JPS6110489A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光記録媒体及びその製造方法Info
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- JPS6110489A JPS6110489A JP59131320A JP13132084A JPS6110489A JP S6110489 A JPS6110489 A JP S6110489A JP 59131320 A JP59131320 A JP 59131320A JP 13132084 A JP13132084 A JP 13132084A JP S6110489 A JPS6110489 A JP S6110489A
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- layer
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- G11B2007/24316—Metals or metalloids group 16 elements (i.e. chalcogenides, Se, Te)
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- G11B2007/24318—Non-metallic elements
- G11B2007/2432—Oxygen
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11B7/253—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates
- G11B7/2533—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of substrates comprising resins
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光の熱エネルギーを利用して膜の結晶状態を変
化させることにより記録再生を可能とする光記録媒体及
びその製造方法に関するものであるＯ 従来例の構成とその問題点 光を利用した記録再生装置は、磁気記録にみられる磁気
ヘッドと磁気媒体の摺動のような接触状態がないため耐
久性に優れており、各社とも種々の方法で開発研究して
いる。再生のみの装置はオーディオ分野におけるコンパ
クトディスクをはじめ我社の文書ファイルシステム等が
実用化されており、今後記録再生が可能な装置がψ捷れ
ている。
化させることにより記録再生を可能とする光記録媒体及
びその製造方法に関するものであるＯ 従来例の構成とその問題点 光を利用した記録再生装置は、磁気記録にみられる磁気
ヘッドと磁気媒体の摺動のような接触状態がないため耐
久性に優れており、各社とも種々の方法で開発研究して
いる。再生のみの装置はオーディオ分野におけるコンパ
クトディスクをはじめ我社の文書ファイルシステム等が
実用化されており、今後記録再生が可能な装置がψ捷れ
ている。
以下に従来の記録再生可能な光記録装置に使用する光記
録媒体について説明する。
録媒体について説明する。
第１図は従来の光記録媒体の断面を示すもので、１．３
はアクリル基板である。２はＴｅ０ｘ（ｏ＜ｘ（２，Ｔ
ｏとＴｅＯ２との混合物）からなる記録層で、記録時に
半導体レーザ等の光を照射し熱を加えることで結晶状態
が変化し再生光を照射した時に未記録部との反射率の差
による反射光の強度変化を生じる。４，６は表面を硬化
して傷の発生を防止する保護層である。
はアクリル基板である。２はＴｅ０ｘ（ｏ＜ｘ（２，Ｔ
ｏとＴｅＯ２との混合物）からなる記録層で、記録時に
半導体レーザ等の光を照射し熱を加えることで結晶状態
が変化し再生光を照射した時に未記録部との反射率の差
による反射光の強度変化を生じる。４，６は表面を硬化
して傷の発生を防止する保護層である。
第２図は別の従来例の断面を示すもので６はボリカーボ
ネート基板である。７はＴｅ０ｘ（Ｏ＜Ｉ＜２ 、 Ｔ
ｏ （！： ＴａＯ２との混合物）等からなる記録層。
ネート基板である。７はＴｅ０ｘ（Ｏ＜Ｉ＜２ 、 Ｔ
ｏ （！： ＴａＯ２との混合物）等からなる記録層。
８はエポキシ樹脂からなるバックコート層で記録層の変
質を防止するためのものである。
質を防止するためのものである。
以」二のように構成された従来の光記録媒体について、
以下その動作を説明する。
以下その動作を説明する。
アクリル基板１，３は透過性に優れ光記録に適するもの
であるが吸湿率が高くソリが発生しやすい。このため記
録層２をアクリル基板１，３で両側よりはさむサンドイ
ッチ構造にし、アクリル基板１，３が吸湿することに起
因するソリを防止している。またアクリル基板１，３の
傷を防止する目的でアクリル基板１，３上にアクリル系
のＵＶ硬化樹脂からなる６〜６μｍ厚の保護層４，６を
設けている。光は保護層４．アクリル基板１を透過して
記録層２に照射され、照射部が光の熱エネルギーにより
結晶状態が変化する。結晶状態の変化により記録層２の
反射率が変化することを利用して記録再生を可能にして
いる。
であるが吸湿率が高くソリが発生しやすい。このため記
録層２をアクリル基板１，３で両側よりはさむサンドイ
ッチ構造にし、アクリル基板１，３が吸湿することに起
因するソリを防止している。またアクリル基板１，３の
傷を防止する目的でアクリル基板１，３上にアクリル系
のＵＶ硬化樹脂からなる６〜６μｍ厚の保護層４，６を
設けている。光は保護層４．アクリル基板１を透過して
記録層２に照射され、照射部が光の熱エネルギーにより
結晶状態が変化する。結晶状態の変化により記録層２の
反射率が変化することを利用して記録再生を可能にして
いる。
アクリル基板１のかわりにポリカーボネート基板６を使
用すると、アクリル基板１に比べ光の透過率は劣るもの
の吸湿率は低くソリも発生しない。
用すると、アクリル基板１に比べ光の透過率は劣るもの
の吸湿率は低くソリも発生しない。
このため第１図に示したように記録層２をアクリル基板
１，３ではさみ込むサンドイッチ構造にする必要がなく
簡単な構成が可能になる。また記録層７の変質や傷を防
止する目的で記録層７の上にエポキシ系のＵＶ硬化樹脂
からなる厚み１０〜１６μｍのバックコート層８を設け
ている。光はポリカーボネート基板６を透過し記録層７
に照射され、照射部が光の熱エネルギーにより記録層７
の結晶状態が変化することを利用して記録再生をする。
１，３ではさみ込むサンドイッチ構造にする必要がなく
簡単な構成が可能になる。また記録層７の変質や傷を防
止する目的で記録層７の上にエポキシ系のＵＶ硬化樹脂
からなる厚み１０〜１６μｍのバックコート層８を設け
ている。光はポリカーボネート基板６を透過し記録層７
に照射され、照射部が光の熱エネルギーにより記録層７
の結晶状態が変化することを利用して記録再生をする。
しかしながら上記のような構成では以下に述べるような
問題点がある。記録層２をアクリル基板１．３ではさみ
込んだサンドインチ構造の場合保護層４，６及び基板も
アクリル系のため吸湿率が高く、高湿度状態及び長期間
の保存により保護層４．５・アクリル基板１，３が吸湿
し記録層２が変質して記録再生感度が低下する０第２図
に示すポリカーボネートを基板とした構造の場合でも同
様で、防湿を目的として設けた厚み１ｏ〜１５μｍのバ
ックコート層８もエポキシ系のＵＶ硬化樹脂では不十分
であり、またポリカーボネート基板６も吸湿性があるた
め高湿度環境下及び長期間の保存により記録層７が変質
し記録再生感度が低下するという問題点を有していた。
問題点がある。記録層２をアクリル基板１．３ではさみ
込んだサンドインチ構造の場合保護層４，６及び基板も
アクリル系のため吸湿率が高く、高湿度状態及び長期間
の保存により保護層４．５・アクリル基板１，３が吸湿
し記録層２が変質して記録再生感度が低下する０第２図
に示すポリカーボネートを基板とした構造の場合でも同
様で、防湿を目的として設けた厚み１ｏ〜１５μｍのバ
ックコート層８もエポキシ系のＵＶ硬化樹脂では不十分
であり、またポリカーボネート基板６も吸湿性があるた
め高湿度環境下及び長期間の保存により記録層７が変質
し記録再生感度が低下するという問題点を有していた。
発明の目的
本発明は上記従来の問題点を解消するもので高湿度環境
下及び長期間の保存により記録層が変質することなく記
録再生感度の低下が少ない光記録媒体及びその製造方法
を提供することを目的とする。
下及び長期間の保存により記録層が変質することなく記
録再生感度の低下が少ない光記録媒体及びその製造方法
を提供することを目的とする。
発明の構成
本発明は透明基板と記録層を重ね合わせて構成した記録
体の外気の接する表面部にＣｅを含む有機物層を形成し
、この有機物層の上に含弗素有機物層を形成した光記録
媒体および上記含弗素有機物層をプラズマ重合法によっ
て形成した光記録媒体の製造方法に関するものである。
体の外気の接する表面部にＣｅを含む有機物層を形成し
、この有機物層の上に含弗素有機物層を形成した光記録
媒体および上記含弗素有機物層をプラズマ重合法によっ
て形成した光記録媒体の製造方法に関するものである。
実施例の説明
第３図は本発明の第１の実施例における光記録媒体の断
面図を示すものである。第３図において９．１１はアク
リル等の透明基板、１ｏは記録層、１２はＣ１を含む有
機物層、１３は合邦有機物層である。
面図を示すものである。第３図において９．１１はアク
リル等の透明基板、１ｏは記録層、１２はＣ１を含む有
機物層、１３は合邦有機物層である。
以上のように構成されたこの実施例の光記録媒体につい
て、以下その動作を説明する。
て、以下その動作を説明する。
含弗素有機物層１３は疎水性が強く水をはじく特長をも
ち、防湿層としては非常に適している。
ち、防湿層としては非常に適している。
しかしながら含弗素有機物層を従来から薄膜を形成する
のに用いられている塗布方式により作製した場合、下地
との付着強度が弱くまたピンホールが多いといった問題
がある。そこで含弗素有機物層１３をプラズマ重合法に
より形成することを検討した。プラズマ重合法による膜
の作成は、一般にモノマーガスに不活性ガス（例えばＡ
ｒ ）を加えた雰囲気に高周波電力を印加して放電させ
、モノマーガスを一度分解させた後重合させ膜を形成す
るため、形成膜は下地との付着力が強くピンホールフリ
ーとなる。今回モノマーガスとしてオクタフルオロンク
ロブタン：Ｃ−０４Ｆ８（ダイキン製）をモノマーガス
として検討したところ５００人／分の重合速度で付着力
の強い均一な含弗素有機物層が形成できた。膜の透湿量
は次式で表わされる。
のに用いられている塗布方式により作製した場合、下地
との付着強度が弱くまたピンホールが多いといった問題
がある。そこで含弗素有機物層１３をプラズマ重合法に
より形成することを検討した。プラズマ重合法による膜
の作成は、一般にモノマーガスに不活性ガス（例えばＡ
ｒ ）を加えた雰囲気に高周波電力を印加して放電させ
、モノマーガスを一度分解させた後重合させ膜を形成す
るため、形成膜は下地との付着力が強くピンホールフリ
ーとなる。今回モノマーガスとしてオクタフルオロンク
ロブタン：Ｃ−０４Ｆ８（ダイキン製）をモノマーガス
として検討したところ５００人／分の重合速度で付着力
の強い均一な含弗素有機物層が形成できた。膜の透湿量
は次式で表わされる。
Ｑ＝ＰｘΔＰ×−×Ｔ
Δｔ
Ｑ：透湿量、ΔＰ：蒸気圧、Δｔ：膜厚Ａ：表面積、
Ｔ：時間、 Ｐ：透湿率この式かられかるように透湿
量を減少させるには透湿率を小さくするだけでなく、膜
厚を可能な限り厚くすることが必要となる例えば塩化ビ
ニル等は２μｍ以上で急激に透湿量が減少する。プラズ
マ重合法で形成した膜は、ピンホールフリー等膜質につ
いては優れているものの膜形成速度は遅く、膜厚を厚く
することは不適当である。そこで透湿率が小さくしかも
塗布方式でも均一々膜が形成できるＣ１を含む有機物１
２（例えば塩化ビニル、サランラテックスｅｔｃ ）を
第１層膜として膜厚をかせぎ、その上に含弗素有機物層
１３をプラズマ重合法で形成することを考えた。即ち防
湿層を透湿率が小さなＣ１を含む有機物層１２を塗布方
式により膜厚２μｍ以上に形成しその上にプラズマ重合
法で含弗素有機物層１３を形成した構成にすることで、
防湿層表面に付着する水分等は疎水性が強い含弗素有機
物層１３がはじき含弗素有機物層１３を透過した水蒸気
は透湿率が小さく膜厚の厚いＣ１を含む有機物層１２が
防止する。第５図に前記２層構造にした防湿層の効果を
示す。
Ｔ：時間、 Ｐ：透湿率この式かられかるように透湿
量を減少させるには透湿率を小さくするだけでなく、膜
厚を可能な限り厚くすることが必要となる例えば塩化ビ
ニル等は２μｍ以上で急激に透湿量が減少する。プラズ
マ重合法で形成した膜は、ピンホールフリー等膜質につ
いては優れているものの膜形成速度は遅く、膜厚を厚く
することは不適当である。そこで透湿率が小さくしかも
塗布方式でも均一々膜が形成できるＣ１を含む有機物１
２（例えば塩化ビニル、サランラテックスｅｔｃ ）を
第１層膜として膜厚をかせぎ、その上に含弗素有機物層
１３をプラズマ重合法で形成することを考えた。即ち防
湿層を透湿率が小さなＣ１を含む有機物層１２を塗布方
式により膜厚２μｍ以上に形成しその上にプラズマ重合
法で含弗素有機物層１３を形成した構成にすることで、
防湿層表面に付着する水分等は疎水性が強い含弗素有機
物層１３がはじき含弗素有機物層１３を透過した水蒸気
は透湿率が小さく膜厚の厚いＣ１を含む有機物層１２が
防止する。第５図に前記２層構造にした防湿層の効果を
示す。
ｓｏ℃、９０％ＲＨ環境下に光記録媒体を保存し、記録
再生感度が３ｄｂ低下するまでの時間を検討すると、防
湿層熱の場合２〜３時間、防湿層として従来から使用さ
れているアクリル系ＵＶ硬化樹脂を用いた場合２４時間
であるのに対し、厚さが２μｍ以上のＣ１を含む有機物
層１２上にプラズマ重合法により含弗素有機物層１３を
設けた２層構造の防湿層では４８時間以上の耐久性があ
る。
再生感度が３ｄｂ低下するまでの時間を検討すると、防
湿層熱の場合２〜３時間、防湿層として従来から使用さ
れているアクリル系ＵＶ硬化樹脂を用いた場合２４時間
であるのに対し、厚さが２μｍ以上のＣ１を含む有機物
層１２上にプラズマ重合法により含弗素有機物層１３を
設けた２層構造の防湿層では４８時間以上の耐久性があ
る。
また２層構造にした防湿層の屈折率は１．４近傍で、ア
クリル基板９の屈折率に比べ小さく反射防止膜としての
効果もある。
クリル基板９の屈折率に比べ小さく反射防止膜としての
効果もある。
以上のようにこの実施例によれば、厚さが２μｍ以上の
Ｃ１を含む有機物層１２の上にプラズマ重合法により含
弗素有機物層１３を形成する２層構造の防湿層を外気と
接する表面部に設けることにより、高湿度環境下及び長
期間の保存における記録ＮＪ１ｏの変質を防ぎ記録再生
感度の劣化を防止することができる。
Ｃ１を含む有機物層１２の上にプラズマ重合法により含
弗素有機物層１３を形成する２層構造の防湿層を外気と
接する表面部に設けることにより、高湿度環境下及び長
期間の保存における記録ＮＪ１ｏの変質を防ぎ記録再生
感度の劣化を防止することができる。
第４図はポリカーボネートを基板にした光記録媒体に本
発明を適応させた時の断面図である。同図において１４
けポリカーボネート基板、１５は記録層、１６はＣ１を
含む有機物層、１７は含弗素有機物層である。ポリカー
ボネートを基板にした光記録媒体はポリカーボネート基
板１４の片面に記録層１５を設けた構成であるため記録
層１５は直接外気と接し、防湿層が絶対に必要となる。
発明を適応させた時の断面図である。同図において１４
けポリカーボネート基板、１５は記録層、１６はＣ１を
含む有機物層、１７は含弗素有機物層である。ポリカー
ボネートを基板にした光記録媒体はポリカーボネート基
板１４の片面に記録層１５を設けた構成であるため記録
層１５は直接外気と接し、防湿層が絶対に必要となる。
本発明の２層構造防湿層は、従来から防湿層として用い
たエポキシ系ＵＶ硬化樹脂に比べても防湿効果は大きく
、８０℃、９０％ＲＨ環境下における耐久性は約２倍と
なる。
たエポキシ系ＵＶ硬化樹脂に比べても防湿効果は大きく
、８０℃、９０％ＲＨ環境下における耐久性は約２倍と
なる。
第３図、第４図においては、記録媒体の外気と接するす
べての部分を第１層および第２層で被ふ１゜ くした状態を示したが、内外周部の端面については透湿
の影響も少なく、第１層および第２層を完全に被ふくし
なくても同等の効果を有する。
べての部分を第１層および第２層で被ふ１゜ くした状態を示したが、内外周部の端面については透湿
の影響も少なく、第１層および第２層を完全に被ふくし
なくても同等の効果を有する。
発明の効果
本発明の光記録媒体は表面部に、Ｃｌを含む有機物層の
上にプラズマ重合法で含弗素有機物層を形成する２層構
造の防湿層を設けることにより、高湿環境下及び長期間
の保存における記録層の変質劣下を防ぎ記録再生感度の
低下を防止することができ、その実用的効果は大きい。
上にプラズマ重合法で含弗素有機物層を形成する２層構
造の防湿層を設けることにより、高湿環境下及び長期間
の保存における記録層の変質劣下を防ぎ記録再生感度の
低下を防止することができ、その実用的効果は大きい。
第１図は従来の光記録媒体の断面図、第２図は別の従来
の光記録媒体の断面図、第３図は本発明の第１の実施例
における光記録媒体の断面図、第１・・・・・・アクリ
ル基板、２，７，１０．１５・・・・・・記録層、１２
．１６・・・・・Ｃ１を含む有機物層、１３゜１７・・
・・・含弗素有機物層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
ＢｊＪ グ２１ＩＪ 偲３図 １＋ｄ
の光記録媒体の断面図、第３図は本発明の第１の実施例
における光記録媒体の断面図、第１・・・・・・アクリ
ル基板、２，７，１０．１５・・・・・・記録層、１２
．１６・・・・・Ｃ１を含む有機物層、１３゜１７・・
・・・含弗素有機物層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
ＢｊＪ グ２１ＩＪ 偲３図 １＋ｄ
Claims (3)
- （１）透明基板と記録層を重ね合わせて構成した記録体
の外気の接する表面部にＣｌを含む有機物層を形成し、
この有機物層の上に含弗素有機物層を形成した光記録媒
体。 - （２）Ｃｌを含む有機物層を２μｍ以上の膜厚に設定し
た特許請求の範囲第１項記載の光記録媒体。 - （３）透明基板と記録層を重ね合わせて記録体を構成し
、この記録体の外気と接する表面部にＣｌを含む有機物
層を形成し、この有機物層の上にプラズマ重合法により
含弗素有機物層を形成した光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59131320A JPS6110489A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59131320A JPS6110489A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6110489A true JPS6110489A (ja) | 1986-01-17 |
Family
ID=15055192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59131320A Pending JPS6110489A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6110489A (ja) |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP59131320A patent/JPS6110489A/ja active Pending
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