JPS61186900A - X ray microscope - Google Patents

X ray microscope

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Publication number
JPS61186900A
JPS61186900A JP60026725A JP2672585A JPS61186900A JP S61186900 A JPS61186900 A JP S61186900A JP 60026725 A JP60026725 A JP 60026725A JP 2672585 A JP2672585 A JP 2672585A JP S61186900 A JPS61186900 A JP S61186900A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
rays
phase plate
sample
diffracted light
Prior art date
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Pending
Application number
JP60026725A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
伊藤 治昌
岸 克三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Publication of JPS61186900A publication Critical patent/JPS61186900A/en
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はX線顕微鏡に関し、特にX線領域において位相
差法を用い、×16像の二1ントラストを観察に適した
ものにし得るXLf2顕微鏡に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to an X-ray microscope, and in particular to an XLf2 microscope that uses a phase contrast method in the X-ray region and can make the 21 contrast of a ×16 image suitable for observation. Regarding.

[従来の技術] ×$2顕微鏡は生物学、医学の進歩と共に、生体をin
  VitrOで観察するという強い要求の元に開発さ
れてきている。従来のX線顕微鏡では、試料にX線を照
射し、該試料を透過したX線を7オトレジストに焼き付
【プ、該フォトレジス1−に焼付けられた像を走査電子
顕微鏡で観察するようにしている。
[Conventional technology]
It has been developed based on the strong demand for observation with VitrO. In conventional X-ray microscopes, a sample is irradiated with X-rays, the X-rays that have passed through the sample are printed onto a photoresist, and the image printed on the photoresist is observed using a scanning electron microscope. ing.

1発明が解決しようとする問題点」 しかしながら、この方法で得られる像のコントラストは
充分でなく、観察に適した像を得ることが困難である。
1. Problems to be Solved by the Invention" However, the contrast of the image obtained by this method is not sufficient, making it difficult to obtain an image suitable for observation.

本発明は−F述した点に鑑みてなされたもので、充分な
コントラストでximを得ることができるX線顕微鏡を
提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the points mentioned above, and an object of the present invention is to provide an X-ray microscope that can obtain xim with sufficient contrast.

[問題点を解決するための手段] 本発明に基づくX線顕微鏡は、X線源と、該X線源から
のX線を反射させるX線反射鏡により構成され、試Fl
[にX線微小スポットを形成するためのX線集光系と、
該試料から回折されたX線を結像するためのX線を反射
させるX線反射鏡より構成されるX線結像系と、該X線
結像系の焦平面に配置され、試料による0次回折光の位
相と強度とを制御する位相板と、該位相板を顕微鏡光軸
に垂直な平面内で移動させるための移動手段と、該位相
板を透過し、結像されたX線の強度を検出する手段と、
該検出されたX線強度信号に応じて該位相板の位置を制
御する手段とを備えたことを特徴としている。
[Means for Solving the Problems] The X-ray microscope based on the present invention includes an X-ray source and an X-ray reflector that reflects X-rays from the X-ray source.
[an X-ray condensing system for forming an X-ray microspot;
an X-ray imaging system consisting of an X-ray reflecting mirror that reflects X-rays for imaging X-rays diffracted from the sample; A phase plate for controlling the phase and intensity of the next diffracted light, a moving means for moving the phase plate in a plane perpendicular to the optical axis of the microscope, and an intensity of X-rays transmitted through the phase plate and formed into an image. a means for detecting;
The present invention is characterized by comprising means for controlling the position of the phase plate in accordance with the detected X-ray intensity signal.

[実施例コ 以下本発明の一実施例を添付図面に基づき詳述する。[Example code] An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

第1図において、1は、例えば、回転対陰極型のX線源
であり、該X線源から発生したX線の内、特定方向に進
むX線は第1のX線反射鏡2によって全反射させられる
。該第1の反射鏡によって全反射させられたX線は、第
2のX線反射tIt3によって全反射させられ、光軸0
に平行なX線とされる。該第1及び第2のX線反射vt
2.3は夫々回転体で、一体加工されており、例えば、
該第1の反射鏡2は回転双曲面鏡、第2の反射鏡3は回
転放物面鏡である。該光軸に平行とされたX線は、第3
及び第4のX線反射鏡4,5によって試料6上に集光さ
れる。尚、本実施例において、該第3の反則vL4は回
転放物面鏡であり、第4の反射鏡5は回転双曲面鏡であ
る。ここで、7は第1と第2の反射鏡2,3によって全
反射されるX線以外のX線を遮蔽するためのX線遮蔽部
材、8は第1〜第4のX線反射鏡より成るX線集光系の
焦平面に配置された絞り板であり、該絞り板8には第2
図に示すように、リング状のスリット9が設けられてい
る。該試料6へのX線の照射により、該試料6から回折
されたX線は、第5と第6の反射鏡10.11によって
全反射されるが、該第5の反射鏡10は回転双曲面鏡で
あり、該第6の反射鏡11は回転楕円面鏡であり、この
第5と第6の反!)I t?lは試料6から回折された
X線の結像系を構成している。12は、該第5と第6の
反射鏡10゜11よりなる結像系の焦平面に配置された
位相板であり、13は該結像系によるX線像の結像位置
に配置された、X線の入射によって光を発生する蛍光板
である。該位相板12は、移動機構30によって顕微鏡
光軸Oに垂直な方向に2次元的に移動さけられる。該蛍
光板13上に結像された回折X線により、該蛍光板の面
は発光するが、この発光は、光検出器31によって検出
される。該検出器31の出力信号は、増幅器、A−D変
換器等より成る信号処理回路32を経由してコンピュー
タ33に供給される。尚、各反射鏡として、表面に多層
膜が設けられた反射鏡を使用すれば、集光するX[Iの
量を増加できる。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes, for example, a rotating anticathode type X-ray source, and among the X-rays generated from the X-ray source, X-rays traveling in a specific direction are completely absorbed by a first X-ray reflecting mirror 2. be reflected. The X-rays totally reflected by the first reflection mirror are totally reflected by the second X-ray reflection tIt3, and the optical axis 0
It is assumed that the X-rays are parallel to . The first and second X-ray reflections vt
2.3 are rotating bodies, which are integrally processed, for example,
The first reflecting mirror 2 is a hyperbolic mirror of revolution, and the second reflecting mirror 3 is a parabolic mirror of revolution. The X-rays parallel to the optical axis are
The light is focused onto the sample 6 by the fourth X-ray reflecting mirrors 4 and 5. In this embodiment, the third reflecting mirror vL4 is a paraboloid of revolution, and the fourth reflecting mirror 5 is a hyperboloid of revolution. Here, 7 is an X-ray shielding member for shielding X-rays other than the X-rays totally reflected by the first and second reflecting mirrors 2 and 3, and 8 is a member for shielding X-rays other than the X-rays totally reflected by the first to fourth reflecting mirrors. This is a diaphragm plate placed on the focal plane of the X-ray condensing system, and the diaphragm plate 8 has a second
As shown in the figure, a ring-shaped slit 9 is provided. When the sample 6 is irradiated with X-rays, the X-rays diffracted from the sample 6 are totally reflected by the fifth and sixth reflecting mirrors 10.11, but the fifth reflecting mirror 10 is a rotating mirror. The sixth reflecting mirror 11 is a spheroidal mirror, and the fifth and sixth reflecting mirrors 11 are curved mirrors. )It? 1 constitutes an imaging system for X-rays diffracted from the sample 6. Reference numeral 12 denotes a phase plate arranged at the focal plane of the imaging system consisting of the fifth and sixth reflecting mirrors 10° and 11, and 13 is arranged at the imaging position of the X-ray image by the imaging system. , is a fluorescent screen that generates light when X-rays are incident on it. The phase plate 12 is moved two-dimensionally in a direction perpendicular to the optical axis O of the microscope by the moving mechanism 30. The surface of the fluorescent screen emits light due to the diffracted X-rays imaged on the fluorescent screen 13, and this light emission is detected by the photodetector 31. The output signal of the detector 31 is supplied to a computer 33 via a signal processing circuit 32 consisting of an amplifier, an AD converter, etc. Incidentally, if a reflecting mirror whose surface is provided with a multilayer film is used as each reflecting mirror, the amount of condensed X[I can be increased.

上述した如き構成において、X線源1から発生したX線
の内、特定方向に放射されたXmは、第1と第2のX線
反射鏡2,3によって全反射させられて光軸と平行なX
線とされ、更に、それ以外のX線はX線遮蔽板7によっ
て遮蔽されるため、絞り板8上にはリング状のX線が照
射されることになる。該リング状のX線は、該絞り板8
のスリット9を通過することによって整形され、該整形
されたX線のみが試料6上の微小点に第3と第4の反射
鏡4.5によって集光されることになる。
In the configuration described above, among the X-rays generated from the X-ray source 1, Xm emitted in a specific direction is totally reflected by the first and second X-ray reflecting mirrors 2 and 3, and is reflected parallel to the optical axis. NaX
Furthermore, since other X-rays are blocked by the X-ray shielding plate 7, the aperture plate 8 is irradiated with ring-shaped X-rays. The ring-shaped X-rays are transmitted through the aperture plate 8
The X-rays are shaped by passing through the slit 9, and only the shaped X-rays are focused on a minute point on the sample 6 by the third and fourth reflecting mirrors 4.5.

該試料6に照射されたX線は該試料の厚さ、あるいは、
構成成分の違いに応じて回折される。該回折光は第5と
第6の反射鏡io、1iによって蛍先板13上に結像さ
れるが、該蛍光板に向うX線は位相板12によって制限
される。
The X-rays irradiated to the sample 6 depend on the thickness of the sample, or
It is diffracted according to the difference in its constituent components. The diffracted light is imaged onto the phosphor plate 13 by the fifth and sixth reflecting mirrors io and 1i, but the X-rays directed toward the phosphor plate are restricted by the phase plate 12.

さて、アツベ(Abbe)の顕微鏡の理論によると、そ
の分解能は、試料として回折格子を置いたとき、その溝
が見えるか見えないかで定まる。該試料としての回折格
子に照射され、回折された光は対物鏡の法平面に回折像
を作る。第3図は、この法平面に形成された0次、±1
次の回折像14゜15.16を示しており、この回折像
は、対物鏡の像面では集められて結像する。ここで、試
料が位相格子のときには、1次の回折光は0次光と位相
が90°ずれている。第1図に示した位相板12は、こ
のO次回折光の強度を弱めると共に、その位相を90°
変化させ、1次回折光と同位相とし、それらの回折光を
像面において干渉させ、回折像のコントラストを増大さ
せようとするものである。該位相板12の形状は、第4
図に示されており、図中17は、リング状の開口であり
、該111口は結像系を構成する反射1210.11か
ら全反射されるX線が通過できるように配置されている
According to Abbe's theory of a microscope, its resolution is determined by whether or not the grooves are visible when a diffraction grating is placed as a sample. The diffracted light that is irradiated onto the diffraction grating serving as the sample forms a diffraction image on the normal plane of the objective mirror. Figure 3 shows the 0th order, ±1, formed on this normal plane.
The next diffraction image 14°15.16 is shown, and this diffraction image is collected and formed into an image at the image plane of the objective mirror. Here, when the sample is a phase grating, the phase of the first-order diffracted light is shifted by 90 degrees from the zero-order light. The phase plate 12 shown in FIG. 1 weakens the intensity of this O-order diffracted light and changes its phase by 90°.
The objective is to increase the contrast of the diffraction image by changing the diffraction light so that it has the same phase as the first-order diffraction light, and causing these diffraction lights to interfere on the image plane. The shape of the phase plate 12 is
In the figure, reference numeral 17 denotes a ring-shaped aperture, and the aperture 111 is arranged so that the X-rays totally reflected from the reflection 1210.11 constituting the imaging system can pass therethrough.

第5図は、該位相板12上に形成された回折像を示して
おり、18は0次回折光、19は+1次回折光、20は
一1次回折光を夫々示している。この図から明らかな通
り、結像系の光軸、すなわら、位相板12に設けられた
リング状の開口17の中心と、試料6からのO次回折光
の中心軸とはずらされており、リング状の0次回折光1
8が全て該リング状開口17を通過するのを防止するよ
うにしている。該リング状開口17には、該開口17と
O次回折光とが交わった領域21を通過するX線を制限
するための遮蔽部分22が設けられている。該遮蔽部分
22は、微小円形の複数のX線通退部23を有しており
、該X線通過部23の夫々には、透過するX線の強度を
弱め、更にその位相を90°変化させる厚さを備えた非
金属薄膜が取付けられている。このX線通退部23の大
きさ。
FIG. 5 shows the diffraction image formed on the phase plate 12, where 18 indicates the 0th-order diffracted light, 19 indicates the +1st-order diffracted light, and 20 indicates the 11th-order diffracted light. As is clear from this figure, the optical axis of the imaging system, that is, the center of the ring-shaped aperture 17 provided in the phase plate 12, and the central axis of the O-order diffracted light from the sample 6 are offset. , ring-shaped 0th order diffracted light 1
8 are all prevented from passing through the ring-shaped opening 17. The ring-shaped aperture 17 is provided with a shielding portion 22 for restricting X-rays passing through a region 21 where the aperture 17 and the O-order diffracted light intersect. The shielding portion 22 has a plurality of microcircular X-ray passing portions 23, and each of the X-ray passing portions 23 has a function of reducing the intensity of the transmitted X-rays and changing the phase thereof by 90°. A thin non-metallic film is attached with a thickness that allows The size of this X-ray passage section 23.

数等は、+1次、−1次回折光の強度に応じて決められ
る。第5図において、リング状開口17の1次、2次回
折光と交わった領域24を通過する回折光は第1図に示
した蛍光板13上に到達し、強度と位相が位相板12に
よって調整されたO次回折光と干渉し、その強度が強め
られることから、該蛍光板13上には、コントラストの
良好な像が表示される。
The number etc. are determined according to the intensity of the +1st order and -1st order diffracted light. In FIG. 5, the diffracted light passing through the region 24 intersecting with the first and second order diffracted lights of the ring-shaped aperture 17 reaches the fluorescent screen 13 shown in FIG. 1, and its intensity and phase are adjusted by the phase plate 12. Since the light interferes with the O-order diffracted light and increases its intensity, an image with good contrast is displayed on the fluorescent screen 13.

ところで、位相板12が適切な位置に配置されていない
と、コントラストの良い象が結像されない。従って、こ
の実施例においては、位相板12は、コンピュータ33
からの指令により駆動機構30によって、光軸0と垂直
な平面内で2次元的に移動させられる。この時、位相板
12のリング状間]]17とO次回折光が一致すると、
強い強度のO次回折光の大部分が該開口17を通過して
蛍光板13に入射し、蛍光板から最大強度の光が発生す
る。又、該開口17が各回折リングに対して最適な位置
に配置された時には、結像されたX線像のントラストが
強まり、蛍光板13からの光量が増加する。一方、位相
板12の位置がずれており、0次回折光と他の回折光の
干渉が充分でない時には、光の発生は僅かとなる。第6
図は、検出器31の検出信号の一例を示しており、ピー
クΔがリング状開口17とO次回折光が一致した時のも
の、ピークBが位相板12が各回折光に対して最適に配
置されたときのものである。コンピュータ33は、この
検出信号から位相板12の最適位置を知ることができ、
駆動機構30に指令して、位相板12の位置をピークB
が検出された時の位置に設定する。その後、蛍光板13
の位置にX線フィルムを配置すれば、極めてコントラス
トの優れたXrA像を踊影することができる。
By the way, if the phase plate 12 is not placed at an appropriate position, an image with good contrast will not be formed. Therefore, in this embodiment, the phase plate 12 is connected to the computer 33.
The drive mechanism 30 moves the lens two-dimensionally within a plane perpendicular to the optical axis 0 based on a command from the drive mechanism 30 . At this time, when the ring-shaped space]]17 of the phase plate 12 coincides with the O-order diffracted light,
Most of the O-order diffracted light with high intensity passes through the aperture 17 and enters the fluorescent screen 13, and the maximum intensity light is generated from the fluorescent screen. Furthermore, when the apertures 17 are arranged at optimal positions with respect to each diffraction ring, the contrast of the formed X-ray image becomes stronger and the amount of light from the fluorescent screen 13 increases. On the other hand, when the phase plate 12 is misaligned and there is insufficient interference between the 0th-order diffracted light and other diffracted lights, only a small amount of light is generated. 6th
The figure shows an example of the detection signal of the detector 31, where the peak Δ is when the ring-shaped aperture 17 and the O-order diffracted light match, and the peak B is when the phase plate 12 is optimally arranged for each diffracted light. It is from when it was done. The computer 33 can know the optimum position of the phase plate 12 from this detection signal,
Instructs the drive mechanism 30 to change the position of the phase plate 12 to peak B.
Set to the position when detected. After that, the fluorescent screen 13
If the X-ray film is placed at this position, an XrA image with extremely high contrast can be obtained.

尚、本発明は上述した実施例に限定されることなく幾多
の変形が可能である。例えば、X線集光系の法平面にリ
ング状スリットを有した絞り板を配置したが、第1図に
示したX線反射鏡2,3゜X線遮蔽板7より成る光学系
から発生する迷走X線の岳が少ない場合には、この絞り
板は必ずしも必要ではない。又、回折X線を蛍光板上に
結a ′?l−るようにしたが、蛍光板に代え、回折X
線の結縁位置にXa撮像管を配置するようにし、撮像管
からの信号によってX線強度を知るように構成しても良
い。更に、位相板の開口に設けられた0次回析尤の通過
部23の形状は、円形のみならず、正方形、菱形等であ
っても良い。更に又、0次回折光の位相を干渉によって
回折像が強められるようにずらしたが、回折光が干渉に
よって弱められるようにO次回折光の位相を変化させて
も良い。
Note that the present invention is not limited to the embodiments described above, and can be modified in many ways. For example, although a diaphragm plate with a ring-shaped slit is placed in the normal plane of the X-ray condensing system, the light generated from the optical system consisting of the X-ray reflecting mirror 2, 3° and the X-ray shielding plate 7 shown in FIG. If there are few stray X-ray peaks, this aperture plate is not necessarily necessary. Also, diffracted X-rays are focused on a fluorescent screen. However, instead of a fluorescent screen, a diffraction
An arrangement may also be made in which an Xa image pickup tube is placed at the line junction position and the X-ray intensity is determined by a signal from the image pickup tube. Furthermore, the shape of the zero-order analysis passage section 23 provided in the opening of the phase plate is not limited to a circle, but may be square, diamond, or the like. Furthermore, although the phase of the 0th-order diffracted light is shifted so that the diffraction image is strengthened by interference, the phase of the 0th-order diffracted light may be changed so that the diffracted light is weakened by interference.

[効宋1 以を詳述した如く、本発明においては、X線結像系の焦
平面に位相板を配置し、該位相板によって試わ1からの
O次回折光の強度と位相を調整するようにしたので、良
好なコントラストのX線像を1!7ることができる。
[Effect Song 1 As described in detail below, in the present invention, a phase plate is placed in the focal plane of the X-ray imaging system, and the intensity and phase of the O-order diffracted light from 1 are adjusted by the phase plate. As a result, 1:7 X-ray images with good contrast can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に基づくX線顕微鏡の光学系を示す図、
第2図は絞り板の形状を示す図、第3図は回折光を示す
図、第4図は位相板の形状を示ず拡大図、第5図は位相
板上での各回折光を示す図、第6図はX線強度に対応し
た信号の波形を示す図である。 1・・・X線源
FIG. 1 is a diagram showing the optical system of an X-ray microscope based on the present invention;
Figure 2 shows the shape of the aperture plate, Figure 3 shows the diffracted light, Figure 4 shows an enlarged view of the phase plate without showing its shape, and Figure 5 shows each diffracted light on the phase plate. 6 are diagrams showing signal waveforms corresponding to X-ray intensity. 1...X-ray source

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)X線源と、該X線源からのX線を反射させるX線
反射鏡により構成され、試料上にX線微小スポットを形
成するためのX線集光系と、該試料から回折されたX線
を結像するためのX線を反射させるX線反射鏡より構成
されるX線結像系と、該X線結像系の焦平面に配置され
、試料による0次回折光の位相と強度とを制御する位相
板と、該位相板を顕微鏡光軸に垂直な平面内で移動させ
るための移動手段と、該位相板を透過し、結像されたX
線の強度を検出する手段と、該検出されたX線強度信号
に応じて該位相板の位置を制御する手段とを備えたX線
顕微鏡。
(1) An X-ray condensing system consisting of an X-ray source and an X-ray reflecting mirror that reflects X-rays from the X-ray source to form a minute X-ray spot on the sample, and a diffraction system from the sample. An X-ray imaging system consisting of an X-ray reflecting mirror that reflects the X-rays to image the X-rays, and an a phase plate for controlling the phase plate and the intensity; a moving means for moving the phase plate in a plane perpendicular to the optical axis of the microscope;
An X-ray microscope comprising means for detecting the intensity of rays and means for controlling the position of the phase plate in response to the detected X-ray intensity signal.
(2)該X線反射鏡は回転体であり、リング状のX線が
試料に照射される特許請求の範囲第1項記載のX線顕微
鏡。
(2) The X-ray microscope according to claim 1, wherein the X-ray reflecting mirror is a rotating body, and the sample is irradiated with ring-shaped X-rays.
(3)該試料に照射されるX線を制限する、スリットを
有した絞り板を備えた特許請求の範囲第1項乃至第2項
記載のX線顕微鏡。
(3) The X-ray microscope according to Claims 1 and 2, further comprising an aperture plate having a slit to limit the X-rays irradiated onto the sample.
(4)該X線結像系は、その光軸が試料からの0次回折
光の中心軸と一致しないように配置されている特許請求
の範囲第1項乃至第3項記載のX線顕微鏡。
(4) The X-ray microscope according to any one of claims 1 to 3, wherein the X-ray imaging system is arranged so that its optical axis does not coincide with the central axis of the zero-order diffracted light from the sample.
(5)該位相板は、該X線結像系を出射したX線を通過
させるリング状の開口を有しており、該リング状の開口
には0次回折光が通過する部分にその位相を制御する薄
膜を設けた特許請求の範囲第4項記載のX線顕微鏡。
(5) The phase plate has a ring-shaped aperture through which the X-rays emitted from the X-ray imaging system pass, and the phase plate has a phase in the portion through which the 0th-order diffracted light passes through the ring-shaped aperture. The X-ray microscope according to claim 4, further comprising a controlling thin film.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010038627A (en) * 2008-08-01 2010-02-18 Hitachi Ltd X-ray imaging device and x-ray imaging method
JP2015014491A (en) * 2013-07-04 2015-01-22 エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 X-ray condensing device and x-ray device
WO2019151095A1 (en) * 2018-01-30 2019-08-08 国立大学法人東北大学 Radiation microscope device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010038627A (en) * 2008-08-01 2010-02-18 Hitachi Ltd X-ray imaging device and x-ray imaging method
JP2015014491A (en) * 2013-07-04 2015-01-22 エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 X-ray condensing device and x-ray device
WO2019151095A1 (en) * 2018-01-30 2019-08-08 国立大学法人東北大学 Radiation microscope device
JPWO2019151095A1 (en) * 2018-01-30 2020-10-22 国立大学法人東北大学 Radiation microscope device

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