JPS6076594A - ガス化反応装置 - Google Patents
ガス化反応装置Info
- Publication number
- JPS6076594A JPS6076594A JP10885683A JP10885683A JPS6076594A JP S6076594 A JPS6076594 A JP S6076594A JP 10885683 A JP10885683 A JP 10885683A JP 10885683 A JP10885683 A JP 10885683A JP S6076594 A JPS6076594 A JP S6076594A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- combustion
- pipe
- gas
- char
- reaction
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガス化反応装置に係り、特に高濃度の反応ガ
スを得ることが可能なガス化反応装置に関する。
スを得ることが可能なガス化反応装置に関する。
ｇ１図は、従来の石炭のガス化装置ｔ−示したものであ
シ、この図により石炭の水性ガス化反応を説明すると以
下の如くである６、即ち、石炭が石炭供給″ｆｉＩ９よ
り反応器１の上部に供給される１、更にスチームがスチ
ーム供給管８よシ反応器１の底部に供給され、空気が空
気供給管４より反応器１の下側郡に供給される。供給さ
れたスチーム及び空ヌ一は 分散板７をｍ遇し、反応器
１内の石炭流動Ｉ一部に到達し、空気中の酸素に、より
石炭の一部が燃脱し、生成した燃ｔＡ熱により石炭とス
チームとが反応し、水素、−酸化炭素などから成る可燃
性ガスが発生し、該可燃性ガスは精縁仮燃料などに利用
される しかしながら、第１図に示された石炭のガス化装置は、
燃焼部と反応部とが同一であるため、石炭の燃焼により
発生する炭酸ガスや燃焼用ガスとして用いられた空気中
の窒素ガスによシ生成ガスが希釈され、水素や一酸化炭
紫の一度が低いガスしか得られないという欠点があり、
このような欠点を解消するために燃焼用ガスとして高価
な酸素ガスを用いているのが実情であるが、このように
しても上記欠点を全て解消する迄には至っていない、 本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を解熾し、生
成ガスが希釈されることなく高濃度の生成ガスを得るこ
とができるガス化反応装置を提供することにｂる。
シ、この図により石炭の水性ガス化反応を説明すると以
下の如くである６、即ち、石炭が石炭供給″ｆｉＩ９よ
り反応器１の上部に供給される１、更にスチームがスチ
ーム供給管８よシ反応器１の底部に供給され、空気が空
気供給管４より反応器１の下側郡に供給される。供給さ
れたスチーム及び空ヌ一は 分散板７をｍ遇し、反応器
１内の石炭流動Ｉ一部に到達し、空気中の酸素に、より
石炭の一部が燃脱し、生成した燃ｔＡ熱により石炭とス
チームとが反応し、水素、−酸化炭素などから成る可燃
性ガスが発生し、該可燃性ガスは精縁仮燃料などに利用
される しかしながら、第１図に示された石炭のガス化装置は、
燃焼部と反応部とが同一であるため、石炭の燃焼により
発生する炭酸ガスや燃焼用ガスとして用いられた空気中
の窒素ガスによシ生成ガスが希釈され、水素や一酸化炭
紫の一度が低いガスしか得られないという欠点があり、
このような欠点を解消するために燃焼用ガスとして高価
な酸素ガスを用いているのが実情であるが、このように
しても上記欠点を全て解消する迄には至っていない、 本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を解熾し、生
成ガスが希釈されることなく高濃度の生成ガスを得るこ
とができるガス化反応装置を提供することにｂる。
要するに本発明は、ガス化反応装置において、原料物質
σ薯焼部と反応部とを分離するために仕切手段を設け、
且つ該仕切手段に、原料物質が燃焼部と反応部とを往復
するための間隙部を設けたものである、 以下図面に基いて本発明の詳細な説明する。
σ薯焼部と反応部とを分離するために仕切手段を設け、
且つ該仕切手段に、原料物質が燃焼部と反応部とを往復
するための間隙部を設けたものである、 以下図面に基いて本発明の詳細な説明する。
第２図は、石炭の水性ガス化反応装置を示すもので必り
、反応器１内郡、には、下部に仕切板２が、上部に仕切
板３が取り付けられている。、石炭粒子は、石炭供給°
ｕ９よシ反応器１に供給される。空気は昇圧された後空
気供給管４より反応器１内のチャーにより形成された流
動ノー燃焼部５に送られ、そこでチャーを燃焼させる。
、反応器１内郡、には、下部に仕切板２が、上部に仕切
板３が取り付けられている。、石炭粒子は、石炭供給°
ｕ９よシ反応器１に供給される。空気は昇圧された後空
気供給管４より反応器１内のチャーにより形成された流
動ノー燃焼部５に送られ、そこでチャーを燃焼させる。
燃焼されたチャーは、アッシュを含む高温の粒子となり
、ごと気により吹き上げられて、仕切板２と仕切板３０
間隙ヲ経由して水性ガス化反応郡６に送られる。
、ごと気により吹き上げられて、仕切板２と仕切板３０
間隙ヲ経由して水性ガス化反応郡６に送られる。
水性ガス反応部６には、スチーム供給管８、分散４反１
を経てスチームが供給され、このスチームと編温のチャ
ーが反応して、水素、−酸化縦索などからなる可燃性水
性ガスが生成され、該可燃性水性ガスは仕切板３の外側
を通って生成ガス排出宮１１かち取り出される。石炭の
水性ガス化反応は吸熱反応であるため 反応が一定期間
４１続されると、水性ガス反応部６のチャーが冷却され
るが、このような場合には、チャーが再び流動層燃焼部
５に送られ、そこで燃焼され、反応に必要な熱が供給さ
れる。流動層燃焼部５でチャーが燃焼されることによっ
て生成した燃焼ガスは、仕切板３の内側を通って燃焼ガ
ス排出管１０よｐ系外に排出される。
を経てスチームが供給され、このスチームと編温のチャ
ーが反応して、水素、−酸化縦索などからなる可燃性水
性ガスが生成され、該可燃性水性ガスは仕切板３の外側
を通って生成ガス排出宮１１かち取り出される。石炭の
水性ガス化反応は吸熱反応であるため 反応が一定期間
４１続されると、水性ガス反応部６のチャーが冷却され
るが、このような場合には、チャーが再び流動層燃焼部
５に送られ、そこで燃焼され、反応に必要な熱が供給さ
れる。流動層燃焼部５でチャーが燃焼されることによっ
て生成した燃焼ガスは、仕切板３の内側を通って燃焼ガ
ス排出管１０よｐ系外に排出される。
第２図の装置によれば、仕切板２及び３によシ訛動層燃
焼部５と水性ガス化反応部６とが分離されているので、
生成水性ガスが燃焼ガスにより希釈されることカく、縄
ＩＭｘの水素と一酸化炭素を＠有する水性ガスを得るこ
とができた。、又、仕切板２と仕切板３との間に１１Ｊ
ｊ隙ｔ−設けであるのでチャーが流動層燃焼部５と水性
ガス化反応部６とを往復できるので、燃焼と水性ガス化
反応とを円滑に実施することができた。更に燃焼用ガス
として、高価な酸素の代りに安価な空気を使用すること
が可能になった。
焼部５と水性ガス化反応部６とが分離されているので、
生成水性ガスが燃焼ガスにより希釈されることカく、縄
ＩＭｘの水素と一酸化炭素を＠有する水性ガスを得るこ
とができた。、又、仕切板２と仕切板３との間に１１Ｊ
ｊ隙ｔ−設けであるのでチャーが流動層燃焼部５と水性
ガス化反応部６とを往復できるので、燃焼と水性ガス化
反応とを円滑に実施することができた。更に燃焼用ガス
として、高価な酸素の代りに安価な空気を使用すること
が可能になった。
以上本発明によれば、燃焼部と反応部とを分離すること
により生成ガスが希釈されることなく高濃度の生成ブス
を得ることができるガス化反応装確が提供された。
により生成ガスが希釈されることなく高濃度の生成ブス
を得ることができるガス化反応装確が提供された。
ｔｌＥ１図は、従来のがス化反応装置の概略図、第２図
は、本発明の実施例のがス化反応装置の概略図を示す。 １・・・反応器、２．３・・・仕切板、４・・・空気供
給管、５・・・流動層燃焼部、６・・・水性ガス化反応
部、７・・・分散板、８・・・スチーム供給管、９・・
・石炭供給管、１０・・・燃焼ガス排出管、１１・・・
水性ｆス排出管。 第１図 第２図
は、本発明の実施例のがス化反応装置の概略図を示す。 １・・・反応器、２．３・・・仕切板、４・・・空気供
給管、５・・・流動層燃焼部、６・・・水性ガス化反応
部、７・・・分散板、８・・・スチーム供給管、９・・
・石炭供給管、１０・・・燃焼ガス排出管、１１・・・
水性ｆス排出管。 第１図 第２図
Claims (1)
- （１） 原料物質の一部を燃焼し、燃焼により生じた熱
により原料物質のガス化反応を行なうガス化反応装置に
おいて、燃焼部と反応部とを分離するために仕切手段を
設け、且つ該仕切手段に、原料物質が燃焼部と反応部と
を往復するだめの間隙部を設けたことを特徴とするガス
化反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10885683A JPS6076594A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | ガス化反応装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10885683A JPS6076594A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | ガス化反応装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6076594A true JPS6076594A (ja) | 1985-05-01 |
Family
ID=14495329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10885683A Pending JPS6076594A (ja) | 1983-06-17 | 1983-06-17 | ガス化反応装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6076594A (ja) |
-
1983
- 1983-06-17 JP JP10885683A patent/JPS6076594A/ja active Pending
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