JPS6119026B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6119026B2
JPS6119026B2 JP7616279A JP7616279A JPS6119026B2 JP S6119026 B2 JPS6119026 B2 JP S6119026B2 JP 7616279 A JP7616279 A JP 7616279A JP 7616279 A JP7616279 A JP 7616279A JP S6119026 B2 JPS6119026 B2 JP S6119026B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive
group
monomers
acid
printing plate
Prior art date
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Expired
Application number
JP7616279A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS561056A (en
Inventor
Yasuo Nakamura
Kenji Naito
Yasuto Naruse
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP7616279A priority Critical patent/JPS561056A/en
Priority to DE19803009928 priority patent/DE3009928A1/en
Priority to GB8008918A priority patent/GB2046461B/en
Publication of JPS561056A publication Critical patent/JPS561056A/en
Publication of JPS6119026B2 publication Critical patent/JPS6119026B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/115Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having supports or layers with means for obtaining a screen effect or for obtaining better contact in vacuum printing

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は感光性印刷版の製造方法に関するもの
である。 従来、感光性印刷版に原画を通して露光を与え
る場合、感光性印刷版の感光層の表面、又は感光
層の上に更に樹脂層を有するならば、その樹脂層
の表面(以下、単に感光性印刷版の表面と称
す。)に原画を完全に密着させるため、ゴムシー
トと圧着ガラスの間に感光性印刷版および原画を
重ねて配置し、ゴムシートと圧着ガラスの間を真
空にして密着させる方法(以下、真空密着法と称
す。)がとられている。従来の感光性印刷版は、
その表面が平滑なので、真空密着法により原画を
密着させる場合、周辺部から密着していく為、中
心部の脱気が阻害され、それ故に感光性印刷版の
全面に原画を完全に密着させる為には極端に長い
時間が必要であつた。密着が不完全なまま画像露
光を与えると、密着の不完全な部分は鮮明な画像
が得られず、従つて鮮明な印刷物は得られない。
密着に時間がかかることは製版作業の能率を低下
させる為、その短縮化が久しく望まれていた。 かかる密着時間を短縮化させた感光性印刷版お
よびその製造方法が、英国特許第1495361号、同
第1512080号、特開昭51−96604号、同51−111102
号及び同52−29302号に開示されている。即ち、
感光性印刷版の表面に、現像時に除去されるマツ
ト層を設けることにより、真空密着に要する時間
を著しく短縮化させうることが開示されている。
しかし乍ら、このような構成の感光性印刷版を製
造する為には、マツト層のない感光性印刷版を製
造する場合に比べて、マツト層を設ける為の塗布
及び乾燥の工程が加わり、しかもマツト層を設け
る為の特別な塗布装置が必要となる欠点があり、
結果的に製造コストが高くなつてしまつた。 一方、特願昭53−69489号には、感光層にマツ
ト剤としての微粒子物質を加えて感光層の表面を
マツト化し、これにより真空密着時間を短縮化さ
せた感光性印刷版が開示されている。 かかる感光性印刷版の場合には前記のような現
像時に除去されるマツト層を設けた感光性印刷版
の場合におけるような製造上の欠点はないが、耐
刷力の低下、調子再現性の劣化等の欠点を有して
いた。 上記の欠点を解消すべく特願昭54−30606号に
は感光層の表面に微粒子物質を浮き出させ、これ
により真空密着時間を短縮化させた感光性印刷版
が開示されている。このようにして得られた感光
性平版印刷版は、微粒子物質が感光層の表面に付
着した形状、即ち微粒子物質が感光層に実質的に
埋没していない状態である為に、たとえ感光層の
露光部分が硬化しても、その上の微粒子物質は十
分に強くは固着されず、現像時に除去される。そ
の結果耐刷力の低下をまねくことなく、しかも調
子再現性をそこなうという欠点を生起させない。
しかしながらこの方法では次のような欠点が新た
に生じることが判明した。 (1) このような構成の感光性塗布液は調製から塗
布まで短時間であれば安定な分散状態を保つて
いるが調製から塗布まで長時間放置しておく
と、凝集、沈降、浮上などの分散状態の変動が
生じやすい。 (2) かかる凝集、沈降、浮上などの分散状態の変
動が生じた塗布液を塗布して得られる感光性印
刷版は微粒子物質の分散が均一でない為、外観
上問題を生じ易い。 従つて本発明の目的は、塗布および乾燥の工程
が更に付加されていず、その表面がマツト化され
ている感光性印刷版の製造方法を提供することで
ある。 本発明の別の目的は、感光層の表面に微粒子物
質を浮き出させた形状の感光性印刷版の製造方法
を提供することである。 本発明の別の目的は、微粒子物質が塗布液中で
長時間安定な分散状態を保ち、塗布後も微粒子物
質が均一に分散された状態で表面に押し出されて
いる感光性平版印刷版の製造方法を提供すること
である。 本発明者等は上記諸目的を達成すべく種々の研
究を重ねた結果、本発明をなすに至つたものであ
つて、その要旨は支持体上に感光層を有する感光
性印刷版の最上層を、(a)該最上層の構成成分の溶
剤溶液中に微粒子物質が安定に分散含有されてい
る塗布液を塗布して塗布液層を形成し、(b)該塗布
液層を乾燥し、かくして該塗布液中の該微粒子物
質の安定な分散状態が該乾燥の過程で破壊される
ことにより、該最上層の表面に該微粒子物質が押
し出された形状となるように設けることからな
る、その表面がマツト化された感光性印刷版の製
造方法において、該塗布液中に該微粒子物質の平
均粒子サイズに対して約1000分の1から約10分の
1の範囲にその平均粒子サイズを有する水性ポリ
マーラテツクスを含有させることにより、該塗布
液中での該微粒子物質の分散状態が安定化されて
いることを特徴とする方法である。 前記のような本発明の製造方法を用いることに
より得られた感光性印刷版の表面は微粒子物質に
よりマツト化されている為に、真空密着法による
原画との密着時間を大巾に短縮させることができ
る。しかも微粒子物質が感光性印刷版の感光層に
実質的に埋め込まれていないので、微粒子物質に
よるマツト化は効率的に達成されている。また微
粒子物質が塗布液中で長時間安定な分散状態を保
つている為、調製から塗布まで長時間放置してお
いても凝集、沈降、浮上などの変動を生ずること
なく、塗布後も微粒子物質が表面に均一に分散さ
れている感光性印刷版を得ることができる。ここ
で、分散状態が安定な時間とは好ましくは1時間
以上、最も好ましくは3時間以上である。 本発明により製造される感光性印刷版は、基本
的には支持体上に感光層が設けられているもので
あり、平版印刷版、凸版印刷版、凹版印刷版等の
印刷版の作成に使用される感光性印刷版が含まれ
るが、好ましくは平版印刷版および凹版印刷版の
作成に使用される感光性印刷版である。 上記支持体は、寸度的に安定な板状物として従
来印刷版の支持体として使用されたものが含ま
れ、それらは本発明に好適に使用することができ
る。かかる支持体としては、紙、プラスチツクス
(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレンなど)がラミネートされた紙、例えばアル
ミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、
鉄、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セル
ロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロ
ース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝
酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリビニルアセタールなどのよ
うなプラスチツクのフイルム、上記の如き金属が
ラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラス
チツクフイルムなどが含まれる。これらの支持体
から、印刷版の型式により、適当なものが選択さ
れる。例えば感光性印刷版の場合にはアルミニウ
ム板、特公昭48−18327号公報に記されているポ
リエチレンテレフタレートフイルム上にアルミニ
ウムシートが結合された複合体シートなどが好ま
しい。また感光性凸版印刷版の場合には、ポリエ
チレンテレフタレートフイルム、アルミニウム
板、鉄板などが好ましい。 支持体は、必要に応じて表面処理される。例え
ば感光性平版印刷版の場合には、支持体の表面の
親水化処理が施される。かかる親水化処理には
種々のものがある。例えばプラスチツクの表面を
有する支持体の場合には、化学的処理、放電処
理、火焔処理、紫外線処理、高周波処理、グロー
放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理など
の所謂表面処理方法(たとえば米国特許第
2764520号、3497407号、3145242号、3376208号、
3072483号、3475193号、3360448号、英国特許第
788365号明細書など)と一旦これらの表面処理
後、該プラスチツクに下塗層を塗布する方法とが
ある。 塗布方法としても色々工夫が行なわれており一
層としてプラスチツクによく接着し、かつ溶解性
のよい疎水性の樹脂層を塗布し、二層として親水
性の樹脂層を塗布する重層法と同一重合体中に疎
水基と親水基を含有する樹脂層を塗布する単層法
とがある。 また金属、特にアルミニウムの表面を有する支
持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗
化ジルコン酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸
漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。また、米国特許第
2714066号明細書に記載されている如く、砂目立
てしたのちに珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処理さ
れたアルミニウム板、米国特許第3181461号明細
書に記載されているようにアルミニウム板を陽極
酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶
液に浸漬処理したものも好適に使用される。上記
陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、若しくは、蓚酸、スルフア
ミン酸等の有機酸またはこれらの塩の水溶液又は
非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解
液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すこ
とにより実施される。 また、米国特許第3658662号明細書に記載され
ているようなシリケート電着も有効である。 これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性
とする為に施される以外に、その上に設けられる
感光性組成物との有害な反応を防ぐ為や、感光層
との密着性の向上の為に施されるものである。 支持体上に設けられる感光性物質は、露光の前
後で現像液に対する溶解性又は膨潤性が変化する
ものならば使用できる。以下、その代表的なもの
について説明する。 (1) ジアゾ樹脂からなる組成物 p−ジアゾジフエニルアミンとパラホルムア
ルデヒドとの縮合物に代表されるジアゾ樹脂
は、水溶性のものでも、水不溶性のものでも良
いが、好ましくは、水不溶性かつ通常の有機溶
媒に可溶性のものが使用される。特に好ましい
ジアゾ化合物としては、p−ジアゾジフエニル
アミンとホルムアルデヒド又はアセトアルデヒ
ドとの縮合物の塩、例えばフエノール塩、フル
オロカプリン酸塩、及びトリイソプロピルナフ
タレンスルホン酸、4・4−ビフエニルジスル
ホン酸、5−ニトロオルト−トルエンスルホン
酸、5−スルホサリチル酸、2・5−ジメチル
ベンゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスル
ホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、3−
ブロモベンゼンスルホン酸、2−クロロ−5−
ニトロベンゼンスルホン酸、2−フルオロカプ
リルナフタレンスルホン酸、1−ナフトール−
5−スルホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロオ
キシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸及
びパラトルエンスルホン酸などのスルホン酸の
塩などのように一分子中に2個以上のジアゾ基
を有する化合物である。この他望ましいジアゾ
樹脂としては上記の塩を含む2・5−ジメトキ
シ−4−p−トリルメルカプトベンゼンジアゾ
ニウムとホルムアルデヒドの縮合物、2・5−
ジメトキシ−4−モルホリノベンゼンジアゾニ
ウムとホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒ
ドとの縮合物が含まれる。 また、英国特許第1312925号明細書に記載さ
れているジアゾ樹脂も好ましい。 ジアゾ樹脂は、単独でレジストの作成に使用
される感光物となり得るが、好ましくはバイン
ダーと共に使用される。 かかるバインダーとしては、種々の高分子化
合物が使用され得るが、ヒドロキシ、アミノ、
カルボン酸、アミド、スルホンアミド、活性メ
チレン、チオアルコール、エポキシ等の基を含
むものが好ましい。このような好ましいバイン
ダーには、英国特許第1350521号明細書に記さ
れているシエラツク、英国特許第1460978号お
よび米国特許第4123276号の各明細書に記され
ているようなヒドロキシエチルアクリレート単
位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位
を主なる繰り返し単位として含むポリマー、米
国特許第3751257号明細書に記されているポリ
アミド樹脂、英国特許第1074392号明細書に記
されているフエノール樹脂および例えばポリビ
ニルフオルマール樹脂、ポリビニルブチラール
樹脂のようなポリビニルアセタール樹脂、米国
特許第3660097号明細書に記されている線状ポ
リウレタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタ
レート化樹脂、ビスフエノールAとエピクロル
ヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、ポリア
ミノスチレンやポリアルキルアミノ(メタ)ア
クリレートのようなアミノ基を含むポリマー、
酢酸セルロース、セルロースアルキルエーテ
ル、セルロースアセテートフタレート等のセル
ロース類等が包含される。 バインダーの含有量は、感光性レジスト形成
性組成物中に40〜95重量%含まれているのが適
当である。バインダーの量が多くなれば(即
ち、ジアゾ樹脂の量が少なくなれば)感光性は
当然大になるが、経時安定性が低下する。最適
のバインダーの量は約70〜90重量%である。 ジアゾ樹脂からなる組成物には、更に、米国
特許第3236646号明細書に記載されている燐
酸、染料や顔料などの添加剤を加えることがで
きる。 (2) o−キノンジアジド化合物からなる組成物 特に好ましいo−キノンジアジド化合物はo
−ナフトキノンジアジド化合物であり、例えば
米国特許第2766118号、同第2767092号、同第
2772972号、同第2859112号、同第2907665号、
同第3046110号、同第3046111号、同第3046115
号、同第3046118号、同第3046119号、同第
3046120号、同第3046121号、同第3046122号、
同第3046123号、同第3061430号、同第3102809
号、同第3106465号、同第3635709号、同第
3647443号の各明細書をはじめ、多数の刊行物
に記されており、これらは好適に使用すること
ができる。これらの内でも、特に芳香族ヒドロ
キシ化合物のo−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸エステルまたはo−ナフトキノンジアジド
カルボン酸エステル、および芳香族アミノ化合
物のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミ
ドまたはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸
アミドが好ましく、特に米国特許第3635709号
明細書に記されているピロガロールとアセトン
との縮合物にo−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸をエステル反応させたもの、米国特許第
4028111号明細書に記されている末端にヒドロ
キシ基を有するポリエステルにo−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸、またはo−ナフトキノ
ンジアジドカルボン酸をエステル反応させたも
の、米国特許第4139384号明細書に記されてい
るようなp−ヒドロキシスチレンのホモポリマ
ーまたはこれと他の共重合し得るモノマーとの
共重合体にo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸またはo−ナフトキノンジアジドカルボン酸
をエステル反応させたものは非常にすぐれてい
る。 これらのo−キノンジアジド化合物は、単独
で使用することができるが、アルカリ可溶性樹
脂と混合して用いた方が好ましい。好適なアル
カリ可溶性樹脂には、ノボラツク型フエノール
樹脂が含まれ、具体的には、フエノールホルム
アルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデ
ヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂などが含まれる。更に米国特許第4123279号
明細書に記されている様に上記のようなフエノ
ール樹脂と共に、t−ブチルフエノールホルム
アルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキ
ル基で置換されたフエノールまたはクレゾール
とホルムアルデヒドとの縮合物とを併用する
と、より一層好ましい。アルカリ可溶性樹脂
は、感光性レジスト形成性組成物の全重量を基
準として中に約50〜約85重量、より好ましくは
60〜80重量%、含有させられる。 o−キノンジアジド化合物からなる感光性組
成物には、必要に応じて更に顔料や染料、可塑
剤などを含有させることができる。 (3) 感光性アジド化合物からなる組成物 適当な感光性アジド化合物としてはアジド基
が直接又はカルボニル基又はスルホニル基を介
して芳香環に結合している芳香族アジド化合物
である。これらは光によりアジド基が分解し
て、ナイトレンを生じ、ナイトレンが種々の反
応を起こして不溶化するものである。好ましい
芳香族アジド化合物としては、アジドフエニ
ル、アジドスチリル、アジドベンザル、アジド
ベンゾイル及びアジドシンナモイルの如き基を
1個又はそれ以上含む化合物で、たとえば4・
4′−ジアジドカルコン、4−アジド−4′−(4
−アジドベンゾイルエトキシ)カルコン、N・
N−ビス−p−アジドベンザル−p−フエニレ
ンジアミン、1・2・6−トリ(4′−アジドベ
ンゾキシ)ヘキサン、2−アジド−3−クロロ
−ベンゾキノン、2・4−ジアジド−4′−エト
キシアゾベンゼン、2・6−ジ(4′−アジドベ
ンザル)−4−メチルシクロヘキサノン、4・
4′−ジアジドベンゾフエノン、2・5−ジアジ
ド−3・6−ジクロロベンゾキノン、2・5−
ビス(4−アジドスチリル)−1・3・4−オ
キサジアゾール、2−(4−アジドシンナモイ
ル)チオフエン、2・5−ジ(4′−アジドベン
ザル)シクロヘキサノン、4・4′−ジアジドジ
フエニルメタン、1−(4−アジドフエニル)−
5−フリル−2−ペンタ−2・4−ジエン−1
−オン、1−(4−アジドフエニル)−5−(4
−メトキシフエニル)−ペンタ−1・4−ジエ
ン−3−オン、1−(4−アジドフエニル)−3
−(1−ナフチル)プロペン−1−オン、1−
(4−アジドフエニル)−3−(4−ジメチルア
ミノフエニル)−プロパン−1−オン、1−(4
−アジドフエニル)−5−フエニル−1・4−
ペンタジエン−3−オン、1−(4−アジドフ
エニル)−3−(4−ニトロフエニル)−2−プ
ロペン−1−オン、1−(4−アジドフエニ
ル)−3−(2−フリル)−2−プロペン−1−
オン、1・2・6−トリ(4′−アジドベンゾキ
シ)ヘキサン、2・6−ビス−(4−アジドベ
ンジリジン−p−t−ブチル)シクロヘキサノ
ン、4・4′−ジアジドジベンザルアセトン、
4・4′−ジアジドスチルベン−2・2′−ジスル
ホン酸、4′−アジドベンザルアセトフエノン−
2−スルホン酸、4・4′−ジアジドスチルベン
−α−カルボン酸、ジ−(4−アジド−2′−ヒ
ドロキシベンザル)アセトン−2−スルホン
酸、4−アジドベンザルアセトフエノン−2−
スルホン酸、2−アジド−1・4−ジベンゼン
スルホニルアミノナフタレン、4・4′−ジアジ
ド−スチルベン−2・2′−ジスルホン酸アニリ
ド等をあげることが出来る。 またこれらの低分子量芳香族アジド化合物以
外にも特公昭44−9047号、同44−31837号、同
45−9613号、同45−24915号、同45−25713号、
特開昭50−5102号、同50−84302号、同50−
84303号、同53−12984号の各公報に記載のアジ
ド基含有ポリマーも適当である。 これらの感光性アジド化合物は、好ましくは
バインダーとしての高分子化合物と共に使用さ
れる。好ましいバインダーとしてはアルカリ可
溶性樹脂があり、例えばシエラツク、ロジンな
どの天然樹脂、例えばフエノールホルムアルデ
ヒド樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹
脂などのノボラツク型フエノール樹脂、例えば
ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、メタクリ
ル酸−スチレン共重合体、メタクリル酸−アク
リル酸メチル共重合体、スチレン−無水マレイ
ン酸共重合体などの不飽和カルボン酸の単独重
合体またはこれと他の共重合し得るモノマーと
の共重合体、ポリ酢酸ビニルの部分または完全
けん化物を例えばアセトアルデヒド、ベンズア
ルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、カル
ボキシベンズアルデヒドなどのアルデヒドで部
分アセタール化した樹脂、ポリヒドロキシスチ
レンなどが含まれる。更に、例えばセルロース
メチルエーテル、セルロースエチルエーテルな
どのセルロースアルキルエーテル類をはじめと
する有機溶媒可溶性樹脂もバインダーとして使
用できる。 バインダーは、感光性アジド化合物からなる
組成物の全重量に対して約10重量%から約90重
量%の範囲で含有させることが好ましい。 感光性アジド化合物からなる組成物には、更
に染料や顔料、例えばフタル酸エステル、燐酸
エステル、脂肪族カルボン酸エステル、グリコ
ール類、スルフオンアミド類などの可塑剤、例
えばミヒラーケトン、9−フルオレノン、1−
ニトロピレン、1・8−ジニトロピレン、2−
クロロ−1・2−ベンズアントラキノン、2−
ブロモ−1・2−ベンズアントラキノン、ピレ
ン−1・6−キノン、2−クロロ−1・8−フ
タロイルナフタレン、シアノアクリジンなどの
増感剤などの添加剤を加えることができる。 (4) 重合体の主鎖又は側鎖に
The present invention relates to a method for producing a photosensitive printing plate. Conventionally, when exposing a photosensitive printing plate to light through an original image, the surface of the photosensitive layer of the photosensitive printing plate, or the surface of the resin layer (hereinafter simply referred to as photosensitive printing) if the plate has a resin layer on top of the photosensitive layer. In order to completely adhere the original image to the surface of the plate (referred to as the surface of the plate), a photosensitive printing plate and the original image are placed one on top of the other between a rubber sheet and pressure-bonded glass, and a vacuum is created between the rubber sheet and the pressure-bonded glass to achieve close contact. (hereinafter referred to as the vacuum contact method) is used. Conventional photosensitive printing plates are
Because its surface is smooth, when the original image is attached using the vacuum adhesion method, it adheres from the periphery, which prevents degassing in the center, and therefore allows the original image to be completely adhered to the entire surface of the photosensitive printing plate. It took an extremely long time. If image exposure is applied while the adhesion is incomplete, a clear image cannot be obtained in the portion where the adhesion is incomplete, and therefore a clear printed matter cannot be obtained.
Since the time required for adhesion reduces the efficiency of plate-making work, it has been desired for a long time to shorten the time. Photosensitive printing plates and methods for producing the same that shorten the adhesion time are disclosed in British Patent Nos. 1495361 and 1512080, as well as Japanese Patent Application Laid-open Nos. 51-96604 and 51-111102.
No. 52-29302. That is,
It is disclosed that the time required for vacuum adhesion can be significantly shortened by providing a matte layer on the surface of a photosensitive printing plate that is removed during development.
However, in order to manufacture a photosensitive printing plate with such a structure, compared to the case of manufacturing a photosensitive printing plate without a matte layer, coating and drying steps are added to provide a matte layer. Moreover, it has the disadvantage of requiring special coating equipment to provide the matte layer.
As a result, manufacturing costs increased. On the other hand, Japanese Patent Application No. 53-69489 discloses a photosensitive printing plate in which a fine particle substance as a matting agent is added to the photosensitive layer to make the surface of the photosensitive layer matte, thereby shortening the vacuum adhesion time. There is. In the case of such photosensitive printing plates, there are no manufacturing defects as in the case of photosensitive printing plates provided with a matte layer that is removed during development, but there are problems such as a decrease in printing durability and poor tone reproducibility. It had drawbacks such as deterioration. In order to solve the above-mentioned drawbacks, Japanese Patent Application No. 30,606/1987 discloses a photosensitive printing plate in which fine particles are embossed on the surface of the photosensitive layer, thereby shortening the vacuum contact time. The photosensitive lithographic printing plate obtained in this way has a shape in which the particulate matter is attached to the surface of the photosensitive layer, that is, the particulate matter is not substantially buried in the photosensitive layer. Even if the exposed areas harden, the particulate material thereon is not fixed strongly enough and is removed during development. As a result, there is no reduction in printing durability, and there is no problem of poor tone reproducibility.
However, it has been found that this method has the following new drawbacks. (1) A photosensitive coating liquid with such a structure maintains a stable dispersion state if the time from preparation to application is short, but if it is left for a long time from preparation to application, it may cause agglomeration, sedimentation, floating, etc. Fluctuations in the dispersion state are likely to occur. (2) A photosensitive printing plate obtained by coating a coating liquid in which the dispersion state fluctuates such as agglomeration, sedimentation, floating, etc. tends to have problems in appearance because the dispersion of fine particles is not uniform. SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for producing a photosensitive printing plate whose surface is matte without additional coating and drying steps. Another object of the present invention is to provide a method for producing a photosensitive printing plate in which particulate matter is embossed on the surface of the photosensitive layer. Another object of the present invention is to produce a photosensitive lithographic printing plate in which fine particulate matter remains in a stable dispersion state for a long period of time in a coating solution, and even after coating, the fine particulate matter is extruded onto the surface in a uniformly dispersed state. The purpose is to provide a method. The inventors of the present invention have conducted various studies to achieve the above objects, and as a result, they have arrived at the present invention. (a) forming a coating liquid layer by applying a coating liquid in which particulate matter is stably dispersed in a solvent solution of the constituent components of the uppermost layer; (b) drying the coating liquid layer; In this way, the stable dispersion state of the particulate matter in the coating solution is destroyed during the drying process, so that the particulate matter is provided in an extruded shape on the surface of the uppermost layer. In the method for producing a photosensitive printing plate with a matte surface, the coating liquid has an average particle size in the range of about 1/1000 to about 1/10 of the average particle size of the fine particle substance. This method is characterized in that the dispersion state of the fine particle substance in the coating liquid is stabilized by containing an aqueous polymer latex. Since the surface of the photosensitive printing plate obtained by using the manufacturing method of the present invention as described above is matted with fine particle substances, the time of contact with the original image by the vacuum contact method can be greatly shortened. I can do it. Moreover, since the particulate matter is not substantially embedded in the photosensitive layer of the photosensitive printing plate, matting by the particulate matter is efficiently achieved. In addition, because the particulate matter maintains a stable dispersion state in the coating solution for a long time, even if it is left for a long time from preparation to application, there will be no fluctuations such as agglomeration, sedimentation, or floating, and the particulate matter will remain stable even after application. It is possible to obtain a photosensitive printing plate in which is uniformly dispersed on the surface. Here, the time period during which the dispersed state is stable is preferably 1 hour or more, most preferably 3 hours or more. The photosensitive printing plate produced according to the present invention basically has a photosensitive layer provided on a support, and is used to create printing plates such as lithographic printing plates, letterpress printing plates, and intaglio printing plates. Preferably, the photosensitive printing plates used in the preparation of lithographic printing plates and intaglio printing plates are included. The supports include dimensionally stable plate-like materials conventionally used as supports for printing plates, and these can be suitably used in the present invention. Such supports include paper, paper laminated with plastics (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), aluminum (including aluminum alloys), zinc,
Plates of metals such as iron, copper, etc., such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Examples include paper or plastic films laminated or vapor-deposited with metals such as those mentioned above. An appropriate support is selected from these supports depending on the type of printing plate. For example, in the case of a photosensitive printing plate, an aluminum plate, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded to a polyethylene terephthalate film as described in Japanese Patent Publication No. 18327/1984, etc. are preferable. In the case of a photosensitive letterpress printing plate, polyethylene terephthalate film, aluminum plate, iron plate, etc. are preferable. The support is surface-treated as necessary. For example, in the case of a photosensitive lithographic printing plate, the surface of the support is subjected to hydrophilic treatment. There are various types of such hydrophilic treatment. For example, in the case of supports with plastic surfaces, so-called surface treatment methods such as chemical treatment, electric discharge treatment, flame treatment, ultraviolet treatment, high frequency treatment, glow discharge treatment, active plasma treatment, laser treatment (for example, US Pat.
No. 2764520, No. 3497407, No. 3145242, No. 3376208,
No. 3072483, No. 3475193, No. 3360448, British Patent No.
788365, etc.) and a method in which an undercoat layer is applied to the plastic after the surface treatment. A variety of coating methods have been developed, including a multi-layer method in which a hydrophobic resin layer that adheres well to plastic and has good solubility is applied as one layer, and a hydrophilic resin layer is applied as a second layer using the same polymer. There is a single layer method in which a resin layer containing hydrophobic groups and hydrophilic groups is applied. In addition, in the case of a support having a metal surface, especially aluminum, surface treatments such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate, etc., or anodization treatment are performed. Preferably. Additionally, U.S. Patent No.
As described in US Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate is grained and then immersed in an aqueous sodium silicate solution, and as described in US Pat. No. 3,181,461, an aluminum plate is anodized. , those treated by immersion in an aqueous solution of an alkali metal silicate are also suitably used. The above-mentioned anodizing treatment is carried out by electrolysis using an aqueous solution or a non-aqueous solution of an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, boric acid, etc., or an organic acid such as oxalic acid, sulfamic acid, or a salt thereof alone or in combination of two or more kinds. This is carried out by passing an electric current through a liquid using an aluminum plate as an anode. Also effective is silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662. These hydrophilic treatments are performed not only to make the surface of the support hydrophilic, but also to prevent harmful reactions with the photosensitive composition provided thereon, and to improve the adhesion with the photosensitive layer. This is done for the purpose of improvement. The photosensitive material provided on the support can be any material that changes its solubility or swellability in a developer before and after exposure. The typical ones will be explained below. (1) Composition made of diazo resin The diazo resin represented by the condensate of p-diazodiphenylamine and paraformaldehyde may be water-soluble or water-insoluble, but preferably water-insoluble and water-insoluble. Those soluble in common organic solvents are used. Particularly preferred diazo compounds include salts of condensates of p-diazodiphenylamine and formaldehyde or acetaldehyde, such as phenol salts, fluorocaprates, and triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 4,4-biphenyldisulfonic acid, 5 -Nitroortho-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-
Bromobenzenesulfonic acid, 2-chloro-5-
Nitrobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, 1-naphthol-
A compound having two or more diazo groups in one molecule, such as salts of sulfonic acids such as 5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, and para-toluenesulfonic acid. . Other desirable diazo resins include a condensate of 2,5-dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzenediazonium containing the above salts and formaldehyde, 2,5-
Condensates of dimethoxy-4-morpholinobenzenediazonium and formaldehyde or acetaldehyde are included. Also preferred are the diazo resins described in British Patent No. 1312925. The diazo resin can be used alone as a photoresist for making a resist, but is preferably used in conjunction with a binder. Various polymer compounds can be used as such binders, including hydroxy, amino,
Those containing groups such as carboxylic acid, amide, sulfonamide, active methylene, thioalcohol, and epoxy are preferred. Preferred such binders include sierach as described in GB 1350521, hydroxyethyl acrylate units or hydroxyl acrylate units as described in GB 1460978 and US 4123276. Polymers containing ethyl methacrylate units as the main repeat unit, polyamide resins as described in US Pat. No. 3,751,257, phenolic resins as described in British Patent No. 1,074,392 and e.g. polyvinyl formal resins, Polyvinyl acetal resins such as butyral resins, linear polyurethane resins as described in U.S. Pat. No. 3,660,097, phthalated resins of polyvinyl alcohol, epoxy resins condensed from bisphenol A and epichlorohydrin, polyaminostyrenes and polyalkyls. polymers containing amino groups, such as amino (meth)acrylates,
Celluloses such as cellulose acetate, cellulose alkyl ether, and cellulose acetate phthalate are included. The content of the binder in the photosensitive resist-forming composition is suitably 40 to 95% by weight. As the amount of binder increases (ie, as the amount of diazo resin decreases), the photosensitivity naturally increases, but the stability over time decreases. The optimum amount of binder is about 70-90% by weight. Additives such as phosphoric acid, dyes and pigments described in US Pat. No. 3,236,646 can also be added to the diazo resin composition. (2) Composition consisting of an o-quinonediazide compound A particularly preferred o-quinonediazide compound is o-quinonediazide compound.
- Naphthoquinone diazide compounds, such as U.S. Patent Nos. 2766118, 2767092,
No. 2772972, No. 2859112, No. 2907665,
Same No. 3046110, Same No. 3046111, Same No. 3046115
No. 3046118, No. 3046119, No. 3046119, No. 3046118, No. 3046119, No.
No. 3046120, No. 3046121, No. 3046122,
Same No. 3046123, Same No. 3061430, Same No. 3102809
No. 3106465, No. 3635709, No. 3635709, No. 3106465, No. 3635709, No.
It is described in many publications including the specifications of No. 3647443, and these can be suitably used. Among these, o-naphthoquinonediazide sulfonic acid ester or o-naphthoquinonediazidecarboxylic acid ester of an aromatic hydroxy compound, and o-naphthoquinonediazide sulfonic acid amide or o-naphthoquinonediazidecarboxylic acid amide of an aromatic amino compound are particularly preferred. In particular, the condensate of pyrogallol and acetone described in U.S. Pat. No. 3,635,709 is subjected to an ester reaction with o-naphthoquinone diazidesulfonic acid,
Polyester having a hydroxyl group at the terminal described in the specification of No. 4028111 is ester-reacted with o-naphthoquinonediazide sulfonic acid or o-naphthoquinonediazidecarboxylic acid, and described in the specification of US Pat. No. 4,139,384. A homopolymer of p-hydroxystyrene or a copolymer of this and other copolymerizable monomers with o-naphthoquinonediazide sulfonic acid or o-naphthoquinonediazidecarboxylic acid is very good. . Although these o-quinonediazide compounds can be used alone, it is preferable to use them in combination with an alkali-soluble resin. Suitable alkali-soluble resins include novolak type phenolic resins, and specifically include phenol formaldehyde resins, o-cresol formaldehyde resins, m-cresol formaldehyde resins, and the like. Further, as described in U.S. Pat. No. 4,123,279, in addition to the above-mentioned phenol resin, phenol or cresol substituted with an alkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as t-butylphenol formaldehyde resin and formaldehyde are used. It is even more preferable to use it in combination with a condensate. The alkali-soluble resin contains about 50 to about 85% by weight, more preferably about 85% by weight based on the total weight of the photosensitive resist-forming composition.
It can be contained in an amount of 60 to 80% by weight. The photosensitive composition made of the o-quinonediazide compound can further contain pigments, dyes, plasticizers, etc., if necessary. (3) Composition comprising a photosensitive azide compound A suitable photosensitive azide compound is an aromatic azide compound in which an azide group is bonded to an aromatic ring directly or via a carbonyl group or a sulfonyl group. In these, the azide group is decomposed by light to produce nitrene, which undergoes various reactions and becomes insolubilized. Preferred aromatic azide compounds include compounds containing one or more groups such as azidophenyl, azidostyryl, azidobenzal, azidobenzoyl and azidocinnamoyl, for example 4.
4'-Diazidochalcone, 4-azido-4'-(4
-azidobenzoylethoxy)chalcone, N.
N-bis-p-azidobenzal-p-phenylenediamine, 1,2,6-tri(4'-azidobenzoxy)hexane, 2-azido-3-chloro-benzoquinone, 2,4-diazido-4'-ethoxyazobenzene , 2,6-di(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanone, 4.
4'-Diazidobenzophenone, 2,5-diazide-3,6-dichlorobenzoquinone, 2,5-
Bis(4-azidostyryl)-1,3,4-oxadiazole, 2-(4-azidocinnamoyl)thiophene, 2,5-di(4'-azidobenzal)cyclohexanone, 4,4'-diazidodiphenyl Methane, 1-(4-azidophenyl)-
5-furyl-2-penta-2,4-diene-1
-one, 1-(4-azidophenyl)-5-(4
-methoxyphenyl)-penta-1,4-dien-3-one, 1-(4-azidophenyl)-3
-(1-naphthyl)propen-1-one, 1-
(4-azidophenyl)-3-(4-dimethylaminophenyl)-propan-1-one, 1-(4
-azidophenyl)-5-phenyl-1,4-
Pentadien-3-one, 1-(4-azidophenyl)-3-(4-nitrophenyl)-2-propen-1-one, 1-(4-azidophenyl)-3-(2-furyl)-2-propene- 1-
1,2,6-tri(4'-azidobenzoxy)hexane, 2,6-bis-(4-azidobenzylidine-pt-butyl)cyclohexanone, 4,4'-diazidodibenzalacetone,
4,4'-Diazidostilbene-2,2'-disulfonic acid, 4'-azidobenzalacetophenone-
2-sulfonic acid, 4,4'-diazidostilbene-α-carboxylic acid, di-(4-azido-2'-hydroxybenzal)acetone-2-sulfonic acid, 4-azidobenzalacetophenone-2 −
Sulfonic acid, 2-azido-1,4-dibenzenesulfonylaminonaphthalene, 4,4'-diazide-stilbene-2,2'-disulfonic acid anilide, etc. can be mentioned. In addition to these low molecular weight aromatic azide compounds, there are also
No. 45-9613, No. 45-24915, No. 45-25713,
JP-A No. 50-5102, No. 50-84302, No. 50-
The azide group-containing polymers described in Patent Publications No. 84303 and No. 53-12984 are also suitable. These photosensitive azide compounds are preferably used together with a polymer compound as a binder. Preferred binders include alkali-soluble resins, such as natural resins such as silica and rosin, novolac type phenolic resins such as phenol formaldehyde resins and m-cresol formaldehyde resins, and polyacrylic acid, polymethacrylic acid, methacrylic acid-styrene resins, etc. Polymers, homopolymers of unsaturated carboxylic acids such as methacrylic acid-methyl acrylate copolymers, styrene-maleic anhydride copolymers, or copolymers of these with other copolymerizable monomers, polyvinyl acetate Examples include resins obtained by partially or completely saponified products of which are partially acetalized with aldehydes such as acetaldehyde, benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, and carboxybenzaldehyde, and polyhydroxystyrene. Furthermore, organic solvent soluble resins including cellulose alkyl ethers such as cellulose methyl ether and cellulose ethyl ether can also be used as binders. The binder is preferably contained in an amount of about 10% to about 90% by weight based on the total weight of the composition comprising the photosensitive azide compound. The composition comprising the photosensitive azide compound may further contain dyes and pigments, plasticizers such as phthalates, phosphoric esters, aliphatic carboxylic esters, glycols, and sulfonamides, such as Michler's ketone, 9-fluorenone, 1 −
Nitropyrene, 1,8-dinitropyrene, 2-
Chloro-1,2-benzanthraquinone, 2-
Additives such as sensitizers such as bromo-1,2-benzanthraquinone, pyrene-1,6-quinone, 2-chloro-1,8-phthaloylnaphthalene, cyanoacridine, etc. can be added. (4) In the main chain or side chain of the polymer

【式】 基を含む高分子化合物からなる組成物 重合体主鎖又は側鎖に感光性基として【formula】 Composition consisting of a polymer compound containing groups As a photosensitive group in the polymer main chain or side chain

【式】を含むポリエステル類、ポリ アミド類、ポリカーボネート類のような感光性重
合体を主成分とするもの(例えば米国特許第
3030208号、同第3707373号及び同第3453237号の
各明細書に記載されているような化合物);シン
ナミリデンマロン酸等の(2−プロペリデン)マ
ロン酸化合物及び二官能性グリコール類から誘導
される感光性ポリエステル類を主成分としたもの
(例えば米国特許第2956878号及び同第3173787号
の各明細書に記載されているような感光性重合
体);ポリビニールアルコール、澱粉、セルロー
ス及びその類似物のような水酸基含有重合体のケ
イ皮酸エステル類(例えば米国特許第2690966
号、同第2752372号、同第2732301号等の各明細書
に記載されているような感光性重合体)等が包含
される。これらの組成物中には他に増感剤、安定
化剤、可塑剤、顔料や染料等を含ませることがで
きる。 (5) 付加重合性不飽和化合物からなる光重合性組
成物 この組成物は、好ましくは、(a)少なくとも2
個の末端ビニル基を有するビニル単量体、(b)光
重合開始剤及び(c)バインダーとしての高分子化
合物からなる。 成分(a)のビニル単量体としては、特公昭35−
5093号、特公昭35−14719号、特公昭44−28727
号の各公報等に記載される、ポリオールのアク
リル酸またはメタクリル酸エステル、すなわち
ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールプロパントリ(メ
タ)アクリレート等、あるいはメチレンビス
(メタ)アクリルアミド、エチレンビス(メ
タ)アクリルアミドの様なビス(メタ)アクリ
ルアミド類、あるいはウレタン基を含有する不
飽和単量体、例えばジ−(2′−メタクリロキシ
エチル)−2・4−トリレンジウレタン、ジ−
(2′−アクリロキシエチル)トリメチレンジウ
レタン等の様なジオールモノ(メタ)アクリレ
ートとジイソシアネートとの反応生成物等が掲
げられる。 成分(b)の光重合開始剤としては、前記の一般
式で示される化合物が使用し得るが、他の種
類のものも使用できる。例えば、J.コーサー著
「ライト・センシシデイブ・システムズ」第5
章に記載されているようなカルボニル化合物、
有機硫黄化合物、過酸化物、レドツクス系化合
物、アゾ並びにジアゾ化合物、ハロゲン化合
物、光還元性色素などがある。更に具体的には
英国特許第1459563号明細書の中に開示されて
いる。 一方、成分(c)のバインダーとしては公知の
種々のポリマーを使用することができる。具体
的なバインダーの詳細は、米国特許第4072527
号明細書に記されている。更に英国特許第
1459563号明細書に記されている塩素化ポリオ
レフインは、特に好ましいバインダーである。 成分(a)と成分(c)は重量比で1:9から6:4
の範囲で組合せ含有される。また成分(b)は成分
(a)を基準として、0.5〜10重量%の範囲で含有
させられる。 光重合性組成物には、更に、熱重合禁止剤、
可塑剤、染料や顔料を含有させることができ
る。 本発明の方法により製造される感光性印刷版
は、上記の如き感光性物質からなる感光層を支持
体上に有するものが基本構成であるが、感光層の
上に更に樹脂層を設けたものも使用することがで
きる。具体的には米国特許第3136637号明細書に
記されているものがある。即ち、支持体上に、順
に、感光層および親油性、疎水性、水不溶性、溶
媒軟化性の樹脂層を有するものである。更にま
た、同様な構成よりなる、英国特許第1478333号
及び同第1478334号の各明細書に記載されている
様な感光性印刷版も含まれる。 感光性印刷版の最上層を塗設する為に使用され
る塗布液の溶剤としては種々のものが使用でき、
一般に一種の有機溶剤および2種以上の混合有機
溶剤の両者が含まれるが、いづれの場合であつて
も少なくとも10重量%の水が20℃において溶解さ
れ得るようなものであることが望ましい。即ち、
一種の有機溶剤が使用される場合には、その一種
の有機溶剤自身が10重量%以上の水を20℃におい
て溶解し得るものであることが望ましく、一方二
種以上の有機溶剤を混合させた混合有機溶剤が使
用される場合には、当該混合有機溶剤が20℃にお
いて10重量%以上の水を溶解し得るものであるこ
とが望ましい。具体的な溶剤または溶剤系として
は、例えば2−メトキシエタノール、2−エトキ
シエタノール、2−メトキシエチルアセテート、
2−エトキシエチルアセテート、ジメチルフオル
ムアミド、メタノール−二塩化エチレンおよびこ
れらの混合物などから選択することができる。上
記のメタノール−二塩化エチレン混合溶媒におい
て、メタノールをエタノール、n−プロパノー
ル、イソプロパノールまたはこれらの混合物で置
換することができ、更に二塩化エチレンを塩化メ
チレン、トリクロルエタン、モノクロルベンゼン
またはこれらの混合物で置換することができる。
更にこれらの溶剤には他の溶剤を差支えない範囲
で付加的に混合させることができる。このような
付加的な溶剤には、例えば、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケト
ン類、例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−
プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、
メチルアミルアセテートなどのエステル類、水な
どが含まれる。これらの溶媒に溶解された感光性
組成物の塗布液の濃度は一般に約0.1重量%から
約20重量%、より好ましくは1〜10重量%の範囲
である。 本発明に使用される微粒子物質の好ましい具体
例には、例えばポリエチレン粒子、ポリプロピレ
ン粒子、エチレン−プロピレン共重合体粒子、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体粒子、ポリエチレン
テレフタレート粒子及び架橋されたビニル重合体
粒子等が含まれる。架橋されたビニル重合体粒子
は通常良く知られている懸濁重合法によつて得ら
れる。その一例として一つのビニル基を有する疎
水性ビニルモノマー(例えばアクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類、スチレン、スチレ
ン誘導体、アクリロニトリル等)と該モノマーに
対して1〜30重量部の多官能性モノマー(例えば
ジビニルベンゼン、ポリエチレングリコールジア
クリレート(エチレン数n=1〜14)、ポリエチ
レングリコールジメタクリレート(エチレン数n
=1〜14)、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペン
タエリスリトールテトラメタクリレート等)とを
通常懸濁重合用として用いられる分散剤(例えば
酸化亜鉛、炭酸カルシウムタルク等の無機粉末や
ゼラチン、ポリビニルアルコール等の水溶性高分
子等)を溶解した水性媒体中に加え、脱気窒素置
換し、撹拌しながら約50〜80℃に昇温して通常の
油溶性重合開始剤(例えば過酸化ベンゾイル、ア
ゾビスイソブチルニトリル等)を投入し、約2〜
20時間重合反応させることによつて架橋されたビ
ニル重合体粒子の分散物が得られる。この後、固
液分離し乾燥することによつて架橋されたビニル
重合体粒子を得ることが出きる。 本発明に使用される微粒子物質の粒子サイズ
(直径)は、平均粒子サイズで約5μから約40μ
が適当であり、好ましくは、5〜20μの範囲であ
る。 感光性印刷版の表面に存在させるべき微粒子物
質の量は、広範囲から選ぶことができるが、一般
的には約50個/cm2から約50万個/cm2の範囲、より
好ましくは1000〜100000個/cm2の範囲から選ばれ
る。通常、多数の試行実験を行なつて、最適の範
囲が決められる。 また、このような範囲となる様にする為の塗布
液中に分散含有させる微粒子物質の量は、最上層
の塗布量によつて変わるが、例えば感光性平版印
刷版の感光層が最上層の場合には塗布液中の固型
分(即ち、塗布後の溶媒を除いた量)に対して約
0.01重量%から約20重量%、好ましくは0.1〜10
重量%の範囲である。 一方、本発明に使用される水性ポリマーラテツ
クスとは、ポリマーの分野で良く知られているも
のであり、水性媒体中にポリマー微粒子(ラテツ
クス粒子という。)が分散含有されたものであ
る。本発明においては、水性ポリマーラテツクス
のラテツクス粒子の平均粒子サイズ(直径)が、
前記の微粒子物質の平均粒子サイズに対して1000
分の1から10分の1の範囲内にある水性ポリマー
ラテツクスが使用されたとき、微粒子物質の有機
溶剤中での分散が安定化される。そして、このよ
うな水性ポリマーラテツクスは、そのラテツクス
粒子の平均粒子サイズが約0.01μから約2μのも
のから選ぶことができ、好ましくは0.01〜1μ、
最も好ましくは0.02〜0.5μの範囲のものから選
ばれる。 かかる本発明に使用される水性ポリマーラテツ
クスは、水中において、ビニルモノマーを乳化重
合することにより得ることができる。具体的な一
例を示せば、ビニルモノマーを該ビニルモノマー
に対して約0.1〜20重量%の乳化重合用分散剤
(一般に界面活性剤が用いられる。)と約2〜50重
量部の水を含む水性媒体中で脱気窒素置換し、乳
化させ、必要に応じて通常の乳化重合において用
いる添加剤(例えば分子量調節剤、酸化防止剤
等)を加え、最後に乳化重合用開始剤(例えば過
酸化水素、過硫酸カリウム等)を添加し常法に従
つて乳化重合させビニル重合体の水性ポリマーラ
テツクスが得られる。上記モノマーとしては、ビ
ニルモノマーであれば特に限定する必要はない
が、以下に水性ポリマーラテツクスを合成するモ
ノマーについて詳しく述べる。下記に示すように
モノマーを(A)群(疎水性モノマー)、(B)群(親水
性モノマー)、(C)群(架橋性モノマー)と三つに
分類する。 (A)群モノマー;1つのビニル基を有する疎水性不
飽和ビニルモノマーでアクリル酸エステル類、
メタクリルエステル類、ビニルエステル類、ス
チレン類、オレフイン類等のモノマー類。 (B)群モノマー;1つのビニル基を有する親水性不
飽和ビニルモノマーでアミノ基、カルボキシル
基、スルホン酸基、アミド基、水酸基等の官能
基を有するモノマー類。 (C)群モノマー;反応性架橋基(エポキシド基、ヒ
ドロキシメチルアミド基、アルコキシメチルア
ミド基、アシロキシメチルアミド基、イソシア
ネート基等)を持つモノマー類及び2つ以上の
ビニル基をもつ多官能性モノマー類。 水性ポリマーラテツクスを合成する際の適当な
モノマーの組合せは(A)群モノマーの単独重合体又
は二つ以上のモノマーの組合せによる共重合体及
び1種以上の(A)群モノマーと1種以上の(B)群モノ
マーとの組合せによる共重合体及び1種以上の(A)
群モノマーと1種以上の(C)群モノマーと1種以上
の(B)群モノマーの組合せによる共重合体及び1種
以上の(A)群モノマーと、1種以上の(C)群モノマー
との組合せによる共重合体が挙げられる。以下詳
しく述べる。 (A)群モノマーとしては1つのビニル基を有する
疎水性ビニルモノマー(ここで言う疎水性とは20
℃にて水に対する溶解度が8重量%以下のものを
指す。)でアクリル酸エステル類、メタクリル酸
エステル類、ビニルエステル類、スチレン類、オ
レフイン類等のモノマー類を指す。 アクリル酸エステル類としては、たとえば、メ
チルアクリレート、エチルアクリレート、n−プ
ロピルアクリレート、イソプロピルアクリレー
ト、n−ブチルアクリレート、イソブチルアクリ
レート、sec−ブチルアクリレート、アミルアク
リレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘ
キシルアクリレート、オクチルアクリレート、2
−フエノキシエチルアクリレート、2−クロロエ
チルアクリレート、ベンジルアクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリ
ルアクリレート、フエニルアクリレート、2−メ
トキシエチルアクリレート、2−エトキシエチル
アクリレートを挙げることができる。メタクリル
酸エステル類としては、たとえば、メチルメタク
リレート、エチルメタクリレート、n−プロピル
メタクリレート、イソプロピルメタクリレート、
n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリ
レート、sec−ブチルメタクリレート、アミルメ
タクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロ
ヘキシルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、アセトアセトキシエチルメタクリレート、ク
ロロベンジルメタクリレート、オクチルメタクリ
レート、フルフリルメタクリレート、テトラヒド
ロフルフリルメタクリレート、フエニルメタクリ
レート、トリメチロールプロパンモノメタクリレ
ート、2−メトキシエチルメタクリレート、2−
エトキシエチルメタクリレートを挙げることがで
きる。 ビニルエステル類としては、例えば、ビニルア
セテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレ
ート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロル
アセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニル
アセトアセテート、安息香酸ビニル、サリチル酸
ビニル、クロル安息香酸ビニルなどを挙げること
ができる。 スチレン類としては、たとえば、スチレン、メ
チルスチレン、クロルメチルスチレン、トリフル
オルメチルスチレン、アセトキシメチルスチレ
ン、メトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロ
ルスチレン、トリクロルスチレン、ブロムスチレ
ンなどを挙げることができる。 オレフイン類としては、ブタジエン、イソプレ
ン、クロロプレン、プロピレン、塩化ビニル、臭
化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニリデン、弗
化ビニリデンなどを挙げることができる。 その他にアクリルニトリル等を挙げることがで
きる。 (B)群モノマーとしては1つのビニル基を有する
親水性ビニルモノマーでアミノ基、カルボキシル
基、スルホン酸基、アミド基、水酸基等の官能基
を有するモノマー類を指す。ここで言う親水性モ
ノマーとは水に対する溶解性が大なため、該モノ
マー単独では水系乳化重合が困難なモノマー類で
ある。 アミノ基を有するモノマーとしては、例えば、
ジメチルアミノメチルアクリレート、ジメチルア
ミノメチルメタクリレート、ジエチルアミノメチ
ルアクリレート、ジエチルアミノメチルメタクリ
レート、ジエチルアミノエチルアクリレート、ジ
エチルアミノエチルメタクリレート、tert−ブチ
ルアミノエチルアクリレート、tert−ブチルアミ
ノエチルメタクリレート等が挙げられる。カルボ
キシル基を有するモノマーとしては、例えばアク
リル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン
酸、クロトン酸、フマル酸、メチレンマロン酸、
イタコン酸モノアルキル(たとえばイタコン酸モ
ノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モ
ノブチルなど)、マレイン酸モノアルキル、(たと
えばマレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチ
ル、マレイン酸モノブチル、マレイン酸モノプロ
ピル、マレイン酸モノオクチルなど)、シトラコ
ン酸、アクリル酸ナトリウム、アクリル酸アンモ
ニウム、メタクリル酸アンモニウム等が挙げられ
る。スルホン酸基を有するモノマーとしては、例
えばスチレンスルホン酸、ビニルベンジルスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、アクリロイルオキシア
ルキルスルホン酸(例えば、アクリロイルオキシ
メチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチルス
ルホン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン
酸、アクリロイルオキシブチルスルホン酸な
ど)、メタクリロイルオキシアルキルスルホン酸
(例えばメタクリロイルオキシメチルスルホン
酸、メタクリロイルオキシエチルスルホン酸、メ
タクリロイルオキシプロピルスルホン酸、メタク
リロイルオキシブチルスルホン酸など)、アクリ
ルアミドアルキルスルホン酸(例えば2−アクリ
ルアミド−2−メチルエタンスルホン酸、2−ア
クリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、
2−アクリルアミド−2−メチルブタンスルホン
酸など)、メタクリルアミドアルキルスルホン酸
(例えば2−メタクリルアミド−2−メチルエタ
ンスルホン酸、2−メタクリルアミド−2−メチ
ルプロパンスルホン酸、2−メタクリルアミド−
2−メチルブタンスルホン酸など)を挙げること
ができる。 アミド基を有するモノマーとしては、例えばア
クリルアミド、メチルアクリルアミド、プロピル
アクリルアミド等を挙げることができる。 水酸基を有するモノマーとしては、例えばアリ
ールアルコール、2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2
−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート、多価アルコールの
アリルエーテル等が挙げられる。 その他に、N−アクリロイルピペリジン、ビニ
ルピリジン、ビニルピロリドン、無水マレイン酸
なども挙げることができる。 (C)群モノマーとしては反応性架橋基(エポキシ
ド基、ヒドロキシメチルアミド基、アルコキシメ
チルアミド基、アシロキシメチルアミド基、イソ
シアネート基)を持つモノマー類及び二つ以上の
ビニル基を有する多官能性モノマー類を指す。(C)
群モノマーは単独では用いないが、(A)群モノマー
又は、(A)群モノマーと(B)群モノマー中に添加する
ことによつて架橋されたポリマーラテツクスを合
成することができる。 エポキシド基を有するモノマーとしては、例え
ばグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリ
レート、p−ビニル安息香酸グリシジル、グリシ
ジルクロトネート、ジグリシジルイタコネート、
ジグリシジルマレエート、ジグリシジルメチレン
マロネート、グリシジルビニルエーテル、アリル
グリシジルエーテル、グリシジル−α−クロルア
クリレート等が挙げられる。ヒドロキシメチルア
ミド基を有するモノマーとしては、例えばヒドロ
キシメチルアクリルアミド、ヒドロキシメチルメ
タアクリルアミドが挙げられる。アルコキシメチ
ルアミド基を有するモノマーとしては、例えばメ
トキシメチルアクリルアミド、メトキシメチルメ
タクリルアミド、エトキシメチルアクリルアミ
ド、エトキシメチルメタクリルアミド、ブトキシ
メチルアクリルアミド、ブトキシメチルメタクリ
ルアミド、ヘキシルオキシメチルアクリルアミド
等が挙げられる。アシロキシメチルアミド基を有
するモノマーとしては、例えばアセトキシメチル
アクリルアミド、アセトキシメチルメタクリルア
ミド、プロピオニルオキシメチルアクリルアミド
等が挙げられる。イソシアネート基を有するモノ
マーとしては、例えばビニルイソシアネート、ア
リルイソシアネート等が挙げられる。多官能性モ
ノマーとしては、例えばジビニルベンゼン、ポリ
エチレングリコールジアクリレート(エチレン数
n=1〜14)、ポリエチレングリコールジメタク
リレート(エチレン数n=1〜14)、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート等が挙げられる。又エポキシド基
を有するポリマーラテツクスは酸性下、又は塩基
性下にて一部加水分解してジヒドロキシ基を有す
るようにしてもよい。 水性ポリマーラテツクスを合成する際の適当な
モノマーの組合せは(A)群モノマーの単独重合体又
は二つ以上のモノマー組合せによる共重合体及び
1種以上の(A)群モノマーを少なくとも50重量%以
上、より好ましくは80重量%以上と1種以上の(B)
群モノマーとの共重合体及び1種以上の(A)群モノ
マーと1種以上の(C)群モノマーとの合計が少なく
とも50重量%以上より好ましくは80重量%以上と
(B)群モノマーとの共重合体及び(A)群モノマーと(C)
群モノマーとの共重合体が挙げられる。一般に親
水性モノマーである(B)群モノマーは乳化重合時の
安定性及び水性ラテツクスの経時安定性を改良す
るために用いられる。 水性ポリマーラテツクス粒子を有機溶剤中に分
散させる際、ラテツクス粒子が、用られる有機溶
剤に不溶で且つ有機溶剤中で凝集しないことが必
要である。ラテツクス粒子は用いる有機溶剤の組
成によつて溶解したり不溶であつたり、又は凝集
したりしなかつたりするため、ラテツクス粒子を
構成するモノマー組成を一義的に限定することは
できない。しかしながら一般には架橋されたラテ
ツクスポリマーがより好ましい。 即ち、1種以上の(A)群モノマーと1種以上の(C)
群モノマーとの合計が50重量%以上、好ましくは
80重量%以上と1種以上の(B)群モノマーとの組合
せによる共重合体又は1種以上のA群モノマーと
1種以上のC群モノマー組合せによる共重合体が
より好ましい。(A)群モノマーと(C)群モノマーとの
組成比は一義的に限定できない。 乳化重合に用いられる分散剤は一般のアニオン
系、カチオン系、ノニオン系、両性系の各界面活
性剤が用いられる。これらは単独でも2種以上併
用しても良い。これらの乳化重合用分散剤につい
ては当業者が熟知しているものであるが、いくつ
かの例を示せば、例えばアニオン系界面活性剤で
はR−OSO3M或いはR(−OCH2CH2)−lOSO3M
(式中Rは炭素数8〜30のアルキル基、Mはアル
カリ金属またはアンモニウム、lは0〜30の正の
整数を示す。)で表わされるような高級アルカノ
ールの硫酸エステル系および 或いは (式中R′は水素または炭素数1〜18のアルキル
基、R″は炭素数1〜18のアルキル基、Mはアル
カリ金属またはアンモニウム、mは0〜30までの
正の整数、nは0、3、4のいづれかを示す。)
で表わされるようなアルキルベンゼンスルホン酸
系等、ノニオン系界面活性剤ではポリオキシエチ
レン誘導体、糖の高級脂肪酸エステル等、両性系
界面活性剤ではスルホベタイン系、アミノ酸系等
が挙げられる。 水性ポリマーラテツクスの粒子径は、乳化重合
用分散剤の量、モノマーの量、重合開始剤量、撹
拌速度、重合温度等の要因により任意なものを作
ることができる。 上記の水性ポリマーラテツクスは、感光性印刷
版の最上層を塗設する為の塗布液中に前記の有機
溶剤を基準にして固形分で約0.0001重量%から約
10重量%の範囲内で含有させておくことが一般的
である。上記0.0001重量%よりも少なくなるにつ
れて、疎水性ポリマー粒子の分散安定性が低下す
るようになる。逆に、上記10重量%よりも多くな
るにつれて、水性ポリマーラテツクスのラテツク
ス粒子自身が凝集するようになり、しかも微粒子
物質の分散安定性は、それ以上改善されない。従
つて、より好ましい水性ポリマーラテツクスの
量、上記と同じ基準で0.005〜5重量%、最も好
ましくは、0.01〜2重量%である。 また、水性ポリマーラテツクスを含有させるこ
とにより、本発明の分散液中に含有されることに
なる水の量は、前記有機溶剤を基準として約10重
量%以下とすることが適当であり、より好ましく
は3重量%以下である。 微粒子物質および水性ポリマーラテツクスを分
散含有する塗布液は、例えばドクターコート、ロ
ーラーコート、グラビアコート、ビードコート、
デイツプコートなどの種々の手段で支持体上に塗
布することができる。 更に塗布液層の乾燥も、従来通り行なうことが
でき、室温ないし高温で溶媒を蒸発させることに
より行なわれる。好ましい乾燥温度の範囲は約20
℃から約150℃であり、50〜120℃の範囲が更に好
ましい。 感光層の厚さは、感光性平版印刷版の場合、乾
燥後の重量で約0.1g/m2から約7g/m2が好まし
く、0.5〜4g/m2がより好ましい。 以下、本発明を実施例により、更に詳細に説明
する。実施例中の「%」は、特に指定がない限り
「重量%」を示すものとする。なお、使用された
水性ポリマーラテツクスは、次のようにして調製
した。 温度調節器、撹拌機、還流冷却器、加熱装置、
ガス導入口を有するガラス製の10の密閉型反応
容器の中を窒素ガスで置換し、蒸溜水7.2と下
記乳化重合用界面活性剤Aを90g加え60℃に加温
して加熱撹拌溶解した。次にエチレン系不飽和ビ
ニルモノマーとしてブチルメタアクリレート1.1
Kg、グリシジルメタアクリレート0.7Kgを加え、
60℃にて毎分50〜200回転で30分間撹拌乳化し
た。次に重合開始剤として過硫酸カリウム1.3g
及び重亜硫酸ナトリウム0.4gを加え5時間重合
反応を行なつた。反応液の温度は重合反応による
熱によつて60℃から約75℃まで上昇した。5時間
重合せしめた後、重合物を40℃まで冷却した。か
くして得られた水性ポリマーラテツクスの粒子
径は0.03〜0.07μであり、固形分濃度は20重量%
であつた。 同様な方法によつて下記第1表に示す水性ポリ
マーラテツクス〜を作つた。 なお、第1表に示した水性ポリマーラテツクス
およびはビニルモノマー類1.8Kgのうち0.36
Kgを初期に仕込み撹拌乳化させ、重合開始剤の添
加と同時に残り1.44Kgを1時間滴下重合させたも
のである。 乳化重合用分散剤A〜E
Those whose main component is a photosensitive polymer such as polyesters, polyamides, and polycarbonates containing [Formula] (for example, U.S. Patent No.
3030208, 3707373 and 3453237); derived from (2-properidene) malonic acid compounds such as cinnamylidene malonic acid and difunctional glycols; Polyvinyl alcohol, starch, cellulose, and similar materials; Cinnamate esters of hydroxyl-containing polymers such as
2752372, 2732301, etc.). These compositions may also contain sensitizers, stabilizers, plasticizers, pigments, dyes, and the like. (5) Photopolymerizable composition comprising an addition polymerizable unsaturated compound This composition preferably comprises (a) at least 2
It consists of a vinyl monomer having five terminal vinyl groups, (b) a photopolymerization initiator, and (c) a polymer compound as a binder. As the vinyl monomer of component (a),
No. 5093, Special Publication No. 14719, Special Publication No. 1971-28727
Acrylic or methacrylic esters of polyols, such as diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, etc. ) acrylates, etc., or bis(meth)acrylamides such as methylene bis(meth)acrylamide and ethylene bis(meth)acrylamide, or unsaturated monomers containing urethane groups, such as di-(2'-methacryloxyethyl) -2,4-tolylene diurethane, di-
Examples include reaction products of diol mono(meth)acrylates and diisocyanates, such as (2'-acryloxyethyl)trimethylene diurethane. As the photopolymerization initiator of component (b), the compounds represented by the above general formula can be used, but other types can also be used. For example, "Light Sensitive Systems" by J. Courser, Vol.
Carbonyl compounds, as described in Chap.
Examples include organic sulfur compounds, peroxides, redox compounds, azo and diazo compounds, halogen compounds, and photoreducible dyes. More specifically, it is disclosed in British Patent No. 1459563. On the other hand, various known polymers can be used as the binder for component (c). Specific binder details can be found in U.S. Patent No. 4,072,527
It is stated in the specification of the No. Furthermore, British patent no.
The chlorinated polyolefins described in US Pat. No. 1,459,563 are particularly preferred binders. Component (a) and component (c) have a weight ratio of 1:9 to 6:4
Contained in combination within the range. In addition, component (b) is the component
It is contained in a range of 0.5 to 10% by weight based on (a). The photopolymerizable composition further includes a thermal polymerization inhibitor,
It can contain plasticizers, dyes and pigments. The basic structure of the photosensitive printing plate produced by the method of the present invention is one having a photosensitive layer made of the above-mentioned photosensitive substance on a support, but one in which a resin layer is further provided on the photosensitive layer. can also be used. Specifically, there is one described in US Pat. No. 3,136,637. That is, it has a photosensitive layer and a lipophilic, hydrophobic, water-insoluble, and solvent-softening resin layer in this order on a support. Furthermore, it also includes photosensitive printing plates as described in British Patent No. 1478333 and British Patent No. 1478334, which have a similar structure. Various solvents can be used for the coating solution used to coat the top layer of the photosensitive printing plate.
Generally, both one type of organic solvent and a mixture of two or more types of organic solvents are included, but in either case, it is desirable that at least 10% by weight of water can be dissolved at 20°C. That is,
When a type of organic solvent is used, it is desirable that the type of organic solvent itself can dissolve 10% by weight or more of water at 20°C, while two or more types of organic solvents should be mixed together. When a mixed organic solvent is used, it is desirable that the mixed organic solvent is capable of dissolving 10% by weight or more of water at 20°C. Specific solvents or solvent systems include, for example, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-methoxyethyl acetate,
It can be selected from 2-ethoxyethyl acetate, dimethylformamide, methanol-ethylene dichloride, mixtures thereof, and the like. In the above methanol-ethylene dichloride mixed solvent, methanol can be replaced with ethanol, n-propanol, isopropanol, or a mixture thereof, and ethylene dichloride can be further replaced with methylene chloride, trichloroethane, monochlorobenzene, or a mixture thereof. can do.
Furthermore, other solvents can be additionally mixed with these solvents to the extent that they do not cause any problem. Such additional solvents include, for example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl acetate, ethyl acetate, n-acetate, etc.
propyl, isopropyl acetate, n-butyl acetate,
Contains esters such as methyl amyl acetate, water, etc. The coating solution concentration of the photosensitive composition dissolved in these solvents generally ranges from about 0.1% to about 20% by weight, more preferably from 1 to 10% by weight. Preferred specific examples of particulate materials used in the present invention include, for example, polyethylene particles, polypropylene particles, ethylene-propylene copolymer particles, ethylene-vinyl acetate copolymer particles, polyethylene terephthalate particles, and crosslinked vinyl polymer particles. etc. are included. Crosslinked vinyl polymer particles are usually obtained by well-known suspension polymerization methods. One example is a hydrophobic vinyl monomer having one vinyl group (e.g. acrylic esters, methacrylic esters, styrene, styrene derivatives, acrylonitrile, etc.) and a polyfunctional monomer (1 to 30 parts by weight based on the monomer). For example, divinylbenzene, polyethylene glycol diacrylate (ethylene number n = 1 to 14), polyethylene glycol dimethacrylate (ethylene number n
= 1 to 14), trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate,
pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, etc.) and dispersants normally used for suspension polymerization (e.g. inorganic powders such as zinc oxide, calcium carbonate talc, water-soluble polymers such as gelatin, polyvinyl alcohol, etc.) are dissolved. Add to the aqueous medium, deaerate and replace with nitrogen, raise the temperature to about 50-80°C with stirring, add a normal oil-soluble polymerization initiator (e.g. benzoyl peroxide, azobisisobutylnitrile, etc.), and add about 2~
A dispersion of crosslinked vinyl polymer particles is obtained by carrying out a polymerization reaction for 20 hours. Thereafter, crosslinked vinyl polymer particles can be obtained by solid-liquid separation and drying. The particle size (diameter) of the particulate material used in the present invention ranges from about 5μ to about 40μ in average particle size.
is appropriate, preferably in the range of 5 to 20μ. The amount of particulate matter to be present on the surface of the photosensitive printing plate can be selected from a wide range, but generally ranges from about 50 particles/ cm2 to about 500,000 particles/ cm2 , more preferably from 1000 to about 500,000 particles/cm2. Selected from a range of 100,000 pieces/ cm2 . Usually, the optimal range is determined by conducting a large number of trial experiments. The amount of fine particles dispersed in the coating solution to achieve this range varies depending on the coating amount of the top layer, but for example, if the photosensitive layer of a photosensitive lithographic printing plate is the top layer, In some cases, approximately
0.01% to about 20% by weight, preferably 0.1-10
% by weight. On the other hand, the aqueous polymer latex used in the present invention is well known in the field of polymers, and consists of fine polymer particles (referred to as latex particles) dispersed in an aqueous medium. In the present invention, the average particle size (diameter) of latex particles of the aqueous polymer latex is
1000 for the average particle size of the particulate material mentioned above.
The dispersion of particulate material in organic solvents is stabilized when an aqueous polymer latex in the range of 1 to 10 times smaller is used. Such aqueous polymer latex can be selected from a range in which the average particle size of the latex particles is from about 0.01μ to about 2μ, preferably from 0.01 to 1μ,
Most preferably, it is selected from the range of 0.02 to 0.5μ. The aqueous polymer latex used in the present invention can be obtained by emulsion polymerization of vinyl monomers in water. To give a specific example, a vinyl monomer containing about 0.1 to 20% by weight of a dispersant for emulsion polymerization (generally a surfactant is used) and about 2 to 50 parts by weight of water based on the vinyl monomer. The aqueous medium is degassed and replaced with nitrogen, emulsified, additives used in normal emulsion polymerization (e.g. molecular weight regulators, antioxidants, etc.) are added as needed, and finally an emulsion polymerization initiator (e.g. peroxide Hydrogen, potassium persulfate, etc.) are added and emulsion polymerization is carried out according to a conventional method to obtain an aqueous vinyl polymer latex. The above-mentioned monomers are not particularly limited as long as they are vinyl monomers, but the monomers for synthesizing the aqueous polymer latex will be described in detail below. As shown below, monomers are classified into three groups: (A) group (hydrophobic monomers), (B) group (hydrophilic monomers), and (C) group (crosslinking monomers). (A) group monomer; hydrophobic unsaturated vinyl monomer having one vinyl group, acrylic esters,
Monomers such as methacrylic esters, vinyl esters, styrenes, and olefins. Group (B) monomers: hydrophilic unsaturated vinyl monomers having one vinyl group, and monomers having functional groups such as an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, an amide group, and a hydroxyl group. Group (C) monomers; monomers with reactive crosslinking groups (epoxide group, hydroxymethylamide group, alkoxymethylamide group, acyloxymethylamide group, isocyanate group, etc.) and polyfunctionality with two or more vinyl groups Monomers. Suitable combinations of monomers when synthesizing an aqueous polymer latex include a homopolymer of group (A) monomers or a copolymer of a combination of two or more monomers, and one or more group (A) monomers and one or more types of monomers. copolymers in combination with monomers of group (B) and one or more of (A)
A copolymer formed by a combination of a group monomer, one or more group (C) monomers, and one or more group (B) monomers, and one or more group (A) monomers, and one or more group (C) monomers. Examples include copolymers formed by combinations of the following. The details will be explained below. Group (A) monomers include hydrophobic vinyl monomers having one vinyl group (hydrophobic here refers to 20
Refers to those having a solubility in water of 8% by weight or less at °C. ) refers to monomers such as acrylic esters, methacrylic esters, vinyl esters, styrenes, and olefins. Examples of acrylic esters include methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, sec-butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, 2
-Phenoxyethyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, and 2-ethoxyethyl acrylate. Examples of methacrylic esters include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, isopropyl methacrylate,
n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, acetoacetoxyethyl methacrylate, chlorobenzyl methacrylate, octyl methacrylate, furfuryl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, phenyl methacrylate, Trimethylolpropane monomethacrylate, 2-methoxyethyl methacrylate, 2-
Mention may be made of ethoxyethyl methacrylate. Examples of vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, vinyl methoxy acetate, vinyl acetoacetate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, etc. can be mentioned. Examples of styrenes include styrene, methylstyrene, chloromethylstyrene, trifluoromethylstyrene, acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, trichlorostyrene, and bromustyrene. Examples of olefins include butadiene, isoprene, chloroprene, propylene, vinyl chloride, vinyl bromide, vinylidene chloride, vinylidene bromide, vinylidene fluoride, and the like. Other examples include acrylonitrile. Group (B) monomers refer to hydrophilic vinyl monomers having one vinyl group and monomers having functional groups such as an amino group, a carboxyl group, a sulfonic acid group, an amide group, and a hydroxyl group. The hydrophilic monomers mentioned here are monomers that are difficult to carry out in aqueous emulsion polymerization when used alone because of their high solubility in water. Examples of monomers having an amino group include:
Examples include dimethylaminomethyl acrylate, dimethylaminomethyl methacrylate, diethylaminomethyl acrylate, diethylaminomethyl methacrylate, diethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl methacrylate, tert-butylaminoethyl acrylate, and tert-butylaminoethyl methacrylate. Examples of monomers having a carboxyl group include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, crotonic acid, fumaric acid, methylenemalonic acid,
Monoalkyl itaconates (e.g. monomethyl itaconate, monoethyl itaconate, monobutyl itaconate, etc.), monoalkyl maleates (e.g. monomethyl maleate, monoethyl maleate, monobutyl maleate, monopropyl maleate, monooctyl maleate, etc.) , citraconic acid, sodium acrylate, ammonium acrylate, ammonium methacrylate, and the like. Examples of monomers having a sulfonic acid group include styrene sulfonic acid, vinylbenzyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, acryloyloxyalkylsulfonic acid (for example, acryloyloxymethylsulfonic acid, acryloyloxyethylsulfonic acid, acryloyloxypropylsulfonic acid, acryloyl oxybutylsulfonic acid, etc.), methacryloyloxyalkylsulfonic acids (e.g., methacryloyloxymethylsulfonic acid, methacryloyloxyethylsulfonic acid, methacryloyloxypropylsulfonic acid, methacryloyloxybutylsulfonic acid, etc.), acrylamide alkylsulfonic acids (e.g., 2-acrylamide- 2-methylethanesulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid,
2-methacrylamido-2-methylbutanesulfonic acid, etc.), methacrylamide alkylsulfonic acid (e.g. 2-methacrylamido-2-methylethanesulfonic acid, 2-methacrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, 2-methacrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, etc.)
2-methylbutanesulfonic acid, etc.). Examples of monomers having an amide group include acrylamide, methylacrylamide, propylacrylamide, and the like. Examples of monomers having hydroxyl groups include aryl alcohol, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate,
-Hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, allyl ether of polyhydric alcohol, and the like. Other examples include N-acryloylpiperidine, vinylpyridine, vinylpyrrolidone, and maleic anhydride. Group (C) monomers include monomers with reactive crosslinking groups (epoxide group, hydroxymethylamide group, alkoxymethylamide group, acyloxymethylamide group, isocyanate group) and polyfunctional monomers with two or more vinyl groups. Refers to monomers. (C)
Group monomers are not used alone, but can be added to group (A) monomers or group (A) monomers and group (B) monomers to synthesize crosslinked polymer latexes. Examples of monomers having an epoxide group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl p-vinylbenzoate, glycidyl crotonate, diglycidyl itaconate,
Examples include diglycidyl maleate, diglycidyl methylene malonate, glycidyl vinyl ether, allyl glycidyl ether, glycidyl-α-chloroacrylate, and the like. Examples of the monomer having a hydroxymethylamide group include hydroxymethylacrylamide and hydroxymethylmethacrylamide. Examples of monomers having an alkoxymethylamide group include methoxymethylacrylamide, methoxymethylmethacrylamide, ethoxymethylacrylamide, ethoxymethylmethacrylamide, butoxymethylacrylamide, butoxymethylmethacrylamide, hexyloxymethylacrylamide, and the like. Examples of monomers having an acyloxymethylamide group include acetoxymethylacrylamide, acetoxymethylmethacrylamide, propionyloxymethylacrylamide, and the like. Examples of the monomer having an isocyanate group include vinyl isocyanate and allyl isocyanate. Examples of polyfunctional monomers include divinylbenzene, polyethylene glycol diacrylate (ethylene number n = 1 to 14), polyethylene glycol dimethacrylate (ethylene number n = 1 to 14), trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate. , pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, and the like. Further, the polymer latex having epoxide groups may be partially hydrolyzed under acidic or basic conditions to have dihydroxy groups. A suitable monomer combination for synthesizing the aqueous polymer latex is a homopolymer of group (A) monomers or a copolymer of two or more monomers and at least 50% by weight of one or more group (A) monomers. or more, preferably 80% by weight or more and one or more (B)
The total of the copolymer with group monomers and one or more group (A) monomers and one or more group (C) monomers is at least 50% by weight or more, preferably 80% by weight or more.
Copolymer with (B) group monomer and (C) with (A) group monomer
Examples include copolymers with group monomers. Group (B) monomers, which are generally hydrophilic monomers, are used to improve the stability during emulsion polymerization and the stability over time of aqueous latexes. When dispersing aqueous polymer latex particles in an organic solvent, it is necessary that the latex particles are insoluble in the organic solvent used and do not aggregate in the organic solvent. Since latex particles may be soluble, insoluble, or non-agglomerated depending on the composition of the organic solvent used, the monomer composition constituting the latex particles cannot be uniquely limited. However, crosslinked latex polymers are generally more preferred. That is, one or more group (A) monomers and one or more group (C) monomers.
The total amount with the group monomers is 50% by weight or more, preferably
A copolymer of 80% by weight or more and one or more group (B) monomers or a copolymer of one or more group A monomers and one or more group C monomers is more preferred. The composition ratio of the (A) group monomer and (C) group monomer cannot be uniquely defined. Dispersants used in emulsion polymerization include general anionic, cationic, nonionic, and amphoteric surfactants. These may be used alone or in combination of two or more. Those skilled in the art are well aware of these dispersants for emulsion polymerization, and to give some examples, for example, R-OSO 3 M or R(-OCH 2 CH 2 ) for anionic surfactants. −lOSO 3 M
(In the formula, R is an alkyl group having 8 to 30 carbon atoms, M is an alkali metal or ammonium, and l is a positive integer of 0 to 30.) Or (In the formula, R' is hydrogen or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, R'' is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, M is an alkali metal or ammonium, m is a positive integer from 0 to 30, and n is 0 , 3, or 4.)
Examples of nonionic surfactants include alkylbenzenesulfonic acid series as shown in the following formula, polyoxyethylene derivatives and higher fatty acid esters of sugars, and amphoteric surfactants include sulfobetaine series and amino acid series. The particle size of the aqueous polymer latex can be arbitrarily determined depending on factors such as the amount of dispersant for emulsion polymerization, the amount of monomer, the amount of polymerization initiator, stirring speed, and polymerization temperature. The above water-based polymer latex may be used in a coating solution for coating the top layer of a photosensitive printing plate in terms of solid content from about 0.0001% by weight to about 1% by weight based on the above organic solvent.
It is generally contained within a range of 10% by weight. As the amount decreases below the above 0.0001% by weight, the dispersion stability of the hydrophobic polymer particles decreases. On the other hand, as the amount exceeds 10% by weight, the latex particles of the aqueous polymer latex themselves tend to aggregate, and the dispersion stability of the particulate material is not improved any further. Therefore, more preferred amounts of aqueous polymer latex are from 0.005 to 5% by weight, most preferably from 0.01 to 2% by weight on the same basis as above. Furthermore, by including the aqueous polymer latex, the amount of water contained in the dispersion of the present invention is suitably about 10% by weight or less based on the organic solvent, and more preferably Preferably it is 3% by weight or less. Coating liquids containing dispersed particulate matter and aqueous polymer latex include, for example, doctor coat, roller coat, gravure coat, bead coat,
It can be coated onto the support by various means such as dip coating. Furthermore, drying of the coating liquid layer can be carried out in a conventional manner, and is carried out by evaporating the solvent at room temperature to high temperature. The preferred drying temperature range is approximately 20
°C to about 150 °C, with a range of 50 to 120 °C being more preferred. In the case of a photosensitive lithographic printing plate, the thickness of the photosensitive layer is preferably from about 0.1 g/m 2 to about 7 g/m 2 , more preferably from 0.5 to 4 g/ m 2 in terms of weight after drying. Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. "%" in the examples indicates "% by weight" unless otherwise specified. The aqueous polymer latex used was prepared as follows. Temperature controller, stirrer, reflux condenser, heating device,
The inside of 10 sealed reaction vessels made of glass having a gas inlet was purged with nitrogen gas, and distilled water 7.2 and 90 g of surfactant A for emulsion polymerization described below were added and heated to 60° C. and dissolved by heating and stirring. Next, butyl methacrylate 1.1 is used as an ethylenically unsaturated vinyl monomer.
Kg, add 0.7Kg of glycidyl methacrylate,
Emulsification was carried out by stirring at 60° C. for 30 minutes at 50 to 200 revolutions per minute. Next, 1.3g of potassium persulfate as a polymerization initiator
Then, 0.4 g of sodium bisulfite was added and a polymerization reaction was carried out for 5 hours. The temperature of the reaction solution rose from 60°C to about 75°C due to the heat generated by the polymerization reaction. After polymerizing for 5 hours, the polymer was cooled to 40°C. The particle size of the aqueous polymer latex thus obtained is 0.03 to 0.07μ, and the solid content concentration is 20% by weight.
It was hot. Aqueous polymer latexes shown in Table 1 below were prepared in a similar manner. In addition, 0.36 of the 1.8 kg of aqueous polymer latex and vinyl monomer shown in Table 1
Kg was initially charged and emulsified by stirring, and at the same time as the polymerization initiator was added, the remaining 1.44 Kg was dropwise polymerized for 1 hour. Dispersants A to E for emulsion polymerization

【表】 実施例1〜4および比較例1 厚さ0.24mmのアルミニウム板を60℃の第3燐酸
ナトリウムの7%水溶液に浸漬して脱脂し、水洗
した後パミスを水に懸濁した液を流しながらナイ
ロンブラシで擦つて砂目立てした。水洗後70℃に
保たれたJIS3号珪酸ナトリウム(SiO2/Na2O
(モル比)=3.1〜3.3)の5%水溶液に30〜60秒浸
漬した。 充分水洗した後乾燥し、次の塗布液(C1)〜
(C6)を塗布し、乾燥して感光性平版印刷版C1
C6を得た。
[Table] Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 An aluminum plate with a thickness of 0.24 mm was immersed in a 7% aqueous solution of tertiary sodium phosphate at 60°C to degrease it, and after washing with water, a solution of pumice suspended in water was added. While washing it, I scrubbed it with a nylon brush to make it grainy. JIS No. 3 sodium silicate (SiO 2 /Na 2 O) kept at 70℃ after washing with water.
(mole ratio) = 3.1 to 3.3) for 30 to 60 seconds. After thoroughly washing with water and drying, apply the next coating solution (C 1 ) ~
(C 6 ) is applied and dried to form a photosensitive lithographic printing plate C 1 ~
Got C6 .

【表】 ただし各塗布液とも調製後1時間静置させた後
に塗布した。乾燥後の塗布重量は1.0g/m2であつ
た。このようにして得られた感光性平版印刷版
C1〜C5の表面を観察したところ、感光性平版印
刷版C1は感光層の表面に微粒子物質が押し出さ
れた形で固着していたが、微粒子物質同志が凝集
しており均一に分散していなかつた。これに対し
て、感光性平版印刷版C2〜C5は、いずれも感光
層の表面に微粒子物質が押し出された形で固着し
ている上に、微粒子物質が均一に分散していた。 各感光性平版印刷版をネガ透明原画と重ねて真
空密着法で密着させたところ、微粒子物質を使用
しないで作成した感光性平版印刷版の場合に比べ
て、いずれも1/2〜1/3で密着させることができ
た。原画を真空密着させた各々の版をメタルハラ
イドランプで1mの距離から40秒間画像露光し、
次に示す現像液にて室温で1分間浸漬後、脱脂綿
で表面を軽くこすり未露光部を除去し平版印刷版
を得た。 ベンジルアルコール 3.0g イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム
1.0g 珪酸ナトリウム(40%水溶液) 1.0g 水 95 g 各平版印刷版で印刷を行つたところ、感光性平
版印刷版C1〜C5から得られた平版印刷版は耐刷
5万枚であつた。 また、顕微鏡で現像直後の各平版印刷版の画像
部の表面を観察したところ、感光性平版印刷版
C1〜C5から得られた平版印刷版は画像部に微粒
子物質の存在が確認できなかつた。 実施例5〜7および比較例2〜4 実施例1の場合と同様にして、但し感光層用塗
布液として下記のおよびからなる6種の塗布
液(C6)〜(C11)を用いてそれぞれ感光性平版印
刷版C6〜C11を作つた。
[Table] However, each coating solution was applied after being allowed to stand for 1 hour after preparation. The coating weight after drying was 1.0 g/m 2 . Photosensitive lithographic printing plate thus obtained
When the surfaces of C 1 to C 5 were observed, it was found that in photosensitive lithographic printing plate C 1 , particulate matter was extruded and stuck to the surface of the photosensitive layer, but the particulate matter was agglomerated with each other and dispersed uniformly. I hadn't done it. On the other hand, in all of the photosensitive planographic printing plates C 2 to C 5 , the particulate matter was fixed to the surface of the photosensitive layer in an extruded form, and the particulate matter was uniformly dispersed. When each photosensitive lithographic printing plate was superimposed on a negative transparent original image and brought into close contact with it using the vacuum adhesion method, the results were 1/2 to 1/3 that of a photosensitive lithographic printing plate made without using fine particle substances. I was able to get it in close contact. Each plate with the original picture attached in vacuum was exposed to a metal halide lamp for 40 seconds from a distance of 1 meter.
After immersing the plate in the following developer at room temperature for 1 minute, the surface was lightly rubbed with absorbent cotton to remove the unexposed areas to obtain a lithographic printing plate. Benzyl alcohol 3.0g Sodium isopropylnaphthalene sulfonate
1.0 g Sodium silicate (40% aqueous solution) 1.0 g Water 95 g When printing was performed with each planographic printing plate, the planographic printing plates obtained from photosensitive planographic printing plates C 1 to C 5 had a printing life of 50,000 sheets. Ta. In addition, when the surface of the image area of each lithographic printing plate was observed under a microscope immediately after development, it was found that the photosensitive lithographic printing plate
In the lithographic printing plates obtained from C1 to C5 , the presence of particulate matter could not be confirmed in the image area. Examples 5 to 7 and Comparative Examples 2 to 4 In the same manner as in Example 1, except that six types of coating liquids (C 6 ) to (C 11 ) consisting of the following and were used as coating liquids for the photosensitive layer. Photosensitive lithographic printing plates C 6 to C 11 were prepared, respectively.

【表】 各塗布液とも調製後1時間静置させた後に塗布
した。乾燥後の塗布重量は1.0g/m2であつた。各
感光性平版印刷版の感光層の表面を観察したとこ
ろ、いずれの感光性平版印刷版についても微粒子
物質が感光層の表面へ押し出された形で付着して
いたが、感光性平版印刷版C6、C8およびC10は微
粒子物質が凝集しており、均一に分散していなか
つたのに対して、感光性平版印刷版C7、C9およ
びC11の表面は微粒子物質が均一に分散してい
た。 各感光性平版印刷版について、ネガ原画と真空
密着法により密着させるのに要した時間を測定し
たところ、微粒子物質を用いなかつた感光性平版
印刷版を用いた場合に比べて、1/2〜1/3に短縮さ
れていた。 原画を密着させた各版を実施例1の場合と同様
にして画像露光したのち、実施例1の場合と同様
にして現像して平版印刷版を得た。各平版印刷版
とも耐刷が5万枚であつた。また、各平版印刷版
の画像部の表面を調べたが、微粒子物質は存在し
ていないことが判つた。 実施例 8および9 実施例1の場合と同様にして、但し感光層用塗
布液として下記のおよびからなる2種の塗布
液C12およびC13を用いてそれぞれ感光性平版印刷
版C12およびC13を作つた。
[Table] Each coating solution was applied after being allowed to stand for 1 hour after preparation. The coating weight after drying was 1.0 g/m 2 . When the surface of the photosensitive layer of each photosensitive planographic printing plate was observed, it was found that fine particulate matter was extruded and adhered to the surface of the photosensitive layer in all photosensitive planographic printing plates, but photosensitive planographic printing plate C 6 , C 8 and C 10 , the particulate matter was agglomerated and not uniformly dispersed, whereas the surface of the photosensitive lithographic printing plates C 7 , C 9 and C 11 had particulate matter dispersed uniformly. Was. When we measured the time required for each photosensitive lithographic printing plate to adhere to the negative original using the vacuum adhesion method, we found that the time required to bring each photosensitive lithographic printing plate into close contact with the negative original image was 1/2 to 1/2 that of using a photosensitive lithographic printing plate that did not use particulate matter. It was shortened to 1/3. Each plate to which the original image was adhered was imagewise exposed in the same manner as in Example 1, and then developed in the same manner as in Example 1 to obtain a lithographic printing plate. Each lithographic printing plate had a printing life of 50,000 sheets. The surface of the image area of each lithographic printing plate was also examined, and it was found that no particulate matter was present. Examples 8 and 9 Photosensitive lithographic printing plates C 12 and C were prepared in the same manner as in Example 1, except that two coating solutions C 12 and C 13 consisting of and below were used as coating solutions for the photosensitive layer, respectively. I made 13 .

【表】 各塗布液とも調製後1時間静置させた後に塗布
した。乾燥後の塗布重量は1.0g/m2であつた。か
くして得られた感光性平版印刷版の表面には微粒
子物質が押し出された形状で固着しており、しか
も微粒子物質は互いに凝集することなく均一に分
散していた。 実施例10〜11および比較例5〜6 厚さ0.3mmの砂目立されたアルミニウム板を硫
酸中で陽極酸化して約2g/m2の酸化皮膜をつく
り良く洗浄した後乾燥しその上に下記および
からなる塗布液(C14)〜(C17)を塗布乾燥し約
2.5g/m2の感光層を有する感光性平版印刷版C14
〜C17を得た。
[Table] Each coating solution was applied after being allowed to stand for 1 hour after preparation. The coating weight after drying was 1.0 g/m 2 . On the surface of the thus obtained photosensitive lithographic printing plate, the particulate matter was fixed in an extruded form, and moreover, the particulate matter was uniformly dispersed without agglomerating with each other. Examples 10 to 11 and Comparative Examples 5 to 6 A grained aluminum plate with a thickness of 0.3 mm was anodized in sulfuric acid to form an oxide film of about 2 g/m 2 , thoroughly washed, dried, and then coated on top. Coating liquids (C 14 ) to (C 17 ) consisting of the following and drying were applied to approx.
Photosensitive lithographic printing plate C 14 with a photosensitive layer of 2.5 g/m 2
~ C17 was obtained.

【表】 各塗布液とも調製後1時間静置させた後に塗布
した。各感光性印刷版の表面を観察したところ、
C14およびC16は微粒子物質が凝集しており、均一
に分散していなかつた。一方、C15およびC17の表
面は微粒子物質が均一に分散していた。なお、い
ずれの感光性平版印刷版についても微粒子物質が
感光層の表面へ押し出された形状で固着してい
た。 各感光性印刷版について、ポジ透明原画と真空
密着させるのに要した時間は、微粒子物質を用い
なかつた感光性平版印刷版の場合に比べて1/2〜
1/3に短縮されていた。 次いで、実施例1の場合と同様に画像露光し7
%珪酸ナトリウム水溶液で現像し平版印刷版を作
成し印刷を行つたところ、耐刷6万枚でマツト剤
を含有しない塗布液を塗布したものから得られた
平版印刷版の耐刷力と同等であつた。また調子再
現性でも同等であつた。さらに現像後の画像部を
観察したところ、ポリエチレン粒子は存在してい
ないことが確認された。
[Table] Each coating solution was applied after being allowed to stand for 1 hour after preparation. When observing the surface of each photosensitive printing plate,
C 14 and C 16 had agglomerated fine particles and were not uniformly dispersed. On the other hand, fine particulate matter was uniformly dispersed on the surfaces of C 15 and C 17 . In addition, in all of the photosensitive lithographic printing plates, the particulate matter was fixed to the surface of the photosensitive layer in an extruded form. For each photosensitive printing plate, the time required to bring it into vacuum contact with a positive transparent original is 1/2 to 1/2 of the time required for a photosensitive lithographic printing plate that does not use particulate matter.
It was shortened to 1/3. Next, image exposure was carried out in the same manner as in Example 1.
When a lithographic printing plate was prepared by developing with a % sodium silicate aqueous solution and printed, it had a printing durability of 60,000 sheets, which was equivalent to the printing durability of a lithographic printing plate coated with a coating solution that did not contain a matting agent. It was hot. Furthermore, the tone reproducibility was also the same. Furthermore, when the image area after development was observed, it was confirmed that no polyethylene particles were present.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 支持体上に感光層を有する感光性印刷板の最
上層を、 (a) 該最上層の構成成分の溶剤溶液中に微粒子物
質が安定に分散含有されている塗布液を塗布し
て塗布液層を形成し、 (b) 該塗布液層を乾燥し、 かくして該塗布液中の該微粒子物質の安定な分
散状態が該乾燥の過程で破壊されることにより、
該最上層の表面に該微粒子物質が押し出された形
状となるように設けることからなる、その表面が
マツト化された感光性印刷版の製造方法におい
て、該塗布液中に該微粒子物質の平均粒子サイズ
に対して約1000分の1から約10分の1の範囲にそ
の平均粒子サイズを有する水性ポリマーラテツク
スを含有させることにより、該塗布液中での該微
粒子物質の分散状態が安定化されていることを特
徴とする方法。
[Scope of Claims] 1. The uppermost layer of a photosensitive printing plate having a photosensitive layer on a support is coated with (a) a coating solution containing fine particulate matter stably dispersed in a solvent solution of the constituent components of the uppermost layer; (b) drying the coating liquid layer, and thus, the stable dispersion state of the particulate matter in the coating liquid is destroyed during the drying process;
In a method for producing a photosensitive printing plate having a matte surface, the fine particulate material is provided in an extruded shape on the surface of the uppermost layer, wherein an average particle of the fine particulate material is contained in the coating liquid. By containing an aqueous polymer latex having an average particle size in the range of about 1/1000 to about 1/10 of the particle size, the dispersion state of the particulate matter in the coating liquid is stabilized. A method characterized by:
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