JPS61176631A - Production of heat-resistant resin - Google Patents

Production of heat-resistant resin

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JPS61176631A
JPS61176631A JP1660285A JP1660285A JPS61176631A JP S61176631 A JPS61176631 A JP S61176631A JP 1660285 A JP1660285 A JP 1660285A JP 1660285 A JP1660285 A JP 1660285A JP S61176631 A JPS61176631 A JP S61176631A
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JP
Japan
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tetracarboxylic dianhydride
bis
dianhydride
heat
resistant resin
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Akira Toko
都甲 明
Toshiro Takeda
敏郎 竹田
Naoji Takeda
直滋 竹田
Saburo Iida
飯田 三郎
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a polyimide resin, having balanced heat-resistance, flexibility, colorlessness and adhesivity, and high light transmittance and toughness, by using a specific tetracarboxylic acid dianhydride and a specific diamine as essential components. CONSTITUTION:The objective polyimide resin is derived from a tetracarboxylic acid dianhydride component composed of (>=20mol%) 3,3',4,4'- benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride and a diamine component composed of (0.5-50mol%) 2,8-diaminodiphenylene oxide, (>=20mol%) 3,3'- diaminodiphenylsulfone and (0.1-30mol%) 1,3-bis(3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane. The reaction of both components is carried out preferably at an equimolar ratio.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光透過率の優れた、重合体主鎖中にヘテロの
イミド環及び7ラン環を有する強靭な耐熱性樹脂の製造
方法に関するものである。その目的とするところは、閉
環処理によジイミド化した硬化樹脂が、ポリイミド樹脂
としての耐熱性、耐摩耗性、耐薬品性、電気絶縁性、皮
膜形成性、可撓性、機械特性などが優れ、電子デバイス
用材料、電気絶縁材料、被覆剤、接着剤、塗料、成形品
、積層品、繊維あるいはフィルム材料などとして有用な
耐熱性樹脂を提供するにあるが、中でも、特に電子デバ
イス用の液晶表示素子の配向膜として有用な耐熱性樹脂
を提供するにある。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for producing a strong heat-resistant resin having excellent light transmittance and having a hetero imide ring and a heptad ring in the polymer main chain. It is something. The purpose of this is that the cured resin diimidized by the ring-closing process has excellent heat resistance, abrasion resistance, chemical resistance, electrical insulation, film-forming properties, flexibility, mechanical properties, etc. as a polyimide resin. We provide heat-resistant resins that are useful as materials for electronic devices, electrical insulation materials, coatings, adhesives, paints, molded products, laminates, fibers, and film materials, among others, especially liquid crystals for electronic devices. An object of the present invention is to provide a heat-resistant resin useful as an alignment film for display elements.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、重合体主鎖中にヘテロ環、例えばイミド、イミダ
ゾール、チアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール
、トリアゾール、キノキサリン、チアジアゾール、オキ
サジノン、キナゾリン、イミダゾピロロン、イソインド
ロキナゾロンなどを有するものが耐熱性が優れるという
ことはよく知られたことである。しかしながらこれら公
知の重合体は、重合体主鎖が剛直であシ、フィルム、皮
膜あるいは塗膜とした時に柔軟性、屈曲性、伸びあるい
は接着性などが乏しい。その為例えば液晶用配向膜とし
て使用すると、ラビング作業に耐えられず、液晶を十分
に配向できず表示素子としての機能をはたしえない。ま
たこれ等の重合体は硬化に際し加熱すると著しく着色し
、褐色ないしは黒褐色になる0その為例えば液晶用配向
膜として使用すると液晶表示素子が茶色を帯び、視野が
暗くなシ、コントラストが低下し表示素子としての機能
をはたさなくなる。従来もこの様な観点よシ、耐熱性と
可撓性と淡色性と接着性を両立させるべく種々検討が行
なわれてきたが一方が良くなると他方が悪くなるのが通
例であった。
Conventionally, polymers having heterocycles such as imide, imidazole, thiazole, oxazole, oxadiazole, triazole, quinoxaline, thiadiazole, oxazinone, quinazoline, imidazopyrrolone, isoindoroquinazolone, etc. in the main chain of the polymer have good heat resistance. It is well known that it is superior. However, these known polymers have rigid polymer main chains, and when formed into films, films, or coatings, they have poor flexibility, flexibility, elongation, or adhesiveness. Therefore, when used as an alignment film for liquid crystal, for example, it cannot withstand rubbing work and cannot fully align the liquid crystal, making it unable to function as a display element. In addition, when these polymers are heated during curing, they become significantly colored, becoming brown or blackish-brown. Therefore, when used as an alignment film for liquid crystal, for example, the liquid crystal display element becomes brownish, the field of view becomes dark, and the contrast deteriorates, resulting in poor display. It no longer functions as an element. From this point of view, various studies have been made in the past in order to achieve a balance between heat resistance, flexibility, light color property, and adhesiveness, but it has generally been the case that when one is good, the other is bad.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、これまでのかかる欠点を克服すべく検討した
結果、ジアミン成分として、2,8−ジアミノジフェニ
レンオキサイドと、3.3’−ジアミノジフェニルスル
ホンと、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメ
チルジシロキサンを又、テトラカルボン酸ジ無水物成分
として3.3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸ジ無水物をそれぞれ必須成分として使用する事に
より、耐熱性と可撓性と淡色性と接着性のバランスが良
くとれた耐熱性樹脂が得られることを見い出し本発明を
完成するに到ったものである。
As a result of studies aimed at overcoming these drawbacks, the present invention uses 2,8-diaminodiphenylene oxide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, and 1,3-bis(3-aminodiamine) as diamine components. Propyl) tetramethyldisiloxane and 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are used as essential components to improve heat resistance and flexibility. The present invention was completed based on the discovery that a heat-resistant resin with a good balance of light color and adhesiveness can be obtained.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明は、ジアミンとテトラカルボン酸ジ無水物とを反
応させイミド環を形成させるに際し、ジアミン成分とし
て2,8−ジアミノジフェニレンオキサイドと、3.3
’−ジアミノジフェニルスルホンと、1,3−ビス(3
−アミノプロピル)テトラメ、チルジシロキサンとを又
、テトラカルボ・ン酸ジ無水物として3,3′、4,4
′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物を必須成
分として使用することを特徴とする、耐熱性樹脂の製造
方法である。
In the present invention, when forming an imide ring by reacting a diamine and a tetracarboxylic dianhydride, 2,8-diaminodiphenylene oxide and 3.3
'-diaminodiphenylsulfone and 1,3-bis(3
-aminopropyl)tetrame, tildisiloxane and 3,3',4,4 as tetracarboxylic acid dianhydride.
This is a method for producing a heat-resistant resin, characterized in that '-benzophenone tetracarboxylic dianhydride is used as an essential component.

本発明で使用するジアミンの内、必須成分は2゜8−ジ
アミノジフェニレンオキサイドト、3.3’−ジアミノ
ジフェニルスルホント、1,3−ビス(3−アミノプロ
ピル)テトラメチルジシロキサンである。2,8−ジア
ミノジフェニレンオキサイドの1つの作シ方を反応式で
示すと次の様になる。
Among the diamines used in the present invention, essential components are 2°8-diaminodiphenylene oxide, 3,3'-diaminodiphenylsulfont, and 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane. The reaction formula for one method of producing 2,8-diaminodiphenylene oxide is as follows.

ジフェニレンオキサイド 2.8−ジブロム ジフェニレンオキサイド 2.8−ジアミノ ジフェニレンオキサイド 参考文献:福井大学工学部研究報告16(2) 238
 (’68 ”)上記以外のジアミンも勿論使用するこ
とができる。例えば、m−フ二二レンジアミン、p−7
二二レンジアミン、4.4’−ジアミノジフェニルプロ
パン、4.4’−ジアミノジフェニルメタン、ベンジシ
:y、4e4’−ジアミノジフェニルスルフィト、4゜
4′−ジアミノジフェニルスルホン、4.4’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、2,6−ジアミツビリジン、ビ
ス(4−7ミノフエニル)ホスフィンオキシト、ビス(
4−アミノフェニル)−N−メチルアミン、1,5−ジ
アミノナフタリン、3,3′−ジメチル−4゜4′−ジ
アミノビフェニル、3.3’−ジメトキシベンジジン、
2,4−ビス(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、ビ
ス(p−β−アミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、
p−ビス(2メチル−4−7ミノペンチル)ベンゼン、
p−ビス(1,1−ジメチル−5−アミノペンチル)ベ
ンゼン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジア
ミン、ビス(p−アミノシクロヘキシル)メタン、エチ
レンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジア
ミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、
3−メチルへブタメチレンジアミン、4,4−ジメチル
へブタ−メチレンジアミン、2゜11−ジアミノデカン
、1.2−ビス(3−アミノプロポキシ)エタン、2.
2−ジメチルプロピレンジアミン、3−メトキシへキサ
メチレンジアミン、2.5−ジメチルへキサメチレンジ
アミン、2.5−ジメチルノナメチレンジアミン、1−
4−ジアミノシクロヘキサン、2.12−ジアミノオク
タデカン、2.5−ジアミノ−1,3,4−オキサジア
ゾールなどである。
Diphenylene oxide 2,8-dibromodiphenylene oxide 2,8-diaminodiphenylene oxide Reference: University of Fukui Faculty of Engineering Research Report 16 (2) 238
('68'') Of course, diamines other than those mentioned above can also be used. For example, m-phenyl diamine, p-7
22 diamine, 4.4'-diaminodiphenylpropane, 4.4'-diaminodiphenylmethane, benzici:y, 4e4'-diaminodiphenylsulfite, 4゜4'-diaminodiphenyl sulfone, 4.4'-diaminodiphenyl ether , 2,6-diamitubiridine, bis(4-7minophenyl)phosphine oxyto, bis(
4-aminophenyl)-N-methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3'-dimethyl-4゜4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxybenzidine,
2,4-bis(β-amino-t-butyl)toluene, bis(p-β-amino-t-butylphenyl)ether,
p-bis(2methyl-4-7minopentyl)benzene,
p-bis(1,1-dimethyl-5-aminopentyl)benzene, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, bis(p-aminocyclohexyl)methane, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine , octamethylene diamine, nonamethylene diamine, decamethylene diamine,
3-methylhbutamethylenediamine, 4,4-dimethylhbutamethylenediamine, 2゜11-diaminodecane, 1.2-bis(3-aminopropoxy)ethane, 2.
2-dimethylpropylenediamine, 3-methoxyhexamethylenediamine, 2.5-dimethylhexamethylenediamine, 2.5-dimethylnonamethylenediamine, 1-
These include 4-diaminocyclohexane, 2,12-diaminooctadecane, and 2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole.

又、本発明で使用するテトラカルボン酸ジ□無水物の内
、必須成分は3.3’、 4.4’−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸ジ無水物である。しかしこれ以外のテト
ラカルボン酸ジ無水物も勿論使用することができる。例
えばピロメリット酸ジ無水物、2,3゜6.7−ナフタ
レンテトラカルボン酸ジ無水物、3゜3’、 4 、4
’−ジフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、It 2.
5.6−ナフタレンテトラカルボン酸ジ無水物、2、2
’、 3.3’−ジフェニルテトラカルボン酸ジ無水物
、2.2−ビス(3,4−ジカルボキシジフェニル)プ
ロパンジ無水物、3,4,9.10−ペリレンテトラカ
ルボン酸シ無水物、ビス(3,4−ジカルボキシジフェ
ニル)エーテルジ無水物、エチレンテトラカルボン酸ジ
無水物、ナフタレン−1、2,4,5−テトラカルボン
酸ジ無水物、ナフタレン−1,4+5−8−テトラカル
ボン酸ジ無水物、4,8−ジメチル−1,2゜3.5,
6.7−へキサヒドロナフタレン−1,2−5t6−テ
トラカルボン酸ジ無水物、2.6−シクロロナフタレン
ー1.4,5t8−テトラカルボン酸ジ無水物、2.7
−シクロロナフタレンー1.4,5.8−テトラカルボ
ン酸ジ無水物、2,3,4.7−チトラクロロナフタレ
ンー1.4,5.8−テトラカルボン酸ジ無水物、7エ
ナンスレンー1.2,9.10−テトラカルボン酸ジ無
水物、シクロペンタン−1,2,3,4−テトラカルボ
ン酸ジ無水物、ピロリジン−2,3,4,5−テトラカ
ルボン酸ジ無水物、ピラジン2,3,5.6−テトラカ
ルボン酸ジ無水物、2,2−ビス(2,5−ジカルボキ
シフェニル)プロパンジ無水物、1,1−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)エタンジ無水物、1.1−ビ
ス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタンジ無水物、
ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタンジ無水物
、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホンシ無
水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボン酸ジ
無水物、1,2.3.4−ブタンテトラカルボン酸ジ無
水物、チオフェン−213,4,5−テトラカルボン酸
ジ無水物などである。必須成分である2、8−ジアミノ
ジフェニレンオキサイドの使用量は0.5〜50モル%
含有ましい。0.5モルチ以下では耐熱強度の改良効果
が小さく50モモル以上では、分子構造の立体障害の為
か、分子量が大きくならない。又、3.3’−ジアミノ
ジフェニルスルホント3.3’、 4.4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸ジ無水物の使用量はいずれも2
0モモル以上が好ましく、これ未満では無着色化の改良
効果が小さい。又、1.3−ビス(3−アミノプロピル
)テトラメチルジシロキサンの使用量は、0.1〜30
モル%含有ましい。0.1モルチ以下では無着色化及び
接着性改良の効果が小さく、30モモル以上では硬化物
が脆いものとなる。
Furthermore, among the tetracarboxylic dianhydrides used in the present invention, an essential component is 3.3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride. However, other tetracarboxylic dianhydrides can of course also be used. For example, pyromellitic dianhydride, 2,3゜6.7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3゜3', 4,4
'-Diphenyltetracarboxylic dianhydride, It 2.
5.6-Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2
', 3.3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2.2-bis(3,4-dicarboxydiphenyl)propane dianhydride, 3,4,9.10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-Dicarboxydiphenyl)ether dianhydride, ethylenetetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,4+5-8-tetracarboxylic dianhydride Anhydride, 4,8-dimethyl-1,2°3.5,
6.7-Hexahydronaphthalene-1,2-5t6-tetracarboxylic dianhydride, 2.6-cyclonaphthalene-1.4,5t8-tetracarboxylic dianhydride, 2.7
-cyclonaphthalene-1.4,5.8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,4.7-titrachloronaphthalene-1.4,5.8-tetracarboxylic dianhydride, 7-enanthrene-1 .2,9.10-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, pyrazine 2,3,5.6-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(2,5-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 1,1-bis(2,3
-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride,
Bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonic anhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1,2.3 .4-butanetetracarboxylic dianhydride, thiophene-213,4,5-tetracarboxylic dianhydride, and the like. The amount of 2,8-diaminodiphenylene oxide, which is an essential component, is 0.5 to 50 mol%.
It seems to contain. If it is less than 0.5 mole, the effect of improving heat resistance strength is small, and if it is more than 50 mole, the molecular weight will not increase, probably due to steric hindrance of the molecular structure. In addition, the amount of 3.3'-diaminodiphenylsulfont 3.3', 4.4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride used was 2.
The amount is preferably 0 mole or more, and if it is less than this, the effect of improving coloration is small. Further, the amount of 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane used is 0.1 to 30
The content is preferably mol%. If the amount is less than 0.1 mole, the effects of color-free and adhesive improvement will be small, and if it is more than 30 mole, the cured product will be brittle.

本発明におけるジアミン類とテトラカルボン酸ジ無水物
類との反応は、出来る限シ等モルで行う方が好ましく、
重合度も大きくなる。いずれか一方の原料が5q/b以
上多くなると重合度が著しく低下し、皮膜形成性の悪い
低分子量物が出来る様になるので注意を要する。通常、
一方の原料を1〜3%多く用いることが、作業性・加工
性を良くする上で、よく行なわれる。
In the present invention, the reaction between diamines and tetracarboxylic dianhydrides is preferably carried out in equimolar amounts as much as possible;
The degree of polymerization also increases. If the amount of either raw material increases by 5 q/b or more, the degree of polymerization will drop significantly and a low molecular weight product with poor film-forming properties will be produced, so care must be taken. usually,
It is common practice to use 1 to 3% more of one raw material in order to improve workability and processability.

本発明における反応系の溶媒はその官能基がテトラカル
ボン酸ジ無水物又はジアミン類と反応しないダイポール
モーメントを有する有機極性溶媒である。
The solvent of the reaction system in the present invention is an organic polar solvent whose functional group has a dipole moment that does not react with the tetracarboxylic dianhydride or diamines.

系に対し不活性であシ、かつ生成物に対して溶媒である
こと以外に、この有機極性溶媒は反応成分の少なくとも
一方、好ましくは両者に対して溶媒でなければならない
In addition to being inert to the system and being a solvent for the product, the organic polar solvent must be a solvent for at least one, and preferably both, of the reaction components.

この種の溶媒として代表的なものは、N、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N
−ジエチルホルムアミド、N、N−ジエチルアセトアミ
ド、N、N−ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルフォスホアミド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホン、テ
トラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホ
ン等があシこれらの溶媒は単独又は組合せて使用される
Typical solvents of this type include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N,N-dimethylformamide.
-diethylformamide, N,N-diethylacetamide, N,N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoamide, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, dimethylsulfone, tetramethylenesulfone, dimethyltetramethylenesulfone, etc. These solvents may be used alone or in combination.

この他にも溶媒として組合せて用いられるものとしてベ
ンゼン、ベンゾニトリル、ジオキサン、ブチロラクトン
、キシレン、トルエン、シクロヘキサン等の非溶媒が、
原料の分散媒、反応調節剤、あるいは生成物からの溶媒
の揮散調節剤、皮膜平滑剤などとして使用される。
Other non-solvents that can be used in combination as solvents include benzene, benzonitrile, dioxane, butyrolactone, xylene, toluene, and cyclohexane.
It is used as a dispersion medium for raw materials, a reaction control agent, a volatilization control agent for solvents from products, a film smoothing agent, etc.

本発明は一般に無水の条件下で行うことが好ましい。It is generally preferred that the present invention be carried out under anhydrous conditions.

これはテトラカルボン酸ジ無水物が水により開環し不活
性化し反応を停止させる恐れがあるためである。
This is because the tetracarboxylic dianhydride is ring-opened by water, becomes inactivated, and there is a risk of stopping the reaction.

このため仕込原料中の水分も溶媒中の水分も除去する必
要がある。
Therefore, it is necessary to remove both the moisture in the raw materials and the moisture in the solvent.

しかし一方反応の進行を調節し、樹脂重合度をコントロ
ールするためにあえて水を添加することも行なわれる。
However, water is sometimes intentionally added to adjust the progress of the reaction and control the degree of resin polymerization.

また本発明は不活性ガス雰囲気中で行なわれることが好
ましい。
Further, the present invention is preferably carried out in an inert gas atmosphere.

これはジアミン類の酸化を防止するためである。This is to prevent oxidation of diamines.

不活性ガスとしては一般に乾燥窒素ガスが使用される。Dry nitrogen gas is generally used as the inert gas.

本発明における反応の方法は、次の様な種々の方法で行
なわれる。
The reaction in the present invention can be carried out in the following various ways.

(1)ジアミン類とテトラカルボン酸ジ無水物を予め混
合し、その混合物を少量づつ有機溶媒中に攪拌しながら
添加する。この方法は、ポリイミド樹脂の様な発熱反応
においては比較的有利である。
(1) Diamines and tetracarboxylic dianhydride are mixed in advance, and the mixture is added little by little to an organic solvent while stirring. This method is relatively advantageous in exothermic reactions such as those for polyimide resins.

(2)これとは逆に、ジアミン類とテトラカルボン酸ジ
無水物の混合物に1攪拌しながら溶剤を添加する方法も
ある。
(2) Conversely, there is also a method in which a solvent is added to a mixture of diamines and tetracarboxylic dianhydride while stirring once.

(3)一般によく行なわれる方法はジアミン類だけを溶
剤にとかしておき、これに反応速度をコントロールでき
る割合でテトラカルボン酸ジ無水物を加える方法である
(3) A commonly used method is to dissolve only diamines in a solvent and add tetracarboxylic dianhydride to this in a proportion that allows control of the reaction rate.

(4)tたジアミン類とテトラカルボン酸ジ無水物を別
々に溶剤にとかしておき、ゆっくシと反応器中で二つの
溶液を加えることもできる。
(4) It is also possible to dissolve the diamines and tetracarboxylic dianhydride separately in a solvent and then slowly add the two solutions in a reactor.

(5)更には予めジアミン類過剰のポリアミック酸生成
物とテトラカルボン酸ジ無水物過剰のポリアミック酸生
成物を作っておき、これを反応器中で更に反応させるこ
ともできる。
(5) Furthermore, it is also possible to prepare in advance a polyamic acid product containing an excess of diamines and a polyamic acid product containing an excess of tetracarboxylic dianhydride, and then further react them in a reactor.

(6)またジアミン類の内、1部のジアミン化合物とテ
トラカルボン酸ジ無水物をはじめに反応させた後桟シの
ジアミン化合物を反応させる方法あるいはこれの逆の方
法もある。
(6) Among the diamines, there is also a method in which a portion of the diamine compound and tetracarboxylic dianhydride are first reacted, and then the remaining diamine compound is reacted, or the reverse method.

(7)この他、ジアミン類の内の1部のジアミノ化合物
とテトラカルボン酸ジ無水物を反応させたものと、残シ
のジアミン化合物とテトラカルボン酸ジ無水物を反応さ
せたものとを、使用前に混合する方法もある。
(7) In addition, one in which a part of the diamino compound of the diamines is reacted with tetracarboxylic dianhydride, and one in which the remaining diamine compound and tetracarboxylic dianhydride are reacted, Another option is to mix it before use.

反応温度は0〜100℃が好ましい。0℃以下だと反応
の速度がおそく、100℃以上であると生成したポリア
ミック酸が徐々に閉環反応を開始するためである。
The reaction temperature is preferably 0 to 100°C. This is because if the temperature is 0°C or lower, the reaction rate is slow, and if the temperature is 100°C or higher, the produced polyamic acid gradually starts the ring-closing reaction.

通常、反応は20℃前後で行なわれる。ポリアミック酸
の重合度は計画的にコントロールできる。
Usually, the reaction is carried out at around 20°C. The degree of polymerization of polyamic acid can be controlled in a planned manner.

重合度をコントロールするために、フタル酸無水物やア
ニリンで末端封鎖したり、水を添加して酸無水物基の一
方を開環し不活性化することもできる。
In order to control the degree of polymerization, it is also possible to end-block with phthalic anhydride or aniline, or add water to ring-open one of the acid anhydride groups to inactivate it.

本発明の方法によシ製造されたポリアミック酸生成物は
、使用するKあたって各種のシランカップリング剤、ボ
ランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、ア
ルミニウム系カップリング剤その他キレート系の接着性
・密着性向上剤や各種溶剤、フローエージェントを加え
てもよく、又これらに加えて通常の酸硬化剤、アミン硬
化剤1ポリアミド硬化剤及びイミダゾール、3級アミン
等の硬化促進剤の少量を加えてもよく、又ゴムやポリサ
ルファイド、ポリエステル、低分子エポキシ等の可撓性
賦与剤及び粘度調整剤、タルク、クレー、マイカ、長石
粉末、石英粉末、酸化マグネシウム等の充填剤、カーボ
ンブラック、フタロシアニンブルー等の着色剤、テトラ
ブロモフェニルメタン、トリブチルフォスフェート等の
離燃剤、三酸化アンチモン、メタ硼酸バリウム等の難燃
助剤の少量を加えてもよく、これらを添加することによ
シ多くの用途が開かれる。
The polyamic acid product produced by the method of the present invention can be used with various silane coupling agents, borane coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, and other chelate-based adhesives. -Adhesion improvers, various solvents, and flow agents may be added, and in addition to these, a small amount of a normal acid curing agent, amine curing agent, polyamide curing agent, and curing accelerator such as imidazole or tertiary amine may be added. Also, flexibility agents and viscosity modifiers such as rubber, polysulfide, polyester, and low-molecular epoxy, fillers such as talc, clay, mica, feldspar powder, quartz powder, and magnesium oxide, carbon black, and phthalocyanine blue. Small amounts of colorants such as, flame retardants such as tetrabromophenylmethane, tributyl phosphate, flame retardant aids such as antimony trioxide, barium metaborate, etc. may be added, and these additions can be used in many applications. will be held.

本発明の方法によって製造されたポリアミック酸生成物
は、加熱あるいは脱水剤によジイミド化し硬化する。前
者の加熱脱水処理の加熱温度は通常50℃以上特に15
0℃以上200〜400℃の範囲が好ましい。またこの
場合の雰囲気は空気中でもさしつかえない場合もあるが
、減圧ないしは不活性ガスといりた非豪化性状態下の方
が好ましい場合が多い。後者の脱水剤としては、無水酢
酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸などの無水カルボ
ン酸がよく用いられるが、これらは特にピリジン、キノ
リン等の塩基性物質の共存下に使用すると効果が大きい
0又、固形の脱水剤としてはゼオライト系のモレキエラ
ーシープやシリカゲル、活性アルミナなどがあり、これ
等は少々加温して使用する方が効果的である。
The polyamic acid product produced by the method of the present invention is diimidized and cured by heating or by using a dehydrating agent. The heating temperature for the former heating dehydration treatment is usually 50°C or higher, especially 15°C.
The temperature range is preferably 0°C or higher and 200 to 400°C. In this case, the atmosphere may be air, but it is often preferable to use a non-Australian atmosphere such as reduced pressure or an inert gas. As the latter dehydrating agent, carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and benzoic anhydride are often used. Examples of solid dehydrating agents include zeolite-based Molechier Sheep, silica gel, and activated alumina, which are more effective when used after being slightly heated.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の方法に従い、2,8−ジアミノジフェニレンオ
キサイドと、3.3’−ジアミノジフェニルスルホンと
、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジ
シロキサンと、3.3′,4,4′−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸ジ無水物を必須成分として使用した重合
体は、耐熱性と柔軟性と淡色性と接着性をバランスよく
備えた優れた耐熱性樹脂である。
According to the method of the invention, 2,8-diaminodiphenylene oxide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane, 3,3',4, A polymer containing 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride as an essential component is an excellent heat-resistant resin that has a good balance of heat resistance, flexibility, light color, and adhesiveness.

即ち、本発明の方法によシ合成した重合体は、2.8−
ジアミノジフェニレンオキサイドの使用によシ、分子構
造中に、芳香族環・複素環を多数有しておシ、耐熱性が
優れている。また、主鎖がラセン状をなしておシ、この
為に、スプリング的効果でもって柔軟性が優れているも
のと考えられる。
That is, the polymer synthesized by the method of the present invention has a 2.8-
The use of diaminodiphenylene oxide has a large number of aromatic rings and heterocycles in its molecular structure, resulting in excellent heat resistance. In addition, the main chain has a helical shape, which is thought to provide excellent flexibility due to a spring-like effect.

更に3,3′−ジアミノジフェニルスルホンと、39話
4.4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物の
導入によシ主鎖が共役構造をとれなくなる為か、着色の
少ない耐熱性樹脂が得られる。また更に、1.3−ビス
(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンの導
入により、イミド基含有量が希釈されて着色が少なく、
シかも接着性の良い耐熱性樹脂が得られる。
Furthermore, by introducing 3,3'-diaminodiphenylsulfone and 4.4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, a heat-resistant resin with less coloring can be obtained, probably because the main chain cannot form a conjugated structure. . Furthermore, by introducing 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane, the imide group content is diluted, resulting in less coloring.
Moreover, a heat-resistant resin with good adhesiveness can be obtained.

本発明が用いられる用途を具体的にあげると、先ず各種
電子機材の表面を保護するコート用塗膜として、又その
上に多層配線を行う耐熱絶縁膜として用いられる。
Specifically, the present invention is used as a coating film for protecting the surfaces of various electronic equipment, and as a heat-resistant insulating film for forming multilayer wiring thereon.

例えば半導体、トランジスター、リニア −IC、ハイ
プリッ) IC,発光ダイオード、LSI、超LSIな
どの電子回路用配線構造体である。
For example, it is a wiring structure for electronic circuits such as semiconductors, transistors, linear ICs, hybrid ICs, light emitting diodes, LSIs, and very large scale integrated circuits.

次に、本発明になる耐熱性樹脂が淡色である事よシ、液
晶表示装置の配向膜としても使用できる。
Next, since the heat-resistant resin of the present invention is light in color, it can also be used as an alignment film for liquid crystal display devices.

即ち、本発明の重合体溶液を、酸化スズや酸化インジニ
ウムを主成分とする透明導電獲の形成されたガラス基板
あるいはプラスチックフィルム基板に1浸漬法、回転塗
布法、スプレー法、印刷法などで塗布し、加熱硬化後、
ラビング処理する。ラビング方法は、ガーゼ、パフ研磨
その他慣用の手段を用いて行うことができる。本発明の
配向膜と組合せて使用できる液晶は、シップ塩基型液晶
、フェニルシクロヘキサン型液晶、アゾキシ型液晶、ア
ゾ型液晶、ビフェニル型液晶、エステル型液晶、フェニ
ル・ピリミジン型液晶等のネマテイク液晶、上記のネマ
ティク液晶に旋光性物質5、コレステロール化合物、光
学活性な置換基を有するビフェニル誘導体、フェニルベ
ンゾエート等の光学活性化合物を添加したコレステリッ
ク型液晶などがあげられる。その他高温用のコーチイン
グツニスとして、電線被覆、マグネットワイヤ、各種電
気部品の浸漬コーティング、金属部品の保護コーテイン
グなどとして用いられると共に含浸ワニスとしても、ガ
ラスクロス、溶融石英クロス、グラファイト繊維やボロ
ン繊維の含浸に使用し、レーダードーム、プリント基板
、放射性廃業物取納容器、タービン翼、高温性能と優れ
た電気特性を要する宇宙船、その他の構造部品に使われ
、またマイクロ波の防止用放射線の防止用としてコンピ
ータ−などの導波管、原子機器、レントゲン機器の内装
材としても使用される。
That is, the polymer solution of the present invention is applied to a glass substrate or a plastic film substrate on which a transparent conductive film containing tin oxide or indium oxide as a main component is formed by a dipping method, a spin coating method, a spray method, a printing method, etc. After heating and curing,
Rubbing treatment. The rubbing method can be performed using gauze, puff polishing, or other conventional means. Liquid crystals that can be used in combination with the alignment film of the present invention include nemate liquid crystals such as ship base type liquid crystals, phenylcyclohexane type liquid crystals, azoxy type liquid crystals, azo type liquid crystals, biphenyl type liquid crystals, ester type liquid crystals, phenyl-pyrimidine type liquid crystals, and the above-mentioned liquid crystals. Examples include cholesteric liquid crystals in which optically active compounds such as optically active substances 5, cholesterol compounds, biphenyl derivatives having optically active substituents, and phenylbenzoates are added to nematic liquid crystals. It is also used as a coaching varnish for high temperatures, such as electric wire coating, magnet wire, dip coating for various electrical parts, and protective coating for metal parts.It is also used as an impregnating varnish for glass cloth, fused silica cloth, graphite fiber, and boron fiber. Used for impregnation, used in radar domes, printed circuit boards, radioactive waste containers, turbine blades, spacecraft and other structural parts that require high temperature performance and good electrical properties, and for microwave protection and radiation protection. It is also used as an interior material for waveguides in computers, atomic equipment, and X-ray equipment.

また成形材料としてもグラファイト粉末、グラファイト
繊維、二硫化モリブデンやポリ四フッ化エチレンを添加
して自己潤滑性の摺動面の製作に用い、ピストンリング
、弁座、ベアリング、シール用などく用いられまた、ガ
ラス繊維、グラファイト繊維やボロン繊維を添加して、
ジェットエンジン部品、高強度の構造用成形部品などが
作られる。
It is also used as a molding material to create self-lubricating sliding surfaces by adding graphite powder, graphite fiber, molybdenum disulfide, and polytetrafluoroethylene, and is used for piston rings, valve seats, bearings, seals, etc. In addition, by adding glass fiber, graphite fiber and boron fiber,
Jet engine parts and high-strength structural molded parts are made here.

更に高温用接着剤としても、電気回路部品の接着や宇宙
船の構造部品の接着用に用いられる。
It is also used as a high-temperature adhesive for bonding electrical circuit parts and structural parts of spacecraft.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例によυ本発明を説明する。 The present invention will be explained below with reference to Examples.

実施例1 温度計、攪拌機、原料仕込口及び乾燥窒素ガス吹込口を
備えた四ツ口のセパラブルフラスコに、精製した無水の
2,8−ジアミノジフェニレンオキサイド19.823
 F (10モルチ)と、3,3′−ジアミノジフェニ
ルスルホン173.810 f (70モモル)と、1
,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロ
キサン49.704PC20モル%)をとシ、これに無
水のN−メチル−2−ピロリドン95重量%、トルエン
5重量%の混合溶剤を、全仕込原料中の固形分割合が1
5重量%になるだけの量を加えて、溶屏した。乾燥窒素
ガスは、反応の準備段階より、生成物取出しまでの全工
程にわたシ流しておいた。
Example 1 Purified anhydrous 2,8-diaminodiphenylene oxide 19.823 was placed in a four-neck separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material inlet, and a dry nitrogen gas inlet.
F (10 moles), 3,3'-diaminodiphenylsulfone 173.810 f (70 moles), 1
, 49.704 PC (20 mol%) of 3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane), and a mixed solvent of 95% by weight of anhydrous N-methyl-2-pyrrolidone and 5% by weight of toluene was added to this. The solid content ratio in the raw material is 1
An amount sufficient to make 5% by weight was added and melted. Dry nitrogen gas was kept flowing throughout the entire process from the preparatory stage of the reaction to the removal of the product.

次いで精製した無水の3.3’、 4.4’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸ジ無水物3:11230 f 
(100モルモルを、攪拌しながら少量ずつ添加するが
、発熱反応であるため、外部水槽に約15℃の冷水を循
環させてこれを冷却した。添加径内部温度を20℃に設
定し、12時間攪拌し、反応を終了した。
Then purified anhydrous 3.3', 4.4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 3:11230 f
(100 mol mole was added little by little while stirring, but since it was an exothermic reaction, it was cooled by circulating cold water of about 15 °C in an external water tank.The internal temperature of the addition diameter was set at 20 °C, and it was cooled for 12 hours. The mixture was stirred to complete the reaction.

得られた生成物は、黄色透明の極めて粘稠なポリアミッ
ク酸溶液であシ、N−メチル−2−ピロリドン0.5重
量%溶液の固有粘度は、0.62(30℃)であった。
The obtained product was a transparent yellow and extremely viscous polyamic acid solution, and the intrinsic viscosity of the 0.5% by weight solution of N-methyl-2-pyrrolidone was 0.62 (30°C).

次に、このポリアミック酸をN−ジメチルアセト、アミ
ドで5重量%溶液としたものを、ガラス板上に滴下し、
スピンナーで40 Orpm / minで10秒間続
いて2000 rpm / minで20秒間回転させ
、均一に塗布した。これを減圧下で、80℃、150’
C1250℃、350℃で各30分間ずつ順次に加熱し
脱水閉環させ、厚さ1μの淡黄色透明で強靭なポリイミ
ド樹脂フィルムを得た。このフィルムの赤外線吸収スペ
クトルを見ると、1780cm−1及び730 cm−
”にイミド環に基ずく強い吸収と、1200 cyn−
”にフラン環に基ずく強い吸収がみられた。
Next, a 5% by weight solution of this polyamic acid with N-dimethylacetamide was dropped onto a glass plate.
It was spun with a spinner at 40 Orpm/min for 10 seconds followed by 2000 rpm/min for 20 seconds to ensure uniform application. This was heated at 80°C for 150' under reduced pressure.
The mixture was sequentially heated at 1250° C. and 350° C. for 30 minutes each to cause dehydration and ring closure, thereby obtaining a pale yellow transparent and strong polyimide resin film with a thickness of 1 μm. Looking at the infrared absorption spectrum of this film, it is 1780 cm-1 and 730 cm-1.
"strong absorption based on the imide ring and 1200 cyn-
”, a strong absorption based on the furan ring was observed.

このフィルムは極めて耐熱性が優れておシ、空気中での
熱分解開始温度は、示差熱天秤分析装置での測定で、昇
温速度5℃/minで500℃であった。フィルム強度
も大きく、200℃熱間での引張強度は15 kg /
 waと優れたものであった。又フィルムは淡色性に優
れ、光透過率は400nmで93%であった。更に、ガ
ラス板上でのセロテープ引剥しテスト(JIS −D−
0202)では、はがれ率Oチと、優れた接着性を有し
ていた。
This film has extremely excellent heat resistance, and the thermal decomposition initiation temperature in air was 500°C at a heating rate of 5°C/min, as measured by a differential thermal balance analyzer. The film strength is also high, with a tensile strength of 15 kg / 200℃ hot.
It was excellent. Further, the film had excellent light color property, and the light transmittance was 93% at 400 nm. Furthermore, a sellotape peeling test on a glass plate (JIS-D-
0202) had a peeling rate of 0 and excellent adhesion.

実施例2 実施例1と同様な装置及び方法で、2,8−ジアミノジ
フェニレンオキサイド39.646 f (20モ” 
% ) ト3+3’−ジアミノジフェニルスルホン14
&980f (60モルqb)と4.4′−ジアミノジ
フェニルエーテル20.0249 (10モルチ)と1
,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロ
キサン24.852 t (10モルqb>とを、3.
3’1414’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無
水物161.115P(50モル%)とピロメリット酸
ジ無水物109.060 ? (50モルチ)に反応さ
せた。
Example 2 2,8-diaminodiphenylene oxide (39.646 f) was prepared using the same apparatus and method as in Example 1.
%) 3+3'-diaminodiphenylsulfone 14
&980f (60 mol qb) and 4,4'-diaminodiphenyl ether 20.0249 (10 mol qb) and 1
, 24.852 t (10 mol qb) of 3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane, 3.
3'1414'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 161.115P (50 mol%) and pyromellitic dianhydride 109.060? (50 molti) was reacted.

得られた生成物は、黄色透明の極めて粘稠なポリアミッ
ク酸溶液であり、固有粘度は0.75であった。また得
られたフィルムは淡黄色透明で強靭性に富み、熱分解開
始温度は505℃、熱間引張強度は16kq/■、光透
過率は89%セロテープはがれ率は0%と優れたもので
あった。
The obtained product was a transparent yellow and extremely viscous polyamic acid solution with an intrinsic viscosity of 0.75. The obtained film was pale yellow and transparent, and had excellent toughness, with a thermal decomposition initiation temperature of 505°C, a hot tensile strength of 16 kq/■, a light transmittance of 89%, and a peeling rate of cellophane tape of 0%. Ta.

比較例1 実施例1と同様な装置及び方法で、3,3′−ジアミノ
ジフェニルスルホン24&300F (100%ルチ)
と3.3’、 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸ジ無水物32λ230?(100モルモルとを反応
させた。
Comparative Example 1 Using the same equipment and method as in Example 1, 3,3'-diaminodiphenylsulfone 24&300F (100% ruti)
and 3.3', 4.4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 32λ230? (100 mol.

得られたフィルムはかなシ淡色性に優れたものであった
が、熱分解開始温度は305℃しかなく、熱間引張強度
も4kf/閣であシ、セロテープはがれ率も90チと悪
く列置ラビング作業に耐えるものではなかった。
The obtained film had excellent light color property, but the thermal decomposition initiation temperature was only 305°C, the hot tensile strength was only 4 kf/2, and the cellophane tape peeling rate was 90 cm, which was poor. It was not something that could withstand rubbing work.

比較例2 実施例1と同様な装置及び方法で、3+3’t=、ジア
ミノジフェニルスルホン19&640 f (80モル
チ)と1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチ
ルジシロキサ749.704f (20モA[)と、3
、3’、 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
ジ無水物322.230 r (100モル%)とを反
応させた。
Comparative Example 2 Using the same apparatus and method as in Example 1, 3+3't=, diaminodiphenylsulfone 19 & 640 f (80 mol) and 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxa 749.704 f (20 MoA[) and 3
, 3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 322.230 r (100 mol %) were reacted.

得られたフィルムは淡色性に優れ、接着性も良かったが
、熱分解開始温度は320℃しかなく、熱間引張強度も
5 梅/mLかなかった。
The obtained film had excellent light color and good adhesion, but the thermal decomposition initiation temperature was only 320° C. and the hot tensile strength was less than 5 Ume/mL.

比較例3 実施例1と同様な装置及び方法で、2.8−ジアミノジ
フェニレンオキサイド19.8239 (10モルチ)
と、3.3’−ジアミノジフェニルスルホン223.4
70 ? (90モに%’) ト、3+ 3’+ 4+
 4’ −ヘアシフエノンテトラカルボン酸ジ無水物3
2Z230 F(100モルqb)とを反応させた。
Comparative Example 3 Using the same apparatus and method as in Example 1, 2,8-diaminodiphenylene oxide 19.8239 (10 molti)
and 3,3'-diaminodiphenylsulfone 223.4
70? (%' to 90 mo) G, 3+ 3'+ 4+
4'-Hairsiphenone tetracarboxylic dianhydride 3
2Z230 F (100 mol qb).

得られたフィルムはかなり淡色性に優れ、熱分解開始温
度も高く、熱間引張強度も強かったが、セロテープはが
れ率が100%と悪かった。
The obtained film had excellent light color property, high thermal decomposition initiation temperature, and strong hot tensile strength, but the cellophane tape peeling rate was poor at 100%.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)テトラカルボン酸ジ無水物とジアミンとよりなる
ポリイミド樹脂のテトラカルボン酸ジ無水物成分として
、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸ジ無水物を、ジアミン成分として、2,8−ジアミノ
ジフェニレンオキサイドと3,3′−ジアミノジフェニ
ルスルホンと、1,3−ビス(3−アミノプロピル)テ
トラメチルジシロキサンを必須成分とすることを特徴と
する耐熱性樹脂の製造方法。
(1) 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride is used as the tetracarboxylic dianhydride component of the polyimide resin consisting of tetracarboxylic dianhydride and diamine, and 2 , 8-diaminodiphenylene oxide, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, and 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane.
(2)3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸ジ無水物を、テトラカルボン酸ジ無水物成分とし
て、20モル%以上含有することを特徴とする、特許請
求の範囲第1項記載の耐熱性樹脂の製造方法。
(2) Claim 1, characterized in that it contains 20 mol% or more of 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride as a tetracarboxylic dianhydride component. A method for producing the heat-resistant resin described above.
(3)2,8−ジアミノジフェニレンオキサイドを、ジ
アミン成分として、0.5〜50モル%含有することを
特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の耐熱性樹脂の
製造方法。
(3) The method for producing a heat-resistant resin according to claim 1, which contains 0.5 to 50 mol% of 2,8-diaminodiphenylene oxide as a diamine component.
(4)3,3′−ジアミノジフェニルスルホンを、ジア
ミン成分として、20モル%以上含有することを特徴と
する、特許請求の範囲第1項記載の耐熱性樹脂の製造方
法。
(4) The method for producing a heat-resistant resin according to claim 1, which contains 20 mol% or more of 3,3'-diaminodiphenylsulfone as a diamine component.
(5)1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチ
ルジシロキサンをジアミン成分として、0.1〜30モ
ル%含有することを特徴とする、特許請求の範囲第1項
記載の耐熱性樹脂の製造方法。
(5) The heat-resistant resin according to claim 1, which contains 0.1 to 30 mol% of 1,3-bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane as a diamine component. manufacturing method.
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