JPS61184737A - Multibeam optical pickup device - Google Patents

Multibeam optical pickup device

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JPS61184737A
JPS61184737A JP60024395A JP2439585A JPS61184737A JP S61184737 A JPS61184737 A JP S61184737A JP 60024395 A JP60024395 A JP 60024395A JP 2439585 A JP2439585 A JP 2439585A JP S61184737 A JPS61184737 A JP S61184737A
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JP
Japan
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layer
light
width
active layer
mesa
Prior art date
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Application number
JP60024395A
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Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Yamanaka
豊 山中
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

PURPOSE:To form two kinds of different spots by forming a semiconductor laser which has plural luminous points and in which the width of the active laser contributing to the light emission of at least one luminous point is larger than the width of the active layer contributing to the light emission of the other luminous point and the luminous points are so formed as to permit independent driving. CONSTITUTION:An n-Al0.4Ga0.6As layer 2 up to a p-GaAs layer 7 are successively formed on an n-GaAs substrate 1 and thereafter the layers are subjected to mesa-etching down to the substrate 1 to form plural pieces of belt-like mesa- regions having the active layer. The width of the active layer is changed by the mesa width in this stage. The layer 5 and the active layers 4a, 4b are etched to provide contraction 8. A p-Alo.4Ga0.6As layer 9, a p-Al0.3Ga0.7As layer 10 and an n-Al0.4Ga0.6As layer 11 are successively formed so as to embed the side faces of the mesa regions. A diffused region 12, a p-ohmic electrode 13 and an n-ohmic electrode 14 are then formed by Zn diffusion and the p-ohmic electrode 13 is separated between the respective lasers by chemical etching, by which the independent driving of the respective lasers is made possible.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光照射により情報の記録、再生および消去を
行う光情報記録装置に適したマルチビーム光ピックアッ
プ装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a multi-beam optical pickup device suitable for an optical information recording device that records, reproduces and erases information by irradiating light.

〔従来技術とその問題点〕[Prior art and its problems]

光照射により情報の記録を行う媒体として多結晶とアモ
ルファスの間の相変化を利用するものがある。材料とし
てはTe−0−Ge−3n金属系やTo−3e−3n合
金系などが挙げられる。これらの材料の特徴としては、
材料に温度変化を与えるとき急速加熱、急速冷却を行う
とアモルファス化し、比較的ゆっくりとした加熱、冷却
を行うと結晶化することである。相が変化すると表面の
反射率も変化するので、微弱な光を照射することで相の
状態を知ることができる。この相変化を用いると、情報
の記録、再生および消去を行うことができる。
BACKGROUND ART There are media that use phase change between polycrystalline and amorphous states to record information through light irradiation. Examples of the material include Te-0-Ge-3n metal type and To-3e-3n alloy type. The characteristics of these materials are:
When a material is subjected to temperature changes, it becomes amorphous if it is rapidly heated or rapidly cooled, and crystallized if it is heated or cooled relatively slowly. When the phase changes, the reflectance of the surface also changes, so the state of the phase can be determined by irradiating it with weak light. Using this phase change, information can be recorded, reproduced, and erased.

光デイスク形状で結晶からアモルファスへ、アモルファ
スから結晶への両方の相変化を1トラック幅内で実現す
る方法として第6図に示すように光ピツクアップ装置が
ら記録媒体6o上へ照射するスポット形状として円形の
スポット61とトラック方向に長円形のスポット62の
2種類をトランク63に形成する方法がある。記録媒体
と光ピツクアンプ装置の相対速度が一定であれば、円形
スポット61で高いパワー照射を行えば記録媒体の急熱
、急冷を、長円形スポット62で比較的低いパワー照射
で行えば、除熱、徐冷を行うことができる。円形スポッ
ト61により情報ピットの形成と、長円形スポット62
により消去を行えば、1トラック幅ごとに情報の記録、
消去を実現することができる。
As a method of realizing both phase changes from crystal to amorphous and from amorphous to crystal within one track width in the shape of an optical disk, as shown in FIG. 6, the spot shape irradiated onto the recording medium 6o by the optical pickup device is circular. There is a method of forming two types of spots 61 on the trunk 63, and spots 62 that are oval in the track direction. If the relative speed between the recording medium and the optical pickup device is constant, high power irradiation at the circular spot 61 will rapidly heat and cool the recording medium, and relatively low power irradiation at the oval spot 62 will remove heat. , slow cooling can be performed. Formation of information pits by circular spots 61 and oval spots 62
By erasing, information can be recorded for each track width,
erasure can be achieved.

このような2種類のスポットを異なる光ピツクアップ装
置で形成するのは装置全体が煩雑になるため、同一光ピ
ックアップ装置で2種のスポットを形成できることが望
ましい。
Forming such two types of spots with different optical pickup devices would complicate the entire device, so it is desirable to be able to form two types of spots with the same optical pickup device.

2種の異なるスポットを形成する光ピンクアップ装置の
構成方法として例えば2つの波長の異なる半導体レーザ
を用いて一方の光学系にシリンドリカルレンズ等を挿入
することで長円形スポットを形成する方法がある。第7
図にこの方法を用いたピックアップ装置を示す。図にお
いて、71゜72は波長の異なる半導体レーザ、73.
74はコリメートレンズ、75はシリンドリカルレンズ
、76は偏光ビームスプリンタ、77.78はA波長板
、79は集光レンズ、80は波長フィルタ、81は検出
光学系、60は記録媒体である。このピンクアップ装置
は、記録媒体60上における2つのスポットの位置関係
が光学系の機械的安定性に依存するため、温度変化など
に対して不安量であり、また光学系も複雑であるという
欠点がある。
As a method of configuring an optical pink-up device that forms two different types of spots, for example, there is a method of using two semiconductor lasers with different wavelengths and inserting a cylindrical lens or the like into one optical system to form an elliptical spot. 7th
The figure shows a pickup device using this method. In the figure, 71° and 72 are semiconductor lasers with different wavelengths, 73.
74 is a collimating lens, 75 is a cylindrical lens, 76 is a polarizing beam splinter, 77.78 is an A wavelength plate, 79 is a condensing lens, 80 is a wavelength filter, 81 is a detection optical system, and 60 is a recording medium. This pink-up device has disadvantages in that the positional relationship between the two spots on the recording medium 60 depends on the mechanical stability of the optical system, so it is unstable with respect to temperature changes, etc., and the optical system is also complicated. There is.

2種の異なるスポットを形成する光ピツクアップ装置の
他の構成方法として、コリメート光中にAO変調器を挿
入し、AO変調器に複数の周波数成分を与えて長円形ス
ポットを形成する方法も提案されている。しかし、この
方法によるマルチビーム光ピックアップ装置においても
光学系の複雑化は避けられない。
As another method for configuring an optical pickup device that forms two different types of spots, a method has also been proposed in which an AO modulator is inserted into the collimated light and a plurality of frequency components are applied to the AO modulator to form an elliptical spot. ing. However, even in a multi-beam optical pickup device using this method, the optical system inevitably becomes complicated.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は上記のような光学系の複雑化を必要とせ
ずに、2種の異なるスポットを形成することができるマ
ルチビーム光ピックアップ装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a multi-beam optical pickup device that can form two different types of spots without complicating the optical system as described above.

〔発明の構成) 本発明マルチビーム光ピックアップ装置は、複数の発光
点を有する光源と、光検出器と、前記光源からの出射光
を記録媒体に微小スポットとして照射し、記録媒体から
の情報を含む光を前記光検出器に導く光学系とを備える
マルチビーム光ピックアップ装置であって、前記光源が
、同一基板上で複数の発光点を有し、少なくとも1つの
発光点の発光に寄与する活性層の幅が他の発光点の発光
に寄与する活性層の幅より大であり、かつそれぞれの発
光点が独立に駆動できるように形成された半導体レーザ
であることを特徴としている。
[Structure of the Invention] The multi-beam optical pickup device of the present invention includes a light source having a plurality of light emitting points, a photodetector, and irradiates light emitted from the light source onto a recording medium as a minute spot to collect information from the recording medium. an optical system that guides light contained in the light to the photodetector, the light source having a plurality of light-emitting points on the same substrate, and an active device that contributes to light emission of at least one light-emitting point. The semiconductor laser is characterized in that the width of the layer is larger than the width of the active layer that contributes to light emission from other light emitting points, and that each light emitting point can be driven independently.

〔実施例〕〔Example〕

第1図は、本発明の光ピツクアップ装置の一実施例に光
源として用いられる半導体レーザの一例を示す。この半
導体レーザは、厚さは同一であるが幅が異なる2つの活
性層を有する構造であり、このような構造の半導体レー
ザは、従来の埋込み型レーザ製作技術を用いて容易に製
作することができる。第1の液相結晶成長法により、n
−GaAs基板1上に順次n  A l O,4G a
 (1,6A s層2、n −A 1! (3,3G 
a O,? A s層3、活性層となるA J o、。
FIG. 1 shows an example of a semiconductor laser used as a light source in an embodiment of the optical pickup device of the present invention. This semiconductor laser has a structure that has two active layers with the same thickness but different widths, and a semiconductor laser with this structure can be easily manufactured using conventional buried laser manufacturing technology. can. By the first liquid phase crystal growth method, n
- Sequentially n A l O, 4G a on GaAs substrate 1
(1,6A s layer 2, n -A 1! (3,3G
a O,? A s layer 3, A J o, which becomes an active layer.

G a O,9A s層4 a 、 4 b 、 p−
A I20.6 G a (14A 5層5、p  A
 l (14G a □、6A 3層6、p−GaAs
層7を形成する。しかる後に、化学エツチングにより基
板lに達するまでメサエッチングを行い活性層を有する
帯状メサ領域を複数個形成する。このときのメサ幅によ
り活性層の幅を変えることができる。次にエツチングに
より層5と活性層4a。
GaO,9A s layer 4a, 4b, p-
A I20.6 Ga (14A 5 layers 5, p A
l (14G a □, 6A 3 layer 6, p-GaAs
Form layer 7. Thereafter, mesa etching is performed by chemical etching until it reaches the substrate 1, thereby forming a plurality of band-shaped mesa regions having active layers. The width of the active layer can be changed depending on the mesa width at this time. Next, layer 5 and active layer 4a are formed by etching.

4bをエツチングしてくびれ8を設ける0次に、第2の
結晶成長工程により、第1図に示す様に、メサ領域側面
を埋込む様に、I)  AgCL4Ga0.SAa層9
 、1) −A I (1,3G a o、7A s層
10. n−Aj!α4G a O,6A s層11を
順次形成する。先に形成したくびれ8により層10を活
性層の下で止めることができる。しかる後に、Zn拡散
により拡散領域12.p−オーミック電極13.n−オ
ーミック電極14を形成し、p−オーミック電極13を
化学エツチングにより各レーザ間で分離する。これで各
レーザを独立駆動することが可能になる。
4b to form a constriction 8. Next, in a second crystal growth process, as shown in FIG. 1, I) AgCL4Ga0. SAa layer 9
, 1) -A I (1,3G ao, 7A s layer 10. n-Aj!α4G a O, 6A s layer 11 is formed in sequence. The layer 10 is placed under the active layer by the previously formed constriction 8. Thereafter, the diffusion region 12, p-ohmic electrode 13, and n-ohmic electrode 14 are formed by Zn diffusion, and the p-ohmic electrode 13 is separated between each laser by chemical etching. can be driven independently.

以上のようにして本発明に用いる半導体レーザを形成す
ることができる。活性層4a、4bの幅は1μm以上で
あれば容易に形成することができる。例えば記録媒体上
でのスポットの長さの比を1=3にするのであれば、レ
ーザの発光点の形状は活性層の幅寸法にほぼ比例するの
で、一方の活性層4aの幅は1μm、他方の活性層4b
の幅を3〜4μm程度にすればよい。
The semiconductor laser used in the present invention can be formed in the manner described above. The active layers 4a and 4b can be easily formed if the width is 1 μm or more. For example, if the ratio of the lengths of the spots on the recording medium is 1=3, the shape of the laser light emitting point is approximately proportional to the width of the active layer, so the width of one active layer 4a is 1 μm, The other active layer 4b
The width may be set to about 3 to 4 μm.

以上の実施例は埋込み型の半導体レーザについて述べた
が、他の内部ストライプ型や狭ストライブ型などのレー
ザ構造でも本発明を実施することかできる。ただし埋込
み型のレーザ以外では活性層は基板全体に存在しており
、電流注入領域を制限することで発光領域を決める必要
がある。したがってこの場合は電流注入領域の幅を活性
層の幅と考えることができる。
Although the above embodiments have been described with respect to a buried type semiconductor laser, the present invention can also be practiced with other laser structures such as an internal stripe type or a narrow stripe type. However, in lasers other than buried-type lasers, the active layer exists over the entire substrate, and it is necessary to determine the light emitting region by limiting the current injection region. Therefore, in this case, the width of the current injection region can be considered as the width of the active layer.

第1図に示したような半導体レーザを光源として有する
光学系を第2図に示す。図において、21はレーザ光源
、22はコリメートレンズ、23は偏光ビームスプリフ
タ、24ばA波長板、25は集光レンズ、26は検出光
学系、27は記録媒体である。
FIG. 2 shows an optical system having a semiconductor laser as shown in FIG. 1 as a light source. In the figure, 21 is a laser light source, 22 is a collimating lens, 23 is a polarizing beam splitter, 24 is an A wavelength plate, 25 is a condenser lens, 26 is a detection optical system, and 27 is a recording medium.

レーザ光源21からの出射光はコリメートレンズ22.
偏光ビームスプリッタ23.気液長板24を介して、集
光レンズ25で記録媒体27上に集光される。光源に第
1図のレーザを用いているので、記録媒体27上には光
源の発光点の像が形成される結果、第6図に示したよう
に円形スポット61と長円形スポット62とがトラック
63上に形成される。
The emitted light from the laser light source 21 is passed through a collimating lens 22.
Polarizing beam splitter 23. The light is focused onto the recording medium 27 by the condensing lens 25 via the gas-liquid long plate 24 . Since the laser shown in FIG. 1 is used as a light source, an image of the light emitting point of the light source is formed on the recording medium 27, and as a result, a circular spot 61 and an oval spot 62 are tracked as shown in FIG. 63.

記録媒体27からの反射光はA波長板24で偏光回転を
受けるので、偏光ビームスプリンタ23で反射され検出
光学系26に導かれる。検出光学系26において、フォ
ーカスエラー、トラックエラーの検出や再生信号の検出
が行われる。エラー検出は従来の光ピツクアップ装置で
用いられているナイフェツジ法やファーフィールド法を
用いることができる。ただし反射光は複数のビームより
形成されているので一度レンズで結像してピンホールや
スリットで必要ビームのみを分離するなどの工夫が必要
となる。
Since the reflected light from the recording medium 27 undergoes polarization rotation at the A wavelength plate 24, it is reflected by the polarization beam splinter 23 and guided to the detection optical system 26. In the detection optical system 26, focus error, tracking error detection, and reproduction signal detection are performed. For error detection, the Knifezi method or far field method used in conventional optical pickup devices can be used. However, since the reflected light is formed from multiple beams, it is necessary to take measures such as forming an image with a lens and then separating only the necessary beams with a pinhole or slit.

以上のように2つの発光点を有する半導体レーザを用い
れば、従来のDRAW用とほぼ同一の光学系により容易
に円形と長円形のスポットを記録媒体上に形成するよう
な光ピツクアンプ装置を実現することができる。
As described above, by using a semiconductor laser having two light emitting points, it is possible to realize an optical pick amplifier device that can easily form circular and oval spots on a recording medium using almost the same optical system as for conventional DRAW. be able to.

このような光ピンクアンプ装置は円形および長円形のス
ポットを独立に駆動することできる。円形スポット61
は情報の記録、再生に、長円形スポット62は消去に用
いる。これらスポットの使用法としては、消去直後の記
録や再生した直後の消去などが考えられる。
Such optical pink amplifier device can drive circular and oval spots independently. circular spot 61
is used for recording and reproducing information, and the oval spot 62 is used for erasing information. Possible uses of these spots include recording immediately after erasing and erasing immediately after reproduction.

第3図は光学系の他の例を示す図である。光源の発光点
の寸法が厚さ方向と幅方向で大きく異なる場合には整形
プリズム30等を用いて集光されるスポットが円形にな
るように補正することがあるが、この場合も2つの発光
点の大きさの関係は保存されるため、円形と長円形のス
ポットを記録媒体上で形成することができる。なお、図
において第2図と同一の要素には同一の番号を付して示
している。
FIG. 3 is a diagram showing another example of the optical system. If the dimensions of the light emitting point of the light source are significantly different in the thickness direction and the width direction, correction may be made using a shaping prism 30 or the like so that the focused spot becomes circular, but in this case as well, two light emitting points are used. Since the relationship between the size of the dots is preserved, circular and oval spots can be formed on the recording medium. In the figure, the same elements as in FIG. 2 are denoted by the same numbers.

第2図および第3図において示した光学系は、情報を含
む光として記録媒体からの反射光を用いているが、記録
媒体の透過光を用いる構造であってもよいことは明らか
である。
Although the optical system shown in FIGS. 2 and 3 uses reflected light from a recording medium as information-containing light, it is clear that a structure that uses transmitted light from a recording medium may also be used.

第4図は、光源として用いられる半導体レーザの他の例
を示す。この半導体レーザは、3つの発光点を有するも
のであり、幅が1μm程度の活性層41と、幅が3〜4
μm程度の活性層42と、幅が1μm程度の活性層43
とを備えている。なお、この半導体レーザの製作は、第
1図の半導体レーザと同様に製作することができ、同一
の要素には第1図と同じ番号を付して示す。
FIG. 4 shows another example of a semiconductor laser used as a light source. This semiconductor laser has three light emitting points, including an active layer 41 with a width of about 1 μm and an active layer 41 with a width of 3 to 4 μm.
An active layer 42 with a width of about 1 μm and an active layer 43 with a width of about 1 μm.
It is equipped with Note that this semiconductor laser can be manufactured in the same manner as the semiconductor laser shown in FIG. 1, and the same elements are given the same numbers as in FIG. 1.

このような半導体レーザを用いれば、各活性層41.4
2.43からの出射光は第5図(a)に示すように円形
ビームスポット51.長円形ビームスポット521円形
ビームスポット53のように記録媒体上に集光すること
ができる。記録媒体に対してスボッ、トが矢印の方向に
移動している場合には、スポット51で記録媒体の状態
をチェ7りし、スポット52で消去し、スポット53で
新しい情報を記録することができる。半導体レーザの構
造を変えれば第5図(b)に示すようなスポットを形成
することも可能であり、長円形スポット54で消去した
後、円形スポット55で記録し、円形スポット56で記
録状態をチェックするという機能を実現することもでき
る。
If such a semiconductor laser is used, each active layer 41.4
The emitted light from 2.43 is a circular beam spot 51.2 as shown in FIG. 5(a). An oval beam spot 521 and a circular beam spot 53 can be focused on the recording medium. When the slot is moving in the direction of the arrow with respect to the recording medium, the state of the recording medium can be checked at spot 51, erased at spot 52, and new information can be recorded at spot 53. can. If the structure of the semiconductor laser is changed, it is possible to form a spot as shown in FIG. It is also possible to implement a function of checking.

以上本発明の詳細な説明したが、本発明はこれら実施例
に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変
形、変更が可能なことは勿論である。
Although the present invention has been described in detail above, the present invention is not limited to these embodiments, and it goes without saying that various modifications and changes can be made within the scope of the present invention.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明のマルチビーム光ピックア
ップ装置によれば、複雑で不安定な光学系を用いること
なく、異なる形状のビームスポットを記録媒体上に形成
することができる。
As described above, according to the multi-beam optical pickup device of the present invention, beam spots of different shapes can be formed on a recording medium without using a complicated and unstable optical system.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例に用いる半導体レーザの構成
を示す図、 第2図は本発明の一実施例における光学系の一例を示す
図、 第3図は光学系の他の例を示す図、 第4図は半導体レーザの他の例を示す図、第5図および
第6図はビームスポット形状を示す図、 第7図は従来技術による光ピツクアップ装置を示す図で
ある。 1・・・・・・n−GaAs基板 2、11 ・・・n  Aj!(1,4GaO,6A 
s層3畠1畢中1・n−Alo、3Gao、7AswI
4 a、  4 b ・・Aj!(1,IGa□、43
AS活性層5 ” ” ” pAAO,6GaO,4A
 3層6、9 ・・・・p−Al(14GaO,6As
層7・・・・・・p−GaAs層 8・・・・・・くびれ 10 ” ” ’ p  Alo、3Ga(4,7AS
層12・・・・・Zn拡散領域 13・・・・・p−オーミック電極 14・・・・・n−オーミック電極 21・・・・・光源 22・・・・・コリメートレンズ 23・・・・・偏光ビームスプリッタ 24・・・・・A波長板 25・・・・・集光レンズ 26・・・・・検出光学系 27・・・・・記録媒体 51.53,55.56 ・・・円形スポット 52.54・・長円形スポット 30・・・・・整形プリズム
Fig. 1 is a diagram showing the configuration of a semiconductor laser used in an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a diagram showing an example of an optical system in an embodiment of the invention, and Fig. 3 is a diagram showing another example of the optical system. 4 is a diagram showing another example of a semiconductor laser, FIGS. 5 and 6 are diagrams showing beam spot shapes, and FIG. 7 is a diagram showing an optical pickup device according to the prior art. 1...n-GaAs substrate 2, 11...n Aj! (1,4GaO,6A
s-layer 3 Hata 1 Takinaka 1・n-Alo, 3 Gao, 7 AswI
4 a, 4 b...Aj! (1, IGa□, 43
AS active layer 5 ” ” pAAO, 6GaO, 4A
3 layers 6, 9... p-Al (14GaO, 6As
Layer 7... p-GaAs layer 8... constriction 10 '''' p Alo, 3Ga (4,7AS
Layer 12... Zn diffusion region 13... P-ohmic electrode 14... N-ohmic electrode 21... Light source 22... Collimating lens 23...・Polarizing beam splitter 24...A wavelength plate 25...Condensing lens 26...Detection optical system 27...Recording medium 51.53, 55.56...Circular Spot 52, 54... Oval spot 30... Shaping prism

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)複数の発光点を有する光源と、光検出器と、前記
光源からの出射光を記録媒体に微小スポットとして照射
し、記録媒体からの情報を含む光を前記光検出器に導く
光学系とを備えるマルチビーム光ピックアップ装置であ
って、前記光源が、同一基板上で複数の発光点を有し、
少なくとも1つの発光点の発光に寄与する活性層の幅が
他の発光点の発光に寄与する活性層の幅より大であり、
かつそれぞれの発光点が独立に駆動できるように形成さ
れた半導体レーザであることを特徴とするマルチビーム
光ピックアップ装置。
(1) A light source having a plurality of light emitting points, a photodetector, and an optical system that irradiates a recording medium with light emitted from the light source as a minute spot and guides light containing information from the recording medium to the photodetector. A multi-beam optical pickup device comprising: the light source having a plurality of light emitting points on the same substrate;
The width of the active layer that contributes to light emission from at least one light-emitting point is larger than the width of the active layer that contributes to light emission from other light-emitting points,
A multi-beam optical pickup device, further comprising a semiconductor laser formed so that each light emitting point can be driven independently.
JP60024395A 1985-02-13 1985-02-13 Multibeam optical pickup device Pending JPS61184737A (en)

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