JPS61152368A - ブラステイングによる素地清浄法 - Google Patents

ブラステイングによる素地清浄法

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JPS61152368A
JPS61152368A JP27208584A JP27208584A JPS61152368A JP S61152368 A JPS61152368 A JP S61152368A JP 27208584 A JP27208584 A JP 27208584A JP 27208584 A JP27208584 A JP 27208584A JP S61152368 A JPS61152368 A JP S61152368A
Authority
JP
Japan
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projection
pressure
low
ice
temperature
Prior art date
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Pending
Application number
JP27208584A
Other languages
English (en)
Inventor
Kentaro Muramoto
村本 研太郎
Koichi Tada
多田 行一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Gas Products Corp
Original Assignee
Showa Tansan Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Showa Tansan Co Ltd filed Critical Showa Tansan Co Ltd
Priority to JP27208584A priority Critical patent/JPS61152368A/ja
Publication of JPS61152368A publication Critical patent/JPS61152368A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/003Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods using material which dissolves or changes phase after the treatment, e.g. ice, CO2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 この発明は、高圧低温液化不活性ガス(例えば、液化炭
酸ガス、液化窒素ガス)をエネルギー源及び投射媒体と
してドライアイス(固体炭酸ガス)、氷もしくはこれら
の混合粒子を高速で投射させて不活性ガス雰囲気下で被
処理物体の表面を清浄化する方法である。 従来゛の技術 周知のように、プラスティングによる素地清浄法には、
サンドブラスト、ショツトブラスト法が代表的な方法と
して実用化されているが、いずれの方法においても、使
用される投射媒体は加圧空気あるいは水が主として使用
されている。まf投射材としては砂、鉄粒、鉄球、炭化
ケイ素グリッド、グラスチックペレット等が使用されて
いる。このような投射材を使用して通常の投射を行なう
と、投射材により粉塵が発生して作業環境を悪くすると
共に投射材の回収及びクリーニングを必要とする経済上
の問題がある。一方、投射媒体として水を用いると、使
用後の水の回収処理費が嵩むなどの実用上の不利益があ
る。そこで、ドライアイス、氷を投射材として使用する
ことが提案されるに至った。例えば、特開昭51−60
095号公報に示される昇華材料によるサンドブラスト
方法
【は、ドライアイス粒子について例示されており、
更に特公昭56−41383号公報及び英国特許第94
2,182号明細書には氷粒、氷とドライアイスの混合
粒子が例示されている。これらの投射材は発塵及び回収
等の手段は省かれるが、投射中に投射材の一部が昇華し
て清浄効果はそれ稚内上しないし、発錆等の酸化防止は
余り改善されない。氷粒を投射材とする場合は、むしろ
発錆が促進されることが、上記特公昭56−41383
、発明の詳細な説明中に指摘されている。 発明が解決しようとする開運点 この発明は、高圧空気を投射媒体とし、ドライアイスま
だは氷のような昇華性物質を投射材とするプラスティン
グによる素地清浄法における酸化に起因する発錆及び昇
華に基づく清浄効果の制約等の問題点を解決しようとす
るものである。 この発明は、素地清浄効果を高め、かつ素地清浄面の発
錆防止を図ることを目的とする。 発明の構成 この発明は、上記のような問題点を解決するだめに次の
ような技術的手段を採った。 「投射媒体として高圧低温液化不活性ガスを使用してド
ライアイス、氷もしくけこれらの混合粒子を高速で投射
することにより被処理物体の表面を不活性ガス雰囲気下
で清浄化させる」ことにある。 作用 上記のように構成することにより、被処理物体の表面特
性が低温脆化性を有する場合は、高圧低温液化不活性ガ
スの減圧に伴う断熱膨張効果と、ドライアイス粒または
ドライアイスと氷の混合粒子の′°極低温投射による衝
撃と低温脆化との相乗作用によって容易に素地清浄効果
が高められる。 まだ、氷粒を投射材として使用する場合は、高圧低温液
化不活性ガスの低温効果だよる氷の低温収縮及び高密度
結晶化によって硬度の上昇により素地清浄効果が高めら
れる。上記のようにドライアイスと氷との混合粒子の場
合においても氷粒子は上記と同様の理由によって硬度は
高められる。 上記いずれの投射材においても、被処理物体の表面を高
圧低温液化ガスの不活性ガス雰囲気下でプラスティング
が行なわれるので発錆が顕著に抑制される。 この発明で述べられる投射材としてのドライアイス、氷
もしくはこれらの混合粒子は、上述のように必ずしも新
規なものではないが、高圧低温液化不活性ガスを投射媒
体とすることによって、これらの投射材の作用を助長さ
せて素地清浄効果を高め、さらに被処理物体の表面を不
活性ガス雰囲気下にさせてプラスティングを行なうこと
により後述せる実施例が示すようだ優れた発錆防止を発
揮することができる。 この発明の方法は、添付される説明図に従って実施され
る。 図において、1は別工程で作られたドライアイスペレッ
トの貯槽であって、この貯槽の下部に設けられた排出管
1aの中途に供給弁(例えばロータリー弁) Ibが設
けられ、この供給管の先端部に高圧低温液化不活性ガス
の噴射ノズル2が取付けられる。この噴射ノズルの一側
端部に、高圧低温液化不活性ガス貯槽3に接続される弁
■を備えた管路4が連結され、他側部に噴射管5が取付
けられ、この管5の先端に投射ノズル6が設けられる。 上記管路4とドライアイスペレット貯槽1にわたって連
結管7が設けられ、この管7に均圧用ガス減圧弁8が設
けられて、液化不活性ガスの気化圧によってペレット貯
槽内の圧力と噴射ノズル内の圧力とを均圧に保持させる
。 投射材を同伴させた高圧低温液化不活性ガスは投射ノズ
ルよシ被処理物体9の表面に高速で投射させてその物体
表面を不活性ガス雰囲気下でプラスティングさせる。 投射媒体が液化炭酸ガスの場合には、投射領域を密閉機
構となし、気化炭酸ガスを吸引して投射材のドライアイ
スペレットの製造原料に供することも可能である。 この発明の方法は、次に示す数例の実施例によって理解
されよう。 実施例1 圧力20 kg/crd f、温度−18,5Cの高圧
低温液化炭酸ガスを投射媒体とし、平均3順に造粒した
ドライアイス粒子を、全面に発錆している鋼板に口径1
2m1の投射ノズルより2分間投射したところ、鋼板の
素地表面は、全面的に標準見本に合格(官能検査による
)する清浄化であった。 投射媒体及び投射材は共に昇華した。また不活性ガス雰
囲気下の投射であるがために発錆等の酸化作用はほとん
ど認められなかった。 加圧空気(20に!j/7f )を投射媒体とした投射
の場合は、2分間の投射では清浄化は不十分と判定され
、かつ清浄面に曇シを生じた。 実施例2 圧力5kP/Cntf、温度〜175Cの高圧低温液化
窒素ガスを投射媒体とし、実施例】に準じて投射を行な
った。ただし、投射時間は、−17511’では投射時
のドライアイスの特性は変らないが、もし変るとすれば
投射時間は液体炭酸ガスより短くてよいが、本実施例で
は2分間として行なった。その結果は実施例1の投射結
果と同等の清浄効果が得られ、かつ清浄面の酸化作用は
ほとんど認められなかった。 実施例3 圧力20 k、@/all f、温度−18,50の高
圧低温液化炭酸ガスを投射媒体とし、投射材を平均3朋
に造粒したドライアイス粒子を、下塗2回、上塗1回、
平均塗厚80AmK塗装された鋼板に口径12關の投射
ノズルより2分間投射したところ、塗装層は完全に剥離
し、鋼板の素地表面は良好な清浄を呈した。このことは
、鋼板の塗装膜はドライアイス粒子による衝撃効果と極
低温のドライアイス粒子の接触ならびに低温液化炭酸ガ
スの断熱膨張による低温効果、即ち塗料の低温脆性によ
る相乗作用によるものと考えられる。 投射媒体及び投射材は共に昇華し、−清浄面の酸化は認
められなかった。 同圧の加圧空気を投射媒体とした場合は、同一の投射時
間では塗装膜に剥離ムラがあった。 かつ清浄面に酸化が認められた。 実施例4 圧力5kP/7f、  温度−1750の高圧低温液化
音素ガスを投射媒体とし、実施例3に準じて行なった。 投射結果は実施例3と同じであった。 実施例5 圧力20 kg /Cof f、温度−18,5Cの高
圧低温液化炭酸ガスを投射媒体とし、平均3朋に破砕し
たドライアイスと氷を等量混合したものを投射材として
、全面に発錆している鋼板に口径12闘の投射ノズルよ
り2分間投射したところ、鋼板の素地表面は全面的に清
浄化され、ドライアイスは昇華し、氷は水と々つた。こ
の融解水の存在にもかかわらず清浄面に発錆は生じなか
った実施例6 圧力5kf/Ctdf、温度−175Cの高圧低温液化
窒素ガスを投射媒体とし、実施例5に準じて行なったと
ころ、実施例5と同様の投射結果を得た。 実施例7 圧力20 kflcrd f、温度−18,50の高圧
低温液化炭酸ガスを投射媒体とし、平均3朋に破砕した
ドライアイス、氷粒子の等量混合したものを投射材とし
、下塗2回、上塗1回、平均塗厚80μm忙塗装した鋼
板に投射ノズル口径12xxより2分間投射した。 投射結果は実施例と同様な良好な結果が得られた。まだ
融解水による清浄面の酸化は認められなかった。 実施例8 圧力5+q/mf、温度−175Cの高圧低温液化窒素
ガスを投射媒体とし、実施例7に準じて行なったところ
、実施例7と同様の結果が得られた。 実施例9 圧力20 kljlCrd f 、温度−18,5Cの
高圧低温液化炭酸ガスを投射媒体とし、平均3朋に破砕
した氷粒子を投射材として、全面に発錆している鋼板に
口径12龍の投射ノズルから、3分間投射したところ良
好な清浄面が得られた。しかも、融解水による発錆等の
酸化は認められなかった。 上記投射時間で良好な清浄面が得られるのは超低温の投
射媒体による氷の低温収縮及び高密度結晶化による硬度
の上昇に基づくものと考えられる。 同圧の高圧空気を投射媒体として上記氷粒子を同時間投
射した場合は、清浄ムラが生じ、かつその面は酸化が認
められた。 実施例10 圧力5kII/crlf、温度−175Cの高圧低温液
化窒素ガスを投射媒体とし、平均3 +o+に破砕した
氷粒子を口径12 Imの投射ノズルから3分間、平均
塗厚80μmに塗装した鋼板に投射したところ、塗装膜
は完全に剥離し、良好な素地清浄面が得られた。また清
浄面には酸化が認められなかった。なお、高圧低温液化
不活性ガスとして、液化アルゴン、液化フロン(弗化炭
化水素)等を投射媒体とすると、この発明で述べられる
作用・効果は得られるが、液化炭酸ガス及び液化窒素ガ
スに較べて割高となると共に液化フロンは作業環境に問
題があるが、採算性を考慮して特殊のプラスティングと
して採用することも可能である。 発明の効果 この発明は、高圧低温液化炭酸ガス、液化窒素ガスのよ
うな高圧低温液化不活性ガスを投射媒体とすることによ
って、ドライアイス、氷もしくはこれらの混合粒子を投
射材としても、素地清浄面の酸化作用が防止されると共
に素地の清浄作用効果を高めることができ、かつ投射材
の処理費が省かれる等、この発明特有の効果をもたらす
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の方法を実施する説明図である符号の説明 1・・ドライアイスペレット貯槽、2・噴射ノズル、3
・高圧低温液化不活性ガス貯槽、5・・・噴射管、6・
投射ノズル、8・均圧用ガス減圧弁、9−被処理物体。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高圧低温液化不活性ガスを投射媒体としてドライアイス
    、氷もしくはこれらの混合粒子を高速で投射することに
    より被処理物体表面を不活性ガス雰囲気下で清浄化する
    ことを特徴とするプラスティングによる素地清浄法。
JP27208584A 1984-12-25 1984-12-25 ブラステイングによる素地清浄法 Pending JPS61152368A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0366567A (ja) * 1989-08-03 1991-03-22 Daikin Ind Ltd 粉体加速方法及び粉体噴射装置並びに粉体輸送装置
JPH0473457U (ja) * 1990-11-02 1992-06-26
JPH07932A (ja) * 1993-04-27 1995-01-06 Westinghouse Electric Corp <We> 物品表面の清浄化方法及び装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55106538A (en) * 1979-02-13 1980-08-15 Shimadzu Corp Removing method of surface from substance
JPS5641383A (en) * 1979-09-12 1981-04-18 Pentel Kk Preparation of selective absorbing surface

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