JPS61179742U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS61179742U JPS61179742U JP1985063275U JP6327585U JPS61179742U JP S61179742 U JPS61179742 U JP S61179742U JP 1985063275 U JP1985063275 U JP 1985063275U JP 6327585 U JP6327585 U JP 6327585U JP S61179742 U JPS61179742 U JP S61179742U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaning liquid
- liquid
- tank
- cleaning tank
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 7
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
第１図は本考案に係る洗浄装置の斜視図、第２
図は同装置の平面図、第３図は第１図―線断
面図、第４図は従来装置の断面図、第５図は溶出
付着物の付着を説明するための図である。 ２……ポンプ、３……洗浄液、４……洗浄槽、
５……ドレン、６……超音波印加装置、７……被
洗浄物、８……オーバーフロー槽、１０……容器
、２０……噴射装置、２１……洗浄液。
図は同装置の平面図、第３図は第１図―線断
面図、第４図は従来装置の断面図、第５図は溶出
付着物の付着を説明するための図である。 ２……ポンプ、３……洗浄液、４……洗浄槽、
５……ドレン、６……超音波印加装置、７……被
洗浄物、８……オーバーフロー槽、１０……容器
、２０……噴射装置、２１……洗浄液。
Claims (1)
- 洗浄液を収容し底部に該洗浄液を排出するドレ
ンを有する洗浄槽を備え、前記洗浄液中に被洗浄
物が浸漬される洗浄装置において、前記洗浄液と
同一の洗浄液を前記洗浄槽の少なくとも内壁面に
噴射する噴射装置を、前記洗浄槽の上方に設けた
ことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985063275U JPS61179742U (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985063275U JPS61179742U (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61179742U true JPS61179742U (ja) | 1986-11-10 |
Family
ID=30593261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985063275U Pending JPS61179742U (ja) | 1985-04-30 | 1985-04-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61179742U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09206715A (ja) * | 1996-01-31 | 1997-08-12 | Puretetsuku:Kk | 高周波洗浄方法 |
| JP2019036709A (ja) * | 2017-08-18 | 2019-03-07 | エスケイ・シルトロン・カンパニー・リミテッド | ウェーハ洗浄装置及びそれを用いたウェーハ洗浄装置のクリーニング方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5271871A (en) * | 1975-12-11 | 1977-06-15 | Nec Corp | Washing apparatus |
-
1985
- 1985-04-30 JP JP1985063275U patent/JPS61179742U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5271871A (en) * | 1975-12-11 | 1977-06-15 | Nec Corp | Washing apparatus |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09206715A (ja) * | 1996-01-31 | 1997-08-12 | Puretetsuku:Kk | 高周波洗浄方法 |
| JP2019036709A (ja) * | 2017-08-18 | 2019-03-07 | エスケイ・シルトロン・カンパニー・リミテッド | ウェーハ洗浄装置及びそれを用いたウェーハ洗浄装置のクリーニング方法 |