JPS61114102A - 膜厚を連続的に無接触測定する方法および装置 - Google Patents

膜厚を連続的に無接触測定する方法および装置

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JPS61114102A
JPS61114102A JP60246464A JP24646485A JPS61114102A JP S61114102 A JPS61114102 A JP S61114102A JP 60246464 A JP60246464 A JP 60246464A JP 24646485 A JP24646485 A JP 24646485A JP S61114102 A JPS61114102 A JP S61114102A
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thin film
film thickness
measuring
film
corona
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クラウス・ロイター
ユルゲン・リングナウ
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Hoechst AG
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/02Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B7/06Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、キャリヤ上に配置された薄膜の膜厚を連続的
に無接触測定する方法、およびこの方法を実施する装置
に関する。
従来の技術 6アp ヒージョン”誌〔人dh″aa1on (Ad
hesion))1980年、第6号、183〜185
頁には、膜厚、とくに差当り液状で施こされた塗料およ
び接着剤の膜厚を連続的に測定する装置が記載されてい
る。実際にすでに有効な禎々の厚さ測定法の根底をなす
これら測定原理が、例えばドイン工業規格DIN第50
982号、第2部(1978年5月)にまとめて記載さ
れている。
材料膜厚の連続的かつ無接触厚さ測定法に適当である物
理的効果は、光学的または電気的方法であるか、あるい
はまた、高エネルギー庫、一般に放射嶽と物質との相互
作用に関連するものである。膜厚測定用の装置で使用さ
れる電気的効果では、膜厚測定の根底をなすのが容量測
定である。この場合、薄膜が施こされるキャリヤが導電
性であり、すなわち一般に金属キャリヤである必要がお
り、これが1方の電極として測定装置に接続される。こ
の場合このキャリヤカベ第2のt極、すなわち実際の測
定電極と一緒になって、その平面面積がこれら2つの電
極の距離と比べ大である平板コンデンサを形成する。
ドイツ工業規格DIN第50985号に記載されたこの
方法は、実際の測定電極が測定すべき薄膜の表面上にで
きるだけ緊密に配置された変法をも含有する。この場合
、測定を事および、測定すべき薄膜の表面間の距離は、
測定すべき薄膜の厚さが変動した場合でも測定電極が決
して薄膜表面と接触しえないような大きさに選択される
必要がある。
測定すべき薄膜がまだ電極間に配置されない場合の測定
Nコンデンサの容量C8は、2つの電極間の距離aおよ
び測定電極の面積Fから、方程式: %式% により決められることができる。まず、測定すべき薄膜
の防電率ε「が適当な心気的測定法により測定される必
要がある。その後に膜厚dが、式: により、この平板コンデンサにより形成された容量Cが
連続的に測定された場合に得られ、従ってこれにより、
金属ウェブ上で測定′電極の下方を通過する薄膜の所望
の不断の厚さ制御が可能である。大体において、このよ
うな装置を使用し、測定電極の平面面41mわたり平均
化された膜厚平均値が測定される。
米国特許明細書第4451732号からは、放射性同位
元素の線源および検知装置としてのガイが−・ミュラー
針数・aより成り、連続的に移動するウェブ材料の1−
厚が測定される測定装置が公知である。例えば、この検
知装置により、ウェブ材料から反射された、その強度が
層厚に依存するβ線が測定される。
西ドイツ国特許公開明細誓には、移動するウェブ羽村に
施こされたコーチングの面4責当り1計または厚さを測
定するため、1つのローラのその1部分の円周を被覆剤
中へ浸漬しかつこの被覆剤を分配ローラまたはウェブ羽
村へ転写する装置が6己載されている。被覆剤を含有す
る容器がウェブ材料の巾にわたり個々の部分的容器に分
割され、かつそれぞれ個々の部分的容器から消費された
被覆剤の1二が個々に測定され、かつ測定された単位時
間当り被覆剤消費に相応する測定値がコンピュータに供
給される。このコンピュータが、コーチングの被膜厚さ
ないしは面積当り重itを一定の値に制御する制御回路
全制御し、その場合部分的容器に、測定に基づき所要菫
の被覆剤が他の部分的容器と無関係に供給される。
公知の容置測定法における欠点は、この方法が測定電極
と測定すべき薄膜の表面との距離に著しく依存すること
である。この距離は、1方でできるだけ小であり、しか
し他方で、膜厚変IIIJJが過大である場合薄膜およ
び測定′I4c極間の接触を回避するため十分に大でな
けhばならない。
この測定法を使用し、極めて薄い被膜の厚さが不十分な
工程感度により極め【不正確に測定されることがある。
さらにこの方法は、純粋に誘電性でない材料の膜厚を測
定することを不可能となし、またさらに特定の暗−およ
び光導電性を有する。
発明が解決しようとする問題点 本発明の[IJI!題は、材料の膜厚を測定するため、
測定装置と薄膜表面との距離と十分に無関係であり、か
つ純粋に誘電性の薄膜ないしは羽村の測定だけでなく、
特定の導電時性を有する薄膜の測定をも可能にする測定
法並びKこの方法を実施する装置をつくり出すことであ
る。
−間]「点土蟇決  −の−゛ 本発明によればこの昧題は、薄膜が無接触荷電され、か
つ膜厚の尺度である荷電圧のレベルが測定されることを
特徴とする方法により解決される。
薄膜を荷電するため、コロナが使用され、これが均質な
荷電を可能にする。このことが、スクリーンを有するか
または有せず、グリシPを有するかまたは有せず、ワイ
ヤーまたはニードルを有するコロナにより達成されるこ
とができる。電源として、直流′電圧が使用されてよい
が、しかしながら直流磁圧の重ねられた交流電圧、また
はパルス直流電圧も使用されることができる。有利に再
現性金得るため、荷電電流が不変に維持される直流コロ
ナが使用される。
この方法の1実施例において、薄膜が荷電中に等速度で
移動され、かつ薄膜の面に施こされる荷電蓋が荷電中不
変に維持される。この方法の1実施例において、薄膜が
誘電性および/または光導電性羽村より成り、これが金
属キャリヤに施こされている。荷電は、まだ溶剤で湿っ
ている薄膜で、または薄膜の乾燥後に行なわれることが
できる。
この方法の他の実施例において、薄膜がプラスチックフ
ィルムにより成り、この場合これが導電性のペースに沿
い移動される。薄膜が、例えば電子写真印刷プレートの
被覆のような光導電性材料でおるか、または有機光導電
層でおる場合、移動する薄膜の所定の電光後の荷電電圧
レベルが感光度の計画にも利用されることができる。
またこの方法は、薄膜が荷電中に移動されず、かつその
代りに荷電界が等速度で固定薄膜上を導かれる場合にも
使用可能であり、例えばこのことが該当するのは、例え
ば自動車屋根のような静止する薄鈑部材上の塗膜の厚さ
が測定されるべき場合である。
この方法を実施する装置は、その厚さが測定される薄膜
の搬送ウェブの1つの位置上に、搬送方向に連続的に配
置されたコロナおよび第1の靜醒゛ホ圧H1より成る測
定装置が配置されていることを特徴とする。この装置を
発展させた場合、測定装置中でコロナおよび静電隠圧オ
し間に光源が配置される。移動する薄膜の荷*を圧レベ
ル全2つの位置で画定するため、測定装置は、コロナ、
第1の靜、it圧l並びに、導電性との関連において第
1の電圧d1と3〜4mの距離をおいて場合により配置
された光源および第2の靜TJL醒圧δ1を含有する。
実施例 以下に、本発明を図面実施例につき詳説する。
第1図および第2図は、原理的な膜厚測定装置を示す。
第1図において、誘電性薄膜15、例えばプラスチック
フィルムが、ストックo −5から搬送方向Aで巻取り
ローラに移動する。搬送ウェブ5に沿って薄膜15が延
び、この搬送ウェブ15が4邂性ベース16を経て導か
れ、この4嵯性ベースが図示せざる方法で′電気的に接
地されかつコロナ3のための対電極を形成し、このコロ
ナが薄膜150表面を一定の荷*電流で荷電する。搬送
方向Aに見て、静電゛電圧計4が測定ゾンデとして後接
続され、この電圧計が薄膜表面のそれぞれの荷電電圧を
測定する。コロナ3が、例えば直流電圧8kvで作動さ
れかつコロナワイヤーかまたはコロナニードルチップを
有する。コロナワイヤーないしはコロナニードルチップ
と薄膜表向との距離は5〜20朋の範囲内にあり、有利
にこの距離が約12mmである。測定ゾンデないしは第
1の静電電圧計は、その測定面が1膜表面と帆5〜4 
mm離されている。ウェブ速度は例えば8m/分である
が、但し著しく大きいウェブ速度も可能である。
薄膜表面の荷電電圧を測定するための静電電圧計4は公
知の装置であり、このものは測定すべき薄膜に対向する
下面に測定電極用の測定窓を有する。電圧計の金属ケー
シング中の振動フォーフカ(発振装置の、周波数により
調節可能な駆動装置を介し機械的振動状態におかね、か
つ電気的に金属ケーシングに接続される。振動フォーク
の、連続的圧相互に接近−および離反振動するアームが
、測定窓を周期的に開閉するチョッパとして作動する。
薄膜の荷電電圧ないしは表面電位から生じる電気的力線
が、測定窓を通過して測定電極圧延び、かつ、力線に対
し交差方向に移動する振動フォークの往復動アームによ
り断続される。これにより測定電極に、その電位が、交
番電圧振幅が最小になるまで増大された断続交番電圧が
誘導される。従って、ゾンデおよび薄膜間の電界が補償
され、かつゾンデ電位が荷電電圧に相応する。このよう
な静電電圧計の詳細が、例えば西ドイツ国特許出願明細
書p3409701.5号に記載されている。
電圧計の代りに電界測定装置も使用することができるが
、但しこのものはさらに大きい距離依存性を有する。
第2図は、第1図による装置を給電ユニットを含めて略
示する平面図である。コロナ3、光源1および測定ゾン
デないしは静置′電圧計4が共通のケーシング中に取付
けられ、このケーシングが、下方へ向け、導′成性キャ
リヤ材料14上の光導電性および/または誘電性薄膜2
ないしは、プラスチックフィルムの形の薄膜15、およ
び別個の導電性ベース16の方向に開口されている。コ
ロナシールド13の内部へ、圧力管および圧力装置8、
例えば圧力制御装置を経て、圧縮空気または保護ガスが
わずかな過圧で導入される。適当な保護ガスの例は、ヘ
リウム、ネオン、アルゴンあるいはまた窒素である。保
護ガスないしは圧縮空気は、測定装置を爆発の危険ある
位置で使用しかつ爆発性ガスのコロナ放電による点火を
阻止するのに役立つ。また保護ガスは、コロナ効率の増
大に役立ち、かつこれにより製造速度が大きい場合でも
連続的膜厚測定の利点が得られる。もう1つの利点が、
オゾン発生の回避ないしは阻止である。
コロナ3は、絶縁材料より成るシールド13を有し、か
つ4〜12kvの直流゛電圧で作動される。電圧レベル
の高さが、所望の荷1を電流により決められ、かつ定電
流回路を使用し自動的に再ai整されることができる。
光源7は、特定波長領域で発光しかつ所定の露光範囲を
所定の強度で照射する、ハロダン灯、ガス放電灯または
発光ダイオードである。有利であると判明したのは、そ
の窯出窓に干渉−およびグレーフィルタが開用可能であ
るハロダン灯である。従って、強度および波長領域がそ
れぞれの光導成体に適合されることができる。
静電電圧計4が、給電ユニット21を紅てx/を記録計
12に接続され、この記録計が時間ないしは、薄膜2ま
たは15の搬送通路との関連において、測定された膜面
荷Itt圧を記録する。この場合明白に有利なのが、例
えば電圧計表示装置、CRT−gまたはコンピュータ解
析用アナログ−デジタルコンバータのような他の出カニ
ニットである。第2図において破線により包囲された全
ての給電ユニットが、ケーシング中に取付けられたユニ
ット、例えばコロナ3、光源1および′電圧ti4と一
緒になって測定装[1を形成する。これら給電ユニット
が、図示せざる圧縮空気源に接続されていてもよく、こ
の圧縮空気源が例えば給電二二ッ)Kわずかな過圧を加
える。給電ユニットは、測定装置1の他のユニットと一
緒に収付けられるか、またはこれらユニットと別個に薄
膜2または15の搬送通路の範囲外に配置されていても
よい。コロナ3、光#1および靜W、電圧計4を有する
ケーシングは、案内レール28に沿い、搬送方向と交差
する矢印BまたはB′の方向に可動である。
第6図は、2つの測定位置のための測定装置を略示する
縦断面図であり、コロナ3に第1の靜゛醒゛−圧計4が
直接に後続する。薄膜の暗導電性と関連する距離をおい
て、スイッチ投入可能な光源9が配置され、この光源に
第2の静電電圧計10が直接に接続されている。これら
構成ユニットヲ、測定装置1の共通のケーシングが包含
する。とりわけこのような測定装置は、薄膜表面の荷−
電圧が、金属キャリヤ14に施こされた薄#2による放
電により指数的に低減すること釦より明白である特定の
暗導成性を有する誘電性薄膜の膜厚を測定するために備
えられる。
第4図に、光導電性薄J貞2の施こされたアルミニウム
キャリヤより成る印刷プレート用の製造ラインを略示す
る。搬送ウェブ5が、図示せざる乾燥ダクトから送りロ
ーラ22および、vE動ローラ25、並び釦引続く送り
ローラ23および24を経て巻取りローラ27に延びる
。測定装置の簡単な取付けを、アルミニウムキャリヤの
振動ができるだけわずかな位置で達成するため、測定装
置1が、駆動ローラ25付近の平らな位置6上に固定さ
れる。駆動ローラ25の範囲内に、搬送方向に見て測定
装置1の後方に放電灯11が配置され、これが例えばア
ルミニウムキャリヤ上の電子写真層2を光量150μJ
/cIn2でウエゾ速度8m/分で放電させる。非感光
性薄膜の場合、放電が、駆動ローラ25に接触する導電
性の圧搾p−ラ26により行なわれることができる。乾
燥が、後続の乾燥ダクト中で行なわれる。また、図示さ
れていないが、測定装置lt、1をコーチングされたア
ルオニウムキャリヤの乾燥ダクト前方に配置し、かつ従
って膜厚測定を、溶剤を含有するまだ湿った薄膜に対し
実施することが可能である。
以下に第5図〜第8図につき、膜厚および、コロナによ
り得られた#膜表面の荷電電圧間の物理的関係を説明す
る。
電圧Uに荷電された薄膜を、容量Cを有するコンデンサ
と見做した場合、薄膜に施こされた荷電量Qに下式が適
用される: Q工0−U二I It     (1)但し、工はコロ
ナの荷電電流の電流強度、およびtは荷電電流の作用時
間である。さらにこの場合、下式が得られる: 但し、Aは荷電された薄膜の面積、dは膜厚、およびり
は薄膜材料の誘a率および−8は空気の誘電率である。
式(1)および(2)から下式: が得られ、かつ作用時間tでコロナ下を経て搬送された
薄膜面4*A: A−X’V’t       (4) であることにより、下式が得られる: 但し、Xがコロナの放電距離、およびVが薄膜対測定装
置の相対速度である。
式(5)から、膜厚dおよび薄膜の荷電電圧0間の比例
性が得られる、それというのも他の値、すなわちg。、
りが物質定数、Xが固定の幾何学的数値、およびVおよ
びIが一定に維持された操作値であるからである。
十分に大きい固有導電率を有する薄膜の場合、飽和荷−
のレベルから薄膜重量を求めることも可能である。この
場合も、荷′成゛戒圧Uおよび膜(δ) 厚間に直接の比例性が存在し、その場合比例定数が薄膜
の比抵抗率全包含する。
第5図は、薄膜表面の荷電電圧(単位:ポルト)および
コロナの高電圧(単位: k”/ )間の関係を示す図
表である。この測定例において、荷醒亀圧を測定するた
めの容量範囲が、コロナの直流′電圧が2.3〜わずか
に8kvを上回った場合に得られる。その後に、荷電電
圧が不変に持続する抵抗範囲が、引続き増大するコロナ
電圧と無関係に始まる(飽和範囲)。コロナ電圧約10
 kVから、薄膜の絶縁破壊範囲が始まる。
第6図は、コロナ′電圧の関数としての荷電′電流を表
わす。この場合、荷電電流はコロナ範囲中に存在するガ
スの種類に著しく依存することが明白である。窒素より
成る保禮ガス雰囲気の場合、掃気せざるコロナの場合よ
りも着しく大きい荷電電流が流れる。このことが、薄膜
表面の迅速な荷電を可能にし、かつその他は同じコロナ
構造で著しく大きいウエゾ速度が得られる。
類似の作用が、アルデンおよびヘリウムのような他の保
護ガスでも得られるが、圧縮空気または純粋な酸素の場
合は荷電電流の増大が得られない。
第7図は、飽和電圧(単位: kV )および薄膜上t
(単位:g/m2>間の関係を示す。十分近似的にこれ
ら2つの数値間の直線関係が得られ、その場合飽和電圧
120vが薄膜重量19/ m2に相応する。この場合
、薄膜が1つの層より成るかまたは多数の層より成るか
ということは重要でない。
第8図は、第3図による装置により、光導電層2を有す
るキャリヤ14が搬送される搬送通路上の荷電電圧の経
過を示す。位置IQでコロナ3による薄膜2の荷電が行
なわれ、かつ位置x1で第1の靜[電圧計4による第1
の測定が行なわれる。電圧計4と6〜4mの距離をおい
て第2の静電電圧計10が配置され、この電圧計が所定
時間後の荷電レベルを測定する。
導電層の放電中に指数的に゛電圧降下することが公知で
あるので、第1およびM2の測定位置の荷電電圧の値か
ら飽和電圧の値へ外挿されることができ、従って第7図
による飽和電圧および薄m重量間の直線的関係により、
薄膜重量および従ってまた膜厚が測定されることができ
る。
光4電層が使用されかつ光源9がスイッチ投入された場
合、荷電電圧が、x2および13間で照射されることに
より、感光度について言えば例えばE/2を可能にする
価だけ降下する。
E/2値は、光導電体ないしは光導電層を初期荷′IL
t圧から半値の荷電電圧へ放電させるために使用された
光量(単位: J / m2ないしはμJ/cIIL2
)と定義される。光量全知りかつ電圧降下が指数的に経
過すると仮定した場合、光導電体ないしは光導電層の露
光位置と未露光位置との電圧差かも光導電層のg/2値
が決定されることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、本発明による装置の1実施例に
つき、これを測定すべき薄膜上に配置した状態で略示す
るそれぞれM′断面図および横断面図、第6図および第
4図は、本発明による装置のそれぞれ他の1実施例を略
示するそれぞれ縦断面図および1il11面図、第5図
は高電圧の直流コロナと薄膜表面の荷電電圧との関係を
示す図表、第6図は種々の算囲気におけるコロナ這圧と
画成電流との関係を示す図表、第7図は薄膜重量と薄膜
表面の飽和′電圧との関係を示す図表、および第8図は
第3図による装置により測定した光導電層の荷電電圧を
薄膜搬送通路の種々の位置との関連において示す図表で
ある。 1・・・測定装置、2・・・薄膜、3・・・コロナ、4
・・・第1の静電″電圧計、5・・・搬送ウェブ、6・
・・(測定)位置、7・・・光源、8・・・圧力管、9
・・・光源、10・・・第2の靜慰電圧計、11・・・
放電灯、12・・・x/を記録計、13・・・コロナシ
ールド、15・・・薄膜、16・・・4離性ベース、2
2,23.24・・・送りローラ、25・・・駆動ロー
ラ、26・・・圧搾ローラ、27・・・巻取りローラ ほw−田 デ ー   は−一田

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、キャリヤ上に配置された薄膜の厚さを連続的に無接
    触測定するに当り、薄膜が無接触法で荷電され、かつ、
    膜厚の尺度である荷電電圧のレベルが測定されることを
    特徴とする膜厚を連続的に無接触測定する方法。 2、交流電界により形成された荷電量が薄膜に施こされ
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の膜厚
    を連続的に無接触測定する方法。 3、直流電界により形成された荷電量が薄膜に施こされ
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の膜厚
    を連続的に無接触測定する方法。 4、パルス電界により形成された荷電量が薄膜に施こさ
    れることを特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の膜
    厚を連続的に無接触測定する方法。 5、荷電量が、交流電界と重ねられたパルス直流電界と
    により形成されることを特徴とする、特許請求の範囲第
    2項から第4項までのいずれか1項に記載の膜厚を連続
    的に無接触測定する方法。 6、薄膜の荷電が保護ガス雰囲気中で実施されることを
    特徴とする、特許請求の範囲第1項から第5項までのい
    ずれか1項に記載の膜厚を連続的に無接触測定する方法
    。 7、薄膜が荷電中に等速度で移動され、かつ、薄膜の面
    に施される荷電量が荷電中に不変に維持されることを特
    徴とする、特許請求の範囲第1項から第6項までのいず
    れか1項に記載の膜厚を連続的に無接触測定する方法。 8、薄膜が、金属キャリヤに施こされた誘電性および/
    または光導電性材料から形成されていることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第1項から第7項までのいずれか1
    項に記載の膜厚を連続的に無接触測定する方法。 9、薄膜が、まだ溶剤で湿つている間に荷電されること
    を特徴とする、特許請求の範囲第1項から第8項までの
    いずれか1項に記載の膜厚を連続的に無接触測定する方
    法。 10、薄膜が、乾燥後に荷電されることを特徴とする、
    特許請求の範囲第1項から第8項までのいずれか1項に
    記載の膜厚を連続的に無接触測定する方法。 11、薄膜がプラスチックフィルムから形成され、これ
    が導電性のベースに沿い搬送されることを特徴とする、
    特許請求の範囲第1項から第7項までのいずれか1項に
    記載の膜厚を連続的に無接触測定する方法。 12、移動する薄膜の荷電電圧レベルが、薄膜の移動方
    向に相互に距離をおいた2つの位置で測定されることを
    特徴とする、特許請求の範囲第1項から第5項までのい
    ずれか1項に記載の膜厚を連続的に無接触測定する方法
    。 16、薄膜が荷電中に移動されず、かつ、荷電電界が不
    動の薄膜上を等速度で導かれることを特徴とする、特許
    請求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に記載
    の膜厚を連続的に無接触測定する方法。 14、薄膜の荷電が、薄膜の荷電電圧−荷電形成電界の
    電圧曲線の比例範囲内で実施されることを特徴とする、
    特許請求の範囲第6項記載の膜厚を連続的に無接触測定
    する方法。 15、薄膜の荷電が飽和するまで行なわれることを特徴
    とする、特許請求の範囲第6項記載の膜厚を連続的に無
    接触測定する方法。 16、薄膜が荷電後に露光され、かつ、電光後の荷電量
    が測定されることを特徴とする、特許請求の範囲第1項
    から第15項までのいずれか1項に記載の膜厚を連続的
    に無接触測定する方法。 17、キャリヤ上に配置された薄膜の厚さを連続的に無
    接触測定するため、薄膜が無接触法で荷電され、かつ、
    膜厚の尺度である荷電電圧のレベルが測定される方法を
    実施する装置において、その厚さが測定される薄膜(2
    、15)の搬送ウェブ(5)の1つの位置(6)上に、
    搬送方向に連続的に配置されたコロナ(3)および第1
    の静電電圧計(4)より成る測定装置(1)が配置され
    ていることを特徴とする膜厚を連続的に無接触測定する
    装置。 18、光源(1)が、測定装置(1)中でコロナ(3)
    および静電電圧計(4)間に配置されていることを特徴
    とする、特許請求の範囲第17項記載の膜厚を連続的に
    無接触測定する装置。 19、測定装置(1)全体が、圧力装置(8)に接続さ
    れかつ圧縮空気または保護ガスによるわずかな過圧下に
    あることを特徴とする、特許請求の範囲第17項記載の
    膜厚を連続的に無接触測定する装置。 20、測定装置(1)が、コロナ(3)、第1の静電電
    圧計(4)並びに、薄膜の導電率に相応に第1の電圧計
    と距離をおいて光源(9)および第2の静電電圧計(1
    0)を包含し、かつ、この測定装置(1)が、圧縮空気
    または保護ガスによるわずかな過圧下にあることを特徴
    とする、特許請求の範囲第17項記載の膜厚を連続的に
    無接触測定する装置。 21、測定装置(1)の、薄膜の搬送方向後方に、放電
    灯(11)または導電性ローラ(26)が配置されてい
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第17項から第2
    0項までのいずれか1項に記載の膜厚を連続的に無接触
    測定する装置。 22、測定装置(1)が可動に配置されていることを特
    徴とする、特許請求の範囲第17項から第21項までの
    いずれか1項に記載の膜厚を連続的に無接触測定する装
    置。 26、コロナ(3)のシールド(13)が誘電材料より
    成り、かつコロナの入力電流が安定化されるか、ないし
    はコロナ装置中へ流れる電流およびコロナからシールド
    (13)へ流れる電流間の差が安定されることを特徴と
    する、特許請求の範囲第17項または第20項のいずれ
    かに記載の膜厚を連続的に無接触測定する装置。 24、薄膜(2)が、測定装置(1)の下方を移動する
    金属キャリヤ(14)に施こされた誘電性および/また
    は光導電性材料であることを特徴とする、特許請求の範
    囲第17項または第20項のいずれかに記載の膜厚を連
    続的に無接触測定する装置。 25、薄膜(15)が、導電性ベース(16)上を移動
    するプラスチックフィルムであることを特徴とする、特
    許請求の範囲第17項または第20項のいずれかに記載
    の膜厚を連続的に無接触測定する装置。 26、コロナ用ワイヤまたはコロナ用ニードルチップお
    よび薄膜表面間の距離が5〜20mmであることを特徴
    とする、特許請求の範囲第17項または第20項のいず
    れかに記載の膜厚を連続的に無接触測定する装置。 27、1つまたはそれ以上の静電電圧計(4、10)の
    1つまたはそれ以上の測定面および薄膜表面間の距離が
    0.5〜4mmであることを特徴とする、特許請求の範
    囲第17項または第20項のいずれかに記載の膜厚を連
    続的に無 接触測定する装置。 28、複数の測定装置(1)が平行に配置されているこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第17項から第27項
    までのいずれか1項に記載の膜厚を連続的に無接触測定
    する装置。
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