JPS5869934U - 電子ビ−ム描画装置の磁気シ−ルドカバ− - Google Patents

電子ビ−ム描画装置の磁気シ−ルドカバ−

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Publication number
JPS5869934U
JPS5869934U JP16517181U JP16517181U JPS5869934U JP S5869934 U JPS5869934 U JP S5869934U JP 16517181 U JP16517181 U JP 16517181U JP 16517181 U JP16517181 U JP 16517181U JP S5869934 U JPS5869934 U JP S5869934U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic shield
shield cover
electron beam
beam lithography
lithography equipment
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Pending
Application number
JP16517181U
Other languages
English (en)
Inventor
沼賀 拓興
Original Assignee
東芝機械株式会社
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Publication date
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Priority to JP16517181U priority Critical patent/JPS5869934U/ja
Publication of JPS5869934U publication Critical patent/JPS5869934U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来例の断面図、第2図および第3図は本考案
の一実施例を示し第2図は断面図、第3図は上面カバー
を取除いた平面図、第4図は外側シールドカバーの他の
実施例における側面図である。 24・・・・・・試料室、25・・・・・・鏡胴、31
・・・・・・内側シールドカバー、32・・・・・・外
側シールドカバー、33・・・・・・小穴、36・・・
・・・ルーバ。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. (1)  試料室および鏡胴を内側磁気シールドカバー
    で被うと共に、前記試料室および鏡胴の他これらに付属
    するオートフィーダや駆動部等を含む装置全体を比較的
    小形でかつほぼ4角形の外側磁気シールドカバーで被う
    ようにした電子ビーム描画装置の磁気シールドカバー。
  2. (2)外側磁気シールドカバーの周面に小穴或いはルー
    バを設けたことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第
    1項記載の電子ビーム描画装置の磁気シールドカバー。
JP16517181U 1981-11-05 1981-11-05 電子ビ−ム描画装置の磁気シ−ルドカバ− Pending JPS5869934U (ja)

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JP16517181U JPS5869934U (ja) 1981-11-05 1981-11-05 電子ビ−ム描画装置の磁気シ−ルドカバ−

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JPS5869934U true JPS5869934U (ja) 1983-05-12

Family

ID=29957377

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JP16517181U Pending JPS5869934U (ja) 1981-11-05 1981-11-05 電子ビ−ム描画装置の磁気シ−ルドカバ−

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52136578A (en) * 1976-05-12 1977-11-15 Toshiba Corp Electron beam exposure apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52136578A (en) * 1976-05-12 1977-11-15 Toshiba Corp Electron beam exposure apparatus

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