JPS61134999A - Semiconductor storage device - Google Patents
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- JPS61134999A JPS61134999A JP59255671A JP25567184A JPS61134999A JP S61134999 A JPS61134999 A JP S61134999A JP 59255671 A JP59255671 A JP 59255671A JP 25567184 A JP25567184 A JP 25567184A JP S61134999 A JPS61134999 A JP S61134999A
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- memory cell
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- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体集積装置に関するものであり、特に通常
のメモリセルの外に不揮発性メモリ部を設けた半導体記
憶装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated device, and particularly to a semiconductor memory device in which a nonvolatile memory section is provided in addition to normal memory cells.
半導体記憶装置、マイクロプロセッサ等半導体集積装置
はその集積度の向上、高速化と共に高信頼性が要望され
、製造後の試験段階で種々の試験が行なわれている。種
々の試験の結果は、試験成績書としてまとめられ、保存
、管理されている。Semiconductor integrated devices such as semiconductor storage devices and microprocessors are required to have higher integration density, higher speed, and higher reliability, and various tests are conducted at the test stage after manufacturing. The results of various tests are compiled, stored, and managed as a test report.
またかかる試験結果は、半導体集積装置の表面に試験記
録用のレベルを貼付したり、試験記録用シートを該当す
る半導体集積装置のピンに針金で結んだりして、判別で
きるようにしている場合も多い。すなわち試験員が、試
験に応じて、試験結果を、手作業として、上記ラベル等
に書込んでいる。In some cases, such test results can be determined by pasting a test record level on the surface of the semiconductor integrated device, or by tying the test record sheet to the pin of the corresponding semiconductor integrated device with wire. many. That is, the tester manually writes the test results on the label or the like according to the test.
試験結果は基本的に各半導体集積装置毎に得られるもの
であるから、常に半導体集積装置と試験データとが一対
一に対応して明確になっている必要がある。その点で、
上述の如く実際の半導体集積装置に試験記録用ラベルを
貼付することは実際的で好ましいのであるが、半導体集
積装置の外形寸法が限られているのに反して試験項目が
増大し、記録用ラベルには試験結果を充分書込めないと
いう問題が生じている。また記録用ラベルは、記録完了
後は取り除くべきものであり一時的に粘着させるもので
あるから、剥離し易く、試験結果が喪失されるという問
題をはらんでいる。Since test results are basically obtained for each semiconductor integrated device, it is necessary to always have a clear one-to-one correspondence between semiconductor integrated devices and test data. In that respect,
As mentioned above, it is practical and preferable to affix a test record label to an actual semiconductor integrated device, but the number of test items increases while the external dimensions of a semiconductor integrated device are limited. There is a problem in that the test results cannot be recorded sufficiently. Furthermore, since the recording label must be removed after recording is completed and is temporarily attached, there is a problem in that it is easily peeled off and the test results are lost.
試験記録シートを半導体集積装置のビンに結んだ場合も
同様の問題を存している。すなわち、先ずピンから外れ
易く、半導体集積装置の外形寸法に比し余り大きい用紙
にすると扱い難い、従って成る程度の大きさにしなけれ
ばならないが、そうすれば記入可能な試験結果は自ずか
ら制限されてしまう。A similar problem exists when a test record sheet is tied to a bottle of a semiconductor integrated device. That is, first of all, it is easy to detach from the pins, and if the paper is too large compared to the external dimensions of the semiconductor integrated device, it will be difficult to handle. Put it away.
詳細な試験成績書のみで管理した場合は、実際の半導体
集積装置との対応づけに問題が生ずる。If the test results are managed using only detailed test results, there will be problems in associating them with actual semiconductor integrated devices.
また上述の試験結果の管理方法は本質的に、試験員の錯
誤により、行うべき試験を実施せずに次の試験に移行す
る、特性に問題があるにも拘らず正常と記入してしまう
ような可能性を常に内在している。In addition, the above-mentioned test result management method essentially allows testers to make mistakes and move on to the next test without conducting the test they should have done, or write the test results as normal even though there is a problem with the characteristics. There are always possibilities within.
さらにまた上述の試験結果の管理方法は、高々、半導体
集積装置が単体として完成されて出荷される前の工場試
験時において有効にすぎない。すなわち、それらの半導
体集積装置が実際の製品に適用され、その製品に組込れ
た状態において再度試験された場合に故障が発生した場
合とか、実際のフィールドで作動中に故障が発生したよ
うな場合、しばしば、過去の工場試験時等の試験結果を
参照して、原因究明若しくは今後の改善策を講じる、又
は使用条件の改正等を行うことが必要とされるが、工場
試験時の記録が保存されていたとしても故障した半導体
集積装置との同定は不可能である。Furthermore, the above-described test result management method is only effective at the time of factory testing before a semiconductor integrated device is completed and shipped as a single unit. In other words, if a failure occurs when these semiconductor integrated devices are applied to an actual product and tested again while being incorporated into that product, or if a failure occurs during operation in the actual field. In such cases, it is often necessary to investigate the cause, take future improvement measures, or revise usage conditions by referring to test results from past factory tests, etc.; Even if it is preserved, it is impossible to identify it with a failed semiconductor integrated device.
一定基準の品質を有するものが、数多く、種々のユーザ
ーに出荷され、出荷後は最早半導体集積装置価々の対応
づけが困難であるからである。This is because a large number of semiconductor integrated devices having a certain standard of quality are shipped to various users, and it is difficult to associate semiconductor integrated devices with each other after shipping.
また従来の手法は試験の自動化における動電低下の要因
となっている。In addition, conventional methods are a factor in electrodynamic degradation in test automation.
かかる事情に鑑み、実際の半導体集積装置、特に半導体
メモリ装置と対応づけが完全且つ容易に行うことが可能
であって、正確且つ十分な試験結果が保存し得ることが
要望されている。また試験の自動化に伴う効率向上を一
層促進する効率良い試験記録手段が要望されている。さ
らに不注意等による試験の抜け、合否の記録ミスなどが
生じないようにすることが要望されている。In view of such circumstances, it is desired that it be possible to completely and easily associate with an actual semiconductor integrated device, especially a semiconductor memory device, and that accurate and sufficient test results can be stored. Additionally, there is a need for an efficient test recording means that further promotes efficiency improvements associated with test automation. Furthermore, there is a need to prevent omissions in exams and errors in recording pass/fail results due to carelessness.
上述の問題点を解決するため、本発明においては、例え
ば第1図に例示の如く、通常動作時にアクセスされるメ
モリセルから成るメモリセルアレイ3と、通常動作時に
はアクセスされない不揮発性メモリセルから成る不揮発
性メモリセルアレイ11と、外部からの制御信号に応答
して前記メモリセルアレイに対する選択回路2を非動作
状態とし、且つ前記不揮発性メモリセルアレイに対する
選択回路10がアドレス信号に応答して動作可能な状態
とする制御回路12とを具備することを特徴とする半導
体記憶装置が提供される。In order to solve the above-mentioned problems, in the present invention, as illustrated in FIG. The nonvolatile memory cell array 11 and the selection circuit 2 for the memory cell array are rendered inactive in response to an external control signal, and the selection circuit 10 for the nonvolatile memory cell array is rendered operational in response to an address signal. There is provided a semiconductor memory device characterized by comprising a control circuit 12 that performs the following steps.
本発明は複数のメモリセルを有する従来の半導体メモリ
装置に、複数の不揮発性メモリセル、該複数の不揮発性
メモリセルを選択するための付加的なローデコーダ回路
、およびデコーダ作動選択回路をさらに具備している。The present invention further includes a conventional semiconductor memory device having a plurality of memory cells, a plurality of nonvolatile memory cells, an additional row decoder circuit for selecting the plurality of nonvolatile memory cells, and a decoder operation selection circuit. are doing.
デコーダ作動選択回路は、試験結果記録時は付加的なロ
ーデコーダ回路を作動させて試験結果を不揮発性メモリ
セルに記録できるよ、うにする。また試験結果を読出す
場合も付加的なローデコーダ回路が作動させられる。こ
れら以外の通常の場合は従来通りのローデコーダが作動
し、本来の複数のメモリセルへのアクセスが行なわれる
。The decoder activation selection circuit activates the additional row decoder circuit when recording test results so that the test results can be recorded in the non-volatile memory cells. An additional row decoder circuit is also activated when reading test results. In normal cases other than these, the conventional row decoder operates and the original plurality of memory cells are accessed.
以下実施例について添付図面を参照して下記に述べる。 Examples will be described below with reference to the accompanying drawings.
第1図は本発明の一実施例として半導体メモリ装置に適
用した場合の構成図を示す。FIG. 1 shows a configuration diagram when the present invention is applied to a semiconductor memory device as an embodiment.
第1図に図示の半導体メモリ装置は、複数のメモリセル
がマトリクス状に配設されて成るメーモリセルアレイ3
、該メモリセルアレイ3の所定のメモリセルを選択する
ためのアドレスバッファ1、ローデコーダ2、コラムデ
コーダ5及びコラムゲート回路6、センスアンプ回路7
、入出カバソファ回路8、及びコントロール回路4が図
示の如(構成されている。これらは、例えばダイナミッ
クランダムアクセスメモリ (D−RAM)又はスタテ
ィックランダムアクセスメモリ (S−RAM)として
構成される従来のものと同様である。The semiconductor memory device shown in FIG. 1 includes a memory cell array 3 in which a plurality of memory cells are arranged in a matrix.
, an address buffer 1 for selecting a predetermined memory cell of the memory cell array 3, a row decoder 2, a column decoder 5, a column gate circuit 6, and a sense amplifier circuit 7.
, an input/output cover sofa circuit 8, and a control circuit 4 are configured as shown in the figure. It is similar to
本発明による半導体メモリ装置は上述のものの外、複数
の不揮発性メモリ・セルから成る不揮発性メモリセルア
レイ (又はサービスメモリセルアレイ)11、該不揮
発性メモリセルアレイ11のワード線を選択するための
付加的なローデコーダであるサービスメモリ用ローデコ
ーダ10、ローデコーダ2を活性化するかサービスメモ
リ用ローデコーダ10を活性化するかを選択するローデ
コーダ作動選択回路12、及び、インバータ13を備え
ている。In addition to the above, the semiconductor memory device according to the present invention includes a nonvolatile memory cell array (or service memory cell array) 11 consisting of a plurality of nonvolatile memory cells, and an additional memory cell array for selecting a word line of the nonvolatile memory cell array 11. It includes a service memory row decoder 10 which is a row decoder, a row decoder operation selection circuit 12 for selecting whether to activate the row decoder 2 or the service memory row decoder 10, and an inverter 13.
第1図に図示の実施例において、不揮発性メモリセルア
レイ11の所望のメモリセル選択に関して、回路を簡単
にする観点から、コラムデコーダ5及びコラムゲート回
路6を通常のメモリセルアレイを選択するビット線と共
用し、酸ビット線が通常のメモリセルアレイ3と同時に
選択できるようにしている。一方、ワード線は同時には
選択されぬようローデコーダ2とは別個にサービスメモ
リ用ローデコーダ10を設け、これらのデコーダ2及び
10は、ローデコーダ作動選択回路12からのサービス
メモリ選択信号SMS又は反転サービスメモリ選択信号
SMSによっていずれか一方が作動可能となる。In the embodiment shown in FIG. 1, for selecting a desired memory cell in the nonvolatile memory cell array 11, from the viewpoint of simplifying the circuit, the column decoder 5 and the column gate circuit 6 are used as bit lines for selecting a normal memory cell array. They are shared so that the acid bit line can be selected at the same time as the normal memory cell array 3. On the other hand, a service memory row decoder 10 is provided separately from the row decoder 2 so that the word lines are not selected at the same time. Either one can be activated by the service memory selection signal SMS.
第1図に図示の半導体メモリ装置のうち本発明に関係す
る部分を、第2図を参照してより具体的に述べる。The portions of the semiconductor memory device shown in FIG. 1 that are related to the present invention will be described in more detail with reference to FIG.
アドレスバッファ1には16ビツトのアドレス信号A0
〜A15が入力され、コラムデコーダ用にA0〜A7、
ローデコーダ用にA8〜A I5が用いられ、結局、そ
れぞれ256本のワード線WL。Address buffer 1 has a 16-bit address signal A0.
~A15 is input, A0~A7 for column decoder,
A8 to AI5 are used for the row decoder, resulting in 256 word lines WL each.
〜WL2SS、及び256本のビット線BLo〜13L
zssが選択される。従って通常のメモリセルアレイ3
は64にビットが図示の如くマトリクス状に接続されて
いる。このため、アンドゲートD G o = D G
zssで構成されたローデコーダ2はアドレスバッフ
ァ1からの信号を受けて図示の如くワードvAWL、〜
WLZSSを規定す。同様にコラムデコーダ5で選択さ
れた信号に応答してビット線BL、〜BLzssの1つ
を選択する、ゲートCG、〜CGzssから成るコラム
ゲート回路6が図示の如く接続されている。該コラムゲ
ート回路6の出力段にはセンスアンプ回路7が設けられ
、信号を読み出し得るようになっている。~WL2SS and 256 bit lines BLo~13L
zss is selected. Therefore, normal memory cell array 3
The bits 64 are connected in a matrix as shown. Therefore, the AND gate DG o = DG
A row decoder 2 configured with zss receives a signal from an address buffer 1 and outputs words vAWL, ~ as shown in the figure.
Define WLZSS. Similarly, a column gate circuit 6 consisting of gates CG and CGzss is connected as shown, and selects one of the bit lines BL and BLzss in response to a signal selected by the column decoder 5. A sense amplifier circuit 7 is provided at the output stage of the column gate circuit 6, so that signals can be read out.
上記通常のメモリセル3と同様にマトリクス状にビット
線BL、〜BLzssとワード線WLo〜W L zに
接続された複数の不揮発性メモリセルから成る不揮発性
メモリセルアレイ11がメモリセルアレイ3と並設され
ている。不揮発性メモリセルアレイ11内のワード線W
Lo〜WL3を選択するため4個のアンドゲート5GD
O〜5GD3から成るサービスメモリ用ローデコーダ1
0が図示の如く接続されている。すなわち、この例にお
いてはアドレス信号のうちのA8及びA、の2ビツトで
、ワード線の下位の4本WL0〜WL、を選択しようと
するものである。従って不揮発性メモリセルの容量は4
X256=IKビツトである。A nonvolatile memory cell array 11 consisting of a plurality of nonvolatile memory cells connected to bit lines BL, ~BLzss, and word lines WLo~WLz in a matrix like the normal memory cell 3 is arranged in parallel with the memory cell array 3. has been done. Word line W in nonvolatile memory cell array 11
4 AND gates 5GD to select Lo~WL3
Service memory row decoder 1 consisting of O~5GD3
0 are connected as shown. That is, in this example, two bits A8 and A of the address signal are used to select the lower four word lines WL0 to WL. Therefore, the capacity of a nonvolatile memory cell is 4
X256=IK bit.
尚、ローデコーダ2内の各アンドゲートには反転サービ
スメモリ選択信号SMSが印加され、サービスメモリ用
ローデコーダ10内の各アンドゲートにはサービスメモ
リ選択信号SMSが印加されている。Note that an inverted service memory selection signal SMS is applied to each AND gate in the row decoder 2, and a service memory selection signal SMS is applied to each AND gate in the service memory row decoder 10.
ローデコーダ作動選択回路12は、PチャネルMO3)
ランジスタTRI 、TRz 、TR4とNチャネルM
OSトランジスタTR,、TR,が図示の如く接続され
ている。トランジスタTR,とトランジスタTRsとで
インバータ回路を構成している。尚、ローデコーダ作動
選択回路12は、ローデコーダに関与するA8〜A I
5のうちサービスメモリ用ローデコーダ10に用いるA
8及びA、を除いた任意のもの、この実施例ではAlo
をローデコーダ2又はサービスメモリ用ローデコーダ1
0を活性化するための信号として使用している。The low decoder operation selection circuit 12 is a P channel MO3)
Transistors TRI, TRz, TR4 and N-channel M
OS transistors TR, , TR, are connected as shown. The transistors TR and TRs constitute an inverter circuit. Note that the row decoder operation selection circuit 12 selects A8 to A I related to the row decoder.
Out of 5, A is used for the service memory row decoder 10.
8 and A, in this example Alo
Row decoder 2 or service memory row decoder 1
It is used as a signal to activate 0.
ローデコーダ作動選択回路12とサービスメ丈り用ロー
デコーダ10との間にインハ′−夕13′が設けられて
いるが、第1図に図示の場合と逆になっている。これは
、第1図においてローデコーダ作動選択回路12の出力
としてSMS信号が出力されると想定したのに対し、第
2図の図示の場合はSMS信号が出力されるので、イン
バータを設ける位置を逆にしているにすぎない。An inverter 13' is provided between the row decoder operation selection circuit 12 and the service maintenance row decoder 10, but it is reversed from that shown in FIG. This is because it is assumed that the SMS signal is output as the output of the row decoder operation selection circuit 12 in FIG. 1, but in the case shown in FIG. It's just the opposite.
以下、第2図に図示の回路の動作について述べる。The operation of the circuit shown in FIG. 2 will be described below.
先ず、ローデコーダ作動選択回路12の動作について述
べる。First, the operation of the row decoder operation selection circuit 12 will be described.
通常のメモリセルアレイ3をアクセスする場合、アドレ
ス入力のAgoビットは通常のTTLレベルの信号であ
る。従って、トランジスタTR,及びTR,はターンオ
フのままであり、トランジスタTR,のゲートがVcc
レベルとなりノードN1のレベルが“低(L) ”と
なる。よってトランジスタT R4及びTR5によるイ
ンバータで反転され、S M S 信号が“高(H)゛
レベルとして出力される。When accessing the normal memory cell array 3, the Ago bit of the address input is a normal TTL level signal. Therefore, transistors TR, and TR, remain turned off, and the gate of transistor TR, remains at Vcc.
level, and the level of node N1 becomes "low (L)". Therefore, it is inverted by the inverter formed by transistors TR4 and TR5, and the SMS signal is output as a "high" (H) level.
一方、不揮発性メモリセルアレイ11をアクセスする場
合、アドレス入力のA1゜ビットのレベルをVccより
高くする、例えばVcc+α=12Vとする。これによ
りトランジスタTR,及びT Rzはターンオンされ、
容量の小さいトランジスタTR1の出力であるノードN
1のレベルが“H”となる。従って、SMS信号は“L
”となる。On the other hand, when accessing the nonvolatile memory cell array 11, the level of the A1° bit of the address input is set higher than Vcc, for example, Vcc+α=12V. As a result, transistors TR and TRz are turned on,
Node N, which is the output of transistor TR1 with small capacitance
The level of 1 becomes "H". Therefore, the SMS signal is “L”
” becomes.
SMS信号=Hの場合ローデコーダ2の各アンドゲート
DG、〜DGzssが活性化され、アドレスバッファ1
からの信号に応じたワード線WLが選択される。一方丁
π石信号=LすなわちSMS信号=Hの場合は逆にサー
ビスメモリ用ローデコーダ10内の各アンドゲートS
D G o〜S D G 3が活性化される。コラムゲ
ート回路6は従来と同様に駆動される。When the SMS signal = H, each AND gate DG, ~DGzss of the row decoder 2 is activated, and the address buffer 1
A word line WL is selected according to a signal from the word line WL. On the other hand, when the signal is equal to L, that is, the SMS signal is equal to H, each AND gate S in the service memory row decoder 10
DG o to S DG 3 are activated. Column gate circuit 6 is driven in the same manner as before.
すなわち、通常のメモリセルアレイ3を用いて試験又は
通常の動作を行う場合はA、0=TTLレヘルとしてお
き、試験終了後、試験結果を書込む場合は前述の如<A
t。=Vcc+αの電圧レベルにすれば不揮発性メモリ
セルアレイ11の書込が可能となる。勿論この状態で不
揮発性メモリセルアレイ11からの読出しも可能である
。That is, when performing a test or normal operation using the normal memory cell array 3, set A, 0 = TTL level, and when writing the test result after the test, set <A> as described above.
t. If the voltage level is set to =Vcc+α, writing to the nonvolatile memory cell array 11 becomes possible. Of course, reading from the nonvolatile memory cell array 11 is also possible in this state.
尚、アドレス信号のA1゜ビットを高レベルにするのは
試験時の不揮発性メモリセルアレイ11への書込又は読
出し動作をする場合のみであるから、試験結果記録用装
置が、試験データ記録又は続出時のみ、A1゜ビットを
高レベルにできるようになっていれば良く、半導体メモ
リ装置が用いられる装置側で、そのような機能を持つ必
要がないことは明らかである。Note that the A1° bit of the address signal is set to a high level only when writing or reading from the nonvolatile memory cell array 11 during testing. It is sufficient that the A1° bit can be set to a high level only when the semiconductor memory device is used, and it is clear that there is no need for the device in which the semiconductor memory device is used to have such a function.
通常のメモリセルアレイ3は前述の如< D −1?A
M。The normal memory cell array 3 is as described above. A
M.
5−RAMに限らず、任意のものでよい。It is not limited to 5-RAM and may be any arbitrary one.
不揮発性メモリセルとしては、例えば半導体不揮発性M
IS形メセメモリセルては、MNOSメモリセル、MA
O3(MAS)メモリセル、フローティングゲート蓄積
形メモリセル等可能であるが、通常のメモリセル側との
プロセス協調のとれたものを選択することが好適である
。As a nonvolatile memory cell, for example, semiconductor nonvolatile M
IS type mesememory cells include MNOS memory cells and MA
Although O3 (MAS) memory cells, floating gate storage type memory cells, etc. are possible, it is preferable to select one that has good process coordination with the normal memory cell side.
また本発明に係る不揮発性メモリセルは一旦書込めば良
く、消去可能である必要はない。勿論再書込可能のもの
でも良いのであるが、フユーズ溶断形のリードオンリー
メモリ (ROM)を用いて、試験結果を記録する場合
該当するフユーズを溶断するようにしても良い。かかる
観点から、広い意味で不揮発性を有したメモリであれば
良い。Furthermore, the nonvolatile memory cell according to the present invention only needs to be written once and does not need to be erasable. Of course, a rewritable memory may be used, but it is also possible to use a read-only memory (ROM) with a fuse-blown type, and to record the test results by blowing the corresponding fuse. From this point of view, any memory that is nonvolatile in a broad sense may be used.
不揮発性メモリセルアレイ11に書込むべきデータとし
ては、デバイスのシリアル番号、製造ロフト等の一般的
な情報の外、試験種別、各試験の段階で得られた電圧マ
ージン、温度マージン、スピード等の特性データ、合否
の最終判断結果等がある。すなわちシリアル番号により
デバイスが特定でき、製造ロットの記憶によりロットと
しての良否が判断可能となる。また試験種別を記憶して
おくことにより、シーケンシャルに行うべき場合に抜け
た試験があったような場合、次の試験を行うとき予め不
揮発性メモリの内容を読み出しそれを自動的又は試験員
が視認的に確認することができる。また各試験段階の特
性データは出荷時の合否の自動判断に用いられるのみで
なく、いわゆ4カルテとして自身の状態を記憶しておく
ことができる。The data to be written to the nonvolatile memory cell array 11 includes general information such as device serial number and manufacturing loft, as well as test type and characteristics such as voltage margin, temperature margin, and speed obtained at each test stage. There is data, final pass/fail judgment results, etc. That is, the device can be identified by the serial number, and the quality of the lot can be determined by storing the manufacturing lot. In addition, by memorizing the test type, if there is a test that is missed when it should be performed sequentially, the contents of the non-volatile memory can be read out in advance when conducting the next test and it can be automatically or visually checked by the examiner. can be confirmed. In addition, the characteristic data of each test stage is not only used for automatic judgment of pass/fail at the time of shipment, but also allows one's own condition to be stored as a so-called 4 medical record.
勿論、出荷後一旦装置に組込んだ後何らかの問題が生じ
て再試験したような場合、あるいは定期点検した場合の
結果も従前の試験結果に加えていくことが可能である。Of course, it is possible to add the results of the previous test results, such as when some problem occurs after shipping and the product is re-tested after it has been installed in the device, or when periodic inspections are performed.
同様に、長期間保存後の再試験結果等を保存することも
可能である。Similarly, it is also possible to save retest results after long-term storage.
また上述のような試験に係る情報以外の情報、例えば納
入すべきカスタマ−のコード名、出荷年月日等を記録し
ておくことも可能である。It is also possible to record information other than the information related to the above-mentioned test, such as the code name of the customer to whom the product should be delivered, the date of shipment, etc.
以上の実施例は、記憶及び続出の容易性の観点から半導
体メモリ装置における実施例について述べたが、本発明
はこれに限定されるものではない。Although the above embodiments have been described in terms of semiconductor memory devices from the viewpoint of ease of storage and subsequent access, the present invention is not limited thereto.
例えば半導体メモリとマイクロプロセッサとを一体化し
た半導体集積装置における半導体メモリ及びマイクロプ
ロセッサの試験結果も同様に適用することが可能である
。一般にマイクロプロセッサの方がメモリよりも種々の
試験が行なわれるので、その試験結果の記録には特に有
意義である。同様にプログラマブルロジックアレイ (
PLA)の使用ゲート、使用不能ゲートの記録等に用い
ることが可能である。その他の集積回路についても同様
である。For example, test results of a semiconductor memory and a microprocessor in a semiconductor integrated device that integrates a semiconductor memory and a microprocessor can be similarly applied. Since microprocessors are generally subjected to more various tests than memories, it is particularly useful to record the test results. Similarly, programmable logic array (
PLA) can be used to record used gates and unusable gates. The same applies to other integrated circuits.
以上に述べたように本発明によれば、例えば半導体メモ
リ装置等の半導体集積装置と対応付けが完全且つ容易で
あって、正確且つ十分な試験結果を永久的に保存するこ
とができる。As described above, according to the present invention, it is possible to completely and easily associate with a semiconductor integrated device such as a semiconductor memory device, and to permanently store accurate and sufficient test results.
また本発明によれば記録作業の高能率化を達成すること
ができる。Further, according to the present invention, high efficiency of recording work can be achieved.
さらに本発明によれば、不注意、錯誤等に伴う、試験の
洩れ、誤判断が防止できる。Further, according to the present invention, it is possible to prevent omissions in tests and erroneous judgments due to carelessness, mistakes, etc.
第1図は本発明の一実施例としての半導体メモリ装置に
適用した場合の構成図、
第2図は第1図の装置のより具体的な回路例を示す図、
である。
(符号の説明)
1・・・アドレスバッファ、2・・・ローデコーダ、3
・・・メモリセルアレイ、4・・・コントロール回路、
5・・・コラムデコーダ、6・・・コラムゲート回路、
7・・・センスアンプ回路、8・・・入出カバソファ回
路、10・・・サービスメモリ用ローデコーダ、11・
・・不揮発性メモリセルアレイ、12・・・ローデコー
ダ作動選択回路、13・・・インバータ。FIG. 1 is a configuration diagram when applied to a semiconductor memory device as an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a more specific circuit example of the device in FIG. 1,
It is. (Explanation of symbols) 1... Address buffer, 2... Row decoder, 3
...Memory cell array, 4...Control circuit,
5... Column decoder, 6... Column gate circuit,
7...Sense amplifier circuit, 8...Input/output cover sofa circuit, 10...Low decoder for service memory, 11.
. . . Nonvolatile memory cell array, 12 . . . Row decoder operation selection circuit, 13 . . . Inverter.
Claims (1)
モリセルアレイと、通常動作時にはアクセスされない不
揮発性メモリセルから成る不揮発性メモリセルアレイと
、外部からの制御信号に応答して前記メモリセルアレイ
に対する選択回路を非動作状態とし、且つ前記不揮発性
メモリセルアレイに対する選択回路がアドレス信号に応
答して動作可能な状態とする制御回路とを、具備するこ
とを特徴とする半導体記憶装置。 2、前記制御信号は通常動作時に印加される信号電圧よ
りも高い電圧であり、前記制御回路は前記電圧を検出す
る回路を具備することを特徴とする、特許請求の範囲第
1項に記載の半導体記憶装置。[Claims] 1. A memory cell array consisting of memory cells that are accessed during normal operation, a non-volatile memory cell array consisting of non-volatile memory cells that are not accessed during normal operation, and a 1. A semiconductor memory device comprising: a control circuit that renders a selection circuit for a cell array non-operational and that renders a selection circuit for the nonvolatile memory cell array operable in response to an address signal. 2. The control signal according to claim 1, wherein the control signal is a voltage higher than a signal voltage applied during normal operation, and the control circuit includes a circuit that detects the voltage. Semiconductor storage device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59255671A JPS61134999A (en) | 1984-12-05 | 1984-12-05 | Semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59255671A JPS61134999A (en) | 1984-12-05 | 1984-12-05 | Semiconductor storage device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61134999A true JPS61134999A (en) | 1986-06-23 |
Family
ID=17281996
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59255671A Pending JPS61134999A (en) | 1984-12-05 | 1984-12-05 | Semiconductor storage device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61134999A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04106437U (en) * | 1991-02-25 | 1992-09-14 | 株式会社フジタ | Exhaust heat induction tube |
-
1984
- 1984-12-05 JP JP59255671A patent/JPS61134999A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH04106437U (en) * | 1991-02-25 | 1992-09-14 | 株式会社フジタ | Exhaust heat induction tube |
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