write terminal, 2 is a data manual buffer, 11.12.13.14 is a preamplifier, and 15.
16, 17, and 18 are memory cells. 19.20.21.22 is a memory cell selection circuit; 23.
24, 25, and 26 are address signal input terminals, 27 is an address control circuit, and 28 is a test mode switching signal input terminal. Agent Masuo Oiwa Figure 1 Figure 2 Figure 3
Claims (2)
上の整数)ビットのメモリセルと、前記メモリセルごと
に設けられ、データを書込むべきメモリセルを選択する
ためのn個のメモリセル選択手段と、 前記データを書込むべきメモリセルを指定するメモリセ
ル指定信号を発生して前記メモリセル選択手段に与える
メモリセル指定信号発生手段と、テストモード時に、前
記n個のメモリセル選択手段のすべてを同時に駆動する
ように前記メモリセル指定信号を制御するアドレス制御
手段とを備えた、半導体記憶装置。(1) A data write terminal, an n (n is an integer of 2 or more) bit memory cell connected in parallel to the data write terminal, and a memory cell provided for each memory cell to which data should be written. n memory cell selection means for selecting a memory cell; memory cell designation signal generation means for generating a memory cell designation signal for designating a memory cell in which the data is to be written and applying it to the memory cell selection means; and address control means for controlling the memory cell designation signal so that all of the n memory cell selection means are simultaneously driven in a test mode.
ド切換信号に応答して、テストモード時に前記メモリセ
ル指定信号を前記メモリセル選択手段に与えないように
するとともに前記n個のメモリセル選択手段のすべてを
同時に駆動する駆動信号を前記n個のメモリセル選択手
段に与え、テストモード時以外のときには前記メモリセ
ル指定信号を前記メモリセル選択手段に与えるように切
換わるスイッチング手段を有する、特許請求の範囲第1
項記載の半導体記憶装置。(2) In response to an external test mode switching signal, the address control means prevents the memory cell designation signal from being applied to the memory cell selection means during the test mode, and the n memory cell selection means A driving signal for simultaneously driving all of the n memory cell selection means is applied to the n memory cell selection means, and the switching means is switched to apply the memory cell designation signal to the memory cell selection means when not in a test mode. range 1
The semiconductor storage device described in .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60045078A JPS61202400A (en) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60045078A JPS61202400A (en) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61202400A true JPS61202400A (en) | 1986-09-08 |
Family
ID=12709297
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60045078A Pending JPS61202400A (en) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61202400A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63241799A (en) * | 1987-03-16 | 1988-10-07 | シーメンス・アクチエンゲゼルシヤフト | Method and circuit apparatus for parallel writing of data into semiconductor memory |
JPH0330199A (en) * | 1989-06-13 | 1991-02-08 | Samsung Electron Co Ltd | Multibyte wide range parallel write circuit for memory test |
JPH03168999A (en) * | 1989-11-18 | 1991-07-22 | Samsung Electron Co Ltd | High speed recording circuit for testing ram |
-
1985
- 1985-03-05 JP JP60045078A patent/JPS61202400A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63241799A (en) * | 1987-03-16 | 1988-10-07 | シーメンス・アクチエンゲゼルシヤフト | Method and circuit apparatus for parallel writing of data into semiconductor memory |
JPH0330199A (en) * | 1989-06-13 | 1991-02-08 | Samsung Electron Co Ltd | Multibyte wide range parallel write circuit for memory test |
JPH03168999A (en) * | 1989-11-18 | 1991-07-22 | Samsung Electron Co Ltd | High speed recording circuit for testing ram |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5638331A (en) | Burn-in test circuit and method in semiconductor memory device | |
EP0293339B1 (en) | Nonvolatile memory device with a high number of cycle programming endurance | |
US5428575A (en) | Semiconductor memory device with comparing circuit for facilitating test mode | |
US6693841B2 (en) | Read compression in a memory | |
US4675850A (en) | Semiconductor memory device | |
KR950014247B1 (en) | Dynamic random access memory device with multiple word line selector | |
US6615391B2 (en) | Current controlled multi-state parallel test for semiconductor device | |
JPH11203886A (en) | Nonvolatile memory and semiconductor device having the same | |
JPH02177194A (en) | Dynamic random access memory device | |
KR100249641B1 (en) | Method to reduce burn-in time and inducing infant failure | |
KR970012790A (en) | A semiconductor memory device capable of operating by inverting the potential of an adjacent bit line during a multi-bit test | |
KR100303923B1 (en) | Multi-bank test apparatus of synchronous dram | |
US5835427A (en) | Stress test mode | |
JPH0945098A (en) | Circuit and method for reduced pin count stress test for integrated memory device | |
JPS61202400A (en) | Semiconductor memory device | |
KR0135231B1 (en) | Memory device with high speed test function | |
US5557571A (en) | Dynamic random access memory with internal testing switches | |
JPH0411959B2 (en) | ||
JPH02260200A (en) | Plural-bit parallel function test method in semiconductor storage having plural-bit parallel test function | |
JP2804212B2 (en) | Semiconductor storage device | |
JPH0752598B2 (en) | Semiconductor memory device | |
US6034880A (en) | Embedded memory device and method of performing a burn-in process on the embedded memory device | |
JP3370804B2 (en) | Semiconductor memory device | |
US6381718B1 (en) | Current controlled multi-state parallel test for semiconductor device | |
JP3919847B2 (en) | Semiconductor memory device |