JPS61120400A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPS61120400A
JPS61120400A JP59238582A JP23858284A JPS61120400A JP S61120400 A JPS61120400 A JP S61120400A JP 59238582 A JP59238582 A JP 59238582A JP 23858284 A JP23858284 A JP 23858284A JP S61120400 A JPS61120400 A JP S61120400A
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JP
Japan
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circuit
word
address
memory cell
cell array
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Application number
JP59238582A
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Japanese (ja)
Inventor
Isao Fukushi
功 福士
Tomoharu Awaya
友晴 粟屋
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Priority to KR1019850007704A priority patent/KR900008658B1/en
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Abstract

PURPOSE:To switch a defective circuit part and a redundancy circuit part through simple circuit constitution by providing a redundancy address decision circuit and a redundancy circuit selection part, and placing a decoder line in an unselected state on the basis of a redundancy circuit selection signal. CONSTITUTION:A selection signal SR is outputted from a comparing gate circuit 13 when a word address ADD coincides with a defective word address inputted from a programmable read-only memory PROM 12 stored with the address of the redundancy circuit part. Then, all signal lines of a decoder line are held at a high level with said selection signal SR and placed in the unselected state to intercept a word line selection signal to be applied to a memory cell array 1. On the other hand, a redundancy word driver 11 inputs a word line selection signal to a redundancy memory cell array 10 when applied with the selection signal SR. Consequently, the redundancy memory cell array 10is selected to write or read data in or out of the memory cell array 10.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体記憶装置に関し、特に不良メモリセ・
ル等の不良回路部分と置き喚えて使用するだめの冗長回
路部分を有し、不良回路部分と冗長回路部分との切り換
えをデコーダ線の電位を制御することによって行なうよ
うにした半導体記憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly to a semiconductor memory device and a semiconductor memory device.
The present invention relates to a semiconductor memory device which has a redundant circuit part which can be used in place of a defective circuit part such as a redundant circuit part, such as a redundant circuit part, and which is switched between the defective circuit part and the redundant circuit part by controlling the potential of a decoder line.

(従来の技術) 第3図は、従来形の半導体記憶装置としてのバイポーラ
型メモリ装置を部分的に示す。同図のメモリ装置は、メ
モリセルアレイ1、ワードドライバ2、ワードデコーダ
3、およびワードアドレス用のアドレスバッファ4を具
備する。メモリセルアレイlは、高圧側ワード線WL+
と低圧側ワード線WL−およびビット線BLとBLBの
間に接続されたメモリセルMCを複数個備えている。各
メモリセルMCは周知のフリップフロップ型のものであ
る。ワードドライバ2は、それぞれワード線に対応する
複数のワードドライバユニット2a。
(Prior Art) FIG. 3 partially shows a bipolar memory device as a conventional semiconductor memory device. The memory device shown in the figure includes a memory cell array 1, a word driver 2, a word decoder 3, and an address buffer 4 for word addresses. The memory cell array l has a high voltage side word line WL+
A plurality of memory cells MC are connected between the word line WL- on the low voltage side and the bit lines BL and BLB. Each memory cell MC is of a well-known flip-flop type. The word driver 2 includes a plurality of word driver units 2a each corresponding to a word line.

2b−・を有する。各ワードドライバユニットは同じ構
成を有しており、例えばワードドライバユニット2aは
エミッタが共通接続されたトランジスタQl、Q2、こ
れらのトランジスタの共通接続されたエミッタと低圧側
電源端子Vee間に接続された定電流回路ISi トラ
ンジスタQ1のコレクタと高圧側電源端子Vcc間に接
続された負荷抵抗R1、トランジスタQ1のコレクタに
ベースが接続されたドライバ用のトランジスタQ3を具
備する。アドレスバッファ4は複数のアドレスバッファ
ユニットヲ有し、1つのアドレスバッファユニット4a
は、エミッタが共通接続されたトランジスタQ7.Q8
、定電流回路IS3、負荷抵抗R3,R4、入カニミッ
タホロワ回路を構成するトランジスタQ9と定電流回路
134、基準電圧印加用のエミッタホロワ回路を構成す
るトランジスタQIOと定電流回路IS5を備えている
。また、ワードデコーダ3は、アドレスバッファユニッ
ト4aの出力を受けるマルチエミッタトランジスタQl
l、Q12、およびこれらのマルチエミッタトランジス
タの各エミッタが接続された複数の信号線を有するアド
レス線5、およびアドレス線5の各信号線と低圧側電源
端子V2O間にそれぞれ接続された定電流源回路156
,157.Is8、IS9を具備する。なお、アドレス
バッファユニット4aに相当するユニットはワードアド
レスの各ビットごとに設けられその出力はそれぞれ2個
のマルチエミッタトランジスタを介してデコーダ線5の
各信号線に適宜接続されている。また、デコーダ線5の
各々は各ワードドライバユニット2a、2b、−一・の
入力に接続されている。
2b-. Each word driver unit has the same configuration, for example, the word driver unit 2a has transistors Ql and Q2 whose emitters are commonly connected, and a transistor Ql and Q2 whose emitters are connected in common, and which are connected between the commonly connected emitters of these transistors and the low voltage side power supply terminal Vee. Constant current circuit ISi includes a load resistor R1 connected between the collector of the transistor Q1 and the high voltage side power supply terminal Vcc, and a driver transistor Q3 whose base is connected to the collector of the transistor Q1. The address buffer 4 has a plurality of address buffer units, and one address buffer unit 4a.
are transistors Q7. whose emitters are commonly connected. Q8
, a constant current circuit IS3, load resistors R3 and R4, a transistor Q9 and a constant current circuit 134 forming an incoming limiter follower circuit, and a transistor QIO and a constant current circuit IS5 forming an emitter follower circuit for applying a reference voltage. The word decoder 3 also includes a multi-emitter transistor Ql that receives the output of the address buffer unit 4a.
1, Q12, and an address line 5 having a plurality of signal lines to which the emitters of these multi-emitter transistors are connected, and a constant current source connected between each signal line of the address line 5 and the low voltage side power supply terminal V2O. circuit 156
, 157. Equipped with IS8 and IS9. A unit corresponding to the address buffer unit 4a is provided for each bit of the word address, and its output is appropriately connected to each signal line of the decoder line 5 via two multi-emitter transistors. Further, each of the decoder lines 5 is connected to the input of each word driver unit 2a, 2b, -1.

第3図のメモリ装置において、書き込みおよび読み出し
動作を行なう場合には、ワードアドレスバッファ4にワ
ードアドレスADDを印加すると共に、図示しないビッ
トアドレスバッファにビットアドレスを印加する。ワー
ドアドレスADDの各ビットのレベルに応じて各アドレ
スバッファユニット4a等からデコーダ線5の各信号線
にマルチエミッタトランジスタQll、Q12等を介し
て高レベルまたは低レベルの信号が印加される。
In the memory device of FIG. 3, when writing and reading operations are performed, a word address ADD is applied to the word address buffer 4, and a bit address is applied to a bit address buffer (not shown). Depending on the level of each bit of word address ADD, a high level or low level signal is applied from each address buffer unit 4a etc. to each signal line of decoder line 5 via multi-emitter transistors Qll, Q12 etc.

デコーダ線5の各信号線はそれぞれ複数のマルチエミッ
タトランジスタと接続されておりこれらのマルチエミッ
タトランジスタの出力のうち少なくとも1つが高レベル
であれば該信号線の電位は高レベルとなる。そして、ワ
ードドライバユニット、例えば、2aの入力トランジス
タQlのベースに接続された信号線が低レベルになると
該ワードド。
Each signal line of the decoder line 5 is connected to a plurality of multi-emitter transistors, and if at least one of the outputs of these multi-emitter transistors is at a high level, the potential of the signal line becomes a high level. Then, when the signal line connected to the base of the input transistor Ql of the word driver unit, for example 2a, becomes low level, the word driver unit, for example, the word driver.

ライバユニッ)2aが高レベルのワード線選択信号を出
力して高圧側ワード線WL+に印加する。
The driver unit 2a outputs a high level word line selection signal and applies it to the high voltage side word line WL+.

このようにしてワード線が選択されると共に、図示しな
いビットデコーダ等により1対のビット線BLおよびB
LBが選択される。このようにして選択されたワード線
およびビット線対に接続されたメモリセルMCに対して
データの書き込みまたは読み出しが行われる。
In this way, a word line is selected, and a pair of bit lines BL and B are selected by a bit decoder (not shown) or the like.
LB is selected. Data is written to or read from memory cells MC connected to the word line and bit line pair selected in this manner.

ところが、上述のような従来形のメモリ装置においては
、特にバイポーラ型メモリ装置等の高速度のメモリ装置
の場合、°冗長メモリセル等が設けられていなかった。
However, in the conventional memory devices as described above, especially in the case of high-speed memory devices such as bipolar memory devices, redundant memory cells and the like are not provided.

このため、例えばメモリセルアレイ1内のあるメモリセ
ルあるいはあるワード線に接続されたワードドライバユ
ニット等が不良である場合Cよメモリ装置自体が不良品
となり、半導体メモリ装置の製造歩留りを高くすること
ができないという不都合があった。
Therefore, for example, if a certain memory cell in the memory cell array 1 or a word driver unit connected to a certain word line is defective, the memory device itself becomes defective, making it difficult to increase the manufacturing yield of semiconductor memory devices. The problem was that I couldn't do it.

(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、前述の従来形における問題点に鑑み、半導体
記憶装置において、極めて簡単な回路構成により不良回
路部分と冗長回路部分との切り換えが行なわれるように
し、かつ記憶装置の製造歩留りの向上を図ることを目的
とするものである。
(Problems to be Solved by the Invention) In view of the problems with the conventional type described above, the present invention provides a semiconductor memory device in which switching between a defective circuit portion and a redundant circuit portion is performed using an extremely simple circuit configuration. , and aims to improve the manufacturing yield of memory devices.

(問題点を解決するための手段) 本発明に係わる半導体記憶装置においては、アドレスバ
ッファ回路出力が適宜接続されるデコーダ線と、該デコ
ーダ線に入力が接続されワード線等を駆動するドライバ
ゲート回路と、入力アドレスが不良回路部分のアドレス
と一敗するか否かを判定して冗長回路選択信号を出力す
る冗長アドレス判定回路と、冗長回路選択部とが設けら
れ、該冗長回路選択部は前記冗長回路選択信号にもとづ
きデコーダ線を非選択状態とする。
(Means for Solving the Problems) The semiconductor memory device according to the present invention includes a decoder line to which address buffer circuit outputs are appropriately connected, and a driver gate circuit whose input is connected to the decoder line and drives word lines, etc. and a redundant address determination circuit that determines whether the input address matches the address of the defective circuit portion and outputs a redundant circuit selection signal, and a redundant circuit selection section, the redundant circuit selection section being The decoder line is set to a non-selected state based on the redundant circuit selection signal.

(作用) 上述のような手段を用いることにより、冗長アドレス判
定回路から冗長回路選択信号が出力されると、デコーダ
線が非選択(例えば高電位レベル)2 状態とされる。
(Function) By using the above-mentioned means, when the redundant circuit selection signal is output from the redundant address determination circuit, the decoder line is brought into a non-selected state (for example, at a high potential level)2.

これにより、ドライバゲート回路から出力される駆動信
号が非選択レベルとなって不良回路部分を含むメモリセ
ルアレイが非選択となり、冗長回路部分が選択される。
As a result, the drive signal output from the driver gate circuit becomes a non-selection level, the memory cell array including the defective circuit portion becomes non-selected, and the redundant circuit portion is selected.

(実施例) 以下、図面により本発明の詳細な説明する。(Example) Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

第1図は、本発明の1実施例に係わる半導体記憶装置の
概略を示す。同図の記憶装置は、−例としてワード線単
位で不良回路部分と冗長回路部分との切り換えを行なう
ようにしたものであり、メモリセルアレイl、ワードト
ライバ2、ワードアドレス用アドレスバッファ4、デコ
ーダ線5の他に、冗長ワード線に接続された冗長メモリ
セルアレイIO1冗長ワードドライバ11、冗長回路部
分のアドレスを記憶するプログラマブルリードオンリメ
モリ (以下、単にFROMと称する)12、および入
力ワードアドレスADDとPROM12からの読み出し
データを比較する比較ゲート13を具備する。
FIG. 1 schematically shows a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention. The storage device shown in the figure is configured to switch between a defective circuit section and a redundant circuit section in units of word lines, for example, and includes a memory cell array l, a word driver 2, an address buffer 4 for word addresses, and a decoder. In addition to the line 5, there is a redundant memory cell array IO1 connected to the redundant word line, a redundant word driver 11, a programmable read-only memory (hereinafter simply referred to as FROM) 12 that stores the address of the redundant circuit part, and an input word address ADD. A comparison gate 13 for comparing read data from the PROM 12 is provided.

なお、第1図においては、ビットアドレス用アドレスバ
ッファ、ビットドライバ、および入出力回路等の図示は
省略されている。
Note that, in FIG. 1, illustrations of a bit address address buffer, a bit driver, an input/output circuit, etc. are omitted.

第1図の記憶装置においては、書き込みおよび読み出し
動作は第3図の回路と同様にワードアドレスADDおよ
び図示しないビットアドレス用のアドレスバッファにビ
ットアドレスを印加して行なわれる。そしてこの時、ワ
ードアドレスADDが比較ゲー)13に印加されPRO
M12からの不良回路部分例えば不良ワードを示すアド
レスデータと比較される。この比較の結果、両者のアド
レスが一敗しない場合には冗長回路選択信号(以下、単
に選択信号と称する)SRが出力されず、ワードドライ
バ2によって第3図の場合と同様の手段でメモリセルア
レイlがアクセスされデータ読み出しまたはデータ書き
込みが行なわれる。
In the memory device shown in FIG. 1, write and read operations are performed by applying a word address ADD and a bit address to an address buffer (not shown) for bit addresses, similarly to the circuit shown in FIG. At this time, word address ADD is applied to comparison gate 13 and PRO
It is compared with address data indicating a defective circuit portion, such as a defective word, from M12. As a result of this comparison, if both addresses do not fail, the redundant circuit selection signal (hereinafter simply referred to as selection signal) SR is not output, and the word driver 2 operates the memory cell array by the same means as in the case of FIG. 1 is accessed and data reading or data writing is performed.

これに対して、ワードアドレスADDとPROM12か
ら入力される不良ワードアドレスとが一致した場合には
比較ゲート回路13から選択信号SRが出力される。そ
して、この選択信号SRによってデコーダ線5のすべて
の信号線が高レベルの非選択状態とされ、メモリセルア
レイlに印加されるべきワード線選択信号が遮断される
On the other hand, when the word address ADD and the defective word address input from the PROM 12 match, the comparison gate circuit 13 outputs the selection signal SR. This selection signal SR sets all the signal lines of the decoder line 5 to a high level non-selected state, and the word line selection signal to be applied to the memory cell array I is cut off.

一方、冗長ワードドライバ11は選択信号SRの印加に
より冗長メモリセルアレイlOにワード線選択信号を入
力する。これにより、冗長メモリセルアレイ10が選択
されて該メモリセルアレイ10に対してデータの書き込
みまたは読み出しが行なわれる。
On the other hand, the redundant word driver 11 inputs a word line selection signal to the redundant memory cell array IO by applying the selection signal SR. As a result, the redundant memory cell array 10 is selected, and data is written to or read from the memory cell array 10.

第2図は、第1図の記憶装置の詳細な回路構成を示す。FIG. 2 shows a detailed circuit configuration of the storage device shown in FIG. 1.

同図の回路は、前述の第3図の回路に冗長メモリセルア
レイ10、冗長ワードドライバ11、比較ゲート回路1
3、アンドゲートを構成するダイオードD2.D3.・
−・、Dnおよび抵抗R7、およびマルチエミッタトラ
ンジスタQ23を追加したものである。マルチエミッタ
トランジスタQ23のベースには選択信号SRが印加さ
れ、各エミッタはそれぞれデコーダ線5の各信号線およ
び冗長ワードドライバllの人力ずなわらトランジスタ
Q20のベースに接続されている。その他の部分は第3
図の回路と同じ構成を有している。
The circuit shown in FIG. 3 includes a redundant memory cell array 10, a redundant word driver 11, and a comparison gate circuit 1 in addition to the circuit shown in FIG.
3. Diode D2 forming the AND gate. D3.・
-., Dn, resistor R7, and multi-emitter transistor Q23 are added. A selection signal SR is applied to the base of the multi-emitter transistor Q23, and each emitter is connected to the base of the transistor Q20 through each signal line of the decoder line 5 and the redundant word driver 11, respectively. Other parts are 3rd
It has the same configuration as the circuit shown in the figure.

冗長メモリセルアレイlOは、高圧側ワード線WL (
R) +と低圧側ワード線WL (R)−との間および
メモリセルアレイ1と共通のビット線対BL、BLBの
間に接続されたメモリセルMCを有する。冗長ワードド
ライバ11は、ワードドライバ2の各ワードドライバユ
ニットと同じ構成を有し、トランジスタQ20.Q21
.Q22、抵抗R8および定電流回路l514を有する
。なお、トランジスタQ21のベースにはトランジスタ
Q2.Q5と同様に基準電圧VRFIが印加されている
The redundant memory cell array IO has a high voltage side word line WL (
It has a memory cell MC connected between R) + and a low voltage side word line WL (R)- and between memory cell array 1 and a common bit line pair BL, BLB. Redundant word driver 11 has the same configuration as each word driver unit of word driver 2, and includes transistors Q20 . Q21
.. Q22, resistor R8, and constant current circuit 1514. Note that the transistor Q2. is connected to the base of the transistor Q21. Similarly to Q5, reference voltage VRFI is applied.

比較ゲート回路13はワードアドレスADDの各ビット
に対応して設けられ、その内の1つの回路はトランジス
タQ13.Q14.・−・、Q19、定電流回路l5I
O,rsll、1312.l513、ダイオードDI、
抵抗R6,R7等によって構成される。トランジスタQ
13、ダイオードDiおよび定電流回路l5IOは入カ
ニミッタホロワ回路を構成する。トランジスタQ14.
Q15のエミッタは共通接続され定電流回路l511を
介して低圧側電源端子Veeに接続されている。トラン
ジスタQ16.Q17のエミッタも共通接続され定電流
回路l512を介して低電圧側電源端子Veeに接続さ
れている。なお、トランジスタQ15およびQ16のベ
ースにはそれぞれ基準電圧VRF3およびVRF4が印
加され、かつトランジスタQ17のベースには図示しな
い不良アドレス記憶用のFROMの出力が印加される。
Comparison gate circuits 13 are provided corresponding to each bit of word address ADD, one of which is connected to transistors Q13. Q14. ..., Q19, constant current circuit l5I
O,rsll, 1312. l513, diode DI,
It is composed of resistors R6, R7, etc. transistor Q
13, the diode Di and the constant current circuit 15IO constitute an input limiter follower circuit. Transistor Q14.
The emitters of Q15 are commonly connected and connected to the low voltage side power supply terminal Vee via a constant current circuit 1511. Transistor Q16. The emitters of Q17 are also commonly connected and connected to the low voltage side power supply terminal Vee via a constant current circuit 1512. Note that reference voltages VRF3 and VRF4 are applied to the bases of transistors Q15 and Q16, respectively, and the output of a FROM (not shown) for storing defective addresses is applied to the base of transistor Q17.

トランジスタQ15.Q16のコレクタは共にトランジ
スタQ19のベースに接続され、トランジスタQ14お
よびQ17のコレツ゛りは共にトランジスタQI8のベ
ースに接続されている。トランジスタQ18゜Q19お
よび定電流回路l513は論理和(OR)回路を構成す
る。
Transistor Q15. The collectors of Q16 are both connected to the base of transistor Q19, and the collectors of transistors Q14 and Q17 are both connected to the base of transistor QI8. Transistors Q18°Q19 and constant current circuit 1513 constitute a logical sum (OR) circuit.

以上のような構成を有する半導体記憶装置の動作を説明
する。比較ゲート回路13ば、排他的ノア(ENOR)
回路を構成しており、入力されるワードアドレス信号A
DDおよびFROMからの不良アドレス信号が共に高レ
ベル共に低レベルの場合に高レベルの選択信号SRを出
力し、これらの入力信号の一方が高レベル他方が低レベ
ルの場合には低レベルの選択信号SRを出力する。より
詳細に説明すると、ワードアドレス信号ADDが高レベ
ルの場合にはトランジスタQ14がオン、トランジスタ
Q15がオフとなり、出力トランジスタQlBのベース
電位が低レベルになる。このとき、Pl?OMからトラ
ンジスタQl?のベースに入力される不良ワードアドレ
ス信号が高レベルであればトランジスタQ17がオン、
トランジスタQ16がオフとなるから出力トランジスタ
Q19のベース電位は高レベルとなり選択信号SRが高
レベルとなる。
The operation of the semiconductor memory device having the above configuration will be explained. Comparison gate circuit 13, exclusive NOR (ENOR)
The input word address signal A constitutes the circuit.
When the defective address signals from DD and FROM are both high and low, a high-level selection signal SR is output, and when one of these input signals is high and the other is low, a low-level selection signal is output. Output SR. To explain in more detail, when the word address signal ADD is at a high level, the transistor Q14 is turned on, the transistor Q15 is turned off, and the base potential of the output transistor Q1B becomes a low level. At this time, Pl? From OM to transistor Ql? If the defective word address signal input to the base of is at a high level, transistor Q17 is turned on.
Since the transistor Q16 is turned off, the base potential of the output transistor Q19 becomes high level, and the selection signal SR becomes high level.

ワードアドレス信号ADDが高レベルであって不良ワー
ドアドレス信号が低レベルの場合には、トランジスタQ
17がオフ、トランジスタQ16がオンとなるため出力
トランジスタQ19のベース電位は低レベルとなり出力
トランジスタQ18のベース電位も前述のように低レベ
ルとなっている。
When the word address signal ADD is at high level and the defective word address signal is at low level, transistor Q
Since the transistor Q17 is turned off and the transistor Q16 is turned on, the base potential of the output transistor Q19 is at a low level, and the base potential of the output transistor Q18 is also at a low level as described above.

したがって、選択信号SRは低レベルとなる。ワードア
ドレス信号ADDが低レベルの場合には、トランジスタ
Q14がオフ、トランジスタQ15がオンとなって出力
トランジスタQ19のベースが低レベルとなる。このと
き、不良ワードアドレス信号が低レベルであればトラン
ジスタQ17がオフ、トランジスタQ16がオンとなっ
て出力トランジスタQ18のベースは高レベルとなるか
ら選択信号SRが高レベルとなる。ワードアドレス信号
が低レベルであって不良ワードアドレス信号が高レベル
の場合には、出力トランジスタQ18のベースが低レベ
ルとなり出力トランジスタQ19のベースが低レベルと
なるため選択信号SRは低レベルとなる。すなわち、比
較ゲート回路13はワードアドレス信号ADDおよびF
ROMから入力される不良ワードアドレス信号の排他的
ノア(ENOR)演算を行なう。
Therefore, the selection signal SR becomes low level. When the word address signal ADD is at a low level, the transistor Q14 is turned off, the transistor Q15 is turned on, and the base of the output transistor Q19 becomes low level. At this time, if the defective word address signal is at a low level, the transistor Q17 is turned off, the transistor Q16 is turned on, and the base of the output transistor Q18 is at a high level, so that the selection signal SR is at a high level. When the word address signal is at a low level and the defective word address signal is at a high level, the base of the output transistor Q18 is at a low level, and the base of the output transistor Q19 is at a low level, so that the selection signal SR is at a low level. That is, the comparison gate circuit 13 receives the word address signals ADD and F.
Exclusive NOR (ENOR) operation is performed on the defective word address signal input from the ROM.

第2図の回路において、ワードアドレスADDが不良ワ
ードアドレスと一致しない場合、したがって選択信号S
Rが低レベルの場合には冗長ワードドライバIIの出力
が低レベルとなり冗長メモリセルアレイ10の高圧側ワ
ード線WL (R)+が低レベルとなって、該冗長メモ
リセルアレイ10は非選択状態となる。そして、第3図
において説明したようなデータの読み書き動作が行なわ
れる。
In the circuit of FIG. 2, if the word address ADD does not match the defective word address, then the selection signal S
When R is at a low level, the output of the redundant word driver II becomes a low level, the high voltage side word line WL (R)+ of the redundant memory cell array 10 becomes a low level, and the redundant memory cell array 10 becomes a non-selected state. . Then, data reading and writing operations as explained in FIG. 3 are performed.

これに対して、ワードアドレスADDとFROMから入
力される不良ワードアドレスとが一致する場合は前述の
動作によって各ビットに対応する比較ゲート回路13の
出力がすべて高レベルとなり、選択信号SRが高レベル
となる。これにより、マルチエミッタトランジスタQ2
3を介してデコーダvA5のすべての信号線の電位が高
レベルとなってメモリセルアレイ1のすべての高圧側ワ
ード線WL+の電位が低レベルすなわち非選択レベルと
なる。そして、このとき、冗長ワードドライバ11にお
いてトランジスタQ20がオンとなり、トランジスタQ
21がカントオフするから、冗長ワード線WL (R)
十が高レベルとなり冗長メモリセルアレイlOが選択さ
れる。このようにして、メモリセルアレイ1内の不良ワ
ードに代えて冗長メモリセルアレイ10がアクセスされ
る。なお、ワードアドレスADDがPROMに記憶され
た不良ワードアドレスと一致しない場合には選択信号S
Rが前述のように低レベルとなるから、冗長ワードドラ
イバ11の出力が低しヘルとなりしたがって冗長メモリ
セルアレイ10は非選択となる。
On the other hand, if the word address ADD and the defective word address input from FROM match, all the outputs of the comparison gate circuits 13 corresponding to each bit become high level due to the above operation, and the selection signal SR becomes high level. becomes. This allows multi-emitter transistor Q2
3, the potentials of all signal lines of decoder vA5 become high level, and the potentials of all high voltage side word lines WL+ of memory cell array 1 become low level, that is, non-selection level. At this time, the transistor Q20 is turned on in the redundant word driver 11, and the transistor Q20 is turned on.
21 cant off, the redundant word line WL (R)
1 becomes high level, and the redundant memory cell array IO is selected. In this way, the redundant memory cell array 10 is accessed in place of the defective word in the memory cell array 1. Note that if the word address ADD does not match the defective word address stored in the PROM, the selection signal S
Since R becomes a low level as described above, the output of the redundant word driver 11 becomes low and becomes healthy, so that the redundant memory cell array 10 becomes non-selected.

なお、上述においては、ワード線用の冗長回路について
説明したが、本発明によればビット線等についても同様
の回路によって冗長切換を行なうことができることは明
らかである。
In the above description, a redundancy circuit for word lines has been described, but it is clear that according to the present invention, redundancy switching can also be performed for bit lines and the like using a similar circuit.

(発明の効果) 以上のように、本発明によれば、きわめて簡j■な回路
構成により、半導体記憶装置における冗長回路切換を的
確に行なうことが可能となり、製品歩留りを大幅に向上
させることが可能となる。
(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, with an extremely simple circuit configuration, redundant circuit switching in a semiconductor memory device can be performed accurately, and product yield can be significantly improved. It becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の1実施例に係わる半導体記憶装置の概
略を示すブロック回路図、第2図は第1図の装置の詳細
を示すブロック回路図、そして第3図は従来形の半導体
記憶装置の構成を示すブロック回路図である。 1:メモリセルアレイ、 2:ワードドライバ、 3:ワードデコーダ、 4:ワードアドレスバソファ、 5:デコーダ線、 10:冗長メモリセルアレイ、 11:冗長ワードドライバ、 12:プログラマブルリードオンリメモリ、13:比較
ゲート回路、 ui、 Q2.−、az3: トランジスタ、R1,R
2,・−・、R8:抵抗、 ISI、152.−、.1514  :定電流回路、D
I、D2.−”、Dn  :ダイオード。4、 特許出
願人 富士通株式会社 特許出願代理人
FIG. 1 is a block circuit diagram schematically showing a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block circuit diagram showing details of the device in FIG. 1, and FIG. 3 is a conventional semiconductor memory device. FIG. 2 is a block circuit diagram showing the configuration of the device. 1: Memory cell array, 2: Word driver, 3: Word decoder, 4: Word address bus sofa, 5: Decoder line, 10: Redundant memory cell array, 11: Redundant word driver, 12: Programmable read-only memory, 13: Comparison gate circuit, ui, Q2. -, az3: transistor, R1, R
2,..., R8: resistance, ISI, 152. -,. 1514: Constant current circuit, D
I, D2. -”, Dn: Diode. 4. Patent applicant Fujitsu Limited Patent application agent

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  メモリセルアレイ、冗長メモリセルアレイ、アドレス
バッファ回路、アドレスバツファ回路出力が適宜接続さ
れるデコーダ線、入力がデコーダ線に接続されたドライ
バゲート回路、入力アドレスが不良回路部分のアドレス
と一致するか否かを判定する冗長アドレス判定回路、お
よび冗長アドレス判定回路から出力される切換信号にも
とづきデコーダ線を非選択状態とすることにより不良回
路部分に代えて冗長メモリセルアレイを選択せしめる冗
長回路選択部を具備することを特徴とする半導体記憶装
置。
Memory cell array, redundant memory cell array, address buffer circuit, decoder line to which the address buffer circuit output is connected as appropriate, driver gate circuit whose input is connected to the decoder line, and whether or not the input address matches the address of the defective circuit portion. and a redundant circuit selection section that selects a redundant memory cell array in place of a defective circuit portion by setting a decoder line to a non-selected state based on a switching signal output from the redundant address determining circuit. A semiconductor memory device characterized by:
JP59238582A 1984-10-19 1984-11-14 Semiconductor memory Pending JPS61120400A (en)

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US06/788,587 US4796233A (en) 1984-10-19 1985-10-17 Bipolar-transistor type semiconductor memory device having redundancy configuration
EP85307561A EP0178949B1 (en) 1984-10-19 1985-10-18 Bipolar-transistor type semiconductor memory device having a redundancy configuration
KR1019850007704A KR900008658B1 (en) 1984-10-19 1985-10-18 Semiconductor memory device having redundancy structure
DE8585307561T DE3585201D1 (en) 1984-10-19 1985-10-18 BIPOLAR TRANSISTOR SEMICONDUCTOR STORAGE DEVICE WITH A REDUNDANCY CONFIGURATION.

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05313854A (en) * 1992-05-08 1993-11-26 Fujitsu Ltd Register file
US5757814A (en) * 1994-08-26 1998-05-26 Sgs-Thomson Microelectronics Limited Memory and test method therefor

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JPS5794998A (en) * 1980-12-03 1982-06-12 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor memory

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