JPS61172101A - 回折格子の作成方法 - Google Patents
回折格子の作成方法Info
- Publication number
- JPS61172101A JPS61172101A JP1295385A JP1295385A JPS61172101A JP S61172101 A JPS61172101 A JP S61172101A JP 1295385 A JP1295385 A JP 1295385A JP 1295385 A JP1295385 A JP 1295385A JP S61172101 A JPS61172101 A JP S61172101A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- ion beam
- grating
- beam irradiation
- producing
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- Pending
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光分波器、光合波器9分光器、スキャナ、レ
ンズなどに利用される回折格子の作成方法に関するもの
である。
ンズなどに利用される回折格子の作成方法に関するもの
である。
従来の技術
従来の回折格子は、ガラス基体上のホトレジストに、ホ
ログラフィックな方法で露光してつくるため、格子形状
が正弦波状となり、水田、ホログラフィック回折格子;
0hI1.usE、72〜76 (1981年4月)
に示すように回折効率が低いのが欠点である。また回折
効率を高くするには、特許出願公開昭57−11270
5に示すように、イオンビームを照射して、格子溝形状
を鋸歯状にすることが知られているが、この方法は、面
倒であり、とくに、不等間隔回折格子の場合、格子周期
が短かくなるにつれ、鋸歯状斜面の勾配を大きくするこ
とが必要であり、回折効率の高い回折格子の作成方法が
、非常に面倒であった。
ログラフィックな方法で露光してつくるため、格子形状
が正弦波状となり、水田、ホログラフィック回折格子;
0hI1.usE、72〜76 (1981年4月)
に示すように回折効率が低いのが欠点である。また回折
効率を高くするには、特許出願公開昭57−11270
5に示すように、イオンビームを照射して、格子溝形状
を鋸歯状にすることが知られているが、この方法は、面
倒であり、とくに、不等間隔回折格子の場合、格子周期
が短かくなるにつれ、鋸歯状斜面の勾配を大きくするこ
とが必要であり、回折効率の高い回折格子の作成方法が
、非常に面倒であった。
発明が解決しようとする問題点
本発明の目的は、回折格子溝形状を、鋸歯状にしなくて
、回折効率の高い回折格子を作成する方法に関するもの
である。
、回折効率の高い回折格子を作成する方法に関するもの
である。
問題点を解決するための手段
本発明は、上記問題点を解決するため、ホログラフィッ
クな方法で作成した回折格子に、イオンビームを垂直に
照射させ、かつ、イオンビームの照射時間を、格子周期
に対応して変化させ、格子周期の短いものは、格子溝の
深さを浅くし、格子周期の長いものは、格子溝の深さを
深くなるように格子溝を制御するものである。
クな方法で作成した回折格子に、イオンビームを垂直に
照射させ、かつ、イオンビームの照射時間を、格子周期
に対応して変化させ、格子周期の短いものは、格子溝の
深さを浅くし、格子周期の長いものは、格子溝の深さを
深くなるように格子溝を制御するものである。
作 用
本発明は、上記した方法により、格子周期と格子溝の深
さを一定にすることによって、回折効率の高い回折格子
の作成方法を提供するものである。
さを一定にすることによって、回折効率の高い回折格子
の作成方法を提供するものである。
実施例
本発明による回折格子作成方法の実施例を第1図ないし
第8図に基づいて説明する。第1図は、本発明による回
折格子作成方法のブロック図を示す。ガラスあるいは高
分子材料などからなる基板に、レジストをスピ/すで塗
布し、つぎに、ホログラフィックな方法で露光し、現像
層、回折効率を高くするため、イオンビームを回折格子
面に垂直に照射して、格子形状すなわち格子溝の深さを
制御する。第2図は、本発明の実施例における回折格子
作成方法のうち、レジストの塗布を示したものである。
第8図に基づいて説明する。第1図は、本発明による回
折格子作成方法のブロック図を示す。ガラスあるいは高
分子材料などからなる基板に、レジストをスピ/すで塗
布し、つぎに、ホログラフィックな方法で露光し、現像
層、回折効率を高くするため、イオンビームを回折格子
面に垂直に照射して、格子形状すなわち格子溝の深さを
制御する。第2図は、本発明の実施例における回折格子
作成方法のうち、レジストの塗布を示したものである。
第2図において、1は基板、2は高分子材料層、3はホ
トレジスト層である。基板1は、ガラス、溶融石英、メ
チルメタクリレート(PMMA)、ポリカーボネイト(
pc)などを使用する。高分子材料層2は、ホトレジス
ト層より、イオンビームエツチング速度の早いものが必
要である0加熱によって硬化するものでも良く、または
紫外光あるいは遠紫外光によって硬化するものでも良い
。ホトレジスト層3に、たとえば、シブレイ社製のAZ
−1300を用いる場合、高分子材料層には、PMMA
、PCあるいは、ソマール工業製の5EL−Nなどを
用いることができる。5EL−Nは、ネガ形レジストで
あるが、ポジ形レジストでも良い。ホトレジスト3は、
通常、AZ−1300のようなポジ形レジストが用いら
れるが、ネガ形レジストでも解像度が高ければ、とくに
問題はない0なお、基板に、高分子材料たとえばPM
MAなどを用いる−とき、高分子材料層2は省略するこ
とができる0第3図は、露光の一例としてホログラフィ
ックな露光装置を示したものである。4はレーザ光源、
5はビームスプリッタ、6は反射鏡、7はスペイシャル
フィルタ、8はコリメーシジンレンズである。レーザ光
源4には、ホトレジストの感光特性から、He−Cdレ
ーザ(発振波長;4416人または3260人)が一般
に用いられる。レーザ光源4からの出力光は、ビームス
プリッタで2分し、反射鏡6で反射させ、スペイシャル
フィルタ7のレンズとピンホールによって、不要な回折
光を遮断し、かつ球面発散波に変更し、コリメインシヨ
レンズ8によって平行光束(平面波)にかえて、レジス
ト上に照射する。
トレジスト層である。基板1は、ガラス、溶融石英、メ
チルメタクリレート(PMMA)、ポリカーボネイト(
pc)などを使用する。高分子材料層2は、ホトレジス
ト層より、イオンビームエツチング速度の早いものが必
要である0加熱によって硬化するものでも良く、または
紫外光あるいは遠紫外光によって硬化するものでも良い
。ホトレジスト層3に、たとえば、シブレイ社製のAZ
−1300を用いる場合、高分子材料層には、PMMA
、PCあるいは、ソマール工業製の5EL−Nなどを
用いることができる。5EL−Nは、ネガ形レジストで
あるが、ポジ形レジストでも良い。ホトレジスト3は、
通常、AZ−1300のようなポジ形レジストが用いら
れるが、ネガ形レジストでも解像度が高ければ、とくに
問題はない0なお、基板に、高分子材料たとえばPM
MAなどを用いる−とき、高分子材料層2は省略するこ
とができる0第3図は、露光の一例としてホログラフィ
ックな露光装置を示したものである。4はレーザ光源、
5はビームスプリッタ、6は反射鏡、7はスペイシャル
フィルタ、8はコリメーシジンレンズである。レーザ光
源4には、ホトレジストの感光特性から、He−Cdレ
ーザ(発振波長;4416人または3260人)が一般
に用いられる。レーザ光源4からの出力光は、ビームス
プリッタで2分し、反射鏡6で反射させ、スペイシャル
フィルタ7のレンズとピンホールによって、不要な回折
光を遮断し、かつ球面発散波に変更し、コリメインシヨ
レンズ8によって平行光束(平面波)にかえて、レジス
ト上に照射する。
露光したレジストは、現像によって干渉縞が発生する。
平面波と平面波の干渉によってできる干渉縞は、等間隔
直線回折格子である。いっぽうのコリメイショレンズを
除くと、平面波と球面波の干渉になり、両方のコリメイ
ショレンズを除くと、球面波と球面波の干渉になり、い
ずれも不等間隔曲線回折格子がえられる。このようにし
て作成した回折格子は、いずれも不等間隔回折格子であ
る。
直線回折格子である。いっぽうのコリメイショレンズを
除くと、平面波と球面波の干渉になり、両方のコリメイ
ショレンズを除くと、球面波と球面波の干渉になり、い
ずれも不等間隔曲線回折格子がえられる。このようにし
て作成した回折格子は、いずれも不等間隔回折格子であ
る。
ホログラフィックな方法で作成した回折格子は、第4図
に、その−例を示すように、断面9が正弦波状である。
に、その−例を示すように、断面9が正弦波状である。
このような回折格子は、回折効率が33.9%以下で低
い。回折効率を高くするには、格子溝形状を、正弦波状
より変化させることが必要である。本発明は、第5図お
よび第6図に示すように、回折格子の格子面に垂直にイ
オンビームを照射し、格子溝の深さを格子周期に対して
調節することにより、回折効率を向上させる方法に関す
るものである。以下、具体的な実験例を用いて、詳細に
説明する。
い。回折効率を高くするには、格子溝形状を、正弦波状
より変化させることが必要である。本発明は、第5図お
よび第6図に示すように、回折格子の格子面に垂直にイ
オンビームを照射し、格子溝の深さを格子周期に対して
調節することにより、回折効率を向上させる方法に関す
るものである。以下、具体的な実験例を用いて、詳細に
説明する。
ガラス基板上に、ンマール株式会社製のPMMA系ネガ
ホトレジストSMR−8を、スピンナで、厚さ6μmに
塗布し、60°Cで30分間、乾燥后、220〜400
nmに波更を有する高圧水銀灯の光を照射して、光硬化
させた。つぎに、シブレイ社のホトレジス)1300−
37を、厚さ3μmに塗布し、90″Cで25分間乾燥
させた。つぎに、波長441.6 nmのHe−Cdレ
ーザを用いて、20秒間、ホログラフィック露光をし、
現像によってエツチングをおこなった。ホログラフィッ
ク露光は、平面波と平面波による方法と、平面波と球面
波による2つの方法でおこなった。前者は、等間隔直線
回折格子、後者は、不等間隔曲線回折格子をつくる。つ
ぎに、イオンビームエツチング装置を用い、回折格子面
上に、垂直にAτ(アルゴン)イオンからなるイオンビ
ームを照射させ、格子溝の深さを深くした。回折格子が
等間隔直線回折格子の硼合、第6図に示すように、回折
格子を、イオンビームの照射方向10と直角方向すなわ
ち点線矢印11の方向に、一定速度で移動させた0回折
格子が不等間隔回折格子の場合、第6図に示す期が小さ
く、すなわち格子溝の深さが小さくなるにともない、照
射時間を短かくした0照射時間の制御は、計算機制御に
よっておこなった0第7図に示すようく、等間隔直線回
折格子の場合、格子周期のと溝の深さdとの関係が、a
= 1μ、−=1.66μのとき、透過光に対する回
折効率は、78%であった。また、不等間隔回折格子の
場合、格子周期6〜0.5μまで連続的に変化している
場合で、旦=1.55に格子溝を調整した結果、回折効
率は、72%であった。
ホトレジストSMR−8を、スピンナで、厚さ6μmに
塗布し、60°Cで30分間、乾燥后、220〜400
nmに波更を有する高圧水銀灯の光を照射して、光硬化
させた。つぎに、シブレイ社のホトレジス)1300−
37を、厚さ3μmに塗布し、90″Cで25分間乾燥
させた。つぎに、波長441.6 nmのHe−Cdレ
ーザを用いて、20秒間、ホログラフィック露光をし、
現像によってエツチングをおこなった。ホログラフィッ
ク露光は、平面波と平面波による方法と、平面波と球面
波による2つの方法でおこなった。前者は、等間隔直線
回折格子、後者は、不等間隔曲線回折格子をつくる。つ
ぎに、イオンビームエツチング装置を用い、回折格子面
上に、垂直にAτ(アルゴン)イオンからなるイオンビ
ームを照射させ、格子溝の深さを深くした。回折格子が
等間隔直線回折格子の硼合、第6図に示すように、回折
格子を、イオンビームの照射方向10と直角方向すなわ
ち点線矢印11の方向に、一定速度で移動させた0回折
格子が不等間隔回折格子の場合、第6図に示す期が小さ
く、すなわち格子溝の深さが小さくなるにともない、照
射時間を短かくした0照射時間の制御は、計算機制御に
よっておこなった0第7図に示すようく、等間隔直線回
折格子の場合、格子周期のと溝の深さdとの関係が、a
= 1μ、−=1.66μのとき、透過光に対する回
折効率は、78%であった。また、不等間隔回折格子の
場合、格子周期6〜0.5μまで連続的に変化している
場合で、旦=1.55に格子溝を調整した結果、回折効
率は、72%であった。
発明の効果
本発明は、ホログラフインクな方法で作成した回折格子
の表面上に、イオンビームを垂直に照射させることによ
って、格子溝の深さを格子周期に対して調節することに
より、回折効率の高い回折格子を容易に作成することが
できる。
の表面上に、イオンビームを垂直に照射させることによ
って、格子溝の深さを格子周期に対して調節することに
より、回折効率の高い回折格子を容易に作成することが
できる。
第1図は、本発明による回折格子作成方法のブロック図
、第2図は、レジスト塗布方法を示す図、第3図は、ホ
ログラフィックな露光装置の一例を示す図、第4図は、
ホログラフィックな方法で作成した回折格子の断面図、
第6図は、平面波と平面波で作成した等間隔直線回折格
子面上に、イオンビームを照射して、格子溝を深くした
場合の断面図、第6図は、平面波と球面波で作成した不
等間隔曲線回折格子面上に、イオンビームを照射して、
格子溝を深くした場合の断面図、第7図は、回折格子の
格子断面図で、格子周期と溝の深さを示した図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・高分子材料層、3
・川・・ホトレジスト層、4・・・・・・レーザ光源、
6・・・・・・ビームスプリッタ、6・・・・・・反射
鏡、7・・・・・・スペイシャルフィルタ、8・・・・
・・コリメイションレンズ、10・・・・・・イオンビ
ーム照射方向、11・・・・・・基板移動方向。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名・−
〜 9 0’J−− 第4図 第5因 第6図 第7図
、第2図は、レジスト塗布方法を示す図、第3図は、ホ
ログラフィックな露光装置の一例を示す図、第4図は、
ホログラフィックな方法で作成した回折格子の断面図、
第6図は、平面波と平面波で作成した等間隔直線回折格
子面上に、イオンビームを照射して、格子溝を深くした
場合の断面図、第6図は、平面波と球面波で作成した不
等間隔曲線回折格子面上に、イオンビームを照射して、
格子溝を深くした場合の断面図、第7図は、回折格子の
格子断面図で、格子周期と溝の深さを示した図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・高分子材料層、3
・川・・ホトレジスト層、4・・・・・・レーザ光源、
6・・・・・・ビームスプリッタ、6・・・・・・反射
鏡、7・・・・・・スペイシャルフィルタ、8・・・・
・・コリメイションレンズ、10・・・・・・イオンビ
ーム照射方向、11・・・・・・基板移動方向。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名・−
〜 9 0’J−− 第4図 第5因 第6図 第7図
Claims (16)
- (1)基体上に高分子材料層を塗布し、硬化させた後、
この上にホトレジスト層を塗布し、このホトレジスト層
をホログラフィックな方法で露光し、現像によって、回
折格子を作成し、つぎに、イオンビームを回折格子表面
上に垂直に照射させることにより、回折格子の溝の深さ
を制御することを特徴とする回折格子の作成方法。 - (2)高分子材料層は、ホトレジストであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の回折格子の作成方法
。 - (3)高分子材料層の硬化は、加熱、紫外線露光または
遠紫外線露光によることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の回折格子の作成方法。 - (4)高分子材料層または高分子材料基体のイオンビー
ムエッチング速度は、ホトレジスト層のイオンビームエ
ッチング速度にくらべて、大であることを特徴とする特
許請求の範囲第1項記載の回折格子の作成方法。 - (5)回折格子は、等間隔直線回折格子であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の回折格子の作成方
法。 - (6)回折格子は、不等間隔曲線回折格子であることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の回折格子の作成
方法。 - (7)不等間隔曲線回折格子の場合、回折格子の格子周
期が短かくなるにつれ、イオンビームの照射時間を短か
くすることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の回
折格子の作成方法。 - (8)イオンビーム照射時に、等間隔直線回折格子の場
合、イオンビームの照射方向と直角方向に、基板を一定
速度で移動させることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の回折格子の作成方法。 - (9)イオンビーム照射時に、不等間隔曲線回折格子の
場合、イオンビームの照射方向と直角方向に基板を移動
させるが、格子周期が短かくなるにつれ、移動速度を早
くすることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の回
折格子の作成方法。 - (10)高分子材料からなる基体上にホトレジスト層を
塗布し、このホトレジスト層をホログラフィックな方法
で露光し、現像によって回折格子を作成し、つぎに、イ
オンビームを回折格子表面上に垂直に照射させることに
より、回折格子の溝の深さを制御することを特徴とする
回折格子の作成方法。 - (11)高分子材料層または高分子材料基体のイオンビ
ームエッチング速度は、ホトレジスト層のイオンビーム
エッチング速度にくらべて、大であることを特徴とする
特許請求の範囲第10項記載の回折格子の作成方法。 - (12)回折格子は、等間隔直線回折格子であることを
特徴とする特許請求の範囲第10項記載の回折格子の作
成方法。 - (13)回折格子は、不等間隔曲線回折格子であること
を特徴とする特許請求の範囲第10項記載の回折格子の
作成方法。 - (14)不等間隔曲線回折格子の場合、回折格子の格子
周期が短かくなるにつれ、イオンビームの照射時間を短
かくすることを特徴とする特許請求の範囲第10項記載
の回折格子の作成方法。 - (15)イオンビーム照射時に、等間隔直線回折格子の
場合、イオンビームの照射方向と直角方向に、基板を一
定速度で移動させることを特徴とする特許請求の範囲第
10項記載の回折格子の作成方法。 - (16)イオンビーム照射時に、不等間隔曲線回折格子
の場合、イオンビームの照射方向と直角方向に基板を移
動させるが、格子周期が短かくなるにつれ、移動速度を
早くすることを特徴とする特許請求の範囲第10項記載
の回折格子の作成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1295385A JPS61172101A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 回折格子の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1295385A JPS61172101A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 回折格子の作成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61172101A true JPS61172101A (ja) | 1986-08-02 |
Family
ID=11819636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1295385A Pending JPS61172101A (ja) | 1985-01-25 | 1985-01-25 | 回折格子の作成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61172101A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63118701A (ja) * | 1986-11-07 | 1988-05-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
JPH01172903A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子形成装置 |
JPH01172901A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子の製造方法 |
JPH04355423A (ja) * | 1991-06-03 | 1992-12-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ビーム走査装置 |
JP2012511739A (ja) * | 2008-12-09 | 2012-05-24 | デルファイ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | マルチカラーディスプレー及びモノクロディスプレー用の回折コンバイナー、その製造方法、及びこれを使用したヘッドアップディスプレー装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5424653A (en) * | 1977-07-27 | 1979-02-24 | Rikagaku Kenkyusho | Substrate for echelette grating and method of manufacturing same |
JPS5912403A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 局所的グレ−テイング作製方法 |
JPS59192207A (ja) * | 1982-12-02 | 1984-10-31 | Mitsubishi Electric Corp | フレネルゾ−ンプレ−ト |
-
1985
- 1985-01-25 JP JP1295385A patent/JPS61172101A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5424653A (en) * | 1977-07-27 | 1979-02-24 | Rikagaku Kenkyusho | Substrate for echelette grating and method of manufacturing same |
JPS5912403A (ja) * | 1982-07-12 | 1984-01-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 局所的グレ−テイング作製方法 |
JPS59192207A (ja) * | 1982-12-02 | 1984-10-31 | Mitsubishi Electric Corp | フレネルゾ−ンプレ−ト |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63118701A (ja) * | 1986-11-07 | 1988-05-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
JPH01172903A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子形成装置 |
JPH01172901A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子の製造方法 |
JPH04355423A (ja) * | 1991-06-03 | 1992-12-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ビーム走査装置 |
JP2012511739A (ja) * | 2008-12-09 | 2012-05-24 | デルファイ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | マルチカラーディスプレー及びモノクロディスプレー用の回折コンバイナー、その製造方法、及びこれを使用したヘッドアップディスプレー装置 |
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