JPS6112533B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は各種原子力施設の廃液タンク内の放射
性廃液をサンプリングする方法およびその装置に
関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method and apparatus for sampling radioactive waste liquid in waste liquid tanks of various nuclear facilities.
廃液タンクに貯蔵された各種原子力施設の放射
性廃液は種々の方法により放射能飛散防止処理お
よびプロセス管理が施されているが、最適の方法
でその処理を行うようにするため、予め廃液タン
クから廃液をサンプリングしてその廃液の物性を
分析する必要があり、また安全性および運転管理
の見地からそれが必要である。従来、廃液タンク
から放射性廃液をサンプリングする方法として廃
液タンクの液中に浸したパイプ内にその底部から
圧縮空気を吹き込んで、そのパイプ内をタンク内
の廃液より見掛け比重の軽い気液混相状態をつく
り、その比重差によりタンク内の廃液を所定の位
置まで揚水してサンプリングする方式（いわゆる
エアリフト方式）が数多く採用されている。 Radioactive waste liquid from various nuclear facilities stored in waste liquid tanks is subjected to radioactivity scattering prevention treatment and process control using various methods, but in order to ensure that the treatment is carried out using the optimal method, waste liquid is removed from the waste liquid tank in advance. It is necessary to sample and analyze the physical properties of the waste liquid, and it is also necessary from the standpoint of safety and operation management. Conventionally, as a method for sampling radioactive waste liquid from a waste liquid tank, compressed air is blown from the bottom into a pipe immersed in the liquid in the waste liquid tank to create a gas-liquid mixed phase state inside the pipe, which has an apparent specific gravity that is lighter than the waste liquid in the tank. Many methods have been adopted, such as the so-called airlift method, in which the waste liquid in the tank is pumped up to a predetermined position and sampled based on the difference in specific gravity.
放射性廃液を貯蔵するタンクは放射能汚染防止
の見地から通常減圧下のもとで地下に設置されて
おり、そのような制限下では放射性廃液のサンプ
リング位置は、そのタンクよりはるかに高い位置
にあり、10ｍ程度の位置差のものも多い。放射性
廃液を貯蔵するタンクと放射性廃液サンプリング
位置との高低差が大きいと、上記のエアリフト方
式では、サンプリング位置での十分な廃液の揚水
量を確保するに必要な液浸率が十分にとれない場
合が生じる。 Tanks that store radioactive waste liquid are usually installed underground under reduced pressure to prevent radioactive contamination, and under such restrictions, the sampling position for radioactive waste liquid is located at a much higher level than the tank. , there are many cases where the position difference is about 10m. If there is a large height difference between the radioactive waste liquid storage tank and the radioactive waste liquid sampling position, the air lift method described above may not be able to achieve a sufficient liquid immersion rate to ensure a sufficient amount of waste liquid at the sampling position. occurs.
そこで現在ではエアリフトの液浸率を高めるた
めに、エアリフトに真空ラインを接続するか、エ
アジエツトにより真空を作る方法が一般的に行わ
れている。第１図はエアリフトに真空ラインを接
続する方式を示したもので、ライン１を介してエ
アリフトセパレーター２を真空にすることにより
廃液サンプリングライン３を高減圧化して必要な
液浸率を確保するようにしている。そして、ライ
ン４よりライン３内にエアーを吹込み、そのライ
ン３内で気液混相状態をつくる。このようにして
ライン３に導かれたサンプリング液は気泡と共に
サンプリングポツト５を経由してサンプリングさ
れ、残余の気液混相体はエアリフトセパレーター
２により気液分離され、液はライン６から廃液タ
ンク７内に戻される。 Therefore, in order to increase the liquid immersion rate of an air lift, it is now common practice to connect a vacuum line to the air lift or to create a vacuum using an air jet. Figure 1 shows a method of connecting a vacuum line to the air lift. By evacuating the air lift separator 2 through line 1, the waste liquid sampling line 3 is highly depressurized to ensure the necessary liquid immersion rate. I have to. Then, air is blown into the line 3 from the line 4 to create a gas-liquid mixed phase state within the line 3. The sampling liquid led to line 3 in this way is sampled together with air bubbles via sampling pot 5, the remaining gas-liquid mixed phase is separated into gas and liquid by air lift separator 2, and the liquid is sent from line 6 into waste liquid tank 7. will be returned to.
このようにエアリフトに真空系を協動させる場
合、放射性の廃液を含んだエアがエアリフトセパ
レータ２からライン１を通つて真空系に飛び真空
系内を汚染するおそれがある。またエアジエツト
９により真空を作る場合は通常エアジエツト９の
吐出側のライン９０がタンク７に接続されている
ので、そのライン９０を通して放射性の廃液を含
んだエアがタンク内に戻されライン８を経由して
換気系を汚染することになる。特にサンプリング
液の温度が比較的高い場合には、減圧下でその液
が容易に沸騰してしまい、放射性ミストとなり真
空系および換気系を汚染する。 When a vacuum system is used in conjunction with an air lift in this way, there is a risk that air containing radioactive waste liquid will flow from the air lift separator 2 through the line 1 into the vacuum system and contaminate the inside of the vacuum system. Furthermore, when creating a vacuum using air jet 9, normally the discharge side line 90 of air jet 9 is connected to tank 7, so air containing radioactive waste liquid is returned to the tank through line 90 and then passed through line 8. and contaminate the ventilation system. Particularly when the temperature of the sampling liquid is relatively high, the liquid easily boils under reduced pressure, forming a radioactive mist that contaminates the vacuum system and ventilation system.
本発明は上記の事情に鑑みなされたもので、廃
液タンクから放射性廃液を移送しサンプリングす
る場合において、サンプリング用廃液の移送を従
来のエアリフトに真空系を併用する方式に較べて
簡単かつ安全に行い、系外への放射能汚染の拡散
を防止するようにしたサンプリング方法およびそ
の装置を提供しようとするものである。このため
本発明は、必要なサンプリング用廃液のみを圧縮
気体（一般には空気、しかしその他適宜の気体で
もよい）の圧力によつて移送するようにすること
により、真空系を用いた減圧移送を行なう必要が
なくなるようにすると共に、あわせて、気液混相
状態が生じることがないようにしたものである。
本発明では、廃液のみの移送を可能とするため、
略下部にオリフイスを有するサンプリング液誘導
用容器（以下ではビンという）を廃液タンク内に
設置し、以下の要領でサンプリングを行なう。前
記オリフイスを介して前記ビン内に廃液を誘導
し、その後、該ビン上部から圧縮気体を圧送し、
ビン内に下端が開口したサンプリング液移送用パ
イプ内に該ビン内の廃液を前記圧縮気体の圧力に
よつて押し込む。サンプリング液移送用パイプ内
に入つた廃液は前記ビン上部から加わる前記圧縮
気体の圧力によつて押し上げられ、上方に配置さ
れたサンプリングポツトに至る。このとき、圧縮
気体がビン内のサンプリング液移送用パイプ下端
開口に至らないように条件を定めれば、該パイプ
内が気液混相状態となることは防げ、必要なサン
プリング用廃液のみを確実に移送することができ
る。 The present invention was developed in view of the above circumstances, and when sampling radioactive waste liquid from a waste liquid tank, it is easier and safer to transfer the sampling waste liquid than the conventional method of using an air lift in combination with a vacuum system. The present invention aims to provide a sampling method and apparatus that prevent radioactive contamination from spreading outside the system. For this reason, the present invention performs reduced pressure transfer using a vacuum system by transferring only the necessary sampling waste liquid using the pressure of compressed gas (generally air, but any other suitable gas may be used). This eliminates the need for this, and also prevents the occurrence of a gas-liquid mixed phase state.
In the present invention, since it is possible to transfer only waste liquid,
A sampling liquid guiding container (hereinafter referred to as a bottle) having an orifice substantially at the bottom is installed in the waste liquid tank, and sampling is performed in the following manner. directing waste liquid into the bottle through the orifice, and then pumping compressed gas from the top of the bottle;
The waste liquid in the bottle is forced by the pressure of the compressed gas into a sampling liquid transfer pipe whose lower end is open inside the bottle. The waste liquid that has entered the sampling liquid transfer pipe is pushed up by the pressure of the compressed gas applied from the top of the bottle, and reaches the sampling pot located above. At this time, if conditions are set so that the compressed gas does not reach the opening at the bottom of the sampling liquid transfer pipe in the bottle, it is possible to prevent a gas-liquid mixed phase state inside the pipe and ensure that only the necessary sampling waste liquid is collected. Can be transported.
以下本発明の実施例を添付図面を参照して詳細
に説明する。 Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings.
第２図において、放射性廃液タンク１０内には
サンプリング液誘導ビン１１が設けられる。サン
プリング液誘導ビン１１は、廃液タンク１０内に
開口した直径３乃至20mm程度のオリフイス１１０
をその下部に具えており、その上部には圧縮空気
供給槽１２と接続する圧縮空気圧送用パイプ１３
が設けられている。このパイプ１３はバルブV3
を介して廃液タンク１０の上部に連結されている
パイプ１４に接続されている。圧縮空気供給槽１
２は、バルブV1を介してエアコンプレツサー１
５に接続され、バルブV2を介してパイプ１３
（すなわちサンプリング液誘導ビン１１）に接続
されている。圧力調節器PCはバルブV1及びV2の
開閉を制御して、エアコンプレツサー１５から圧
縮空気供給槽１２に対する圧縮空気の供給、及
び、該供給槽１２からサンプリング液誘導ビン１
１への圧縮空気の供給を制御する。 In FIG. 2, a sampling liquid guide bottle 11 is provided in a radioactive waste liquid tank 10. The sampling liquid guide bottle 11 has an orifice 110 with a diameter of about 3 to 20 mm opened in the waste liquid tank 10.
is provided at the bottom thereof, and a compressed air pressure feeding pipe 13 connected to the compressed air supply tank 12 is provided at the top thereof.
is provided. This pipe 13 has valve V 3
It is connected to a pipe 14 connected to the upper part of the waste liquid tank 10 via. Compressed air supply tank 1
2 is air compressor 1 through valve V 1
5 and connected to pipe 13 through valve V 2
(ie, the sampling liquid guide bottle 11). The pressure regulator PC controls the opening and closing of valves V 1 and V 2 to supply compressed air from the air compressor 15 to the compressed air supply tank 12 and from the supply tank 12 to the sampling liquid guide bottle 1.
Controls the supply of compressed air to 1.
廃液タンク１０の上方に配設されたサンプリン
グポツト１６にはサンプリング液移送用パイプ１
７が接続され、このパイプ１７の先端はサンプリ
ング液誘導ビン１１の内部に挿入されている。サ
ンプリングポツト１６の側壁には廃液タンク１０
に連結したパイプ１８が接続され、該ポツト１６
の底部はバルブV4（またはオリフイス）を介し
て上記パイプ１８に接続されている。更に、サン
プリングポツト１６はサンプリングベンチ１９内
置かれたサンプリングビン２０に細いチユーブ２
１で任意に連結されている。２２は排気ラインで
あり、排気系に接続している。 A sampling pot 16 arranged above the waste liquid tank 10 has a pipe 1 for transferring the sampling liquid.
7 is connected, and the tip of this pipe 17 is inserted into the sampling liquid guide bottle 11. A waste liquid tank 10 is installed on the side wall of the sampling pot 16.
A pipe 18 connected to the pot 16 is connected to the pot 16.
The bottom of is connected to the pipe 18 via valve V 4 (or orifice). Furthermore, the sampling pot 16 has a thin tube 2 placed in a sampling bottle 20 placed inside the sampling bench 19.
1 and are arbitrarily connected. 22 is an exhaust line connected to the exhaust system.
サンプリング液誘導ビン１１は適当な手段によ
り廃液タンク１０内に固定される。例えば、パイ
プ１３及び１７とビン１１の上部との連結部分を
確実に固定し、更に廃液タンク１０の上部とパイ
プ１３及び１７とを固定すれば、ビン１１をタン
ク１０内の所定位置に固定することができる。
尚、オリフイス１１０の位置はビン１１の真下に
限らず、パイプ１３からの圧縮空気噴出口よりも
下の方にあればよい。また、パイプ１７の下端
は、パイプ１３からの圧縮空気噴出口よりも下の
方にあることが望ましく、図示のように適度の高
低差があることが好ましい。 The sampling liquid guide bottle 11 is secured within the waste liquid tank 10 by suitable means. For example, by firmly fixing the connecting portions between the pipes 13 and 17 and the top of the bottle 11, and further fixing the top of the waste liquid tank 10 and the pipes 13 and 17, the bottle 11 can be fixed at a predetermined position within the tank 10. be able to.
The position of the orifice 110 is not limited to just below the bottle 11, but may be located below the compressed air outlet from the pipe 13. Further, it is desirable that the lower end of the pipe 17 is located below the compressed air outlet from the pipe 13, and it is preferable that there is a suitable height difference as shown in the figure.
次に、廃液タンク１０内の放射性廃液Ｌのサン
プリング方法について述べる。 Next, a method for sampling the radioactive waste liquid L in the waste liquid tank 10 will be described.
(1) 放射性廃液Ｌをサンプリング液誘導ビン１１
からサンプリングポツト１６まで圧送するため
に必要なビン１１内の空気の圧力を予じめ定
め、圧縮空気供給槽１２の圧力調節器PCを設
定する。この圧力は、「廃液の揚程」、「サンプ
リング流量」及び「圧縮空気がビン１１からオ
リフイス１１０を通つて廃液タンク１０内に出
ないような条件」を考慮して決定する。尚、バ
ルブV1，V2，V3，V4はすべて閉の状態でスタ
ートする。(1) Transfer the radioactive waste liquid L to the sampling liquid guide bottle 11
The pressure of the air in the bottle 11 necessary for pressure-feeding the air from the air to the sampling pot 16 is determined in advance, and the pressure regulator PC of the compressed air supply tank 12 is set. This pressure is determined in consideration of "the head of the waste liquid," the "sampling flow rate," and the "conditions such that compressed air does not come out from the bottle 11 through the orifice 110 into the waste liquid tank 10." Note that the valves V 1 , V 2 , V 3 , and V 4 all start in a closed state.
(2) 次にバルブV1を開にし、エアコンプレツサ
ー１５から圧縮空気を圧縮空気供給槽１２に送
入し、供給槽１２が所定の圧力となつたら圧力
調節器PCによりバルブV1を閉じる。(2) Next, open the valve V 1 , feed compressed air from the air compressor 15 to the compressed air supply tank 12, and when the supply tank 12 reaches a predetermined pressure, close the valve V 1 using the pressure regulator PC. close.
(3) 他方、バルブV3を開として、パイプ１３及
び１４を介してビン１１とタンク１０との間を
連通する。これにより、ビン１１とタンク１０
の圧力が等しくなり、放射性廃液Ｌがオリフイ
ス１１０を介してサンプリング液誘導ビン１１
内に誘導される。このときバルブV2は閉じて
いるものとする。また、勿論、タンク１０内の
廃液Ｌの液面LFはビン１１よりも上（あるい
は少くともオリフイス１１０の位置よりは上）
であるとする。(3) On the other hand, open the valve V 3 to communicate between the bottle 11 and the tank 10 via the pipes 13 and 14. As a result, bottle 11 and tank 10
The pressures become equal, and the radioactive waste liquid L flows through the orifice 110 into the sampling liquid guide bottle
guided within. At this time, valve V2 is assumed to be closed. Also, of course, the liquid level LF of the waste liquid L in the tank 10 is above the bottle 11 (or at least above the position of the orifice 110).
Suppose that
(4) バルブV3は一定時間のみ開き、その後閉じ
る。バルブV3を閉じた後、バルブV2を開き、
圧縮空気供給槽１２からパイプ１３を介して圧
縮空気をビン１１内に圧送する。この場合、圧
縮空気がオリフイス１１０から廃液タンク１０
内に放出されない条件を予じめ設定しておかな
ければならない。その理由は、廃液タンク１０
の液中を出た圧縮空気が排気ライン２２にとび
ちつて排気ライン２２及び換気系を汚染するお
それがあるからである。この圧縮空気によつて
サンプリング液誘導ビン１１内の液の一部がオ
リフイス１１０から廃液タンク１０内に排出さ
れるが、残りの液はサンプリング液移送用パイ
プ１７を通つて、サンプリングポツト１６へ移
送される。このサンプリングポツト１６への送
液の場合も、少なくともサンプリング液誘導ビ
ン１１内の液レベルがサンプリング液移送用パ
イプ１７の下端より下位にならないような圧縮
空気の条件を設定して、このパイプ１７内に圧
縮空気が混入しないようにしなければならな
い。尚、圧縮空気がオリフイス１１０やパイプ
１７に到らないようにするには圧縮空気の総流
量を制御すればよい。(4) Valve V 3 opens only for a certain period of time and then closes. After closing valve V 3 , open valve V 2 ,
Compressed air is forced into the bottle 11 from the compressed air supply tank 12 via the pipe 13. In this case, compressed air flows from the orifice 110 to the waste liquid tank 10.
Conditions must be set in advance to ensure that no gas is released into the atmosphere. The reason is that the waste liquid tank 10
This is because there is a risk that the compressed air that has exited the liquid may enter the exhaust line 22 and contaminate the exhaust line 22 and the ventilation system. A part of the liquid in the sampling liquid guide bottle 11 is discharged from the orifice 110 into the waste liquid tank 10 by this compressed air, but the remaining liquid is transferred to the sampling pot 16 through the sampling liquid transfer pipe 17. be done. In the case of feeding the liquid to the sampling pot 16 as well, compressed air conditions are set such that at least the liquid level in the sampling liquid guide bottle 11 does not fall below the lower end of the sampling liquid transfer pipe 17. It must be ensured that compressed air does not enter the Note that in order to prevent the compressed air from reaching the orifice 110 and the pipe 17, the total flow rate of the compressed air may be controlled.
(5) サンプリングポツト１６内のサンプリング液
は微少径のチユーブ２１を通つてサンプリング
ベンチ１９内に置かれたサンプリングビン２０
へ採取される。(5) The sampling liquid in the sampling pot 16 passes through a small diameter tube 21 to the sampling bottle 20 placed in the sampling bench 19.
taken to.
(6) 廃液のサンプリングが終了したらバルブV4
を開き、サンプリングポツト１６内にある残り
の液をパイプ１８を通して廃液タンク１０に戻
す。(6) After sampling the waste liquid, close valve V 4 .
is opened, and the remaining liquid in the sampling pot 16 is returned to the waste liquid tank 10 through the pipe 18.
(7) 前記(2)，(3)，(4)，(6)の操作を数回繰り返して
サンプリングし、それらを分析することによつ
て、サンプリング液分析の精度を高めることが
できる。(7) The accuracy of sampled liquid analysis can be improved by repeating the operations (2), (3), (4), and (6) above several times to sample and analyze them.
本発明は上記のように構成されているので下記
のような長所を有するものである。 Since the present invention is constructed as described above, it has the following advantages.
(a) 従来のエアリフト方式では液浸率が不足する
場合、真空ラインを併用しているが、本発明は
圧送方式であるため液浸率を考慮する必要がな
く、真空ラインを不要とするので、全体的に設
備が簡素化される。(a) In the conventional air lift method, when the liquid immersion rate is insufficient, a vacuum line is also used, but since the present invention uses a pressure feeding method, there is no need to consider the liquid immersion rate, and the vacuum line is not required. , the overall equipment is simplified.
(b) 廃液に塩類等のスラツジが多く含まれる場合
はこれらがサンプリング系に沈積して問題にな
るが、本発明では廃液タンク中に設置されたサ
ンプリング液誘導ビンの底部にオリフイスが設
けてあり、圧送するたびにサンプリング液の一
部がオリフイスを通つて廃液タンク内に流出す
るため、オリフイスはセルフクリーニングされ
ることとなり、スラツジ廃液に対しても問題な
く使用できる。(b) If the waste liquid contains a large amount of sludge such as salts, these will settle in the sampling system and cause problems; however, in the present invention, an orifice is provided at the bottom of the sampling liquid guide bottle installed in the waste liquid tank. Since a portion of the sampling liquid flows through the orifice into the waste liquid tank each time it is pumped, the orifice is self-cleaned and can be used for sludge waste liquid without any problems.
(c) サンプリングの条件により圧縮空気供給槽内
の圧力および槽の大きさを調整することにより
一定の状態を得ることができる。(c) A constant state can be obtained by adjusting the pressure in the compressed air supply tank and the size of the tank depending on the sampling conditions.
(d) 真空系を併用するエアリフト方式ではサンプ
リング液の温度が高い場合には沸騰してしま
い、放射性ミストが真空ラインへ飛び真空ライ
ンおよび排気ラインを汚染するが、本発明は圧
送方式であり、サンプリング液の温度に関係な
くサンプリングできる。(d) In the air lift method that uses a vacuum system, if the temperature of the sampling liquid is high, it will boil and the radioactive mist will fly to the vacuum line and contaminate the vacuum line and exhaust line, but the present invention uses a pressure feeding method. Sampling can be performed regardless of the temperature of the sampling liquid.
(e) エアリフト方式ではサンプリング液が気液混
相状態となるため、ミストが換気系又は真空系
へ飛んで系内を汚染するが、本発明は気液混相
とならないため汚染が避けられる。(e) In the air lift method, the sampling liquid is in a gas-liquid mixed phase state, so the mist flies into the ventilation system or vacuum system and contaminates the inside of the system, but in the present invention, contamination can be avoided because the gas-liquid mixed phase does not occur.
(f) サンプリング液との接液部に駆動部分がない
ため、保守は不用である。(f) Maintenance is unnecessary as there are no moving parts in contact with the sampling liquid.
なお本発明に係る方法および装置は放射性廃液
にかぎらず、各種溶液にも適用できることはいう
までもない。 It goes without saying that the method and apparatus according to the present invention can be applied not only to radioactive waste liquids but also to various solutions.
第１図は放射性廃液サンプリング方法の従来例
として真空系を併用したエアリフト方式の構成を
示す説明図、第２図は本発明の一実施例を示す概
略構成図である。
１０……廃液タンク、１１……サンプリング液
誘導ビン、１２……圧縮空気供給槽、１６……サ
ンプリングポツト、１９……サンプリングベン
チ、２０……サンプリングビン、２１……チユー
ブ、１３，１４，１８……パイプ、１１０……オ
リフイス。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing the configuration of an air lift system using a vacuum system as a conventional example of a radioactive waste liquid sampling method, and FIG. 2 is a schematic diagram showing an embodiment of the present invention. 10... Waste liquid tank, 11... Sampling liquid induction bottle, 12... Compressed air supply tank, 16... Sampling pot, 19... Sampling bench, 20... Sampling bottle, 21... Tube, 13, 14, 18 ...Pipe, 110 ... Orifice.
Claims (1)
下部付近に有するサンプリング液誘導用容器を該
タンク内に設置し、下記(a)，(b)の工程により廃液
をサンプリングするようにした放射性廃液のサン
プリング方法。 (a) 前記オリフイスを介して前記容器内に前記タ
ンク内の廃液を予じめ導入する工程。 (b) 前記容器の上部付近から該容器内に圧縮気体
を送入し、該気体の送入口よりも低い位置の該
容器内の適宜箇所に開口したパイプを介して該
容器内の廃液を前記タンクの外部に設けたサン
プリング液収容部に圧送する工程。 ２ 前記(a)の工程が、前記容器と前記タンクとを
等圧にすることにより前記廃液を前記容器内に導
入する工程である特許請求の範囲第１項記載のサ
ンプリング方法。 ３ 前記タンクの上部と前記容器の上部とを連絡
する開閉可能な経路を具え、この経路を開放する
ことにより前記容器と前記タンクとを連通状態に
して等圧にするようにした特許請求の範囲第２項
記載のサンプリング方法。 ４ 前記(b)の工程において、前記圧縮気体が前記
オリフイスを通つて前記タンク内にまたは前記パ
イプ内に放出されないように該圧縮気体の総流量
を制御するようにした特許請求の範囲第１項記載
のサンプリング方法。 ５ 放射性廃液タンク内に開口したオリフイスを
下部付近に有するサンプリング液誘導用容器と、
前記オリフイスを介して前記容器内に前記タンク
内の廃液を予じめ導入する液誘導手段と、前記容
器の上部付近と圧縮気体供給装置とを連絡する圧
縮気体送入用パイプと、前記容器内部から前記タ
ンク外部のサンプリング液収容部に連絡するサン
プリング液移送用パイプとを具えた放射性廃液の
サンプリング装置。 ６ 前記液誘導手段が、バルブ開放時に前記ビン
と前記タンクとを連通状態にするバルブ及びパイ
プとから成る手段である特許請求の範囲第５項記
載のサンプリング装置。[Scope of Claims] 1. A sampling liquid guiding container having an orifice opened near the bottom of a radioactive waste liquid tank is installed in the tank, and the waste liquid is sampled by the following steps (a) and (b). sampling method for radioactive waste liquid. (a) A step of previously introducing the waste liquid in the tank into the container through the orifice. (b) Inject compressed gas into the container from near the top of the container, and drain the waste liquid in the container through a pipe opened at an appropriate location in the container at a position lower than the gas inlet. The process of pumping the sampling liquid to the sampling liquid storage area provided outside the tank. 2. The sampling method according to claim 1, wherein the step (a) is a step of introducing the waste liquid into the container by making the container and the tank equal pressure. 3. Claims include an openable and closable path connecting the upper part of the tank and the upper part of the container, and by opening this path, the container and the tank are brought into communication and the pressure is equalized. The sampling method described in Section 2. 4. Claim 1, wherein in the step (b), the total flow rate of the compressed gas is controlled so that the compressed gas is not released into the tank or into the pipe through the orifice. Sampling method as described. 5. A sampling liquid guiding container having an orifice opened in the radioactive waste liquid tank near the bottom;
a liquid guiding means for previously introducing waste liquid in the tank into the container through the orifice; a compressed gas supply pipe that communicates the vicinity of the upper part of the container with a compressed gas supply device; and an interior of the container. and a sampling liquid transfer pipe communicating from the tank to a sampling liquid storage section outside the tank. 6. The sampling device according to claim 5, wherein the liquid guiding means comprises a valve and a pipe that communicate the bottle and the tank when the valve is opened.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13119178A JPS5558496A (en) | 1978-10-25 | 1978-10-25 | Method and device for sampling radioactive liquid waste |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13119178A JPS5558496A (en) | 1978-10-25 | 1978-10-25 | Method and device for sampling radioactive liquid waste |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5558496A JPS5558496A (en) | 1980-05-01 |
| JPS6112533B2 true JPS6112533B2 (en) | 1986-04-09 |
Family
ID=15052139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13119178A Granted JPS5558496A (en) | 1978-10-25 | 1978-10-25 | Method and device for sampling radioactive liquid waste |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5558496A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6219732A (en) * | 1985-07-18 | 1987-01-28 | Kensetsusho Chubu Chiho Kensetsukyoku | Deep well pumping-up device |
| FR2616487B1 (en) * | 1987-06-12 | 1989-09-08 | Commissariat Energie Atomique | DEVICE FOR THE CONTINUOUS CIRCULATION OF A LIQUID WITH A VIEW TO PERFORMING A SAMPLING OR CONTROL OF THIS LIQUID |
| FR2950694B1 (en) * | 2009-09-25 | 2012-08-17 | Commissariat Energie Atomique | DEVICE FOR SAMPLING LIQUID SAMPLES OUT OF A TANK |
-
1978
- 1978-10-25 JP JP13119178A patent/JPS5558496A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5558496A (en) | 1980-05-01 |
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