JPS61194640A - Optical disk device - Google Patents

Optical disk device

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Publication number
JPS61194640A
JPS61194640A JP60034751A JP3475185A JPS61194640A JP S61194640 A JPS61194640 A JP S61194640A JP 60034751 A JP60034751 A JP 60034751A JP 3475185 A JP3475185 A JP 3475185A JP S61194640 A JPS61194640 A JP S61194640A
Authority
JP
Japan
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alloy
recording
recording medium
information
crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP60034751A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Nobuyoshi Tsuboi
坪井 信義
Satoshi Shimada
智 嶋田
Hiroshi Sasaki
宏 佐々木
Hideki Nihei
秀樹 二瓶
Norifumi Miyamoto
詔文 宮本
Tetsuo Ito
伊藤 鉄男
Yoshio Sato
佐藤 美雄
Makoto Hiraga
平賀 良
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPS61194640A publication Critical patent/JPS61194640A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Optical Recording Or Reproduction (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an information recording and reproducing device capable of easily re-writing information with the use of a high density recording medium by giving at least two types of crystal structures in the solid state and using a recording medium employing metal or alloy holding the crystal structure inherent to one temperature area in the other one. CONSTITUTION:The recording medium has at least two types of crystal structures in the solid state, holds the crystal structure inherent to one temperature area in the other one, and/or composed of the metal or alloy causing different volume changes in the crystal state. Assuming that a semiconductor laser 12 used for recording and reproducing and semiconductor lasers for erasure are symbol numbers 12, 13 and 14, respectively, a parallel light beam (i) is direction-changed by 90 deg. by means of an optical synthesizer, and an approximately circular optical spot is formed in the center of the recording line of a disk through almost the center of an object lens 5. On the other hand, parallel light beams (j) and (k) advance in the same direction of the optical synthesizer 33, and take such a path that the optical spot can be formed at a position deviated by a fine distance DELTAl with respect to the recording line of the disk.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は新規な情報記録再生装置に係り、特に光、熱エ
ネルギにより記録媒体の結晶構造を変化させて、情報を
記録、消去、再生する情報記録再生装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a new information recording/reproducing device, and particularly to information recording, erasing, and reproducing information by changing the crystal structure of a recording medium using light or thermal energy. The present invention relates to a recording/reproducing device.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

近年、情報記録の高密度化、デジタル化が進むにつれて
種々の情報記録再生方式の開発が進められている。特に
レーザの光エネルギを情報の記録。
In recent years, as information recording becomes more dense and digital, various information recording and reproducing methods are being developed. Especially for recording information using laser light energy.

消去、再生に利用した光ディスクは工業レアメタル48
0,1983(光ディスクと材料)に記載されているよ
うに磁気ディスクに比べ、高い記録密度が可能であシ、
今後の情報記録の有力な方式である。このうち、レーザ
による再生装置はコンパクト・ディスク(CD)として
実用化されている。
The optical disc used for erasure and playback is made of industrial rare metal 48.
0,1983 (Optical Disks and Materials), it is possible to achieve higher recording density than magnetic disks.
This is a promising method for recording information in the future. Among these, laser playback devices have been put into practical use as compact discs (CDs).

−万、記録可能な方式には追記型と書き換え可能型の大
きく2つに分けられる。前者は1回の書き込みのみが可
能であり、消去はできない。後者はくり返しの記録、消
去が可能な方式である。追記型の記録方法はレーザ光に
よシ記録部分の媒体を破壊あるいは成形して凹凸をつけ
、再生にはこの凹凸部分でのレーザ光の干渉による光反
射量の変化を利用する。この記録媒体にはTeやその合
金を利用して、その溶解、昇華による凹凸の成形が一般
的に知られている。書き換え可能型の記録媒体としては
光磁気材料が主流である。この方法は光エネルギを利用
してキュリ一点あるいは補償点温度付近で媒体の局部的
な磁気異方性を反転させ記録し、その部分での偏光入射
光の磁気ファラデー効果及び磁気カー効果による偏光面
の回転量にて再生する。この方法は書き換え可能型の最
も有望なものとして数年後の実用化を目指し精力的な研
究開発が進められている。しかし、現在のところ偏光面
の回転量の大きな材料がなく多層膜化などの種々の工夫
をしてもS/N、C/Nなどの出力レベルが小さいとい
う大きな問題がある。その他の書き換え可能型方式とし
て例えば特公昭47−26897号では記録媒体の非晶
質と結晶質の可逆的相変化による反射率変化を利用した
ものがある。また、追記型においても結晶質と非晶質と
の一方向の相変化を利用したものも知られている。
-10,000, Recordable systems can be broadly divided into two types: write-once type and rewritable type. The former can only be written once and cannot be erased. The latter is a method that allows repeated recording and erasing. In the write-once type recording method, a laser beam is used to destroy or shape the medium in the recorded area to create unevenness, and for reproduction, a change in the amount of light reflected due to the interference of the laser beam at the uneven area is used for reproduction. For this recording medium, it is generally known that Te or its alloy is used to form irregularities by melting and sublimating Te. Magneto-optical materials are the mainstream for rewritable recording media. This method uses optical energy to invert and record the local magnetic anisotropy of the medium near the Curie point or the compensation point temperature, and the polarization plane of the polarized incident light at that part is caused by the magnetic Faraday effect and magnetic Kerr effect. Play with the amount of rotation. This method is considered to be the most promising rewritable method, and active research and development is underway with the aim of putting it into practical use in the next few years. However, there is currently no material with a large amount of rotation of the plane of polarization, and even with various measures such as multilayer film formation, there is a big problem that output levels such as S/N and C/N are low. As another rewritable system, for example, Japanese Patent Publication No. 47-26897 utilizes a change in reflectance due to a reversible phase change between amorphous and crystalline recording media. Furthermore, write-once types that utilize a unidirectional phase change between crystalline and amorphous are also known.

しかし、この方式は非晶質相の結晶化源が低く、常温に
おける相の不安定さがディスクの信頼性に結びつく大き
な問題点である。
However, this method has a major problem in that the source of crystallization of the amorphous phase is low, and the instability of the phase at room temperature affects the reliability of the disk.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は高密度記録媒体を用いて、容易に書き換
えができる情報記録再生装置を提供するにある。
An object of the present invention is to provide an information recording/reproducing device that uses a high-density recording medium and can be easily rewritten.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、固体状態で少なくとも2種類の結晶構造を有
し、一方の温度領域での結晶構造を他方の温度領域で保
持する金属又は合金を用いた記録媒体を用いたものであ
って、特に消去スポットを記録ラインの両側から与える
ような光学系を備えることにより、後述するような記録
前後の反射率変化の影響を受けなくなるようにし、前記
記録媒体は固体状態で少なくとも2種類の結晶構造を有
し、一方の温度領域での結晶構造を他方の温度領域で保
持し、及び/又は結晶状態で互いに異なった体積変化を
生じる金属又は合金からなることを特徴とする情報記録
再生装置にある。
The present invention uses a recording medium using a metal or an alloy that has at least two types of crystal structures in a solid state and maintains the crystal structure in one temperature range in the other temperature range, and in particular, By providing an optical system that applies erasing spots from both sides of the recording line, it is possible to eliminate the influence of changes in reflectance before and after recording as described later, and the recording medium has at least two types of crystal structures in a solid state. The information recording and reproducing device is characterized in that it is made of a metal or an alloy that maintains a crystalline structure in one temperature range in another temperature range and/or causes different volume changes in the crystalline state.

なお、結晶変化が生じなくても凹凸の変化を生じる合金
であれば使用可能である。
Note that any alloy that causes a change in unevenness can be used even if no crystal change occurs.

(合金組成) 本発明の結晶量転移合金は、高温及び低温状態で異なっ
た結晶構造を有するもので、高温からの急冷によってそ
の急冷された結晶構造が形成される。
(Alloy Composition) The crystal mass transition alloy of the present invention has different crystal structures at high and low temperatures, and the rapidly cooled crystal structure is formed by rapid cooling from a high temperature.

更に、この急冷されて形成された相は所定の温度での加
熱によって低温状態での結晶構造に変化する。このよう
に高温からの9、冷によって低温での結晶構造と異なっ
た結晶構造を得るための冷却速度として10”07秒以
上又は、10”07秒以上で、このような結晶構造の変
化が生じるものが好ましい。
Furthermore, the phase formed by this rapid cooling changes into a crystalline structure at a low temperature by heating at a predetermined temperature. In this way, such a change in crystal structure occurs when the cooling rate is 10"07 seconds or more or 10"07 seconds or more to obtain a crystal structure different from the crystal structure at a low temperature. Preferably.

本発明の結晶量転移合金は、周期律表のlb族元素の少
なくとも1種と[b族、llb族、■b族及びyb族元
素から選ばれた少なくとも1種との合金からなるものが
好ましい。
The crystal mass transition alloy of the present invention is preferably made of an alloy of at least one element of group lb of the periodic table and at least one element selected from group b, llb, b, and yb. .

合金例としては、cu−Az金合金Cu−Zn合金、c
u−At−zn合金、Cu−At−Ni合金#  Cu
−At−Mn合金、Cu−A/、−Fe−Cr合金、C
u−Ge合金、Cu−At−Ge合金、Cu−In合金
、Cu−At−In合金。
Examples of alloys include cu-Az gold alloy, Cu-Zn alloy, c
u-At-zn alloy, Cu-At-Ni alloy #Cu
-At-Mn alloy, Cu-A/, -Fe-Cr alloy, C
u-Ge alloy, Cu-At-Ge alloy, Cu-In alloy, Cu-At-In alloy.

Cu −Q e合金、(::u−A1−Ge合金、Cu
−8L1合金、Cu−’l’e合金、Cu−4’i合金
Cu-Qe alloy, (::u-A1-Ge alloy, Cu
-8L1 alloy, Cu-'l'e alloy, Cu-4'i alloy.

CLI−At−8n合金、  Cu−7,n合金、(:
:u−8i合金、  Cu−3b合金、Cu−Be合金
CLI-At-8n alloy, Cu-7,n alloy, (:
: u-8i alloy, Cu-3b alloy, Cu-Be alloy.

Cu−Be合金、Cu−Mn合金、Cu−pd金合金(
::u−pt金合金Ag−Zr1合金、Ag−At合金
、Ag−Cd合金、Ag−In合金。
Cu-Be alloy, Cu-Mn alloy, Cu-PD gold alloy (
::upt gold alloy Ag-Zr1 alloy, Ag-At alloy, Ag-Cd alloy, Ag-In alloy.

Ag−Ga合金、Ag−At−AU金合金Ag−AL−
Cu合金、Ag−A4−Au−Cu合金。
Ag-Ga alloy, Ag-At-AU gold alloy Ag-AL-
Cu alloy, Ag-A4-Au-Cu alloy.

Ag−At−Cd合金、Ag−Pt合金、Ag−8合金
、Ag−8n合金t Ag  T’金合金  Ag−T
i合金、Ag−Zr合金、Ag−As合金。
Ag-At-Cd alloy, Ag-Pt alloy, Ag-8 alloy, Ag-8n alloyt Ag T' Gold alloy Ag-T
i alloy, Ag-Zr alloy, Ag-As alloy.

Ag−AIJ合金、Ag−Be合金、Ag−Mg合金、
Ag−Li合金、Ag  Mn合金、At−pe金合金
At−Mg合金、At−Mn合金。
Ag-AIJ alloy, Ag-Be alloy, Ag-Mg alloy,
Ag-Li alloy, Ag-Mn alloy, At-pe gold alloy, At-Mg alloy, At-Mn alloy.

At−Pd合金、At−Te合金、ht−T;合金、 
 A1−7.n合金、Al−Zr合金、Nj−sb金合
金Ni−8n合金、Ni−8n合金。
At-Pd alloy, At-Te alloy, ht-T; alloy,
A1-7. n alloy, Al-Zr alloy, Nj-sb gold alloy Ni-8n alloy, Ni-8n alloy.

N i −Q n合金、Mrl−Ge合金、]]’Jj
−Gl!合金、N1−M1合金Ni−8合金、Ni−4
’i合金、Fe−As合金#AS S合金、 As −
Zn合金、  l;’e−Be合金、金合−Ni合金。
N i -Q n alloy, Mrl-Ge alloy,]]'Jj
-Gl! Alloy, N1-M1 alloy Ni-8 alloy, Ni-4
'i alloy, Fe-As alloy #AS S alloy, As -
Zn alloy, 'e-Be alloy, gold alloy-Ni alloy.

F’ e −Cr合金、i;’e−p合金、Mn−Pd
合金。
F'e-Cr alloy, i;'e-p alloy, Mn-Pd
alloy.

Mn−pt金合金Mn−5b合金、Mrt−87合金、
Au−Ca合金、Au−At、合金、Au−In合金、
AU−Ga合金、  Au−Cd合金。
Mn-pt gold alloy Mn-5b alloy, Mrt-87 alloy,
Au-Ca alloy, Au-At, alloy, Au-In alloy,
AU-Ga alloy, Au-Cd alloy.

Au−Cu合金、Au−Fe合金、Au−Mn合金、 
 Au−Zn合金、Ba−Ca合金、  Bi −pb
金合金Bi−T/、合金、Ti−Ni合金。
Au-Cu alloy, Au-Fe alloy, Au-Mn alloy,
Au-Zn alloy, Ba-Ca alloy, Bi-pb
Gold alloy Bi-T/, alloy, Ti-Ni alloy.

N1−V合金、  Nt−Zn合金、  cd−Li合
金。
N1-V alloy, Nt-Zn alloy, cd-Li alloy.

Cd−Mg合金、  cd−pb金合金(::d−i9
b合金、5b−In合金、3b−In−3e合金。
Cd-Mg alloy, cd-pb gold alloy (::d-i9
b alloy, 5b-In alloy, 3b-In-3e alloy.

M g −Ce合金、Co−Cr合金、Co−Ga合金
、co−Mn合金、Go−3b合金、Co−V合金、I
n−Mg合金、In−Mn合金、In−Ni合金、Jn
−8n合金、In−Tt合金。
M g -Ce alloy, Co-Cr alloy, Co-Ga alloy, co-Mn alloy, Go-3b alloy, Co-V alloy, I
n-Mg alloy, In-Mn alloy, In-Ni alloy, Jn
-8n alloy, In-Tt alloy.

L r−Zn合金、Mn−7,n合金、Pb−Tt合金
、pb−s合金、pb−8b合金、  pd−2n合金
、f3n−8b合金、Tt−8b合金、5b−Zn合金
、  Ti−5n合金、’rz−sn合金。
L r-Zn alloy, Mn-7,n alloy, Pb-Tt alloy, pb-s alloy, pb-8b alloy, pd-2n alloy, f3n-8b alloy, Tt-8b alloy, 5b-Zn alloy, Ti- 5n alloy, 'rz-sn alloy.

7rr−8n合金、 7.r−Th合金、’pi −2
n合金、  Tt−zr金合金どがある。
7rr-8n alloy, 7. r-Th alloy, 'pi-2
There are n alloys, Tt-zr gold alloys, etc.

合金例として、重量組成で次のものが好ましい。As examples of alloys, the following are preferred in terms of weight composition.

AgK30〜40%Zn、6〜10%At、40〜60
%Cd、20〜30%Inを単独、Cuに10〜20%
At、  20〜30%Ga、  20〜40%In、
  20〜301Ge、  15〜35@3n、lo 
〜60%Zn、 5〜10%sr、4−15%Be、3
0〜45%sbを単独、 Auに15〜25 % I 
n、  10〜15%Ga、  5〜25%Zn、20
〜55%Cd、2.5〜5%Atを単独、Niに55〜
60チAt、40〜50%Tiを単独で加えた合金、I
n−25〜35%Tt合金、  Feに55%以下のP
tt−加えた合金、 Mn−5〜50%Cu合金I  
5e15〜25%−In30〜40%−8b合金、これ
らの合金に対し更に第3成分として第2成分以外の次の
元素を加えることができる。
AgK30-40%Zn, 6-10%At, 40-60
%Cd, 20-30% In alone, 10-20% in Cu
At, 20-30% Ga, 20-40% In,
20~301Ge, 15~35@3n, lo
~60%Zn, 5-10%sr, 4-15%Be, 3
0-45% sb alone, 15-25% I on Au
n, 10-15% Ga, 5-25% Zn, 20
~55% Cd, 2.5~5% At alone, 55~55% At in Ni
Alloy with 60% At and 40-50% Ti added, I
n-25~35%Tt alloy, 55% or less P in Fe
tt-added alloy, Mn-5~50% Cu alloy I
5e15-25%-In30-40%-8b alloy, and the following elements other than the second component can be added as a third component to these alloys.

Ia、  I[a、 IVa、  Va、 ■a、 V
Ia、 *。
Ia, I[a, IVa, Va, ■a, V
Ia, *.

1b−4b、希土類元素の1種又は2種以上の合計で1
5重量%以下である。
1b-4b, the total of one or more rare earth elements is 1
It is 5% by weight or less.

具体的には、Ia族はli、lea族はMg。Specifically, li is used for group Ia, and Mg is used for group lea.

Ca、Va族はTi、  zr、Hf、 Va族はV。Ca and Va groups are Ti, zr, Hf, and Va groups are V.

Nb、Ta、■a族はCr、MO,W、■a族はMn%
■族はCo、  Rh、Ir、pe、 R,u。
Nb, Ta, ■a group is Cr, MO, W, ■a group is Mn%
■The groups are Co, Rh, Ir, pe, R, u.

Qs、Ni、Pd、Pt、lb族はCu、Ag。Qs, Ni, Pd, Pt, lb group is Cu, Ag.

Au、ib族はZn、Cd、llb族はH,At。Au, ib group is Zn, Cd, llb group is H, At.

Ga、In、■b族はC,S i、Qe、3n。Ga, In, ■b group is C, Si, Qe, 3n.

P b%V b族ハP、  13 b、 B i 、 
希土類元RハY。
P b%V b group HaP, 13 b, B i,
Rare earth element RhaY.

L at Cep  S my G dy T bt 
D ’/p L uが好まし、い。特に、0.1〜5重
量%が好ましい。
L at Cep S my G dy T bt
D'/pL u is preferred. In particular, 0.1 to 5% by weight is preferred.

また、’f’e、  Seを主とした合金を溶解、昇華
によって凹凸を形成する合金も使用可能である。
It is also possible to use an alloy that forms irregularities by melting and sublimating an alloy mainly consisting of 'f'e and Se.

(製造法) 本発明の結晶量転移合金は反射率の可変性を得るために
材料の加熱急冷によって過冷相を形成できるものが必要
である。高速で情報の製作及び記憶させるKは材料の急
熱急冷効果の高い熱容量の小さいノンバルクが望ましい
。即ち、所望の微小面積に対して投入されたエネルギー
によって実質的に所望の面積部分だけが深さ全体にわた
って基準となる結晶構造と異なる結晶構造に変夛得る容
積を持つノンバルクであることが望ましい。従って、所
望の微小面積によって高密度の情報を製作するには、熱
容量の小さいノンバルクである箔。
(Manufacturing method) In order to obtain reflectance variability, the crystal mass transition alloy of the present invention must be able to form a supercooled phase by heating and rapidly cooling the material. For high-speed information production and storage, K is preferably a non-bulk material with a small heat capacity and a high rapid heating and cooling effect. That is, it is desirable to be a non-bulk material having a volume that allows substantially only a desired area portion to change over the entire depth into a crystal structure different from the reference crystal structure by energy input to a desired minute area. Therefore, in order to fabricate high-density information in a desired small area, a non-bulk foil with a small heat capacity is required.

膜、細線あるいは粉末等が望ましい。記録密度として、
20メガビット/−以上となるような微小面積での情報
の製作には0.01〜0,2μmの膜厚とするのがよい
。一般に金属間化合物は重性加工が難しい。従って、箔
、膜、細線あるいは粉末にする手法として材料を気相あ
るいは液相から直接急冷固化させて所定の形状にするこ
とが有効である。これらの方法にはPVD法(蒸着、ス
パッタリング法等)、CVD法、溶湯を高速回転する高
熱伝導性を有する部材からなる、特に金属ロール円周面
上に注湯して急冷凝固させる溶湯急冷法。
Films, thin wires, powders, etc. are desirable. As recording density,
For producing information in a minute area such as 20 megabits/- or more, the film thickness is preferably 0.01 to 0.2 μm. In general, intermetallic compounds are difficult to undergo heavy processing. Therefore, it is effective to directly rapidly cool and solidify the material from the gas phase or liquid phase to form it into a predetermined shape as a method for producing foil, film, thin wire, or powder. These methods include PVD method (vapor deposition, sputtering method, etc.), CVD method, molten metal quenching method in which molten metal is poured onto the circumferential surface of a metal roll and rapidly solidified, consisting of a member with high thermal conductivity that rotates the molten metal at high speed. .

電気メッキ、化学メッキ法等がある。膜あるいは粉末状
の材料を利用する場合、基板上に直接形成するか、塗布
して基板上に接着することが効果的である。塗布する場
合、粉末を加熱しても反応などを起こさないバインダー
がよい。また、加熱による材料の酸化等を防止するため
、材料表面、基板上に形成した膜あるいは塗布層表面を
コーティングすることも有効である。
There are electroplating methods, chemical plating methods, etc. When using a film or powder material, it is effective to form it directly on the substrate or to apply it and adhere it to the substrate. When applying, a binder that does not cause any reaction even when the powder is heated is preferred. Furthermore, in order to prevent oxidation of the material due to heating, it is also effective to coat the surface of the material, the film formed on the substrate, or the surface of the coating layer.

箔又は細線は溶湯急冷法によって形成するのが好ましく
、厚さ又は直径0.1 rxm以下が好ましい。
The foil or thin wire is preferably formed by a molten metal quenching method, and preferably has a thickness or diameter of 0.1 rxm or less.

特に0.1μm以下の結晶粒径の箔又は細線を製造する
には0.05m以下の厚さ又は直径が好ましい。
In particular, in order to produce foil or thin wire with a crystal grain size of 0.1 μm or less, a thickness or diameter of 0.05 m or less is preferable.

粉末は、溶湯を気体又は液体の冷媒とともに噴露させて
水中に投入させて急冷するアトマイズ法によって形成さ
せることが好ましい。その粒径は0、1 wm以下が好
ましく、特に粒径1μm以下の超微粉が好ましい。
The powder is preferably formed by an atomization method in which molten metal is sprayed together with a gaseous or liquid refrigerant and then poured into water to be rapidly cooled. The particle size is preferably 0.1 wm or less, and ultrafine powder with a particle size of 1 μm or less is particularly preferable.

膜は前述の如く蒸着、スパッタリング、CVD電気メッ
キ、化学メッキ等によって形成できる。
The film can be formed by vapor deposition, sputtering, CVD electroplating, chemical plating, etc., as described above.

特に、0.1μm以下の膜厚を形成するにはスパッタリ
ングが好ましい。スパッタリングは目標の合金組成のコ
ントロールが容易にできる。
In particular, sputtering is preferable to form a film with a thickness of 0.1 μm or less. Sputtering allows easy control of the target alloy composition.

(組織) 本発明の結晶量転移合金は、高温及び低温において異な
る結晶構造を有し、高温からの急冷によって高温におけ
る結晶構造を低温で保持される過冷相の組成を有するも
のでなければならない。高温では不規則格子の結晶構造
を有するが、過冷相は一例としてcs−ct型あるいは
D Os型の規則格子を有する金属間化合物が好ましい
。光学的性質を大きく変化させることのできるものとし
て本発明合金はこの金属間化合物を主に形成する合金が
好ましく、特に合金全体が金属間化合物を形成する組成
が好ましい。この金属間化合物は電子化合物と呼ばれ、
特に3/2電子化合物(平均外殻電子濃度e / aが
3/2)の合金組成付近のものが良好である。
(Structure) The crystal mass transition alloy of the present invention has different crystal structures at high and low temperatures, and must have a composition of a supercooled phase in which the crystal structure at high temperature is maintained at low temperature by rapid cooling from high temperature. . Although the intermetallic compound has an irregular lattice crystal structure at high temperatures, the supercooled phase is preferably an intermetallic compound having a cs-ct type or DOs type regular lattice, for example. As the alloy of the present invention is capable of greatly changing optical properties, it is preferable that the alloy mainly forms this intermetallic compound, and a composition in which the entire alloy forms an intermetallic compound is particularly preferable. This intermetallic compound is called an electronic compound,
In particular, alloy compositions near 3/2 electron compounds (average outer shell electron concentration e/a of 3/2) are good.

また、本発明の結晶量転移合金は同相変態、たとえば共
析変態又は包析変態を有する合金組成が好ましく、その
合金は高温からの急冷と非急冷によって分光反射率の差
の大きいものが得られる。
Further, the crystal mass transition alloy of the present invention preferably has an alloy composition having in-phase transformation, for example, eutectoid transformation or enveloping transformation, and the alloy can be obtained with a large difference in spectral reflectance by quenching from high temperature and non-quenching. .

本発明合金は超微細結晶粒を有する合金が好ましく、特
に結晶粒径は0.1μm以下が好ましい。
The alloy of the present invention preferably has ultrafine crystal grains, and particularly preferably has a crystal grain size of 0.1 μm or less.

即ち、結晶粒は可視光領域の波長の値より小さいのが好
ましいが、半導体レーザ光の波長の値よシ小さいもので
もよい。
That is, the crystal grains are preferably smaller than the wavelength of visible light, but may be smaller than the wavelength of semiconductor laser light.

(特性) 本発明の記録材料は、可視光領域における分光反射率を
同一温度で少なくとも2種類形成させることができる。
(Characteristics) The recording material of the present invention can form at least two types of spectral reflectance in the visible light region at the same temperature.

即ち、高温からの急冷によって形成された結晶構造(組
織)を有するものの分光反射率が非急冷によって形成さ
れた結晶構造(組織)を有するものの分光反射率と異な
っていることが必要である。
That is, it is necessary that the spectral reflectance of a material having a crystal structure (structure) formed by rapid cooling from a high temperature is different from that of a material having a crystal structure (structure) formed by non-quenching.

また、急冷と非急冷によって得られるものの分光反射率
の差は5%以上が好ましく、特に10%以上有すること
が好ましい。分光反射率の差が大きければ、目視による
色の識別が容易であシ、後で記載する各種用途において
顕著な効果がある。
Further, the difference in spectral reflectance obtained by quenching and non-quenching is preferably 5% or more, particularly preferably 10% or more. If the difference in spectral reflectance is large, it will be easy to visually distinguish colors, and this will have a significant effect in various uses described later.

分光反射させる光源として、電磁波であれば可視光以外
でも使用可能であシ、赤外線、紫外線なども使用可能で
ある。
As a light source for spectrally reflecting, electromagnetic waves other than visible light can be used, and infrared rays, ultraviolet rays, etc. can also be used.

本発明の結晶量転移合金のその他の特性として、電気抵
抗率、光の屈折率、光の偏光率、光の透過率なども分光
反射率と同様に可逆的に変えることができ、各種情報の
記録、記録された情報を再生することに利用することが
できる。
Other properties of the crystal mass transition alloy of the present invention include electrical resistivity, optical refractive index, optical polarization rate, and optical transmittance, which can be changed reversibly in the same way as spectral reflectance, and various information can be obtained. It can be used to record and reproduce recorded information.

分光反射率は合金の表面あらさ状態に関係するので、前
述のように少なくとも可視光領域において10%以上有
するように少なくとも目的とする部分において鏡面にな
っているのが好ましい。
Since the spectral reflectance is related to the surface roughness of the alloy, it is preferable that at least the intended portion has a mirror surface so as to have 10% or more in the visible light region as described above.

(用途) 本発明の結晶量転移合金は、加熱急冷によって部分的又
は全体に結晶構造の変化による電磁波の分光反射率、電
気抵抗率、屈折率、偏光率、透過率等の物理的又は電気
的特性を変化させ、これらの特性の変化を利用して情報
の記録用素子に使用することができる。
(Applications) The crystal mass transition alloy of the present invention can be used to improve physical or electrical properties such as spectral reflectance of electromagnetic waves, electrical resistivity, refractive index, polarization index, transmittance, etc. due to partial or total change in crystal structure by heating and quenching. It can be used as an information recording element by changing the characteristics and utilizing the changes in these characteristics.

情報の記録の手段として、電圧及び電流の形での電気エ
ネルギー、電磁波(可視光、輻射熱、赤外線、紫外線、
写真用閃光ランプの光、電子ビーム、陽子線、アルゴン
レーザ、半導体レーザ等のレーザ光線、高電圧火花放電
等)を用いることができ、特にその照射による分光反射
率の変化を利用して光ディスクの記録媒体に利用するの
が好ましい。光ディスクには、ディジタルオーディオデ
ィスク(DAD又はコンパクトディスク)、ビデオディ
スク、メモリーディスク、フロッピーディスク、マイク
ロフイシュなどがあり、これらに使用可能である。本発
明合金を光ディスクの記録媒体に使用することにより再
生専用壓、追加記録屋。
As a means of recording information, electrical energy in the form of voltage and current, electromagnetic waves (visible light, radiant heat, infrared, ultraviolet,
Light from photographic flash lamps, electron beams, proton beams, laser beams such as argon lasers, semiconductor lasers, high-voltage spark discharges, etc.) can be used, and in particular, the change in spectral reflectance caused by the irradiation can be used to record optical discs. It is preferable to use it as a recording medium. Optical discs include digital audio discs (DAD or compact discs), video discs, memory discs, floppy discs, microfiche, etc., and can be used for these. By using the alloy of the present invention in the recording medium of an optical disk, a reproduction-only disk and an additional recording medium can be obtained.

書換型ディスク装置にそれぞれ使用でき、特に書換型デ
ィスク装置においてきわめて有効である。
It can be used in any rewritable disk device, and is particularly effective in rewritable disk devices.

記録方法はエネルギーを断続的にパルス的に与えるやり
方又は連続的に与えるやり方のいずれでもよい。前者で
はディジタル信号として記録できる。
The recording method may be either a method of applying energy intermittently in pulses or a method of applying energy continuously. In the former case, it can be recorded as a digital signal.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

本発明者等は、この本発明の結晶量転移合金について種
々の実験を行ない、光ディスク装置に使用することを意
図して記録前と記録後とで光の反射率がどのように変化
するかを調べてみた。具体的に結晶量転移合金を作成し
、その特性を調べた。
The present inventors conducted various experiments on the crystal mass transition alloy of the present invention, and determined how the light reflectance changes before and after recording, with the intention of using it in an optical disk device. I looked into it. Specifically, we created a crystal mass transition alloy and investigated its properties.

第6図KF:の典型的−例を示す。この図で(a)が記
録前、(b)が記録後を表わす。光ディスク装置はこの
特性を利用するものであり、例えば780(nm)の波
長の光ビームを用い、記録された所に光が当ったときの
反射量と、記録されない所に光が当ったときの反射量の
差に応じて情報の有無を判定するものである。この図か
ら明らかなように、記録するときはCのように反射率が
大きくなり、消去するときはdのように反射率が小さく
なる。また、ssO(nm)を選択したときは、記録す
るときはC′のように反射率が小さくなシ、消去すると
きはd′のように反射率が大きくなる。
Figure 6 shows a typical example of KF:. In this figure, (a) shows the state before recording, and (b) shows the state after recording. Optical disc devices take advantage of this characteristic, and use a light beam with a wavelength of 780 (nm), for example, to determine the amount of reflection when the light hits a recorded area and the amount of reflection when the light hits an unrecorded area. The presence or absence of information is determined according to the difference in the amount of reflection. As is clear from this figure, when recording, the reflectance increases as shown in C, and when erasing, the reflectance decreases as shown in d. Further, when ssO (nm) is selected, the reflectance is small like C' when recording, and becomes large like d' when erasing.

この記録の前後で反射率が同一となる基準波長よシも長
い波長側を長波長側、短い波長側を短波長側と呼ぶこと
にする。
The wavelength side longer than the reference wavelength where the reflectance is the same before and after recording is called the long wavelength side, and the wavelength side shorter than the reference wavelength is called the short wavelength side.

ところで、この結晶量転移合金が情報が記録しあるいは
消去するためには、第2図に示すような温度まで加熱さ
れねばならない。つまシ、記録するときは、温度02以
上に記録媒体が加熱されその俊速やかに冷却されること
が必要でラシ、消去するときは温度01以上であって温
度02以下の状態で十分な量のエネルギーを記録媒体が
受けることが必要である。
By the way, in order for this crystal mass transition alloy to record or erase information, it must be heated to a temperature as shown in FIG. When recording, it is necessary to heat the recording medium to a temperature of 02 or above and cool it quickly.When erasing, a sufficient amount of It is necessary for the recording medium to receive the energy.

記録、消去にはこのような関係を満たすことが必要であ
る九め、もし550(rum)の波長を使用すると第3
図のようになる。つまシ、第6図で説明したように記録
が行われたとたんに反射率が低下し吸収率が増大する(
結晶量転移合金は金属であるので、透過率はわずかであ
る。)ので、一定の光パワーを与えていると温度が急激
に上昇する。光ディスクは熱の吸収、光の干渉その他の
目的で薄い多層膜構成とされており、変形防止の面から
必要以上に加熱しないのがよい。そのため、θ1よシわ
ずかに高いθ鵞′まで加熱するように光パワーを制御す
る必要がある。
It is necessary to satisfy this relationship for recording and erasing.Ninth, if a wavelength of 550 (rum) is used, the third
It will look like the figure. As explained in Figure 6, as soon as recording is performed, the reflectance decreases and the absorption rate increases (
Since crystal mass transition alloys are metals, their transmittance is negligible. ), the temperature will rise rapidly if a certain amount of optical power is applied. Optical discs have a thin multilayer structure for heat absorption, light interference, and other purposes, and in order to prevent deformation, it is best not to heat them more than necessary. Therefore, it is necessary to control the optical power so as to heat up to θ' which is slightly higher than θ1.

逆に消去のときは消去完了とともに反射率が増大(吸収
率が減少)するために、一定の光パワーの下では温度の
上昇が頭打ちとなる。このこと自体は好ましい方向であ
シ、問題にはならない。
On the other hand, during erasing, the reflectance increases (absorptivity decreases) as erasing is completed, so the temperature rise reaches a ceiling under a constant optical power. This in itself is a desirable direction and does not pose a problem.

ところで、現状では小形、低コストが最も進んでいる半
導体レーザの波長は800nm前後であり、この波長を
使用すると第4図のように消去できないという恐れがあ
る。つまり、記録媒体の温度がθ電に達して消去が完了
すると反射率は第6図に示すように低下(吸収率は増大
)するので急速に加熱され、記録のための最低温度θ2
を越えてしまって再書き込みされてしまう問題である。
By the way, the wavelength of semiconductor lasers, which are currently the most advanced in terms of size and cost reduction, is around 800 nm, and if this wavelength is used, there is a fear that erasing may not be possible as shown in FIG. In other words, when the temperature of the recording medium reaches θ2 and erasing is completed, the reflectance decreases (the absorption rate increases) as shown in Figure 6, so it is rapidly heated and the minimum temperature for recording is θ2.
This is a problem where the data exceeds the limit and is rewritten.

この現象は消去のための光パワーPzIを小さくするこ
とによシ温度θ1に達するまでの時間11を長くすれば
Δtは長くできるが、高速消去ができないことになる。
This phenomenon can be solved by reducing the optical power PzI for erasing and lengthening the time 11 until the temperature θ1 is reached, thereby increasing Δt, but high-speed erasing cannot be achieved.

これらの記録・消去に伴ない記録媒体の体積変化があり
、記録によってベース面に凹部又は凸部を形成し、消去
によって元の平坦な面に戻ることが確認された。
It was confirmed that the volume of the recording medium changes as a result of recording and erasing, and that a concave or convex portion is formed on the base surface by recording, and the base surface returns to its original flat surface by erasing.

以下、本発明の光ディスク装置の構成についての1実施
例を第5図によシ説明する。
Hereinafter, one embodiment of the configuration of the optical disc device of the present invention will be described with reference to FIG.

第5図において、半導体レーザ12,13゜14から出
た発散光はコリメートレンズ22゜23.24で平行光
’z  Jp  kとなる。ここで、記録と再生に用い
る半導体レーザを12、消去に用いる半導体レーザを1
3.14とすると、平行光iは光合成器で90度向きを
変えられて、偏光ビームスプリッタ31、λ/4板4、
ミラー39、対物レンズ5のほぼ中心を通ってディスク
の記録ラインの中心にほぼ円形の光スポットを形成する
In FIG. 5, the diverging light emitted from the semiconductor lasers 12, 13.degree. 14 becomes parallel light 'z Jp k by the collimating lens 22.degree. 23.24. Here, 12 semiconductor lasers are used for recording and reproduction, and 1 semiconductor laser is used for erasing.
3.14, the parallel light i is changed in direction by 90 degrees by the light combiner, and then passes through the polarizing beam splitter 31, the λ/4 plate 4,
A substantially circular light spot is formed at the center of the recording line of the disk by passing through the mirror 39 and substantially the center of the objective lens 5.

一方、平行光jとkは光合成33で同一方向に進行し、
32以降はiと同様に進行するが、ディスクの記録ライ
ンに対して、第1図に示すように微小距離Δtだけずれ
る位置に光スポットが形成されるような光路をとる。こ
こでは平行光iを記録と再生に用いj、kを消去とする
例を示したがこれらは入れ換えても良い。さらに詳細に
言えば記録と再生の方には半導体レーザの光スポットの
だ円形を略円形にする整形プリズムを設ける。この目的
と効果については第7図で後述する。
On the other hand, parallel lights j and k travel in the same direction through photosynthesis 33,
From 32 onwards, the process proceeds in the same manner as i, but takes an optical path such that a light spot is formed at a position shifted by a minute distance Δt with respect to the recording line of the disc, as shown in FIG. Here, an example is shown in which parallel light i is used for recording and reproduction and j and k are used for erasing, but these may be replaced. More specifically, a shaping prism is provided for recording and reproducing to make the ellipse of the light spot of the semiconductor laser substantially circular. The purpose and effect of this will be described later with reference to FIG.

ディスク1で反射された光は対物レンズ、ミラー39、
λ/4板4を通って、偏光ビームスプリッタ31で向き
を変えられて、カップリングレンズ6、円筒レンズ62
を通って光検出器7に達する。この光検出器の結像状態
によυ、対物レンズとディスク間の距離の制御、すなわ
ちフォーカスレンズやディスクのトラック方向の制御、
すなわちトラッキングのサーボ信号を得る。これらの方
式は各種の方式がちシ、公知であるのでここでは述べな
い。この検出系には消去の光に、jによる反射光を遮ぎ
るフィルタ42を設けて光検出器に外乱の入るのを防止
している。
The light reflected by the disk 1 passes through an objective lens, a mirror 39,
After passing through the λ/4 plate 4 and having its direction changed by the polarizing beam splitter 31, the coupling lens 6 and the cylindrical lens 62
and reaches the photodetector 7. Depending on the image formation state of this photodetector, υ controls the distance between the objective lens and the disk, that is, controls the focus lens and the track direction of the disk.
That is, a tracking servo signal is obtained. Various types of these methods are well known and will not be described here. This detection system is provided with a filter 42 for blocking the erase light reflected by j to prevent disturbance from entering the photodetector.

次に消去スポットをトラックの中心からΔtだけずらし
た効果について第7図を用いて説明する。
Next, the effect of shifting the erase spot by Δt from the center of the track will be explained using FIG.

第1図に示すように消去用の光スポットは記録され九信
号からはずれているために、消去スポットの大半が反射
率の低い部分に当る。このため、光エネルギーの吸収が
高く、前述した光パワーE1よシ低いパワーE2で同等
の温度上昇曲線が得られる。温度がθlに達して、記録
部が消去されると反射率は低くなるが、消去スポットは
元々反射率の低い部分に当てているために光エネルギー
の吸収は殆んど変わらず第7図のような温度上昇曲線と
なシ安定した消去が可能となる。
As shown in FIG. 1, since the erasing light spot is deviated from the recorded nine signals, most of the erasing spots hit areas with low reflectance. Therefore, absorption of optical energy is high, and an equivalent temperature rise curve can be obtained with a power E2 that is lower than the optical power E1 described above. When the temperature reaches θl and the recorded area is erased, the reflectance decreases, but since the erase spot is applied to an area with originally low reflectance, the absorption of light energy remains almost unchanged, as shown in Figure 7. Stable erasure is possible with a temperature rise curve like this.

第8図は本発明のその他の実施例を示す。FIG. 8 shows another embodiment of the invention.

図において8は回折格子であシ、その他は第5図と同じ
構成である。この回折格子8はレーザダイオード14の
光をコリメートレンズ24で平行光にした後に設けられ
、±1次光のみが強調される格子定数としている。この
回折格子を回転させるとディスク上にできるスポット光
は記録ラインをはさんで2つのスポット光となシ、回転
角度によシその幅を変えることができる。このような構
成であるので前述したような効果があるのは当然である
。このように記録ラインの両側から光パワーを与える方
式は前記したように金属または合金で作られた記録媒体
では熱の伝導率が高いので特に有効である。
In the figure, 8 is a diffraction grating, and the rest of the structure is the same as in FIG. 5. This diffraction grating 8 is provided after the light from the laser diode 14 is made into parallel light by the collimating lens 24, and has a grating constant that emphasizes only the ±1st-order light. When this diffraction grating is rotated, the light spot formed on the disk becomes two light spots across the recording line, and the width of the light spot can be changed depending on the rotation angle. With such a configuration, it is natural that the above-mentioned effects can be achieved. This method of applying optical power from both sides of the recording line is particularly effective for recording media made of metals or alloys, which have high thermal conductivity, as described above.

この装置を用いて、次の実験を行った。The following experiment was conducted using this device.

スパッタリング法によってAg−40重量%Zn合金膜
をガラス基板に形成させ光ディスクを製作した。合金膜
の記録、消去による加熱による酸化を防止するため及び
基板から剥離するのを防止するため、その表面に8!0
2の保護膜(厚さ30nm)を蒸着によって形成した。
An optical disk was manufactured by forming an Ag-40% by weight Zn alloy film on a glass substrate by sputtering. In order to prevent the alloy film from being oxidized by heating during recording and erasing, and to prevent it from peeling off from the substrate, 8!0 is applied to the surface of the alloy film.
A protective film (thickness: 30 nm) of No. 2 was formed by vapor deposition.

ガラス板上の合金膜の蒸着にはDC−マグネトロン型を
、Sigh!の形成にはRF型のスパッタ法をそれぞれ
適用した。スパッタ出力は140〜200W。
A DC-magnetron type was used for vapor deposition of the alloy film on the glass plate, and Sigh! An RF type sputtering method was applied to the formation of each. Sputtering power is 140-200W.

基板温度は200Cの条件に設定した。容器内を10−
’ Torr程度まで真空排気後、Arガスを5〜39
mTorr導入して薄膜を作製した。膜厚は、Sigh
膜厚を30nm程度とし、合金膜厚を0.05〜10μ
mの範囲内で穫々の厚さに変えた。
The substrate temperature was set to 200C. Inside the container 10-
' After evacuation to about Torr, Ar gas is
A thin film was prepared by introducing mTorr. The film thickness is S
The film thickness is about 30 nm, and the alloy film thickness is 0.05 to 10μ.
The thickness of the grain was varied within the range of m.

このようにして製作した光ディスクを使用して、記録及
び消去、又それらの繰返しを行った。Arガスレーザは
連続発振させた。試料を手動移動ステージの上に設置し
、試料を移動させて200mWレーザ光を該試料の膜表
面に焦点を合せ走査させた。レーザ光を照射させた部分
はピンクに変化した。合金膜はあらかじめ基板ごと銀白
色になる熱処理を施しである。次にレーザ光の焦点を膜
表面から若干ずらし、レーザの出力密度を低くしてピン
ク色の部分と交差する方向(図の上下方向)K走査させ
た。その結果、元のピンク色は消去され銀白色に変化し
た。これらの色の変化と同時にベース面に凹又は凸部が
生じて記録でき、消去によって元の平坦な面に戻ること
が確認され九。
Using the optical disk thus manufactured, recording and erasing were performed, and these operations were repeated. The Ar gas laser was continuously oscillated. The sample was placed on a manual movement stage, the sample was moved, and the 200 mW laser beam was focused and scanned on the film surface of the sample. The area irradiated with the laser light turned pink. The alloy film, together with the substrate, has been heat-treated in advance to become silvery white. Next, the focus of the laser beam was slightly shifted from the film surface, the output density of the laser was lowered, and the laser beam was scanned in a direction K (vertical direction in the figure) intersecting the pink part. As a result, the original pink color was erased and the color changed to silvery white. It was confirmed that concave or convex portions were formed on the base surface at the same time as these color changes, which could be recorded, and that it returned to its original flat surface when erased.9.

以上の結果から薄膜状態の合金による記録、消去が可能
であることを確認された。この書込み、消去は何回でも
繰返しが可能であることが確認され次。
From the above results, it was confirmed that recording and erasing can be performed using the alloy in a thin film state. It has been confirmed that this writing and erasing can be repeated any number of times.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば安定性の高い記録媒体を使用することが
でき、高い信頼性を有する装置が得られる。
According to the present invention, a highly stable recording medium can be used, and a highly reliable apparatus can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の光ディスク装置の消去の基本原理を
説明するための図、第2図は本発明で使用する記録媒体
の記録消去の原理、第3図は短波長側で記録消去した場
合の温度特性図、第4図は長波長側で消去する場合の温
度特性図、第5図は本発明の光ディスク装置構成の一実
施例、第6図は本発明で使用する合金の波長λと反射率
との関係を示す図、第7図は本発明の効果を示す温度特
性図、第8図はその他の実施例である。 1・・・ディスク、12,13.14・・・レーザダイ
オード、22,23.24・・・コリメートレンズ、3
1・・・偏光ビームスプリッタ、32.33・・・光合
成器、4・・・λ/4板、5・・・対物レンズ。 も1目 躬2図 時間 千3図 帛5図 佑6図 ま長 (TITrL)
Figure 1 is a diagram for explaining the basic principle of erasing in the optical disk device of the present invention, Figure 2 is the principle of erasing records on the recording medium used in the present invention, and Figure 3 is a diagram for explaining the principle of erasing records on the short wavelength side. FIG. 4 is a temperature characteristic diagram for erasing on the long wavelength side, FIG. 5 is an example of the configuration of the optical disk device of the present invention, and FIG. 6 is the wavelength λ of the alloy used in the present invention. FIG. 7 is a temperature characteristic diagram showing the effects of the present invention, and FIG. 8 is another example. 1... Disk, 12, 13.14... Laser diode, 22, 23.24... Collimating lens, 3
1... Polarizing beam splitter, 32.33... Light combiner, 4... λ/4 plate, 5... Objective lens. 1 -eye 躬 2 躬 躬 時間 時間 時間 千 千 千 千 千 5 5 5 5 5 5 5 5 ま ま ま ま ま ま ま

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、情報を記録する記録媒体の記録ラインに沿つて記録
された情報に光ビームを照射し加熱して消去する光ディ
スク装置において、記録ラインの両側面に情報消去用光
ビームを照射することを特徴前記記録媒体は固体状態で
少なくとも2種類の結晶構造を有し、一方の温度領域で
の結晶構造を他方の温度領域で保持し、及び/又は結晶
状態で互いに異なつた体積変化を生じる金属又は合金か
らなることを特徴とする光ディスク装置。 2、前記記録媒体は固体状態の高温における結晶構造が
高温からの過冷によつて保持される金属又は合金からな
る特許請求の範囲第1項に記録の光ディスク装置。 3、前記記録媒体は相変態を有する結晶質状態の金属あ
るいは合金にあつて、固相状態の少なくとも2つの温度
領域においては結晶構造の異なつた相を有し、その相間
の変態に伴なう凹部又は凸部を形成してベース面との光
の反射状態を変化させて情報としての信号、文字、図形
、記号を識別できるように記憶させ又は前記凹部又は凸
部を元の状態に消去させる加熱手段及び前記情報を再生
させる手段を有する特許請求の範囲第1項に記載の光デ
ィスク装置。 4、前記記録媒体は元素周期律表の I ・b族からVII・
b族及びVIII族の金属元素遷移金属元素を主成分とする
金属あるいは合金からなる特許請求の範囲第1項〜第3
項のいずれかに記載の光ディスク装置。
[Claims] 1. In an optical disc device that erases information recorded along a recording line of a recording medium on which information is recorded by irradiating a light beam and heating it, an information erasing light beam is provided on both sides of the recording line. The recording medium has at least two types of crystal structures in a solid state, the crystal structure in one temperature range is maintained in the other temperature range, and/or the recording medium has different volumes in the crystal state. An optical disc device characterized by being made of a metal or alloy that undergoes change. 2. The optical disc device for recording according to claim 1, wherein the recording medium is made of a metal or an alloy whose crystal structure at high temperatures in a solid state is maintained by supercooling from high temperatures. 3. The recording medium is a metal or alloy in a crystalline state that undergoes phase transformation, and has phases with different crystal structures in at least two temperature ranges in a solid state, and the recording medium has phases with different crystal structures in at least two temperature ranges in a solid state, and the recording medium has different crystal structures due to the transformation between the phases. By forming recesses or protrusions to change the state of light reflection with the base surface, signals, characters, figures, and symbols as information can be memorized in an identifiable manner, or the recesses or protrusions can be erased to their original state. The optical disc device according to claim 1, comprising heating means and means for reproducing the information. 4. The recording medium contains elements from groups I, b to VII, of the periodic table.
Claims 1 to 3 consist of a metal or alloy whose main component is a transition metal element of Group B or Group VIII metal element.
The optical disc device according to any one of paragraphs.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0294113A (en) * 1988-09-30 1990-04-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Recording method of optical information recording member

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JPH0294113A (en) * 1988-09-30 1990-04-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Recording method of optical information recording member

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