JPS61150296A - Method and apparatus for manufacturing printed circuit board - Google Patents

Method and apparatus for manufacturing printed circuit board

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JPS61150296A
JPS61150296A JP27246684A JP27246684A JPS61150296A JP S61150296 A JPS61150296 A JP S61150296A JP 27246684 A JP27246684 A JP 27246684A JP 27246684 A JP27246684 A JP 27246684A JP S61150296 A JPS61150296 A JP S61150296A
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cathode
anode
metal strip
plating
base film
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礒村 二郎
義明 林
藤沢 隆一
山梨 隆夫
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Koito Manufacturing Co Ltd
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Koito Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規なプリント回路板の製造方法及びプリント
回路板の製造装置に関する。詳しくは、折り曲げに対す
る強度が優れており、折り曲げ応ターン状導体を備えた
プリント回路板を得ることができる新規なプリント回路
板の製造方法及びプリント回路板の製造装置を提供しよ
うとするものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a novel printed circuit board manufacturing method and printed circuit board manufacturing apparatus. Specifically, the present invention aims to provide a novel printed circuit board manufacturing method and a printed circuit board manufacturing apparatus that can obtain a printed circuit board that has excellent bending strength and has a bendable conductor. .

背景技術とその問題点 導電性金属箔、例えば、銅箔はフレキシブルプリント回
路板(以下、rFPCJと云う。)用の導体としてきわ
めて優れた性質を有している。そして、FPCは近時種
々の分野で広く使用されて来ており、その中に、折り曲
げ負荷が繰り返しかかる部位に使用される場合がある。
BACKGROUND ART AND PROBLEMS Conductive metal foil, such as copper foil, has extremely excellent properties as a conductor for flexible printed circuit boards (hereinafter referred to as rFPCJ). Recently, FPCs have been widely used in various fields, and among them, FPCs are sometimes used in areas where bending loads are repeatedly applied.

例えば、各種プリンターの印字ヘッドとその制御部と゛
を連結するFPCにあっては、印字ヘッドが可動部であ
り制御部が固定部であることから、両者の間を連結して
いるFPCは折り曲げが繰り坂されたり、折り曲げ箇所
が順次に移動して行く、というように、きわめて厳しい
折り曲げ負荷がかかる状況で使用される。
For example, in the FPC that connects the print head of various printers and its control unit, the print head is a movable part and the control part is a fixed part, so the FPC that connects the two cannot be bent. It is used in situations where extremely severe bending loads are applied, such as when it is being rolled uphill or the bending points are moved one after another.

そこで、このような箇所に使用されるFPCの導体とし
ては、屈曲による切断の生じないものが必要である。
Therefore, the FPC conductor used in such a location must be one that does not break due to bending.

そこで、このようなFPC用導体として適当な銅箔を考
えてみたが、適当なものがないのが現状である。
Therefore, we have tried to find a suitable copper foil as a conductor for such an FPC, but at present there is no suitable copper foil.

例えば、゛メッキ銅箔であるが、これは安価であるとい
う利点はあるが、屈曲運動に対しては弱いという欠点を
有する。これは、メッキ法による場合には、第12図に
示すように、銅粒子a、a、・・・が柱状に堆積して銅
箔が生成され、かつ、その堆積密度も粗いため、屈曲の
繰り返しに対してきわめ下弱いからである。また、銅粒
子の堆積密度が粗いことは、電気抵抗が高くなり、FP
Cの導体として余り好ましいものではない。
For example, plated copper foil has the advantage of being inexpensive, but has the disadvantage of being weak against bending movements. This is because when using the plating method, as shown in Figure 12, copper particles a, a,... are deposited in a columnar manner to produce copper foil, and the density of the deposition is coarse, resulting in less bending. This is because they are extremely susceptible to repetition. In addition, the coarse deposition density of copper particles increases the electrical resistance, and the FP
It is not very desirable as a C conductor.

このため、メッキ銅箔は、屈曲されたままの状態で配置
される箇所に使用するFPCの導体としては何とか使用
することができるが、屈曲が繰り返されたり、屈曲位置
が移動して行くような箇所に使用されるFPCの導体と
しては使用することができなかった。
For this reason, plated copper foil can be used as an FPC conductor in places where it is placed in a bent state, but if it is repeatedly bent or the bending position moves, It could not be used as a conductor for the FPC used in some locations.

圧延アニール銅箔は屈曲に対して強靭であり、電気抵抗
も小さく、その点では繰り返し屈曲される箇所に使用さ
れるFPCの導体として好適である。
Rolled annealed copper foil is strong against bending and has low electrical resistance, and in this respect it is suitable as a conductor for FPCs used in areas that are repeatedly bent.

しかしながら、圧延アニール銅箔にあっては、薄さに限
界があり、18ミクロン(終)程度しか薄くすることが
できず、また、このことが銅箔部(導体)幅を小さくす
ることの障害となるという問題がある。
However, there is a limit to the thinness of rolled annealed copper foil, and it can only be made as thin as 18 microns (final), and this is an obstacle to reducing the width of the copper foil part (conductor). There is a problem that.

即ち、圧延アニール銅箔を導体としてFPCを製造する
には、まず、ベースフ、イルムb上に一面に銅箔Cを貼
り付け、その後に不要部分をエツチングにより除去する
という工程を採る。そして、エツチングをする場合、第
13図に示すように。
That is, in order to manufacture an FPC using rolled annealed copper foil as a conductor, first, the copper foil C is pasted all over the base plate and the film b, and then unnecessary portions are removed by etching. When etching is performed, as shown in FIG.

銅箔Cのベースフィルムb側の部分d、φ、・・・が扶
り取られるという問題が、ある。しかも、この袂り取ら
れる部分d、d、・・・は銅箔Cの厚さが厚くなる程大
きくなるので、銅箔Cの厚さを薄くするのに限界がある
圧延アニール銅箔では。
There is a problem that portions d, φ, . . . of the copper foil C on the side of the base film b are removed. Moreover, the removed portions d, d, . . . become larger as the thickness of the copper foil C becomes thicker, so there is a limit to how thin the copper foil C can be made in rolled annealed copper foil.

かなりの部分がエツチングにより決り取られることにな
り、従って、導体幅eは、決り取られる部分d、d、・
・・を見込んだ分大きな幅にしなければならず、このこ
とが回路の高密度化を阻害することになる。
A considerable portion is determined by etching, and therefore the conductor width e is determined by the determined portions d, d, .
The width must be made larger to account for ..., which impedes higher circuit density.

また、板状の銅箔をベースフィルムに接着する必要があ
るため、接着強度を高める必要から、銅箔形成後の後処
理、例えば、銅箔の接着側面を表面処理により凹凸状に
する処理が必要となり、圧延工程そのものがコスト高で
あるのに加えて、益々コスト高となってしまうという問
題がある。
In addition, since it is necessary to bond a plate-shaped copper foil to a base film, it is necessary to increase the adhesive strength, so post-processing after forming the copper foil, such as surface treatment to make the bonded side of the copper foil uneven, is necessary. In addition to the high cost of the rolling process itself, there is a problem in that the cost becomes even more expensive.

発明の目的 そこで、本発明は、折り曲げに対する強度が優れており
、折り曲げ応力が頻繁に加わる部分に使用されるのに適
したパターン状導体を備えたプリント回路板を得ること
のできる新規なプリント回路板の製造方法及びプリント
回路板の製造装置を提供することを目的とする。
OBJECTS OF THE INVENTION The present invention provides a novel printed circuit board with a patterned conductor that has excellent bending strength and is suitable for use in areas where bending stress is frequently applied. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a board and an apparatus for manufacturing a printed circuit board.

発明の概要 上記目的を達成するために、本発明プリント回路板の製
造方法は、カソードと接触してカソード化される導電性
金属帯のアノードと対面する側の面に導体パターンを除
いてメッキレジスト材を付与し、該導電性金属帯とアノ
ードとの間にメッキ静を流し、前記カソードとアノード
との間にパルス状のメッキ電流を供給すると共に、前記
カソードとアノードとの間に適時に逆電流を供給し、こ
れによって前記導電性金属帯にパターン状導体を堆積形
成し、このパターン状導体をベースフルムに転写し、ベ
ースフィルムのパターン状導体が転写された面にオーバ
ーレイフィルムを貼着することを特徴とし、また、本発
明プリント回路板の製造装置は、メッキ液が入れられて
いるメッキ液槽と、該メッキ液槽の上方に配置され水平
方向に延びる平面を有するカン」ドと、前記カソードの
上記平面と接触してカソード化されると共にアノードに
対向する面に導体パターンを除いてメッキレジスト材が
付与された導電性金属帯と、前記カソードの平面と適当
な間隔を置いて対向されたアノードと、カソードに接触
した導電性金属帯とアノードとの間にメッキ液を供給す
る手段と、前記カソードとアノードとの間にパルス状の
メッキ電流を供給すると共に適時にその電流の向きを逆
転することのできるパルス電流供給手段と、一方の面に
接着剤が付与されたベースフィルムを供給する手段と、
ベースフィルムと導電性金属帯とを重ね合わせて導電性
金属帯に形成されたパターン状導体をベースフィルムに
転写す一手段と、ベースフィルムのパターン状導体が転
写された面にオーバーレイフィルムを貼着する手段とか
ら成ることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the method for manufacturing a printed circuit board of the present invention provides a method of manufacturing a printed circuit board of the present invention, in which a conductive metal strip is made into a cathode by contacting a cathode, and a conductive metal strip is coated with a plating resist on the side facing the anode, excluding a conductive pattern. A plating current is applied between the conductive metal strip and the anode, a pulsed plating current is supplied between the cathode and the anode, and a reverse plating current is applied at appropriate times between the cathode and the anode. supplying a current, thereby depositing a patterned conductor on the conductive metal strip, transferring the patterned conductor to a base film, and adhering an overlay film to the surface of the base film to which the patterned conductor has been transferred; The apparatus for manufacturing a printed circuit board of the present invention includes a plating liquid tank containing a plating liquid, a can located above the plating liquid tank and having a flat surface extending in the horizontal direction; A conductive metal strip is made into a cathode by contacting the flat surface of the cathode, and has a plating resist material applied to the surface facing the anode except for the conductive pattern, and is opposed to the flat surface of the cathode at an appropriate distance. means for supplying a plating solution between the anode and a conductive metal strip in contact with the cathode; and a means for supplying a pulsed plating current between the cathode and the anode and controlling the direction of the current in a timely manner. means for supplying a pulsed current that can be reversed; and means for supplying a base film having an adhesive applied to one side;
A method for overlapping a base film and a conductive metal strip to transfer a patterned conductor formed on the conductive metal strip to the base film, and pasting an overlay film on the surface of the base film onto which the patterned conductor has been transferred. It is characterized in that it consists of a means to do so.

そして、このような本発明に係るプリント回路板の製造
方法及びプリント回路板の製造装置によれば、折り曲げ
に対する強度が優゛れており、折り曲げ応力が頻繁に加
わる部分に使用されるのに適したパターン状導体を備え
たプリント回路板を得ることができる。
According to the printed circuit board manufacturing method and printed circuit board manufacturing apparatus according to the present invention, the strength against bending is excellent, and it is suitable for use in parts where bending stress is frequently applied. A printed circuit board having a patterned conductor can be obtained.

実施例 以下に、本発明の詳細を実施例に従って説明する。Example The details of the present invention will be explained below according to examples.

先ず、プリント回路板の製造装置について説明する。First, a printed circuit board manufacturing apparatus will be explained.

先ず、第1図及び第2図によって本発明プリント回路板
の製造装置の概要を説明する・。
First, an overview of the printed circuit board manufacturing apparatus of the present invention will be explained with reference to FIGS. 1 and 2.

lはメッキ液槽であり、このメッキ液槽lの上方におい
て、ステンレスあるいは二、ツケル等から成る金属帯2
が水平方向に配置されている。3はメッキ液槽lの上方
に略固定的に配置されたカソードで、例えば、グラファ
イトから成り、前記金属帯2はこのカソード3の下面と
摺接状態で第1図及び第2図の矢印方向へ移動されるよ
うになっている。
1 is a plating liquid tank, and above this plating liquid tank 1, a metal band 2 made of stainless steel, steel, etc.
are arranged horizontally. Reference numeral 3 denotes a cathode substantially fixedly disposed above the plating liquid tank l, which is made of, for example, graphite, and the metal band 2 is in sliding contact with the lower surface of the cathode 3 in the direction of the arrow in FIGS. 1 and 2. It is now being moved to .

供給リール4に巻回されている金属帯2はそこから巻き
戻されてガイドロール5を経てメッキ液槽lの上方に供
給される。メッキ液槽lの上方において、金属帯2がカ
ソード3と摺接状態で、従って、カッー゛ド化された状
態で、移動される間に、以下に述べるような方法で、該
金属帯2の下面に所望の金属、例゛えば、銅が電解析出
される。
The metal strip 2 wound around the supply reel 4 is unwound from there and is supplied to the upper part of the plating liquid tank 1 via the guide roll 5. While the metal strip 2 is being moved above the plating solution bath l in sliding contact with the cathode 3 and thus in a carded state, the metal strip 2 is removed in the manner described below. The desired metal, for example copper, is electrolytically deposited on the lower surface.

尚、金属帯2のパターン状導体形成面、即ち、アノード
に対向される面には、予めメッキレジスト材6が付与さ
れている。即ち、パターン状導体7.7、−―拳が形成
されるべき部分7′、7′、1・を除いた部分にメッキ
レジスト材6が添着せしめられる(第9図参照)。この
メッキレジスト材6は、例えば、紫外線の照射により硬
化するタイプのものであり、スクリーン印刷法等の手段
により金属帯2のパターン状導体形成面に付与され、そ
れから紫外線が照射されて硬化せしめられる。このよう
に、メッキレジ績ト材6が付与された釜属帯2に後述す
る方法でメッキが施されることによって、金属帯2のメ
ッキレジスト材6が付与されていない部分7′、7′、
番@$にメッキ金属、例えば、銅が堆積され、これによ
って、パターン状導体7.7.・・・が形成せしめられ
る。
Note that a plating resist material 6 is applied in advance to the patterned conductor forming surface of the metal strip 2, that is, the surface facing the anode. That is, the plating resist material 6 is attached to the patterned conductor 7.7 -- except for the portions 7', 7', 1. where the fist is to be formed (see FIG. 9). This plating resist material 6 is, for example, of a type that is cured by irradiation with ultraviolet rays, and is applied to the patterned conductor forming surface of the metal strip 2 by means such as screen printing, and is then irradiated with ultraviolet rays to be cured. . In this way, the metal band 2 to which the plating resist material 6 has been applied is plated by the method described later, so that the parts 7', 7', and the metal band 2 to which the plating resist material 6 is not applied are plated.
A plated metal, for example copper, is deposited on the patterned conductor 7.7. ...is formed.

8はベースフィルム供給リールであり、これに巻回され
ているベースフィルム9は案内ロールlOの筒所で金属
帯2のパターン状導体7.7、・・・が形成された側の
面と密着せしめられる。そして、このベースフィルム9
は加圧ロール11、案内ロール12.12、ヒートロー
ル13、案内ロール12を通って、巻取リール14に巻
き取られていく。
Reference numeral 8 denotes a base film supply reel, and the base film 9 wound on this reel is brought into close contact with the surface of the metal strip 2 on which the patterned conductors 7, 7, . . . I am forced to do it. And this base film 9
passes through the pressure roll 11, guide rolls 12, 12, heat roll 13, and guide roll 12, and is wound onto the take-up reel 14.

ベースフィルム9の金属帯2と接触せしめられる側の面
には加熱活性型の接着剤(図示しない、)が塗布されて
おり、ベースフィルム9と金属帯2とが重ね合わされた
状態でヒートロール15に加圧ロール11によって圧着
されることによって、ベースフィルム9に付与された前
記接着剤が活性化し、金属帯2上に形成されたパターン
状導体7.7、・・・がベースフィルム9に接着せしめ
られる。従って、ヒートロール15と加圧ロール11と
が圧接された箇所を通り抜けたところで、金属帯2とベ
ースフィルム9とが互いに離れて行くようにされている
ので、パターン状導体7.7、φ・・は金属帯2から引
き剥がされる。
A heat-activated adhesive (not shown) is applied to the side of the base film 9 that is brought into contact with the metal strip 2, and a heat roll 15 is applied with the base film 9 and the metal strip 2 overlapped. The adhesive applied to the base film 9 is activated and the patterned conductors 7, 7, . . . formed on the metal strip 2 are bonded to the base film 9. I am forced to do it. Therefore, the metal strip 2 and the base film 9 are separated from each other after passing through the area where the heat roll 15 and the pressure roll 11 are pressed together, so that the patterned conductor 7.7, φ * is torn off from the metal band 2.

尚、このとき、メッキレジスト材6は金属帯2に残され
る。これは、第10図に示すように、パターン状導体7
.7、・・・の両側縁部16.16、O・・がメッキレ
ジスト材6の縁から突出するように、この部分で厚みが
厚く堆積されるため、この両側縁部16,16、・・−
がメッキレジスト材6に比較してベースフィルム9の接
着剤層により充分に圧着されることと、金属帯2に対す
る密着強度がパターン状導体7.7、・・・に比較して
メッキレジスト材6の方がより強いこととによる。
Incidentally, at this time, the plating resist material 6 is left on the metal band 2. As shown in FIG.
.. The both side edges 16, 16, O... of 7, . −
The plating resist material 6 is sufficiently compressed by the adhesive layer of the base film 9 compared to the plating resist material 6, and the adhesion strength to the metal strip 2 is higher than that of the patterned conductor 7.7. This is because it is stronger.

尚、金属帯2はその全部が巻取リール17に巻き取られ
た後は、その後、それに添着されたメッキレジスト材6
が除去され、再び新たなメッキレジスト材6が付与され
供給リール4に巻装され、再び使用に供される。
Incidentally, after the metal band 2 is entirely wound up on the take-up reel 17, the plating resist material 6 attached to it is then removed.
is removed, a new plating resist material 6 is applied again, the supply reel 4 is wound, and the supply reel 4 is used again.

18はオーバーレイフィルムであり、供給り−ル19か
ら送出され、巻取リール14に巻き取られて行く、そし
て、この過程において、ヒートロール13.13間を通
過するときに、前記ベースフィルム9のパターン状導体
7,7、・・・が貼着された側の面と密着せしめられる
Reference numeral 18 denotes an overlay film, which is sent out from a supply reel 19 and wound onto a take-up reel 14, and in this process, when passing between heat rolls 13 and 13, the base film 9 is The patterned conductors 7, 7, . . . are brought into close contact with the surface on the pasted side.

そして、オーバーレイフィルム18のベースフィルム9
に密着される側の面には加熱活性型の接着剤が塗布され
ており、従って、このオーバーレイフィルム18とベー
スフィルム9とがヒートロール13.13の間で加熱加
圧されることにより、オーバーレイフィルム18上の接
着剤が活性化し、これによってオーバーレイフィルム1
8がベースフィルム9のパターン状導体7.7、・・・
が接着された側の面に接着され、ここにフレキシブルプ
リント回路板20の連続したものが形成され、これが巻
取リール14に巻き取られて行く。
Then, the base film 9 of the overlay film 18
A heat-activated adhesive is applied to the side that will be in close contact with the overlay film 18 and the base film 9, so that the overlay film 18 and the base film 9 are heated and pressed between the heat rolls 13 and 13 to form an overlay. The adhesive on film 18 is activated, thereby causing overlay film 1
8 is a patterned conductor 7.7 of the base film 9,...
is adhered to the adhesive side, a continuous flexible printed circuit board 20 is formed here, and this is wound onto the take-up reel 14.

以上のようにして、フレキシブルプリント回路板20が
連続的に形成されることになる。
In the manner described above, the flexible printed circuit board 20 is continuously formed.

21はメッキ液槽l内においてメッキ液を循環させるた
めのポンプであり、このポンプ21はモータ22によっ
て駆動され、そして送出導管23及び戻入導管24を有
しており、これら2つの導管23及び24はメッキ液槽
l内によって連通されている。
Reference numeral 21 denotes a pump for circulating the plating solution in the plating solution tank l. This pump 21 is driven by a motor 22 and has a delivery conduit 23 and a return conduit 24. These two conduits 23 and 24 are communicated with each other through the plating liquid tank l.

第2図乃至第4図から良く解るように、カソード3は、
この下側を移動される金属帯2と摺接し得るように水平
方向に位置された平らな底面25を有している。カソー
ド3の底面25には円形の凹部26.26.26及び溝
27.27.27が適当に配置形成されており、そして
、各溝27.27.27は少なくとも一つの四部26と
連通されている0図示された3個の円形凹部26.26
.26はカソード3に垂直方向に貫通形成された各別の
通路28.28.28と直結されている。これらの通路
28.28.28は、導管29.29.29を介して真
空ポンプ30と連結されており、真空ポンプ30はモー
タ31によって駆動される。
As can be clearly seen from FIGS. 2 to 4, the cathode 3 is
It has a flat bottom surface 25 positioned horizontally so as to be able to come into sliding contact with the metal strip 2 that is moved underneath. Circular recesses 26, 26, 26 and grooves 27, 27, 27 are suitably arranged in the bottom surface 25 of the cathode 3, and each groove 27, 27, 27 communicates with at least one of the four parts 26. 0 Three circular recesses shown 26.26
.. 26 are directly connected to separate passages 28, 28, 28 formed vertically through the cathode 3. These channels 28,28,28 are connected via conduits 29,29,29 to a vacuum pump 30, which is driven by a motor 31.

しかして、金属帯2がカソード3の下側に供給されてい
る間真空ポンプ30を駆動すると、カソード3の底面2
5に設けられた円形四部26.26.26及び溝27.
27.27に部分的な真空状態が生じ、これによる吸引
力によって金属帯2はカソード3底面と摺接されて互い
の間の完全な電気的導通が得られる。
Therefore, if the vacuum pump 30 is driven while the metal strip 2 is being supplied to the lower side of the cathode 3, the bottom surface 2 of the cathode 3
26.26 and the groove 27.5.
A partial vacuum state is created at 27.27, and the resulting suction force brings the metal strip 2 into sliding contact with the bottom surface of the cathode 3, resulting in complete electrical continuity between them.

複数の不溶性アノード32.33.34及び35がメッ
キ液槽1内にカソード3と平行になるように保持されて
おり、カソード3の底面25と摺接しながら移動する金
属帯2と各アノード32.33.34.35との間には
比較的小さな間隔Sが設けられるようにされている。こ
れらアノード32.33と34.35とは金属帯2の移
動方向に所定の間隔を空けて配置されている。そして、
後述する回路によりカソード3及びアノード32.33
.35.36はそれぞれ電源に接続されている。
A plurality of insoluble anodes 32, 33, 34 and 35 are held in the plating solution bath 1 in parallel with the cathode 3, and the metal band 2 and each anode 32. 33, 34, and 35, a relatively small interval S is provided between them. These anodes 32.33 and 34.35 are arranged at a predetermined interval in the moving direction of the metal strip 2. and,
The cathode 3 and anode 32,33 are connected by the circuit described below.
.. 35 and 36 are each connected to a power supply.

不溶性アノード33と34との間にはポリ塩化ビニリデ
ンの如き電気絶縁性物質から成るブロック36が介挿さ
れており、この絶縁ブロック36の上面37はアノード
32,33.34.35の上面と同一平面上に位置せし
められている。絶縁ブロック36の上面37には金属帯
2の送行方向を横切るように溝38が形成されており、
この溝38はアノード32,33.34あるいは35と
カソード3の底面に沿って走行する金属帯2どの間隔(
この間隔は絶縁ブロック36の上面37と金属帯2との
間の間隔とも等しい。)より充分に大きな幅Wを有して
いる。
A block 36 made of an electrically insulating material such as polyvinylidene chloride is interposed between the insoluble anodes 33 and 34, and the upper surface 37 of this insulating block 36 is the same as the upper surface of the anodes 32, 33, 34, 35. It is located on a flat surface. A groove 38 is formed in the upper surface 37 of the insulating block 36 so as to cross the feeding direction of the metal band 2.
This groove 38 is located between the anode 32, 33, 34 or 35 and the metal strip 2 running along the bottom surface of the cathode 3 (
This distance is also equal to the distance between the upper surface 37 of the insulating block 36 and the metal strip 2. ) has a width W that is sufficiently larger than that of the

孔39が溝38の中央部から下方に向って垂直に形成さ
れており、そして、この孔39はL字状の導管40を介
してポンプ21の送出導管23と連結されている。ポン
プ21の戻入導管24は部分41でメッキ液槽1の内部
に開口している。
A hole 39 is formed vertically downward from the center of the groove 38, and is connected to the delivery conduit 23 of the pump 21 via an L-shaped conduit 40. The return conduit 24 of the pump 21 opens into the interior of the plating bath 1 at a portion 41 .

アノード32及び35の下流側(絶縁ブロック36から
遠い側)には写いに及びアノード32又は35から略等
間隔を空けて電気絶縁性物質、例えば、ポリ塩化ビニリ
デンから成るいくつかのブロック42.42、・・・が
メッキ液槽lを横切るように配置されており、各ブロッ
ク42相互の間及びこれらとアノード32又は35との
間にはメッキ液戻し用の通路43.43、Φ・・が形成
される。
On the downstream side of the anodes 32 and 35 (the side remote from the insulating block 36) there are a number of blocks 42. of an electrically insulating material, for example polyvinylidene chloride, arranged in parallel and at approximately equal distances from the anodes 32 or 35. 42, . is formed.

更に、絶縁ブロック36の溝38内には上向きの段部4
4.44が形成されており、この段部44.44に合成
樹脂製の板材45が溝3Bの中間部を遮断するように部
分46にて固定されており、そして、この板材45には
メッキ液の通過を許容する多数の小孔47.47、・・
・が配列形成されている。尚、遮板45はこのように形
成する他、網目状の板をもって替えても良い。
Furthermore, an upward step 4 is provided in the groove 38 of the insulating block 36.
4.44 is formed, and a plate material 45 made of synthetic resin is fixed to this stepped portion 44.44 at a portion 46 so as to block the middle part of the groove 3B, and this plate material 45 is plated. A large number of small holes 47, 47, which allow liquid to pass through.
・are formed in an array. In addition to forming the shielding plate 45 in this manner, it may be replaced with a mesh-like plate.

48.48は絶縁板であり、アノード32と33との聞
及び34と35との間に介在せしめられ、これによって
、各不溶性アノード32.33.34.35は互いに電
気的に絶縁されている。
48. 48 is an insulating plate, which is interposed between the anodes 32 and 33 and between 34 and 35, whereby each insoluble anode 32, 33, 34, 35 is electrically insulated from each other. .

49は、例えば、テフロン(商品名)のようなものから
成形されたシール帯であり、メッキ液槽1の両側部上端
面から突出され、その上端面は金属帯2の両側縁下面と
摺接する。このシール帯49はメッキ液槽lの両側部上
端面に形成された溝50内にその下方部が摺動可能に受
は入れられており、溝50内においてシール帯49下端
面と溝50の底部との間に、例えば、ポリ塩化ビニリデ
ンや合成ゴムのような弾性のある材料から成るチューブ
51が介挿されている。そして、このチューブ51内に
は空気やその他適当な流体を出し入れすることができる
ようにしてあり、これによってこのチューブ51の上に
横たわるシール帯49を弾性的に上下させシール帯49
上端面と金属帯2との間で完全な水密性が保たれるよう
にしである。
49 is a sealing band formed from a material such as Teflon (trade name), which projects from the upper end surfaces of both sides of the plating liquid tank 1, and its upper end surface slides into contact with the lower surface of both side edges of the metal band 2. . The lower end of the seal band 49 is slidably received in a groove 50 formed on the upper end surface of both sides of the plating liquid tank l, and the lower end surface of the seal band 49 and the groove 50 are slidably received in the groove 50. A tube 51 made of an elastic material such as polyvinylidene chloride or synthetic rubber is inserted between the bottom and the bottom. Air or other suitable fluid can be taken in and out of this tube 51, thereby elastically moving the sealing band 49 lying on the tube 51 up and down.
Complete watertightness is maintained between the upper end surface and the metal band 2.

尚、図示した実施例では、アノード32.33.34.
35及び絶縁ブロック36の両側面がメッキ液槽1の両
側内面と密着されているためシール帯49はメッキ液槽
1の両側部上端に配置されたが、アノード32.33.
34.35及び絶縁ブロック36の両側縁上面にシール
帯49を受は入れる溝を形成して上記と同様に構成して
も良い。この場合でしかも絶縁ブロック36の両側と槽
1内面とが密着していないときは、絶縁ブロック36の
溝38はシール帯49を受ける溝を形成した部分の内側
に形成される必要がある。
In the illustrated embodiment, the anodes 32, 33, 34 .
35 and the insulating block 36 are in close contact with the inner surfaces of both sides of the plating liquid tank 1, the sealing bands 49 are arranged at the upper ends of both sides of the plating liquid tank 1, but the anodes 32, 33.
34, 35 and the upper surfaces of both side edges of the insulating block 36 may be formed with grooves for receiving the seal band 49, and the structure may be similar to that described above. In this case, and when both sides of the insulating block 36 and the inner surface of the tank 1 are not in close contact, the groove 38 of the insulating block 36 needs to be formed inside the part where the groove for receiving the seal band 49 is formed.

52及び53はフォワード用電源であり、電源52はア
ノード32及び33に、また、電源53はアノード34
及び35に、それぞれメッキ用電流を供給するためのも
のである。一方の電源52のプラス端子は切換スイッチ
54を介してアノード32に接続され、また、切換スイ
ッチ55を介してアノード33に接続されている。また
、電源52の接地レベル端子はカソード3に接続されて
いる。そして、他方の電源53も、そのプラス端子は、
切換スイッチ56を介してアノード34に接続され、ま
た、切換スイッチ57を介してアノード35に接続され
ている。また、電源53の接地レベル端子はカソード3
に接続されている。
52 and 53 are forward power supplies, the power supply 52 is connected to the anodes 32 and 33, and the power supply 53 is connected to the anode 34.
and 35 for supplying plating current, respectively. The positive terminal of one power source 52 is connected to the anode 32 via a changeover switch 54 and to the anode 33 via a changeover switch 55. Further, a ground level terminal of the power source 52 is connected to the cathode 3. The positive terminal of the other power supply 53 is also
It is connected to the anode 34 via a changeover switch 56 and to the anode 35 via a changeover switch 57. In addition, the ground level terminal of the power supply 53 is connected to the cathode 3.
It is connected to the.

58はリバース用電源であり、各別の切換スイ、ツチ5
9.60.61.62を介してアノード32.33.3
4.35と接続されている。
58 is a power supply for reverse, and each switch has a separate switch,
Anode 32.33.3 via 9.60.61.62
4.35 is connected.

しかして、メッキ液槽1内にはアノード32.33.3
4.35やそして絶縁ブロック36や42.42、・・
・よりも低いレベルまで、例えば、レベルライン63で
示されるレベルまでメッキ液で満たされる。
Therefore, there are anodes 32, 33, 3 in the plating liquid tank 1.
4.35, insulation block 36, 42.42, etc.
- Filled with plating solution to a lower level, for example, to the level indicated by level line 63.

ポンプ21によって圧送されたメッキ液はL形の導管4
0や絶縁ブロック36によって限定せしめられた通路を
通って上昇され、そして、カソード3の底面25に沿っ
て移動する金属帯2に突き当って直角に向きを変えられ
る。メッキ液は比較的幅の広い溝38から出て絶縁ブロ
ック36と金属帯2間の狭い空間内に入り込み、そして
、それによってアノード32.33.34.35とカソ
ード3の下の金属帯2との間の空間を乱流状態で流れて
行く。
The plating solution pumped by the pump 21 is transferred to the L-shaped conduit 4.
0 and through a passage delimited by an insulating block 36, and is turned at right angles upon hitting the metal strip 2 moving along the bottom surface 25 of the cathode 3. The plating solution exits the relatively wide groove 38 and enters the narrow space between the insulating block 36 and the metal strip 2, and thereby the anode 32, 33, 34, 35 and the metal strip 2 below the cathode 3. It flows turbulently through the space between them.

本発明プリント回路板の製造装置においては、アノード
32.33.34.35上を疏れるメッキ液の乱流の棹
度はメッキ液の流れ方向を横断する方向に平均化されて
いることが好ましい。この目的のために、メッキ液の流
れ方向に測って、溝38の端からアノード33.34と
の接合端までの距11iDが各アノード33.34とカ
ソード3の下を送行される金属帯12との間の間隔Sの
少なくとも5倍の長さになるようにされている。好まし
くは、間隔Sは0.2〜30ミリメートルの範囲内が良
く、又、アノード32.33.34.35に沿って流れ
るメッキ液の乱流の程度は2300以上のレイノルズ数
であることが好ましい。
In the printed circuit board manufacturing apparatus of the present invention, it is preferable that the degree of turbulence of the plating solution flowing over the anode 32, 33, 34, 35 is averaged in a direction transverse to the flow direction of the plating solution. . For this purpose, a distance 11iD from the end of the groove 38 to the joining end with the anode 33.34, measured in the direction of flow of the plating solution, The length is at least five times the distance S between the two. Preferably, the spacing S is in the range of 0.2 to 30 mm, and the degree of turbulence of the plating solution flowing along the anode 32, 33, 34, 35 is preferably a Reynolds number of 2300 or more. .

次に本発明プリント回路板の製造装置の動作について説
明する。
Next, the operation of the printed circuit board manufacturing apparatus of the present invention will be explained.

上述したプリント回路板の製造装置により、例えば、銅
箔から成るパターン状導体を製造する場合、ステンレス
その他の金属から成る金属帯2を供給リール4から巻取
リール14へ一定のスピードで移動させメッキ液槽lの
上を水平に送行させる。金属帯2は、真空ポンプ30を
駆動して金属帯2に対して吸引力を働かせることによっ
て、カソード3の下をその平らな底面25と摺接しなが
ら送行される。
For example, when manufacturing a patterned conductor made of copper foil using the above-mentioned printed circuit board manufacturing apparatus, the metal strip 2 made of stainless steel or other metal is moved at a constant speed from the supply reel 4 to the take-up reel 14 and plated. It is fed horizontally over the liquid tank l. The metal strip 2 is conveyed under the cathode 3 while slidingly contacting the flat bottom surface 25 of the cathode 3 by driving the vacuum pump 30 to apply a suction force to the metal strip 2 .

又、ポンプ21が駆動されると、硫酸銅を含んだメッキ
液が送出されて絶縁ブロック36の溝38内に上昇され
、それから絶縁ブロック36とカソード3の下を送行さ
れる金属帯2との間を通過して、乱流となってアノード
32.33.34.35とカソード3の下の金属帯2と
の間へ流入し、そして、そこを通過して行く。上述した
ように、各アノード32.33.34.35上を流れる
メッキ液の乱流の程度は流れ方向を横切る方向において
略均−である。又、各アノード32.33.34.35
上を流れる乱流の流速は少なくとも約2メートル/毎秒
であることが好ましい。
Furthermore, when the pump 21 is driven, a plating solution containing copper sulfate is sent out and raised into the groove 38 of the insulating block 36, and then between the insulating block 36 and the metal band 2 conveyed under the cathode 3. It flows turbulently between the anode 32, 33, 34, 35 and the metal strip 2 below the cathode 3, and then passes there. As described above, the degree of turbulence in the plating solution flowing over each anode 32, 33, 34, 35 is approximately equal across the flow direction. Also, each anode 32.33.34.35
Preferably, the velocity of the turbulent flow flowing thereover is at least about 2 meters/second.

カソード3と摺接して送行される金属帯2の下面に銅を
堆積させるのに適当な電流密度でアノード32.33.
34.35を通してパルス状のメッキ電流が供、給され
る。尚、このメッキ電流の供給の詳細については後述す
る。各アノード32.33.34.35とカソード化さ
れた金属帯2との間の約0.2〜30ミリメートルの間
隔部をメッキ液が約2メートル/毎秒以上の速度で且つ
乱流状態で流れることは、金属帯2の近傍で銅イオンの
濃度分極層が生長するのを防止し、その結果銅の堆積速
度を効果的に早めることができる。
Anodes 32, 33. at a current density suitable for depositing copper on the underside of metal strip 2 which is carried in sliding contact with cathode 3.
A pulsed plating current is supplied through 34 and 35. Note that the details of supplying this plating current will be described later. The plating solution flows in a turbulent manner at a speed of about 2 meters per second or more through a gap of about 0.2 to 30 mm between each anode 32, 33, 34, 35 and the cathodized metal strip 2. This prevents the growth of a copper ion concentration polarized layer in the vicinity of the metal band 2, and as a result, the copper deposition rate can be effectively accelerated.

以上のようにして、カソード3の下を金属帯2が送行さ
れると同時にその表面のうちメッキレジスト材6が添着
されていない部分7′、7′、・・・に銅箔から成るパ
ターン状導体7.7.・・eが連続的に形成される。金
属帯2に堆積形成されたパターン状導体7.7、φ・・
はベースフィルム9に転写され、その上にオーバーレイ
フィルム18が貼着され、ベースフィルム9とオーバー
レイフィルム18との間にパターン状導体7.7、・φ
・が保持されたフレキシブルプリント回路板(FPC)
20が形成され、それが巻取り−ル14に巻き取られて
行く。尚、巻取リール14に巻き取・られたFPC20
は、その後巻取リール14から巻き戻され、パンチング
加工、その他の所要の加工が施され、かつ1個々の製品
として分割されて行く。
As described above, the metal strip 2 is fed under the cathode 3, and at the same time a pattern of copper foil is formed on the parts 7', 7', . . . to which the plating resist material 6 is not attached on the surface. Conductor 7.7. ...e are formed continuously. Patterned conductor 7.7, φ... deposited on metal strip 2
is transferred to the base film 9, an overlay film 18 is pasted thereon, and a patterned conductor 7.7, .phi.
・Flexible printed circuit board (FPC) that holds
20 is formed and is wound onto the winding reel 14. In addition, the FPC 20 wound on the take-up reel 14
The material is then rewound from the take-up reel 14, subjected to punching and other necessary processing, and then divided into individual products.

以上に記載したように、上記装置によれば、極めて効果
的に連続的にFPC20の製造を行なうことができるが
、より上質なパターン状導体7.7、・・・をイ与るた
めには、前記カソード3とアノード32.33.34.
35との間に適時に逆電流を供給することが必要である
。これについて、第7図に従って詳述する。
As described above, according to the above-mentioned apparatus, it is possible to manufacture the FPC 20 extremely effectively and continuously, but in order to provide higher quality patterned conductors 7, 7,... , the cathode 3 and the anode 32.33.34.
It is necessary to supply a reverse current in a timely manner between 35 and 35. This will be explained in detail according to FIG.

第7図(A)はアノード32に、第7図(B)はアノー
ド33に、第7図(C)はアノード34に、第7図(D
)はアノード35に、それぞれ加えられるパルス状のメ
ッキ電流とリバース電流の状態を示すもので、これら各
図は時間軸を対比できるように配置しである。そして、
これら電流の制御は前述した各切換スイッチ54.55
.56.57.59.60.61及び62を適時にオン
・オフすることによって為される。
7(A) shows the anode 32, FIG. 7(B) shows the anode 33, FIG. 7(C) shows the anode 34, and FIG. 7(D) shows the anode 32.
) shows the states of a pulsed plating current and a reverse current applied to the anode 35, respectively, and these figures are arranged so that the time axes can be compared. and,
These currents are controlled by the aforementioned changeover switches 54 and 55.
.. This is done by turning on and off 56, 57, 59, 60, 61 and 62 at the appropriate times.

更に詳細に述べれば、アノード32及び33へのメッキ
電流の供給は一つのフォワード用電源52によって為さ
れ、切換スイッチ54及び55を交互に、即ち、切換ス
イッチ54がオンのとき55はオフ、54がオフのとき
55はオンとなるように、オンのオフすることによりパ
ルス状のメッキ電流が供給される。アノード34及び3
5に関しても、同様に、一つのフォワード用電源53か
ら交互にオン・オフされる切換スイッチ56及び57を
介してパルス状のメッキ電流が供給される。
More specifically, the plating current is supplied to the anodes 32 and 33 by one forward power source 52, and the changeover switches 54 and 55 are alternately turned on, that is, when the changeover switch 54 is on, the plating current is turned off, and when the changeover switch 54 is on, the plating current is turned off. When 55 is off, 55 is on, so that a pulsed plating current is supplied by turning on and off. Anodes 34 and 3
5, a pulsed plating current is similarly supplied from one forward power source 53 via changeover switches 56 and 57 which are alternately turned on and off.

このような方式によってメッキ電流をパルス状に供給す
ると、電流の立上がり時間が短くて済み、メッキ効率及
びメッキ品位が高くなるという利点がある。即ち、切換
スイッチ54オン、55オフのときを考えると、アノー
ド33−カン−13間の回路に関してアノード32−カ
ソード3間が等軸抵抗負荷となり、ここに電流が流れて
いるので、切換スイッチ54オフ、55オンに切換えた
ときにアノード33−カソード3間に流れる電流の立上
がり時間が短くて済む。逆に、切換スイッチ54オフ、
55オンのときには、アノード32−カソード3間の回
路に関してアノード33−カソード3間が等軸抵抗負荷
となり、ここ゛に電流が流れているので、切換スイッチ
54オン、55オフに切換えたときに、アノード32−
カン−13間に流れる電流の立上り時間が短くて済むこ
とになる。これによって、立上がり、立下がり共に急峻
な矩形波電流を得ることができる。
When the plating current is supplied in a pulsed manner using this method, the rise time of the current is shortened, and the plating efficiency and plating quality are improved. That is, considering when the changeover switch 54 is on and the changeover switch 55 is off, the circuit between the anode 33 and the can 13 becomes an equiaxed resistance load between the anode 32 and the cathode 3, and current flows there. The rise time of the current flowing between the anode 33 and the cathode 3 when switched off and 55 on is short. Conversely, the selector switch 54 is turned off,
When the switch 55 is on, the circuit between the anode 32 and the cathode 3 becomes an equiaxed resistance load between the anode 33 and the cathode 3, and current flows there, so when the switch 54 is turned on and the switch 55 is turned off, Anode 32-
The rise time of the current flowing between the can and the can 13 can be shortened. This makes it possible to obtain a rectangular wave current with steep rises and falls.

尚、第8図に示すよ゛うに、各アノードAに対して各1
個のフォワード用電源Bを用意しスイッチs、s′を交
互にオン・オフさせてパルス電流を供給しスイッチSオ
フ時にはスイッチSオフ時して等軸抵抗負荷Rを通して
電流を流しておき、スイッチSオンと同時にスイッチS
オフ時してアノードに供給されるt流の立上がり時間を
短くする方式も考えられるが、この方式によると前記実
施例で示した方式に比して、以下の欠点がある。   
     ・ まず第1に、等軸抵抗負荷Rに電波を流す間は電力が無
駄に消四されているという問題が゛あり、第2に、アノ
ード−カソード間の抵抗値はメッキ掖の金属イオン濃度
等の要素によって変化するため、等軸抵抗負荷Rの抵抗
値を固定にしておくことには問題があり、かといって、
これを可変にして、常にアノード−カソード間の抵抗値
と同じ値にしておくようにすることは不可能である。
In addition, as shown in FIG. 8, for each anode A,
A forward power supply B is prepared, and switches s and s' are turned on and off alternately to supply a pulse current. Switch S at the same time as turning on S
A method of shortening the rise time of the t-flow supplied to the anode during off-time may be considered, but this method has the following drawbacks compared to the method shown in the above embodiment.
・ First of all, there is a problem that electric power is wasted while transmitting radio waves to the equiaxed resistance load R, and secondly, the resistance value between the anode and cathode depends on the metal ion concentration of the plating plate. There is a problem in keeping the resistance value of the equiaxial resistance load R fixed because it changes depending on factors such as
It is impossible to make this variable and always keep it at the same value as the anode-cathode resistance value.

これに対して、上記実施例で示した方式によれば、−組
のアノードの何れかには常に電流が供給されているため
、電力の無駄がなく、更に、−組を為すそれぞれのアノ
ードとカソードとの間は常に同一条件にあるため、その
電気抵抗も等しく、これを等価抵抗負荷として利用する
ことによってきわめて適切な制御を行なうことができる
On the other hand, according to the method shown in the above embodiment, current is always supplied to one of the anodes of the - group, so there is no waste of power, and furthermore, each anode of the - group Since the conditions between the cathode and the cathode are always the same, the electrical resistance is also the same, and by using this as an equivalent resistance load, extremely appropriate control can be performed.

尚、上記実施例においては、2個のアノードを一組とし
て、これらに1個のフォワード用電源によってパルス状
のメッキ電流を供給するようにしたが、3個あるいはそ
れ以上のアノードを一組としても良い。
In the above embodiment, two anodes are set as a set and a pulsed plating current is supplied to them by one forward power supply, but three or more anodes are set as a set. Also good.

尚、上記パルス電流のピーク値は約10XIO3アンペ
ア以上、パルス幅は0.5〜9.9ミリ秒位が適当であ
るが、勿論これに限定されるものではない。
Note that the peak value of the pulse current is approximately 10×IO3 amperes or more, and the pulse width is approximately 0.5 to 9.9 milliseconds, but the present invention is not limited thereto.

しかして、各アノード32.33.34及び35へのパ
ルス状のメ、〒電流の供給の合間に適時にリバース用電
源58から切換スイッチ59.60.61.62を介し
てリバース電流を供給する。このリバース電流のピーク
値は約27XIO3アンペア位が適当であるが、勿論こ
れに限定されるものではない。
Therefore, a reverse current is supplied from the reverse power supply 58 via the changeover switch 59, 60, 61, 62 at an appropriate time between the supply of pulsed current to each anode 32, 33, 34, and 35. . The peak value of this reverse current is suitably about 27XIO3 amperes, but of course it is not limited to this.

以上のようなプリント回路板の製造方法及びプリント回
路板の製造装置によれば、折り曲げに対する強度が優れ
ており、折り曲げ応力が頻繁に加わる部分に使用される
のに適したプリント回路板を得ることができる。
According to the above-described printed circuit board manufacturing method and printed circuit board manufacturing apparatus, it is possible to obtain a printed circuit board that has excellent bending strength and is suitable for use in areas where bending stress is frequently applied. I can do it.

即ち、メッキ電流をパルス状に供給するため、導電性金
属帯2に堆積される金属の粒子が小さく、従って、堆積
密度が高くなり、折り曲げに対して強靭で、かつ、電気
抵抗が小さく、FPC用導体として好適なパターン状導
体を得ることができる。また、パルス電流であるため、
メッキ電流オフ時に金属帯12側や堆積金属粒子間に発
生するH2や02等のガスが除去され、各金属粒子間の
結合強度が強くなる。これらガスの除去は、メッキ液が
アノードとカソードとの間を乱流状態で流れることによ
っても為され、堆積金属粒子間の結合をより強固なもの
とする。更に、メッキ液が流れていることとパルス状の
メッキ電流の供給とによって1分極層の発生を抑え、金
属帯に接して常に好適濃度のメッキ液が供給されること
になり、メッキ速度を高めることができ、かつ、品位の
高いパターン状導体を得ることができる。更にまた、ア
ノード−カソード間に適時に逆電界をかけるため、金属
帯2上に生成されるパターン状導体7.7、・・・表面
がそれに付着する金属酸化物(例えば、Cub)が除去
されて活性化し、かつ、金属帯2近くに金属イオンを発
生させるため、分極層の発生を抑えることに寄与し、こ
のこともメッキ速度とメッキ品位を高めるのに寄与する
。また、メッキ液を7ノ一ドーカソード間に流し、かつ
、パルス電流を供給するものであるため、金属帯2上に
堆積される金属の粒子64,64、φ・・が、第9図に
示すように、横長又は横方向に傾斜した堆積となり、こ
の点で屈曲に対して強いパターン状導体を得ることがで
きる。
That is, since the plating current is supplied in a pulsed manner, the metal particles deposited on the conductive metal strip 2 are small, so the deposition density is high, and the FPC is strong against bending and has low electrical resistance. A patterned conductor suitable for use as a conductor can be obtained. Also, since it is a pulse current,
When the plating current is turned off, gases such as H2 and 02 generated on the metal band 12 side and between the deposited metal particles are removed, and the bond strength between each metal particle is strengthened. Removal of these gases is also accomplished by turbulent flow of the plating solution between the anode and cathode, which strengthens the bonds between the deposited metal particles. Furthermore, the flow of the plating solution and the supply of a pulsed plating current suppress the generation of a single polarization layer, and the plating solution at a suitable concentration is always supplied in contact with the metal strip, increasing the plating speed. In addition, a patterned conductor of high quality can be obtained. Furthermore, in order to timely apply a reverse electric field between the anode and the cathode, the patterned conductor 7.7 generated on the metal strip 2... the surface of the metal oxide (for example, Cub) attached thereto is removed. Since the metal ions are activated and metal ions are generated near the metal band 2, it contributes to suppressing the generation of a polarized layer, and this also contributes to increasing the plating speed and plating quality. In addition, since the plating solution is passed between the seven electrodes and a pulse current is supplied, the metal particles 64, 64, φ, etc. deposited on the metal strip 2 are as shown in FIG. As a result, the patterned conductor becomes horizontally elongated or horizontally inclined, and in this point, a patterned conductor that is resistant to bending can be obtained.

尚、上記装置によれば極めて効果的に連続的にパターン
状導体を得ることができるが、このような装置において
、アノード32.33.34.35と金属帯2との間を
メッキ液が乱流状態で流れしかもその乱流の程度が金属
帯2の送行方向を横切る方向において均一であることが
必要である。
Incidentally, although the above-mentioned apparatus allows a continuous patterned conductor to be obtained extremely effectively, in such an apparatus, the plating solution is not disturbed between the anode 32, 33, 34, 35 and the metal strip 2. It is necessary that the metal band 2 flows in a flowing state and that the degree of turbulence thereof is uniform in the direction transverse to the feeding direction of the metal band 2.

さもないと、金属帯の幅方向において金属が良く堆積さ
れる部分とそうでない部分とが生じてしまい堆積される
金属箔の品質が低下することになる。そこで、上記実施
例においては、絶縁ブロック36に形成された溝38の
垂直方向における略中間位置に板状部材45を配置しこ
れに小孔47.47、・拳・を多数配列形成したので、
このようにすることによって、溝38にまでポンプアッ
プされたメッキ液は一旦溝38の遮板45より下方の部
分に満たされ、それから全小孔47.47、・・・から
強制的に送出される。従って、各アノード32.33.
34.35と金属帯2との間を流れるメッキ液の乱流の
程度が金属帯2の送行方向を横切る方向においてより均
一なものとなる効果がある。
Otherwise, there will be parts where the metal is deposited well and parts where the metal is not deposited well in the width direction of the metal strip, degrading the quality of the deposited metal foil. Therefore, in the above embodiment, the plate-like member 45 is placed approximately in the vertical middle position of the groove 38 formed in the insulating block 36, and a large number of small holes 47, 47, fists, etc. are arranged in this plate-like member 45.
By doing this, the plating solution pumped up to the groove 38 temporarily fills the portion of the groove 38 below the shielding plate 45, and is then forcibly sent out from all the small holes 47, 47, . Ru. Therefore, each anode 32.33.
This has the effect that the degree of turbulence of the plating solution flowing between the metal strip 2 and the metal strip 2 becomes more uniform in the direction transverse to the feeding direction of the metal strip 2.

発明の効果 以上に記載したところから明らかなように、本発明プリ
ント回路板の製造方法は、カソードと接触してカソード
化される導電性金属帯のアノードと対面する側の面に導
体パターンを除いてメッキレジスト材を付与し、該導電
性金属帯とアノードとの間にメッキ液を流し、前記カソ
ードとアノードとの間にパルス状のメッキ電流を供給す
ると共に、前記カソードとアノードとの間に適時に逆電
流を供給し、これによって前記導電性金属帯にパターン
状導体を堆積形成し、このパターン状導体をベースフル
ムに転写し、ベースフィルムのパターン状導体が転写さ
れた面にオーバーレイフィルムを貼着することを特徴と
し、また、本発明プリント回路板の製造装置は、メッキ
液が入れられているメッキ液槽と、該メッキ液槽の上方
に配置され水平方向に延びる平面を有するカソードと、
前記カソードの上記平面と接触してカソード化されると
共にアノードに対向する面に導体パターンを除いてメッ
キレジスト材が付与された導電性金属帯と、前記カソー
ドの平面と適当な間隔を置いて対向されたアノードと、
カソードに接触した導電性金属帯とアノードとの間にメ
ッキ液を供給する手段と、前記カソードとアノードとの
間にパルス状のメッキ電流を供給すると共に適時にその
電流の向きを逆転することのできるパルス電流供給手段
と、一方の面に接着剤が付与されたベースフィルムを供
給する手段と、ベースフィルムと導電性金属帯とを重ね
合わせて導電性金属帯に形成されたパターン状導体をベ
ースフィルムに転写する手段と、ベースフィルムのパタ
ーン状導体が転写された面にオーバーレイフィルムを貼
着する手段とから成ることを特徴とする。
Effects of the Invention As is clear from the above description, the method for manufacturing the printed circuit board of the present invention includes removing a conductive pattern on the side facing the anode of the conductive metal strip that is made into a cathode by contacting the cathode. A plating resist material is applied to the conductive metal strip, a plating solution is flowed between the conductive metal strip and the anode, a pulsed plating current is supplied between the cathode and the anode, and a plating resist material is applied between the cathode and the anode. Supplying a reverse current at a timely manner, thereby depositing and forming a patterned conductor on the conductive metal strip, transferring the patterned conductor to the base film, and pasting an overlay film on the surface of the base film to which the patterned conductor has been transferred. Further, the printed circuit board manufacturing apparatus of the present invention includes: a plating solution tank containing a plating solution; a cathode disposed above the plating solution tank and having a flat surface extending in the horizontal direction;
A conductive metal strip that is made into a cathode by contacting the flat surface of the cathode and has a plating resist material applied to the surface facing the anode except for the conductive pattern, and faces the flat surface of the cathode at an appropriate distance. anode,
means for supplying a plating solution between the conductive metal strip in contact with the cathode and the anode; and means for supplying a pulsed plating current between the cathode and the anode and reversing the direction of the current at a timely manner. A means for supplying a pulsed current that can be used as a base, a means for supplying a base film with an adhesive applied to one surface, and a patterned conductor formed on the conductive metal strip by overlapping the base film and the conductive metal strip. It is characterized by comprising means for transferring onto a film, and means for attaching an overlay film to the surface of the base film onto which the patterned conductor has been transferred.

そして、このような本発明に係るプリント回路板の製造
方法及びプリント回路板の製造装置によれば、折り曲げ
に対する強度が優れており、折り曲げ応力が頻繁に加わ
る部分に使用されるのに適したパターン状導体を備えた
プリント回路板を得ることができる。
According to the printed circuit board manufacturing method and printed circuit board manufacturing apparatus according to the present invention, the pattern has excellent bending strength and is suitable for use in areas where bending stress is frequently applied. A printed circuit board with shaped conductors can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第6図は本発明プリント回路板の製造装置の
実施の一例を示すもので、第1図は一部を省略して示す
全体の側面図、第2図はメッキ液槽を拡大して示す縦断
面図、第3図は第2図の3−3線に沿う断面図、第4図
はカソードの底面図、第5図は第3図と同じ部位で切断
しシール手段の詳細を示す拡大断面図、第6図は絶縁ブ
ロックを詳細に示す拡大斜視図、第7図は本発明プリン
ト回路板の製造方法においてアノードに供給される電流
の状態を示すタイムチャート図、第8図は電流供給手段
の別の例を示す概念図、第9図は導電性金属帯に形成さ
れるパターンの例を示す図、第10図はパターン状導体
が形成された状態の拡大断面図、第ti図は導電性金属
帯に堆積される金属粒子の状態を示す模型図、第12図
は通常のメッキ法による金属の堆積状態を示す模型図、
第13図はエツチング法による問題点を示すための要部
拡大断面図である。 符号の説明 1・・・メッキ液槽、 2・・・導電性金属帯、 3・・・カソード、 6・・・メッキレジスト材、 9・・・ベースフィルム、 18・・・オーバーレイフィルム、 22.23.39.40・・・メッキ液を供給する手段
。 32.33.34.3511・・アノード。 52.53.54.55.56.57.58.59、e
o、st、62・・・パルス電流供給手段 出 願 人 株式会社小糸製作所 代理人弁理士  小  松  祐  治〆1ツヘ−〉 消       3 −ζno− 1m’l’1
Figures 1 to 6 show an example of the implementation of the printed circuit board manufacturing apparatus of the present invention. Figure 1 is an overall side view with some parts omitted, and Figure 2 is an enlarged view of the plating solution tank. 3 is a sectional view taken along the line 3-3 in FIG. 2, FIG. 4 is a bottom view of the cathode, and FIG. FIG. 6 is an enlarged perspective view showing details of the insulating block, FIG. 7 is a time chart showing the state of the current supplied to the anode in the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention, and FIG. 9 is a conceptual diagram showing another example of a current supply means, FIG. 9 is a diagram showing an example of a pattern formed on a conductive metal strip, FIG. 10 is an enlarged sectional view of a state in which a patterned conductor is formed, and FIG. ti diagram is a model diagram showing the state of metal particles deposited on a conductive metal strip, FIG. 12 is a model diagram showing the state of metal deposition by a normal plating method,
FIG. 13 is an enlarged sectional view of the main part to show the problems caused by the etching method. Explanation of symbols 1... Plating liquid tank, 2... Conductive metal strip, 3... Cathode, 6... Plating resist material, 9... Base film, 18... Overlay film, 22. 23.39.40...Means for supplying plating solution. 32.33.34.3511...Anode. 52.53.54.55.56.57.58.59, e
o, st, 62...Pulse current supply means Applicant: Koito Seisakusho Co., Ltd. Representative Patent Attorney Yuji Komatsu

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)カソードと接触してカソード化される導電性金属
帯のアノードと対面する側の面に導体パターンを除いて
メッキレジスト材を付与し、該導電性金属帯とアノード
との間にメッキ液を流し、前記カソードとアノードとの
間にパルス状のメッキ電流を供給すると共に、前記カソ
ードとアノードとの間に適時に逆電流を供給し、これに
よって前記導電性金属帯にパターン状導体を堆積形成し
、このパターン状導体をベースフルムに転写し、ベース
フィルムのパターン状導体が転写された面にオーバーレ
イフィルムを貼着することを特徴とするプリント回路板
の製造方法
(1) A plating resist material is applied to the side facing the anode of the conductive metal strip that contacts the cathode and becomes a cathode, excluding the conductor pattern, and a plating resist material is applied between the conductive metal strip and the anode. and supplying a pulsed plating current between the cathode and the anode, and supplying a reverse current between the cathode and the anode at appropriate times, thereby depositing a patterned conductor on the conductive metal strip. A method for manufacturing a printed circuit board, comprising: forming a patterned conductor on a base film, transferring the patterned conductor onto a base film, and pasting an overlay film on the surface of the base film to which the patterned conductor has been transferred.
(2)メッキ液が入れられているメッキ液槽と、該メッ
キ液槽の上方に配置され水平方向に延びる平面を有する
カソードと、前記カソードの上記平面と接触してカソー
ド化されると共にアノードに対向する面に導体パターン
を除いてメッキレジスト材が付与された導電性金属帯と
、前記カソードの平面と適当な間隔を置いて対向された
アノードと、カソードに接触した導電性金属帯とアノー
ドとの間にメッキ液を供給する手段と、前記カソードと
アノードとの間にパルス状のメッキ電流を供給すると共
に適時にその電流の向きを逆転することのできるパルス
電流供給手段と、一方の面に接着剤が付与されたベース
フィルムを供給する手段と、ベースフィルムと導電性金
属帯とを重ね合わせて導電性金属帯に形成されたパター
ン状導体をベースフィルムに転写する手段と、ベースフ
ィルムのパターン状導体が転写された面にオーバーレイ
フィルムを貼着する手段とから成ることを特徴とするプ
リント回路板の製造装置
(2) a plating solution tank containing a plating solution; a cathode arranged above the plating solution tank and having a flat surface extending in the horizontal direction; A conductive metal strip having a plating resist material applied to opposing surfaces excluding the conductor pattern, an anode facing the plane of the cathode with an appropriate distance therebetween, and a conductive metal strip and anode in contact with the cathode. a means for supplying a plating solution between the cathode and the anode; a pulsed current supplying means capable of supplying a pulsed plating current between the cathode and the anode and reversing the direction of the current in a timely manner; a means for supplying a base film to which an adhesive has been applied; a means for overlapping the base film and a conductive metal strip to transfer a patterned conductor formed on the conductive metal strip to the base film; and a pattern on the base film. and means for attaching an overlay film to the surface onto which the shaped conductor has been transferred.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS537541A (en) * 1976-07-09 1978-01-24 Fujitsu Ltd Plating method of printed circuit board
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