JPS6079735U - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents

電子ビ−ム露光装置

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Publication number
JPS6079735U
JPS6079735U JP17092783U JP17092783U JPS6079735U JP S6079735 U JPS6079735 U JP S6079735U JP 17092783 U JP17092783 U JP 17092783U JP 17092783 U JP17092783 U JP 17092783U JP S6079735 U JPS6079735 U JP S6079735U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
exposure apparatus
mask
beam exposure
window
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Pending
Application number
JP17092783U
Other languages
English (en)
Inventor
鈴木　美雄
Original Assignee
東芝機械株式会社
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Publication date
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  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案による電子ビーム露光装置の概略断面図
、第２図は第１図の露光装置に用いられるマスクの平面
図、第３図はマスクを装置に取り　　　□付けた１実施
例を示す概略平面図、そして第４図はマスクを装置に設
定した他の実施例を示す概略図である。 １・・・支給台、３・・・試料ステージ、４・・・試料
、５・・・カセット、７・・・マスク、訃・・マスクの
窓、９・・・クランプ部材。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　電子ビーム露光装置において、電子ビームにより露
    光される試料の上表面に近接して導電性材料から成るマ
    スクを接地して設け、前記マスクには電子ビームを通過
    させるための窓を設けて該窓枠範囲内で電子ビームによ
    る描面を行い得るようにしたことを特徴とする電子ビー
    ム露光装置。　　　　　　” ２　前記マスクが前記試料を保持する試料カセット上に
    載置され、電子ビームによる描画領域に対応する形状の
    窓を有する上記実用新案登録請求の範囲第１項に記載の
    電子ビーム露光装置。 ３　前記マスクが露光装置の試料ステージに取付られ、
    電子ビームによる描画領域に対応する形状の窓を有する
    上記実用新案登録請求の範囲第１項に記載の電子ビーム
    露光装置。 ４　前記マスクが露光装置の固定部に取付けられ　　゛
    電子ビームの走査範囲を包含する窓を有している上記実
    用新案登録請求の範囲第１項に記載の電子ビーム露光装
    置。
JP17092783U 1983-11-04 1983-11-04 電子ビ−ム露光装置 Pending JPS6079735U (ja)

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JP17092783U JPS6079735U (ja) 1983-11-04 1983-11-04 電子ビ−ム露光装置

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JPS6079735U true JPS6079735U (ja) 1985-06-03

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ID=30373002

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