JPS61153501A - 位置検出装置 - Google Patents

位置検出装置

Info

Publication number
JPS61153501A
JPS61153501A JP27997784A JP27997784A JPS61153501A JP S61153501 A JPS61153501 A JP S61153501A JP 27997784 A JP27997784 A JP 27997784A JP 27997784 A JP27997784 A JP 27997784A JP S61153501 A JPS61153501 A JP S61153501A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mark
diffracted light
diffraction grating
grating
position detection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27997784A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Yamaguchi
武 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nippon Kogaku KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kogaku KK filed Critical Nippon Kogaku KK
Priority to JP27997784A priority Critical patent/JPS61153501A/ja
Publication of JPS61153501A publication Critical patent/JPS61153501A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01DMEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01D5/00Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
    • G01D5/26Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
    • G01D5/32Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
    • G01D5/34Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
    • G01D5/36Forming the light into pulses
    • G01D5/38Forming the light into pulses by diffraction gratings

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Optical Transform (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は装置本体に対する物体の位置を検出する位置検
出装置に関するものである。
(発明の背景) 従来リングラフイーにおけるアライメントの々めの位置
検出装置に関して種々のものが提案されているが、物体
に形成し九マークの慮をテレビカメラ又は撮S素子等で
電気信号に変換して画像認識を行うことにより位置を検
出するもの、マーク上でビームを走査してエツジからの
散乱光を検出したり、マークを回折格子によって形成し
、そこから生ずる回折光を検出し九りして物体の位置の
l&!!識を行なうもの又は、この様なマークのついた
物体自身を動かす事により位置を検出するものがあった
。これらは、それぞれ可動機構系を持つ事によシ装置が
複雑且つ高価になったり、又、カメラや撮像素子及びパ
ターン認識等の回路が必要となってコストを上げるとい
う欠点を有していた。
(発明の目的) 本発明はこれらの欠点を除き、簡単で且つ安価な位置検
出装置を得る事を目的とする。
(発明の概要) 本発明は、装置本体5に対する物体3の位置を検出する
位置検出装置において、前記物体3に、格子定数が場所
によって異なる回折格子にて位置検出用のマーク4を形
成すると共に、前記装置本体5に、前記マーク4を照射
するビーム発生手段と、前記マーク4からの回折光を受
光し、その位置に応じ良信号を出力する位置検出手段1
0゜11.12と、を設けたことを特徴とする位置検出
装置である。
(実施例) 以下、図面に示した実施例に基づいて本発明を説明する
第1図は本発明の一実施例の位置検出装置であり、一方
向、すなわち矢印X方向へガイド1によって案内された
移動部材2には、被検物体3と位置検出用のマーク4と
が設けられている。被検物体3とマーク◆とは所定の位
置関係にて移動物体2に設けられている。被検物体3は
装置本体5に設けられ九対物レンズ6、接眼レンズ7よ
すなる観察装置により観察される。
マーク4は第2図に平面図を示した如く、格子定数がX
方向へ順次変化している回折格子によって形成されてい
る。すなわち、マーク4を形成する第2図の回折格子は
、大きさが4 m X 4 mの正方形であって、一端
から他端へ10 ttmから5虜の間でかつ適当なピッ
チで順次格子定数−を変化させである。マーク4には、
装置本体5のレーザ発生装置8からのレーザビーム9が
照射されている。マーク4からは、レーザビーム9の照
射位置に対応した回折角で回折光が生ずる。この回折光
は、入射光量の重心位置に対応した位置信号を出力する
ボジシ目ンセンサーOに入射する。すなわち、レーザビ
ーム9の波長(λ)を0.63μmとすれば。
レーザビーム9の各入射位置に対し回折格子から生ずる
1次回折光の回折角(θ)は、回折角を求める一般式 %式% によって求めれば、はぼ3.6度から7.2度まで変化
することがわかる。実際のマーク4の回折格子は、格子
定数に)が順次変化しているので、レーザビーム9は異
なった格子定数の格子のいくつかを一度に照射すること
になシ、上述の一般式に奇麗に乗るわけではないが、各
々の格子から得られる回折光の合成回折光を考え、その
光強度の最大値をとる回折光4 m 4の角度θ′を追
っていけば、レーザビーム9の照、射位置に応じて角度
θ′は連続的に変化していくことになる。このようにボ
ジシ1ンセンサ】0からの位置信号はレーザビーム9の
マーク4への入射位置に対応しており、レーザビーム9
と観察装置の光軸t1とは装置本体5によって一対一の
関係にあり、かつ被検物体3はマーク4と一対一に対応
しているから、結局、ポジションセンサ】Oからの位置
信号によって観察装置の光軸t1の通るマーク4の位置
を知ることができも演算回路1】はポジションセンサl
Oからの位置信号を入力し、被検物体3の位置、すなわ
ち本例の場合には観察光軸t、に対するマーク4の位置
に変換される。この位置は表示装置12によって表示さ
れる。
従って、被検物体3を観察し、所望の位置を再び観察装
置の視野中央に持ってきたい場合、−回目の観察で視野
中央に所望の位置がある状態で表示装置12の値を記憶
し、移動物体2を移動した後、表示装置12が記憶し九
値になるように移動物体2を移動すれば、視野中央には
上記所望の位置がくることになる。
なお、以上の実施例では、光位置検出装置として、入射
光量の重心位置に対応した位置信号を出力するポジショ
ンセンナを用いたが、電荷結合素子(C0D)や2分割
素子の如き他の光位置検出装置を用いることができる。
ただし、電荷結合素子では得られる映像信号からそのピ
ークの位置を求める如き処理回路が必要となシ、2分割
素子では光位置に対応した各々の素子出力の比等を求め
る回路が必要となる。また、2分割素子は検出範囲が狭
いということも考慮されなければならない。
さらに、回折格子のピッチを細かくすると共に9マーク
4とポジションセンサ(光位置検出装[)lOとの間に
角倍率を持たせるための光学系(レンズ)を挿入すれば
、更に高精度の絶対位置測定を行なうことができる。
第3図はマーク4を構成する回折格子4の他の例であり
、第2図のように連続的な変化はしておらず、2つの領
域に別かれている。このようなマークによれば、2つの
領域の境界付近ではレーザビームがいずれの領域に多く
掛っているかによって各々の領域からの回折光の合成光
が変化するから連続的な位置測定が行なえる。ま九、3
つ以上の領域に別けても同様である。この場合、格子定
数が順次増加もしくは順次減少していることは必ずしも
必要ではない。
第4図はマーク4を構成する回折格子のさらに他の例で
あり、直交する2方向(x、y)に格子定数を変化させ
ている。従って、第4図のマーク4にレーザビーム9を
照射すると、X方向の格子群からの回折光とY方向の格
子群からの回折光とが生ずる。従って、X−Y方向にガ
イドを設けた機構を用意しておけば、X方向の格子群か
らの回折光によってX方向の位置を検出することができ
(第1図参照)、Y方向の格子群からの回折光によって
Y方向の位置を検出することができる。
従って、ポジションセンサは直交する2方向に配設した
2つのラインセンナを用いるか(この場合、マーク4と
一方のポジションセンサとの間に他方のポジションセン
サの九めの半透鏡を設ける必要がある)、2次元型のポ
ジションセンナを用いれば良い。位置検出装置として2
次元型のポジションセンサを用いた場合には、マーク4
の回転も知ることができるので、X−Y方向へのガイド
が無い移動部材2に対しても2次元的な絶対位置を検出
するために用いることができる。
ま虎、第1図の実施例では、マーク4を照射するビーム
発生装置として単色光を射出するレーザ発生装置8を用
い九が、ビーム発生装置として多波長光を射出する光源
を用いることができる。この場合には、ポジションセン
サ10に特定波長の回折光にのみ感度を有する特性を持
たせるために光電変換面の前方に、特定波長の回折光の
み通過する光学フィルタを配設することが精度を上げる
ために好ましい。
(発明の効果) 以上のように本発明によれば、可動部も高価な撮鍬系も
なく簡単且つ安価に構成できる為、穫々の位置決め装置
に応用できる。特にリソグラフィー装置でのウェハのプ
リアライメントには極めて有効である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の位置検出装置を示す図、第
2図は第1図で用いられるマークの平面図、第3図はマ
ークの他の例の平面図、第4図はマークのさらに他の例
の平面図である。 (主要部分の符号の説明) 3・・・被検物体、4・・・マーク、5・・・装置本体
。 8・・・レーザ発生装置、10・・・ポジションセンナ
。 11・・・演算回路、12・・・表示装置。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)装置本体に対する物体の位置を検出する位置検出
    装置において、前記物体に、格子定数が場所によって異
    なる回折格子にて位置検出用のマークを形成すると共に
    、前記装置本体に、前記マークを照射するビーム発生手
    段と、前記マークからの回折光を受光し、該受光位置に
    応じた信号を出力する位置検出手段と、を設けたことを
    特徴とする位置検出装置。
  2. (2)前記マークは、一方向へ連続的に格子定数の変化
    している回折格子によって形成されていることを特徴と
    する特許請求の範囲第(1)項記載の位置検出装置。
JP27997784A 1984-12-26 1984-12-26 位置検出装置 Pending JPS61153501A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27997784A JPS61153501A (ja) 1984-12-26 1984-12-26 位置検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27997784A JPS61153501A (ja) 1984-12-26 1984-12-26 位置検出装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61153501A true JPS61153501A (ja) 1986-07-12

Family

ID=17618580

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27997784A Pending JPS61153501A (ja) 1984-12-26 1984-12-26 位置検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61153501A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0341882A2 (en) * 1988-05-11 1989-11-15 Simmonds Precision Products Inc. Optical sensors
EP0389093A2 (en) * 1989-02-09 1990-09-26 Simmonds Precision Products Inc. Radiation responsive methods and sensors
EP0675343A2 (en) * 1994-03-31 1995-10-04 Sony Magnescale, Inc. Fixed point detecting device
JP2011527435A (ja) * 2008-07-07 2011-10-27 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ レーザ自己混合測定装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0341882A2 (en) * 1988-05-11 1989-11-15 Simmonds Precision Products Inc. Optical sensors
EP0389093A2 (en) * 1989-02-09 1990-09-26 Simmonds Precision Products Inc. Radiation responsive methods and sensors
EP0675343A2 (en) * 1994-03-31 1995-10-04 Sony Magnescale, Inc. Fixed point detecting device
EP0675343A3 (en) * 1994-03-31 1997-06-04 Sony Magnescale Inc Fixed point detection device.
US5637868A (en) * 1994-03-31 1997-06-10 Sony Magnescale Inc. Fixed point detecting device using detection of light diffracted by holographic diffraction gratings
JP2011527435A (ja) * 2008-07-07 2011-10-27 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ レーザ自己混合測定装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5343292A (en) Method and apparatus for alignment of submicron lithographic features
US20040145753A1 (en) Method and apparatus for measuring the three-dimensional surface shape of an object using color informations of light reflected by the object
TWI402498B (zh) 影像形成方法及影像形成裝置
KR920005810A (ko) 기판상에 마스크 패턴을 투영하는 방법 및 장치
US5067811A (en) Illuminance distribution measuring system
JP2008275612A (ja) 半導体製造用のサブストレート上の構造体を測定する高解像度を備えた装置及び測定装置におけるアパーチャの使用
CN105829971B (zh) 用于通过无接触式光学法定位光刻掩模的装置和方法
CN108603848B (zh) 用于光学三维形貌测量的方法及系统
TW201537469A (zh) 影像處理方法、影像處理裝置、影像處理程式及記憶影像處理程式之記憶媒體
TW201001088A (en) Position detection apparatus, position detection method, exposure apparatus, and semiconductor device fabrication method
US11333985B2 (en) Position sensor
JPS61153501A (ja) 位置検出装置
JPH0324965B2 (ja)
EP0019941B1 (en) Reduction projection aligner system
Moon et al. Immunity to signal degradation by overlayers using a novel spatial‐phase‐matching alignment system
KR102547422B1 (ko) 이미징 장치, 이를 포함하는 이미징 시스템, 이미징 장치 및 시스템을 이용한 이미징 방법, 이미징 장치 및 시스템을 이용한 반도체 장치의 제조 방법
JPH05141924A (ja) 膜厚測定装置
JPH0612753B2 (ja) パターン検出方法及びその装置
Yoshizawa et al. Displacement measurement utilizing contrast variation of a projected pattern
JPS62291511A (ja) 距離測定装置
SU1642326A1 (ru) Способ исследовани распределени параметров рассеивающих частиц
JPH05157524A (ja) 非接触段差測定方法及びその装置
JPS63241406A (ja) 微細段差測定方法及びその装置
JP2980396B2 (ja) 試料面位置測定装置
JP2006234768A (ja) 位置検出方法および位置測定装置