JPS6072893A - Aminomethyl compound, manufacture and medicine - Google Patents

Aminomethyl compound, manufacture and medicine

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JPS6072893A
JPS6072893A JP59181672A JP18167284A JPS6072893A JP S6072893 A JPS6072893 A JP S6072893A JP 59181672 A JP59181672 A JP 59181672A JP 18167284 A JP18167284 A JP 18167284A JP S6072893 A JPS6072893 A JP S6072893A
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JP
Japan
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group
general formula
compound
groups
substituted
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JP59181672A
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マルク ラング
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Novartis AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
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Publication date
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    • Y02ATECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規2−アミノメチルペネム化合物、その製造
方法、このような化合物を含む医薬製剤及び医薬製剤の
製造のための該化合物の用途又は薬理活性化合物として
の用途に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to novel 2-aminomethylpenem compounds, processes for their production, pharmaceutical formulations containing such compounds and the use of the compounds for the production of pharmaceutical formulations or as pharmacologically active compounds. .

本発明は、特に、一般式(I): 〔式中R1はヒドロキシ基又は保護されたヒドロキシ基
で置換された低級アルキル基を表し、R2はカルボキシ
基又は官能基で変性されたカルボキシ基を表し、R3は
アミノ基、低級アルキル基で置換された7ミノ基、置換
メチレンアミノ基又は保護されたアミノ基を表す〕の光
学的に実質的に純粋な2−アミノメチル−2−ペネム化
合物、基R1にキラリティ中心ををする一般式(1)の
化合物の光学異性体、これらの光学異性体の混合物及び
塩形成基を有する一般式(I)の化合物の塩に関する。
The present invention particularly relates to the general formula (I): [wherein R1 represents a hydroxy group or a lower alkyl group substituted with a protected hydroxy group, and R2 represents a carboxy group or a carboxy group modified with a functional group] , R3 represents an amino group, a 7mino group substituted with a lower alkyl group, a substituted methylene amino group, or a protected amino group]. The present invention relates to optical isomers of the compound of the general formula (1) having a center of chirality at R1, mixtures of these optical isomers, and salts of the compound of the general formula (I) having a salt-forming group.

本明細書の範囲において、以上及び以下に使用する定義
は下記の定義を有するのが好ましい。
Within the scope of this specification, the definitions used above and below preferably have the following definitions.

官能基で変性されたカルボキシR2は、特に、生理学的
条件下で分解しうるエステル化カルボキシ基又は保護さ
れたカルボキシ基R2′である。
Carboxy R2 modified with functional groups is in particular an esterified carboxy group or a protected carboxy group R2' which can be decomposed under physiological conditions.

生理学的条件下で分解しうるエステル化カルボキシ基R
2は、経口投与した場合に胃腸管内で一般式(1)の化
合物が塩を形成しないように保護し、こうして早期の排
泄を防止し、特に、アシル基が例えば有機カルボン酸の
基、特に場合により置換された低級アルカンカルボン酸
の基であるアシルオキシメトキシカルボニル基であるか
、又はアシルオキシメチル基がラクトンの基を形成する
アシルオキシメトキシカルボニル基である。このような
基は、例えば、低級アルカノイルオキシメトキシカルボ
ニル基、アミノ−低級アルカノイルオキシメトキシカル
ボニル基、特にα−アミノ−低級アルカノイルオキシメ
トキシカルボニル基、4−クロトノラクトニル基及び4
−ブチロラクトン−4−イル基である。生理学的条件下
に分解しうるエステル化カルボキシ基は更に、例えば、
5−インドニルオキシ力ルボニル基、3−フタリジルオ
キシカルボニル基、1−低級アルコキシカルボニルオキ
シ−低級アルコキシカルボニル基、1−低級アルコキシ
ー低級アルコキシカルボニル基又は2−オキソ−1,3
−ジオキソレン−4−イルメ1〜キシカルボニル基(ジ
オキソレン環の5位が場合により低級アルキル基又はフ
ェニル基で置換されている)である。
Esterified carboxy group R that can be decomposed under physiological conditions
2 protects the compound of general formula (1) from forming salts in the gastrointestinal tract when administered orally and thus prevents premature excretion, especially when the acyl group is a group of, for example, an organic carboxylic acid. is an acyloxymethoxycarbonyl group which is a lower alkanecarboxylic acid group substituted by , or an acyloxymethoxycarbonyl group in which the acyloxymethyl group forms a lactone group. Such groups are, for example, lower alkanoyloxymethoxycarbonyl, amino-lower alkanoyloxymethoxycarbonyl, especially α-amino-lower alkanoyloxymethoxycarbonyl, 4-crotonolactonyl and 4-crotonolactonyl.
-butyrolactone-4-yl group. Esterified carboxy groups degradable under physiological conditions may further include, for example,
5-indonyloxy carbonyl group, 3-phthalidyloxycarbonyl group, 1-lower alkoxycarbonyloxy-lower alkoxycarbonyl group, 1-lower alkoxy lower alkoxycarbonyl group or 2-oxo-1,3
-dioxolene-4-ylm-1-oxycarbonyl group (the 5th position of the dioxolene ring is optionally substituted with a lower alkyl group or a phenyl group).

低級アルキル基で置換されたアミノ基R3は、例えば、
低級アルキルアミノ基又はジー低級アルキルアミノ基で
ある。
The amino group R3 substituted with a lower alkyl group is, for example,
It is a lower alkylamino group or a di-lower alkylamino group.

置換メチレンアミノ基R3において、メチレン基は好ま
しくは1個又は2個置換されている。置換メチレンアミ
ノ基は、例えば一般式(IA):1 / 〔式中XI は水素、場合により置換されたアミノ基、
例えばアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジー低級アル
キルアミノ基、低級アルキレンアミノ基、ニトロアミノ
基、ヒドラジノ基又はアニリノ基、エーテル化しドロキ
シ基、例えば低級アルコキシ基又はフェニル−低級アル
コキシ基、エーテル化メルカプト基、例えば低級アルキ
ルチオ基、場合により置換された低級アルキル基、例え
ば低級アルキル基、アミノ低級アルキル基、N−低級ア
ルキルアミノー低級アルキル基又はN、 N−ジー低級
アルキルアミノ−低級アルキル基、低級アルケニル基、
フェニル基又は単環式へテロアリール基、例えば1個若
しくは2個の窒素原子及び/又は酸素若しくは硫黄原子
を有する、相応する5若しくは6員のへテロアリール基
、例えばピリジル基、例えば2−若しくは4−ピリジル
基、チェニル基、例えば2−チェニル基、又はチアゾリ
ル基、例えば4−チアゾリル基を表し、X2は場合によ
り置換されたアミノ基、例えばアミノ基、低級アルキル
アミノ基、ジー低級アルキルアミノ基、低級アルキレン
アミノ基、シアンアミノ基、ヒドラジノ基又はアニリノ
基、エーテル化ヒドロキシ基、例えば低級アルコキシ基
又はフェニル−低級アルコキシ基又はエーテル化メルカ
プト基、例えば低級アルキルチオ基を表す〕の基である
In the substituted methylene amino group R3, one or two methylene groups are preferably substituted. The substituted methylene amino group has, for example, the general formula (IA): 1 / [wherein XI is hydrogen, an optionally substituted amino group,
For example, amino groups, lower alkylamino groups, di-lower alkylamino groups, lower alkylene amino groups, nitroamino groups, hydrazino groups or anilino groups, etherified droxy groups such as lower alkoxy groups or phenyl-lower alkoxy groups, etherified mercapto groups , such as lower alkylthio, optionally substituted lower alkyl, such as lower alkyl, amino-lower alkyl, N-lower alkylamino-lower alkyl or N, N-di-lower alkylamino-lower alkyl, lower alkenyl basis,
a phenyl group or a monocyclic heteroaryl group, such as a corresponding 5- or 6-membered heteroaryl group having 1 or 2 nitrogen atoms and/or oxygen or sulfur atoms, such as a pyridyl group, such as a 2- or 4- represents a pyridyl group, a chenyl group, such as a 2-chenyl group, or a thiazolyl group, such as a 4-thiazolyl group, and X2 represents an optionally substituted amino group, such as an amino group, a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, a lower an alkyleneamino group, a cyanamino group, a hydrazino group or anilino group, an etherified hydroxy group such as a lower alkoxy group or a phenyl-lower alkoxy group, or an etherified mercapto group such as a lower alkylthio group.

一般式(IA)の好ましい基においては、X。In preferred groups of general formula (IA), X.

は水素、アミノ基、低級アルキルアミノ基又は低級アル
キル基を表し、X2はアミノ基を表す。
represents hydrogen, an amino group, a lower alkylamino group or a lower alkyl group, and X2 represents an amino group.

置換基X1及び/又は置換基X2のα−位に水素原子を
有する一般式(IA)の基、例えばX。
A group of general formula (IA) having a hydrogen atom in the α-position of substituent X1 and/or substituent X2, such as X.

がアミノ基、低級アルキルアミノ基、ニトロアミノ基、
ヒドラジノ基、アニリノ基又は場合により置換された低
級アルキル基を表し及び/又はX2がアミノ基、低級ア
ルキルアミノ基、ヒドラジノ基又はアニリノ基を表す一
般式(TA)の基は、式(I B)又は(IC) : (IB) 又は (IC) 〔式中X11及びX21はそれぞれ対応する置換又は非
置換メチレン基又はイミノ基を表す〕の互変異性形の一
つであってもよい。
is an amino group, a lower alkylamino group, a nitroamino group,
A group of the general formula (TA) representing a hydrazino group, an anilino group, or an optionally substituted lower alkyl group and/or in which X2 represents an amino group, a lower alkylamino group, a hydrazino group, or an anilino group is a group of the formula (I B) or (IC) may be one of the tautomeric forms of (IB) or (IC) [wherein X11 and X21 each represent a corresponding substituted or unsubstituted methylene group or imino group].

本明細書において、基及び化合物の定義に関連して使用
する用語「低級」は、特に断らない限り、炭素原子数7
個以下、好ましくは4個以下の基及び化合物を示す。
In this specification, the term "lower" used in connection with the definitions of groups and compounds means that the number of carbon atoms is 7 unless otherwise specified.
represents up to 4, preferably up to 4 groups and compounds.

ヒドロキシ基で置換された低級アルキル基R1は、特に
、ペネム環構造に対してα−位がヒドロキシ基で置換さ
れた低級アルキル基であり、例えば1−ヒドロキシプロ
プ−I−イル基、2−ヒドロキシブドー2−イル基又は
特にヒドロキシメチル基又は1−ヒドロキシエチル基で
ある。
The lower alkyl group R1 substituted with a hydroxy group is particularly a lower alkyl group substituted with a hydroxy group at the α-position relative to the penem ring structure, such as a 1-hydroxyprop-I-yl group, a 2-hydroxy Boudo-2-yl or especially hydroxymethyl or 1-hydroxyethyl.

低級アルカノイルオキシメトキシカルボニル基は、例え
ばアセトキシメトキシカルボニル基又はピバロイルオキ
シメトキシカルボニル基である。
A lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group is, for example, an acetoxymethoxycarbonyl group or a pivaloyloxymethoxycarbonyl group.

α−アミノ−低級アルカノイルオキシメトキシカルボニ
ル基は、例えばグリシルオキシメトキシカルボニル基、
L−バリルオキシメトキシカルボニル基又はL−ロイシ
ルオキシメトキシカルボこル基である。
α-Amino-lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group is, for example, glycyloxymethoxycarbonyl group,
L-valyloxymethoxycarbonyl group or L-leucyloxymethoxycarbokyl group.

1−低級アルコキシカルボニルオキシ−低級アルコキシ
カルボニル基は、例えばエトキシカルボニルオキシメト
キシカルボニル基又は1−エトキシカルボニルオキシエ
トキシカルボニル基である。
The 1-lower alkoxycarbonyloxy-lower alkoxycarbonyl group is, for example, an ethoxycarbonyloxymethoxycarbonyl group or a 1-ethoxycarbonyloxyethoxycarbonyl group.

1−低級アルコキシー低級アルコキシカルボニル基は、
例えばメトキシメトキシカルボニル基又は1−メトキシ
エトキシカルボニル基である。
1-lower alkoxy lower alkoxycarbonyl group is
For example, methoxymethoxycarbonyl group or 1-methoxyethoxycarbonyl group.

場合によりジオキソレン環の5−位が低級アルキル基又
はフェニル基で置換されている2−オキソ−1,3−ジ
オキソレン−4−イルメトキシ基は、特に5−フェニル
−2−オキソ−1,3−ジオキソレン−4−イルメトキ
シ基及び更に特に、5−メチル−2−オキソ−1,3−
ジオキソレン−4−イルメトキシ基である。
A 2-oxo-1,3-dioxolen-4-ylmethoxy group optionally substituted in the 5-position of the dioxolene ring by a lower alkyl group or a phenyl group is particularly suitable for 5-phenyl-2-oxo-1,3-dioxolene. -4-ylmethoxy group and more particularly 5-methyl-2-oxo-1,3-
It is a dioxolen-4-ylmethoxy group.

低級アルキルアミノ基は、例えばメチルアミノ基、エチ
ルアミノ基、n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミ
ン基又はn−ブチルアミノ基であり、ジー低級アルキル
アミノ基は、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ
基、ジ−n−プロピルアミノ基又はジ−n−ブチルアミ
ノ基である。
The lower alkylamino group is, for example, a methylamino group, ethylamino group, n-propylamino group, isopropylamine group or n-butylamino group, and the di-lower alkylamino group is, for example, a dimethylamino group, a diethylamino group, a di- It is n-propylamino group or di-n-butylamino group.

低級アルキレンアミノ基は、特に4〜6個の炭素連鎖員
を有し、例えばピロリジノ基又はピペリジノ基である。
A lower alkyleneamino group especially has 4 to 6 carbon chain members and is, for example, a pyrrolidino or piperidino group.

低級アルコキシ基は、例えばメトキシ基、エトキシ基、
n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基
又はtert−ブトキシ基であり、フェニル−低級アル
コキシ基は、例えばベンジルオキシ基である。
Lower alkoxy groups include, for example, methoxy group, ethoxy group,
n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group or tert-butoxy group, and phenyl-lower alkoxy group is, for example, benzyloxy group.

低級アルキルチオ基は、例えばメチルチオ基、エチルチ
オ基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基又はn
−ブチルチオ基である。
The lower alkylthio group is, for example, a methylthio group, an ethylthio group, an n-propylthio group, an isopropylthio group, or an n-propylthio group.
-butylthio group.

低級アルキル基は、例えばメチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、5ec−ブチル基又はtert−ブチル基である。
Lower alkyl groups are, for example, methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, 5ec-butyl or tert-butyl.

アミノ−低級アルキル基は、例えば2−アミノエチル基
又は3−アミノプロピル基である。
Amino-lower alkyl groups are, for example, 2-aminoethyl or 3-aminopropyl groups.

N−低級アルキルアミノー低級アルキル基は、例えば2
−メチル−若しくは2−エチル−アミノエチル基であり
、N、N−ジー低級アルキルアミノ−低級アルキル基は
、例えば2−ジメチルアミノエチル基又は2−ジエチル
アミノエチル基を表す。
N-lower alkylamino-lower alkyl group is, for example, 2
-methyl- or 2-ethyl-aminoethyl group, and N,N-di-lower alkylamino-lower alkyl group represents, for example, 2-dimethylaminoethyl group or 2-diethylaminoethyl group.

低級アルケニル基は、例えばアリル基、n−プロペニル
基又はイソプロペニル基である。
A lower alkenyl group is, for example, an allyl group, an n-propenyl group or an isopropenyl group.

生理学的条件下に分解しうる好ましいエステル化カルボ
キシ基R2は、例えばフタリジルオキシカルボニル基、
低級アルカノイルオキシ−メトキシカルボニル基、例え
ばアセトキシメトキシカルボニル基又はピバロイルオキ
シメトキシカルボニル基、及び1−低級アルコキシカル
ボニルオキシー低級アルコキシカルボニル基、例えば1
−エトキシカルボニルオキシエトキシカルボニル基であ
る。
Preferred esterified carboxy groups R2 that are decomposable under physiological conditions are, for example, phthalidyloxycarbonyl groups,
Lower alkanoyloxy-methoxycarbonyl groups, such as acetoxymethoxycarbonyl or pivaloyloxymethoxycarbonyl groups, and 1-lower alkoxycarbonyloxy-lower alkoxycarbonyl groups, such as 1
-ethoxycarbonyloxyethoxycarbonyl group.

本発明の好ましい態様は、R1がヒドロキシメチル基で
あり、R2及びR3が一般式(1)の下に挙げた定義を
有する一般式(1)の化合物に関する。
A preferred embodiment of the invention relates to compounds of general formula (1) in which R1 is a hydroxymethyl group and R2 and R3 have the definitions listed below general formula (1).

本発明の更に好ましい態様は、R1が1−ヒドロキシエ
チル基であり、R2及びR3が一般式(1)の下に挙げ
た定義を有する一般式(T)の化合物に関する。
A further preferred embodiment of the invention relates to compounds of general formula (T) in which R1 is a 1-hydroxyethyl group and R2 and R3 have the definitions listed under general formula (1).

一般式(1)の化合物に存在する官能基、例えばヒドロ
キシ基、カルボキシ基又はアミノ基、特に基R1中のヒ
ドロキシ基及びカルボキシ基R2ハ、場合により、ペネ
ム、ペニシリン、セファロスポリン及びペプチド化学に
使用される保護基で保護される。このような保護基は、
一般式(I)の化合物をその前駆物質から合成する間、
問題の官能基を不所望な綜合反応、置換反応等から保護
する。
Functional groups present in the compounds of general formula (1), such as hydroxy groups, carboxy groups or amino groups, in particular the hydroxy group in the group R1 and the carboxy group R2, are optionally used in penems, penicillins, cephalosporins and peptide chemistry. Protected by the protecting group used. Such protecting groups are
During the synthesis of the compound of general formula (I) from its precursors,
The functional group in question is protected from undesired synthesis reactions, substitution reactions, etc.

このような保護基は容易に、即ち、不所望な二次反応を
起こすことなく、例えば、加溶媒分解又は還元によるか
、或いは生理学的条件下に除去されうる。
Such protecting groups can be easily removed, ie, without undesired secondary reactions, for example by solvolysis or reduction, or under physiological conditions.

この種の保護基及びその導入及び除去方法は、例えば、
マコーミイ(J、F、W、 McOmie )著[有機
化学における保護基(Protective Grou
ps inOrganic Chemistry ) 
J、(プレナム・プレス(Plenum Press)
 、ロンドン、ニューヨーク、1973年発行〕、グリ
ーン(TJl、 Greene )著「有機合成におけ
る保護基(Protective Groups in
Organic 5ynthesis ) J (ウイ
リイ(Wiley )、ニューヨーク、1981年発行
〕、[ベプタイヅ(The Peptides) J 
、I 巻(シュレーダー(Schroeder )及び
リュプケ(Luebke) 、アカデミツク・プレス、
ロンドン、ニューヨーク、1965年発行〕及びツーベ
ン−ワイル(tlouben−Weyl )、「有機化
学の方法(Methoden der Organis
chenChemie ) J 1.5 / 1巻〔ゲ
オクル・ティーメ・フェルラーク (Georg Th
ieme Verlag ) 、シュトソトガルト、1
974年発行〕に記載されている。
This type of protecting group and its introduction and removal method are, for example,
Protective Groups in Organic Chemistry by J.F.W. McOmie
ps in Organic Chemistry)
J, (Plenum Press)
, London, New York, 1973], TJl, Greene, Protective Groups in Organic Synthesis.
Organic 5ynthesis ) J (Wiley, New York, published 1981), [The Peptides J
, Volume I (Schroeder and Luebke, Academic Press,
London, New York, 1965] and Tlouben-Weyl, Methods of Organic Chemistry.
chenChemie ) J 1.5 / Volume 1 [Georg Th.
ieme Verlag), Stussotgart, 1
Published in 1974].

一般式(I)の化合物において、基R+中のヒドロキシ
基は、例えばアシル基によって保護されていてよい。適
当なアシル基は、例えば、場合によりハロゲンで置換さ
れた低級アルカノイル基、例えばアセチル基若しくはト
リフルオロアセデル基、場合によりニトロ基で置換され
たベンゾイル基、例工ばベンゾイル基、4−二トロベン
ゾイル基若しくは2,4−ジニトロヘンゾイル基、場合
によりハロゲンで置換された低級アルコキシカルボニル
基、例えば2−ブロモエトキシカルボニル基若しくは2
,2.21−リクロロエトキシ力ルボニル基、低級アル
ケニルオキシカルボニル基、例えばアリルオキシカルボ
ニル基又は場合によりニトロ基で置換されたフェニル−
低級アルコキシカルボニル基、例えば4−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル基である。適当なヒドロキシ−保護
基は更に、例えば、トリー置換シリル基、例えばトリー
低級アルキルシリル基、例えばトリメチルシリル基若し
くはtert−ブチルジメチルシリル基、2−ハロー低
級アルキル基、例えば2−クロロ−12−ブロモ−12
−ヨード−及び2,2.2−トリクロロ−エチル基及び
場合によりハロゲン、例えば塩素、低級アルコキシ基、
例えばメトキシ基及び/又はニトロ基で置換されたフェ
ニル−低級アルキル基、例えば対応するベンジル基であ
る。
In the compounds of general formula (I), the hydroxy group in the radical R+ may be protected, for example by an acyl group. Suitable acyl groups are, for example, lower alkanoyl groups optionally substituted with halogen, such as acetyl or trifluoroacedel groups, benzoyl groups optionally substituted with nitro groups, e.g. benzoyl group, 4-nitrobenzoyl group. or a 2,4-dinitrohenzoyl group, a lower alkoxycarbonyl group optionally substituted with halogen, such as a 2-bromoethoxycarbonyl group or a 2,4-dinitrohenzoyl group;
, 2.21-lichloroethoxy carbonyl group, lower alkenyloxycarbonyl group, such as allyloxycarbonyl group or phenyl- substituted optionally with nitro group.
A lower alkoxycarbonyl group, for example a 4-nitrobenzyloxycarbonyl group. Suitable hydroxy-protecting groups are furthermore, for example, tri-substituted silyl groups, such as tri-lower alkylsilyl groups, such as trimethylsilyl or tert-butyldimethylsilyl, 2-halo-lower alkyl groups, such as 2-chloro-12-bromo- 12
-iodo- and 2,2,2-trichloro-ethyl groups and optionally halogens, such as chlorine, lower alkoxy groups,
For example, phenyl-lower alkyl groups substituted with methoxy and/or nitro groups, such as the corresponding benzyl group.

トリー低級アルキルシリル基、低級アルケニルオキシカ
ルボニル基及びハロー置換低級アルコキシカルボニル基
は、ヒドロキシ−保護基として好ましい。
Tri-lower alkylsilyl groups, lower alkenyloxycarbonyl groups and halo-substituted lower alkoxycarbonyl groups are preferred as hydroxy-protecting groups.

カルボキシ基R2は、通常、エステル化された形で保護
され、エステル基は緩和な条件、例えば緩和な還元、例
えば水素添加分解条件又は緩和な加溶媒分解条件、例え
ばアシドリシス若しくは特に塩基性或いは中性加水分解
条件下に容易に分解される。保護されたカルボキシ基は
、異なる官能基で変性されたカルボキシ基、例えば異な
るエステル化カルボキシ基に容易に変換されうるエステ
ル化カルボキシ基であってもよい。
The carboxy group R2 is usually protected in the esterified form, the ester group being subjected to mild conditions, such as mild reduction, such as hydrogenolysis conditions or mild solvolysis conditions, such as acidolysis or especially basic or neutral Easily degraded under hydrolytic conditions. The protected carboxy group may be a carboxy group modified with a different functional group, for example an esterified carboxy group that can be easily converted into a different esterified carboxy group.

このようなエステル化されたカルボキシ基は、エステル
化基として特に、1−位が分岐しているか、又は1−位
或いは2−位が適当に置換されている低級アルキル基を
含む。エステル化された形の好ましいカルボキシ基は、
殊に、低級アルコキシカルボニル基、例えばメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロポキシカ
ルボニル基又はtert−ブトキシカルボニル基、及び
1〜31[1i1のアリール基を有するか、又は単環式
へテロアリール基を有する(ヘテロ)アリールメトキシ
カルボニル基であり、これらのアリール基は場合により
例えば低級アルキル基、例えばtert−低級アルキル
基、例えばter t−ブチル基、ハロゲン、例えば塩
素及び/又はニトロ基で1個以上置換されていてよい。
Such esterified carboxy groups include, in particular, lower alkyl groups which are branched at the 1-position or suitably substituted at the 1- or 2-position. Preferred carboxy groups in esterified form are:
In particular, it has a lower alkoxycarbonyl group, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group or a tert-butoxycarbonyl group, and an aryl group from 1 to 31[1i1] or a monocyclic heteroaryl group. (hetero)arylmethoxycarbonyl radicals, these aryl radicals optionally being substituted one or more times with, for example, lower alkyl radicals, such as tert-lower alkyl radicals, such as tert-butyl radicals, halogens, such as chlorine and/or nitro radicals. It's good that it has been done.

このような基の例として、場合により例えば前記のよう
に置換されたベンジルオキシカルボニル基、例えば4−
ニトロベンジルオキシカルボニル基、場合により例えば
前記のように置換されたジフェニルメトキシカルボニル
基若しくはトリフェニルメトキシカルボニル基、例えば
ジフェニルメトキシカルボニル基、又はピコリルオキシ
カルボニル基、例えば4−ピコリルオキシカルボニル基
、又はフルフリルオキシカルボニル基、例えば2−フル
フリルオキシカルボニル基(それぞれ場合により例えば
前記のように置換されていてよい)が挙げられる。更に
、低級アルカノイルメトキシカルボニル基、例えばアセ
トニルオキシカルボニル基、アロイルメトキシカルボニ
ル基(アロイル基は好ましくは、場合により例えばハロ
ゲン、例えば臭素で置換されたベンゾイル基を表す)、
例えばフェナシルオキシカルボニル基、ハロー低級アル
コキシカルボニル基、例えば2−ハロー低級アルコキシ
カルボニル基、例えば2.2.2−)リクロロエトキシ
力ルボニル基、2−クロロエトキシカルボニル基、2−
ブロモエトキシカルボニル基若しくは2−ヨードエトキ
シカルボニル基、又は低級アルコキシ基が4〜7個の炭
素原子を含むω−ハロー低級アルコキシカルボニル基、
例えば4−クロロブトキシカルボニル基、フタルイミド
メトキシカルボニル基、低級アルケニルオキシカルボニ
ル基、例えばアリルオキシカルボニル基、又は2−位が
低級アルキルスルホニル基、シアノ基或いはトリー置換
シリル基、例えばトリー低級アルキルシリル基若しくは
トリフェニルシリル基で置換されたエトキシカルボニル
基、例えば2−メチルスルホニルエトキシカルボニル基
、2−シアノエトキシカルボニル基、2−トリメチルシ
リルエトキシカルボニル基又は2−(ジ−n−ブチルメ
チルシリル)−エトキシカルボニル基が適当である。
Examples of such groups include benzyloxycarbonyl groups optionally substituted, e.g. as described above, e.g. 4-
a nitrobenzyloxycarbonyl group, an optionally substituted diphenylmethoxycarbonyl group or a triphenylmethoxycarbonyl group, such as a diphenylmethoxycarbonyl group, for example a diphenylmethoxycarbonyl group, or a picolyloxycarbonyl group, such as a 4-picolyloxycarbonyl group, or Mention may be made of furfuryloxycarbonyl groups, such as 2-furfuryloxycarbonyl groups, each of which may be optionally substituted, for example as described above. Furthermore, lower alkanoylmethoxycarbonyl groups, such as acetonyloxycarbonyl groups, aroylmethoxycarbonyl groups (aroyl group preferably represents a benzoyl group optionally substituted, for example by halogen, for example bromine),
For example, phenacyloxycarbonyl group, halo lower alkoxycarbonyl group, e.g. 2-halo lower alkoxycarbonyl group, e.g. 2.2.2-)lichloroethoxycarbonyl group, 2-chloroethoxycarbonyl group, 2-
a bromoethoxycarbonyl group or a 2-iodoethoxycarbonyl group, or an ω-halo lower alkoxycarbonyl group in which the lower alkoxy group contains 4 to 7 carbon atoms,
For example, a 4-chlorobutoxycarbonyl group, a phthalimidomethoxycarbonyl group, a lower alkenyloxycarbonyl group, such as an allyloxycarbonyl group, or a 2-position lower alkylsulfonyl group, a cyano group, or a tri-substituted silyl group, such as a tri-lower alkylsilyl group, or Ethoxycarbonyl group substituted with triphenylsilyl group, such as 2-methylsulfonylethoxycarbonyl group, 2-cyanoethoxycarbonyl group, 2-trimethylsilylethoxycarbonyl group or 2-(di-n-butylmethylsilyl)-ethoxycarbonyl group is appropriate.

エステル化された形の他の保護されたカルボキシ基は、
対応する有機シリルオキシカルボニル基及び対応する有
機スタニルオキシカルボニル基である。これらの基にお
いて、珪素原子又は錫原子は低級アルキル基、特にメチ
ル基又はエチ基及び低級アルコキシ基、例えばメトキシ
基を置換基として有するのが好ましい。適当なシリル基
及びスタニル基は、特にトリー低級アルキルシリル基、
特にトリメチルシリル基又はジメチル−ter t−ブ
チルシリル基又は相応して置換されたスタニル基、例え
ばトリーn−ブチルスタニル基である。
Other protected carboxy groups in esterified form are
A corresponding organic silyloxycarbonyl group and a corresponding organic stannyloxycarbonyl group. In these groups, the silicon atom or tin atom preferably has a lower alkyl group, particularly a methyl group or an ethyl group, and a lower alkoxy group, such as a methoxy group, as a substituent. Suitable silyl and stannyl groups are especially tri-lower alkylsilyl groups,
Particularly trimethylsilyl or dimethyl-tert-butylsilyl or correspondingly substituted stannyl groups, such as tri-n-butylstannyl.

好ましい保護されたカルボキシ基R2′は、4−ニトロ
ベンジルオキシ力ルボニル基及び低級アルケニルオキシ
カルボニル基、特にアリルオキシカルボニル基及び2−
位が低級アルキルスルボニル基、シアノ基若しくはトリ
ー低級アルキルシリル基、例えばトリメチルシリル基若
しくはジーn −ブチルシリル基で置換されたエトキシ
カルボニル基である。
Preferred protected carboxy groups R2' are 4-nitrobenzyloxy carbonyl groups and lower alkenyloxycarbonyl groups, especially allyloxycarbonyl groups and 2-
It is an ethoxycarbonyl group substituted in position with a lower alkylsulfonyl group, a cyano group, or a tri-lower alkylsilyl group, such as a trimethylsilyl group or a di-n-butylsilyl group.

基R3中の保護されたアミノ基は、例えば容易に分解さ
れるアシルアミノ基、アシルイミノ基、エーテル化メル
カプトアミノ基、シリルアミノ基又はスタニルアミノ基
の形又はエナミノ基、ニトロ基又はアジド基の形であっ
てよい。
The protected amino group in radical R3 is, for example, in the form of an easily decomposed acylamino, acylimino, etherified mercaptoamino, silylamino or stannylamino group or in the form of an enamino, nitro or azido group. good.

相応するアシルアミノ基において、アシル基は例えば、
炭素原子数が例えば18個以下の有機酸のアシル基、特
に場合により例えばハロゲン又はフェニル基で置換され
たアルカンカルボン酸、又は場合により例えばハロゲン
、低級アルコキシ基或いはニトロ基で置換された安息香
酸又は炭酸半エステルのアシル基である。このようなア
シル基は、例えば、低級アルカノイル基、例えばホルミ
ル基、アセチル基若しくはプロピオニル基、ハロー低級
アルカノイル基、例えば2−ハロアセチル基、特に2−
フルオロ−12−ブロモ−12−ヨード−12,2,2
−)リフルオロ−若しくは2゜2.2−トリクロロ−ア
セチル基、場合により置換されたベンゾイル基、例えば
ベンゾイル基、ハロベンゾイル基、例えば4−クロロベ
ンゾイル基、低級アルコキシベンゾイル基、例えば4−
メトキシベンゾイル基、又はニトロベンゾイル基、例え
ば4−ニトロベンゾイル基である。また、低級アルケニ
ルオキシカルボニル基、例えばアリルオキシカルボニル
基又は場合により1−位或いは2−位が置換された低級
アルコキシカルボニル基、例えば低級アルコキシカルボ
ニル基、例えばメ1−キシカルボニル又はエトキシカル
ボニル基、場合により置換されたベンジルオキシカルボ
ニル基、例えばベンジルオキシカルボニル基又は4−ニ
トロベンジルオキシカルボニル基、アロイルメトキシカ
ルボニル基(アロイル基は場合により例えばハロゲン、
例えば臭素で置換されたベンゾイル基を表すのが好まし
い)、例えばフェナシルオキシカルボニル基、2−ハロ
ー低級アルコキシカルボニル基、例えば2,2.2−1
−リクロロエトキシ力ルボニル基、2−クロロエトキシ
カルボニル基、2、ブロモエトキシカルボニル基又は2
−ヨードエトキシカルボニル基、又は2−(トリー置換
シリル)−エトキシカルボニル基、例えば2−トリー低
級アルキルシリルエトキシカルボニル基、例えば2−ト
リメチルシリルエトキシカルボニル基又は2−(ジ−n
−ブチルメチルシリル)−エトキシカルボニル基、又は
2−トリアリールシリルエトキシカルボニル基、例えば
2−トリフェニルシリルエトキシカルボニル基が特に適
当である。
In the corresponding acylamino groups, the acyl group can be, for example,
Acyl groups of organic acids having, for example, up to 18 carbon atoms, in particular alkanecarboxylic acids optionally substituted with, for example, halogens or phenyl groups, or benzoic acids optionally substituted, for example, with halogens, lower alkoxy groups or nitro groups; It is the acyl group of carbonic acid half ester. Such acyl groups are, for example, lower alkanoyl groups such as formyl, acetyl or propionyl groups, halo lower alkanoyl groups such as 2-haloacetyl groups, especially 2-
Fluoro-12-bromo-12-iodo-12,2,2
-) a refluoro- or 2゜2.2-trichloro-acetyl group, an optionally substituted benzoyl group, such as a benzoyl group, a halobenzoyl group, such as a 4-chlorobenzoyl group, a lower alkoxybenzoyl group, such as a 4-
A methoxybenzoyl group or a nitrobenzoyl group, such as a 4-nitrobenzoyl group. Also, lower alkenyloxycarbonyl groups, such as allyloxycarbonyl groups or lower alkoxycarbonyl groups optionally substituted in the 1- or 2-position, such as lower alkoxycarbonyl groups, such as meth-1-oxycarbonyl or ethoxycarbonyl groups, a benzyloxycarbonyl group substituted with, for example a benzyloxycarbonyl group or a 4-nitrobenzyloxycarbonyl group, an aroylmethoxycarbonyl group (the aroyl group is optionally substituted with, for example, a halogen,
(preferably represents a benzoyl group substituted with bromine), e.g. a phenacyloxycarbonyl group, a 2-halo lower alkoxycarbonyl group, e.g. 2,2.2-1
-lichloroethoxycarbonyl group, 2-chloroethoxycarbonyl group, 2, bromoethoxycarbonyl group, or 2-chloroethoxycarbonyl group
-iodoethoxycarbonyl group, or 2-(tri-substituted silyl)-ethoxycarbonyl group, such as 2-tri-lower alkylsilylethoxycarbonyl group, such as 2-trimethylsilylethoxycarbonyl group or 2-(di-n
-butylmethylsilyl)-ethoxycarbonyl or 2-triarylsilylethoxycarbonyl, for example 2-triphenylsilylethoxycarbonyl, are particularly suitable.

アシルイミノ基において、アシル基は、例えば炭素原子
数が例えば12個以下の有機ジカルボン酸、特に相応す
る芳香族ジカルボン酸、例えばフタル酸のアシル基であ
る。このような基は特にフタルイミノ基である。
In the acylimino group, the acyl group is, for example, an acyl group of an organic dicarboxylic acid having, for example, up to 12 carbon atoms, in particular of the corresponding aromatic dicarboxylic acids, such as phthalic acid. Such groups are especially phthalimino groups.

エーテル化メルカプトアミノ基は、特に、場合により低
級アルキル基、例えばメチル基若しくはter t−ブ
チル基、低級アルコキシ基、例えばメトキシ基、ハロゲ
ン、例えば塩素若しくは臭素、及び/又はニトロ基で置
換されたフェニルチオアミノ基、又はピリジルチオアミ
ノ基である。対応する基は、例えば2−若しくは4−二
i・ロフェニルチオアミノ基又は2−ピリジルチオアミ
ノ基である。
Etherified mercaptoamino groups are in particular phenyl optionally substituted with lower alkyl groups, such as methyl or tert-butyl groups, lower alkoxy groups, such as methoxy groups, halogens, such as chlorine or bromine, and/or nitro groups. It is a thioamino group or a pyridylthioamino group. Corresponding groups are, for example, a 2- or 4-di-lophenylthioamino group or a 2-pyridylthioamino group.

シリルアミノ基又はスタニルアミノ基は、特に、珪素原
子又は錫原子が置換基として好ましくは低級アルキル基
、例えばメチル基、エチル基、n−ブチル基又はter
t−ブチル基、更に低級アルコキシ基、例えばメトキシ
基を含む有機シリル−又はスタニル−アミノ基である。
In particular, the silylamino group or stannylamino group preferably has a silicon atom or a tin atom as a substituent, such as a lower alkyl group, such as a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group or a tertiary group.
Organic silyl- or stannyl-amino groups containing t-butyl groups and also lower alkoxy groups, such as methoxy groups.

対応するシリル基又はスタニル基は、特にトリー低級ア
ルキルシリル基、特にトリメチルシリル基、更にジメチ
ル−tert−ブチルシリル基、又は対応して置換され
たスタニル基、例えばl−+J −n−ブチルスタニル
基である。
Corresponding silyl or stannyl groups are in particular tri-lower alkylsilyl groups, especially trimethylsilyl groups, and also dimethyl-tert-butylsilyl groups, or correspondingly substituted stannyl groups, such as the l-+J-n-butylstannyl group.

保護されたアミノ基は更に、例えば、2−位の二重結合
に電子吸引性置換基、例えばカルボニル基を有するエナ
ミノ基である。この種の保護基は、例えば、アシル基が
例えば低級アルカンカルボン酸、例えば酢酸、場合によ
り例えば低級アルキル基、例えばメチル基若しくはte
r t−ブチル基、低級アルコキシ基、例えばメトキシ
基、ハロゲン、例えば塩素、及び/又はニトロ基で置換
された安息香酸、又は特に炭酸半エステル、例えば炭酸
低級アルキル半エステル、例えば炭酸メチル半エステル
若しくはエチル半エステルのアシル基を表し、低級アル
ク−1−エンが特にプロパンを表す1−アシル−低級ア
ルク−1−エン−2−イル基である。対応する保護基は
、特に1−低級アルカノイルブロプ−1−エン−2−イ
ル基、例えば1−アセチルプロプ−1−エン−2−イル
基又は1−低級アルコキシ力ルポニルプロプ−1−エン
−2−イル基、例えば1−エトキシカルボニルプロプ−
1−エン−2−イル基である。
Protected amino groups are also, for example, enamino groups having an electron-withdrawing substituent, such as a carbonyl group, in the 2-position double bond. Protecting groups of this type may be used, for example, if the acyl group is a lower alkanecarboxylic acid, such as acetic acid, optionally, such as a lower alkyl group, such as a methyl group or a te
benzoic acid substituted with r t-butyl groups, lower alkoxy groups, such as methoxy groups, halogens, such as chlorine, and/or nitro groups, or in particular carbonic acid half esters, such as carbonic acid lower alkyl half esters, such as methyl carbonate half esters, or The 1-acyl-lower alk-1-en-2-yl group represents the acyl group of the ethyl half ester, and the lower alk-1-ene particularly represents propane. Corresponding protecting groups are in particular the 1-lower alkanoylprop-1-en-2-yl group, such as the 1-acetylprop-1-en-2-yl group or the 1-lower alkoxylprop-1-en-2-yl group. -yl group, e.g. 1-ethoxycarbonylprop-
It is a 1-en-2-yl group.

好ましい保護されたアミノ基は、例えばアジド基、フタ
ルイミド基、ニトロ基、低級アルケニルオキシカルボニ
ルアミノ基、場合によりニトロ基で置換されたベンジル
オキシカルボニルアミノ基、■−低級アルカノイルー低
級アルク−1−エン−2−イルアミノ基又は1−低級ア
ルコキシ力ルボニル−低級アルク−1−エン−2−イル
アミノ基である。
Preferred protected amino groups include, for example, an azide group, a phthalimide group, a nitro group, a lower alkenyloxycarbonylamino group, a benzyloxycarbonylamino group optionally substituted with a nitro group, and -lower alkanoyl-lower alk-1-ene-. It is a 2-ylamino group or a 1-lower alkoxycarbonyl-lower alk-1-en-2-ylamino group.

本発明による化合物の塩は、特に一般式(1)の化合物
の医薬に許容しうる無毒性塩である。このような塩は、
例えば、一般式(1)中に存在する酸性基、例えばカル
ボキシ基R2から形成され、特に金属塩又はアンモニウ
ム塩、例えばアルカリ金属及びアルカリ土類金属の塩、
例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム又はカルシ
ウムの塩及びアンモニア又は適当な有機アミン、例えば
低級アルキルアミン、例えばトリエチルアミン、ヒドロ
キシ−低級アルキルアミン、例えば2−ヒドロキシエチ
ルアミン、ビス−(2−ヒドロキシエチル)−アミン又
はトリス−(2−ヒドロキシエチル)−アミン、カルボ
ン酸の塩基性脂肪族エステル、例えば4−アミノ安息香
酸、2−ジエチルアミノエチルエステル、低級アルキレ
ンアミン、例えば1−エヂルピベリジン、シクロアルキ
ルアミン、例えばジシクロヘキシルアミン又はベンジル
アミン、例えばN、N’−ジヘンジルエチレンジアミン
、ジベンジルアミン又はN−ベンジル−β−フェネヂル
アミンとのアンモニウム塩である。
Salts of the compounds according to the invention are in particular pharmaceutically acceptable non-toxic salts of compounds of general formula (1). This kind of salt is
For example, formed from acidic groups present in general formula (1), such as the carboxy group R2, in particular metal or ammonium salts, such as alkali metal and alkaline earth metal salts,
For example sodium, potassium, magnesium or calcium salts and ammonia or suitable organic amines, such as lower alkyl amines such as triethylamine, hydroxy-lower alkyl amines such as 2-hydroxyethylamine, bis-(2-hydroxyethyl)-amine or tris. -(2-hydroxyethyl)-amines, basic aliphatic esters of carboxylic acids, such as 4-aminobenzoic acid, 2-diethylaminoethyl ester, lower alkylene amines, such as 1-edylpiveridine, cycloalkylamines, such as dicyclohexylamine or benzyl Ammonium salts with amines such as N,N'-dihenzylethylenediamine, dibenzylamine or N-benzyl-β-phenedylamin.

塩基性基、例えばアミノ基を有する一般式(1)の化合
物は、例えば、無機酸、例えば塩酸、硫酸若しくは燐酸
、又は適当な有機カルボン酸又はスルホン酸、例えば酢
酸、コハク酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、蓚酸、
クエン酸、安息香酸、マンデル酸、リンゴ酸、アスコル
ビン酸、メタンスルホン酸又は4−トルエンスルホン酸
を用いて酸付加塩を形成することができる。酸性基と塩
基性基とを有する一般式(T)の化合物は、分子内塩の
形、即ち双性イオン形であってもよい。
Compounds of general formula (1) having a basic group, for example an amino group, can be used, for example, inorganic acids, such as hydrochloric acid, sulfuric acid or phosphoric acid, or suitable organic carboxylic or sulfonic acids, such as acetic acid, succinic acid, fumaric acid, maleic acid. acid, tartaric acid, oxalic acid,
Acid addition salts can be formed using citric acid, benzoic acid, mandelic acid, malic acid, ascorbic acid, methanesulfonic acid or 4-toluenesulfonic acid. The compound of general formula (T) having an acidic group and a basic group may be in the form of an inner salt, that is, in the form of a zwitterion.

単離又はIii製の目的で医薬には許容されない塩を使
用することもできる。治療には、医薬に許容しうる無毒
性塩だけを使用するので、これらが好ましい。
It is also possible to use salts that are not pharmaceutically acceptable for isolation or preparation purposes. These are preferred since only pharmaceutically acceptable non-toxic salts are used for treatment.

一般式(I)のペネム化合物は、5−位の炭素原子にR
−配置、6−位の炭素原子にS−配置を有する。一般式
(1)の化合物は、置換基R5に更にキラリティ中心を
有していてよく、それはR−1S−又はラセミR,S−
配置であってよい。
The penem compound of general formula (I) has R at the 5-position carbon atom.
- configuration, and the carbon atom at the 6-position has an S-configuration. The compound of general formula (1) may further have a center of chirality in the substituent R5, which is R-1S- or racemic R,S-
It may be the arrangement.

一般式(T)の好ましい化合物はα−位(1′−炭素原
子)がヒドロキシ基によって非対称に置換されいてる基
R1、特に1′−ヒドロキシエチル基はR−配置を有す
る。
Preferred compounds of the general formula (T) have a group R1 which is asymmetrically substituted at the α-position (1'-carbon atom) by a hydroxy group, in particular a 1'-hydroxyethyl group, which has an R-configuration.

一般式(T)の化合物は光学的に実質的に純粋な形で存
在し、即ち(5R,63)−配置以外の配置を有する異
性体を実質的に含まず、特に対応する(5S、6R)−
異性体を含まない。
The compounds of general formula (T) exist in optically substantially pure form, i.e. are substantially free of isomers having a configuration other than the (5R,63)-configuration, in particular the corresponding (5S,6R )−
Contains no isomers.

一般式(1)の好ましい化合物群においては、R1はヒ
ドロキシ基又は保護されたヒドロキシ基で置換されて低
級アルキル基を表し、R2はカルボキシ基又は官能基で
変性されたカルボキシ基を表し、R3はアミノ基又は保
護されたアミノ基を表す。
In a preferred group of compounds of general formula (1), R1 represents a lower alkyl group substituted with a hydroxy group or a protected hydroxy group, R2 represents a carboxy group or a carboxy group modified with a functional group, and R3 represents a lower alkyl group substituted with a hydroxy group or a protected hydroxy group; Represents an amino group or a protected amino group.

一般式(1)の好ましい化合物の別の群においては、R
1はヒドロキシ基又は保護されたヒドロキシ基で置換さ
れた低級アルキル基を表し、R2はカルボキシ基又は官
能基で変性されたカルボキシ基を表し、R3は低級アル
キル基で置換されたアミノ基又は置換されたメチレンア
ミノ基を表す。
In another group of preferred compounds of general formula (1), R
1 represents a hydroxy group or a lower alkyl group substituted with a protected hydroxy group, R2 represents a carboxy group or a carboxy group modified with a functional group, and R3 represents an amino group substituted with a lower alkyl group or a substituted represents a methylene amino group.

本発明は、特に、R1がヒドロキシ基又は保護されたヒ
ドロキシ基で置換された低級アルキル基を表し、R2が
カルボキシ基、生理学的条件下に分解しうるエステル化
カルボキシ基、又は保護されたカルボキシ基R2′を表
し、R3がアミノ基、低級アルキルアミノ基、ジー低級
アルキルアミノ基、式−N=C(X+ 、X2 )(式
中X1は水素、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジー
低級アルキルアミノ基、低級アルキレンアミノ基、ニト
ロアミノ基、ヒドラジノ基、ア、ニリノ基、低級アルコ
キシ基、フェニル−低級アルコキシ基、低級アルキルチ
オ基、低級アルキル基、アミノ−低級アルキル基、N−
低級アルキルアミノー低級アルキル基、N、N−ジー低
級アルキルアミノ−低級アルキル基、低級アルケニル基
、フェニル基、ピリジル基、例えば2−若しくは4−ピ
リジル基、チエニル基、例えば2−チェニル基、又はチ
アゾリル基、例えば4−チアゾリル基を表し、×2はア
ミノ基、低級アルキルアミノ基、ジー低級アルキルアミ
ノ基、低級アルキレンアミノ基、シアンアミノ基、ヒド
ラジノ基、アニリノ基、低級アルコキシ基、フェニル−
低級アルコキシ基又は低級アルキルチオ基を表す)の基
を表すか、又はR3が保護されたアミノ基を表す一般式
(1)の化合物、基R1にキラリティ中心を有する一般
式(1)の化合物の光学異性体、これらの光学異性体の
混合物及び光学的に実質的に純粋な形の、塩形成基を有
する一般式(1)の化合物の塩に関する。
The invention particularly provides that R1 represents a hydroxy group or a lower alkyl group substituted with a protected hydroxy group, and R2 represents a carboxy group, an esterified carboxy group decomposable under physiological conditions, or a protected carboxy group. R2' represents an amino group, a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, and the formula -N=C(X+,X2) (wherein X1 is hydrogen, an amino group, a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group) group, lower alkylene amino group, nitroamino group, hydrazino group, a, nilino group, lower alkoxy group, phenyl-lower alkoxy group, lower alkylthio group, lower alkyl group, amino-lower alkyl group, N-
lower alkylamino-lower alkyl group, N,N-di-lower alkylamino-lower alkyl group, lower alkenyl group, phenyl group, pyridyl group such as 2- or 4-pyridyl group, thienyl group such as 2-chenyl group, or represents a thiazolyl group, for example a 4-thiazolyl group, and x2 represents an amino group, lower alkylamino group, di-lower alkylamino group, lower alkylene amino group, cyanamino group, hydrazino group, anilino group, lower alkoxy group, phenyl-
(represents a lower alkoxy group or lower alkylthio group), or R3 represents a protected amino group, a compound of the general formula (1) having a center of chirality in the group R1; It relates to salts of compounds of general formula (1) with salt-forming groups, in isomers, mixtures of these optical isomers and in optically substantially pure form.

本発明は、更に特に、R1がα−位がヒドロキシ基、ト
リー低級アルキルシリルオキシ基、2−ハロー低級アル
コキシ基、2−ハロー低級アルコキシカルボニルオキシ
基、低級アルケニルオキシカルボニルオキシ基又は非置
換若しくはニトロ置換フェニル−低級アルコキシカルボ
ニルオキシ基で置換された低級アルキル基を表し、R2
がカルボキシ基、低級アルケニルオキシカルボニル基、
非置換若しくはニトロ置換ベンジルオキシカルボニル基
、低級アルカノイルメトキシカルボニル基、2−ハロー
低級アルコキシカルボニル基、2−1−リ〜低級アルキ
ルシリルエトキシカルボニル基又は生理学的条件下に分
解しうるエステル化カルボキシ基、例えば1−低級アル
コキシカルボニルオキシー低級アルコキシカルボニル基
、低級アルカノイルオキシメトキシカルボニル基、α−
アミノ−低級アルカノイルオキシメトキシカルボニル基
又はフタリジルオキシカルボニル基を表し、R3がアミ
ノ基、低級アルキルアミノ基、ジー低級アルキルアミノ
基、式−N=C(X+ 、X2 ) (式中X、は水素
、アミノ基、低級アルキルアミノ基、低級フルキル基、
フェニル基又はピリジル基、例えば2−ピリジル基を表
し、X2はアミノ基、低級アルキルアミノ基又はジー低
級アルキルアミノ基を表す)の基を表すか、又はR3が
アジド基、フタルイミノ基、ニトロ基、低級アルケニル
オキシカルボニルアミノ基、非置換若しくは二1・0置
換ベンジルオキシカルボニルアミノ基、1−低級アルカ
ノイルー低級アルク−1−エン−2−イルアミノ基又は
1−低級アルコキシカルボニルー低級アルク−1−エン
−2−イルアミノ基を表ず一般式(1)の化合物、基R
1にキラリティ中心を有する一般式(I)の化合物の光
学異性体、これらの光学異性体の混合物及び光学的に実
質的に純粋な形の、塩形成基を有する一般式(I)の化
合物の塩に関する。
The present invention more particularly provides that R1 has a hydroxy group, a tri-lower alkylsilyloxy group, a 2-halo lower alkoxy group, a 2-halo lower alkoxycarbonyloxy group, a lower alkenyloxycarbonyloxy group, or an unsubstituted or nitro Represents a lower alkyl group substituted with a substituted phenyl-lower alkoxycarbonyloxy group, and R2
is a carboxyl group, a lower alkenyloxycarbonyl group,
unsubstituted or nitro-substituted benzyloxycarbonyl group, lower alkanoylmethoxycarbonyl group, 2-halo lower alkoxycarbonyl group, 2-1-ly-lower alkylsilylethoxycarbonyl group or esterified carboxy group decomposable under physiological conditions; For example, 1-lower alkoxycarbonyloxy-lower alkoxycarbonyl group, lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group, α-
represents an amino-lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group or a phthalidyloxycarbonyl group, R3 is an amino group, a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, the formula -N=C(X+, X2) (in the formula, X is hydrogen , amino group, lower alkylamino group, lower furkyl group,
represents a phenyl group or a pyridyl group, such as a 2-pyridyl group, and X2 represents an amino group, a lower alkylamino group, or a di-lower alkylamino group, or R3 represents an azide group, a phthalimino group, a nitro group, Lower alkenyloxycarbonylamino group, unsubstituted or 21,0-substituted benzyloxycarbonylamino group, 1-lower alkanoyl-lower alk-1-en-2-ylamino group, or 1-lower alkoxycarbonyl-lower alk-1-ene- A compound of general formula (1) that does not represent a 2-ylamino group, a group R
optical isomers of compounds of general formula (I) having a center of chirality in 1, mixtures of these optical isomers and optically substantially pure forms of compounds of general formula (I) having a salt-forming group; Regarding salt.

本発明は、更に特に、R1がα−位がヒドロキシ基で置
換された低級アルキル基を表し、R2がカルボキシ基又
は生理学的条件下に分解しうるエステル化カルボキシ基
、例えば1−低級アルコキシカルボニルオキシー低級ア
ルコキシカルボニル基又は低級アルカノイルオキシメト
キシカルボニル基を表し、R3がアミノ基、低級アルキ
ルアミノ基又はホルムアミジノ基を表す一般式(I)の
化合物、基R1にキラリティ中心を有する一般式(I)
の化合物の光学異性体、これらの光学異性体の混合物及
び光学的に実質的に純粋な形の、塩形成基を有する一般
式(1)の化合物の塩に関する。
The invention more particularly provides that R1 represents a lower alkyl group substituted in the α-position with a hydroxy group, and R2 represents a carboxy group or an esterified carboxy group decomposable under physiological conditions, such as 1-lower alkoxycarbonyloxy. A compound of the general formula (I) representing a lower alkoxycarbonyl group or a lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group, in which R3 represents an amino group, a lower alkylamino group or a formamidino group, a general formula (I) having a center of chirality in the group R1
to optical isomers of the compounds of formula (1), mixtures of these optical isomers and salts of compounds of general formula (1) having salt-forming groups in optically substantially pure form.

本発明は、主として、R1がヒドロキシメチル基又は1
−ヒドロキシエチル基を表し、R2がカルボキシ基を表
し、REがアミノ基を表ず一般式(I)の化合物及びそ
の、光学的に実質的に純粋な形の塩に関する。
The present invention mainly provides that R1 is a hydroxymethyl group or
-represents a hydroxyethyl group, R2 represents a carboxy group, and RE represents an amino group, and relates to compounds of general formula (I) and salts thereof in optically substantially pure form.

また、本発明は、殊に、置換基R1にキラリティ中心を
有する一般式(1)の化合物の純粋な光学異性体、特に
R1が1′−ヒドロキシエチル基である一般式(1)の
(1’R)−異性体及び塩形成基を有する一般式(1)
の化合物の塩に関する。
Moreover, the present invention particularly provides pure optical isomers of the compound of the general formula (1) having a center of chirality in the substituent R1, particularly the pure optical isomer of the compound of the general formula (1) in which R1 is a 1'-hydroxyethyl group. General formula (1) with 'R)-isomer and salt-forming group
Regarding the salt of the compound.

本発明は、特に実施例に挙げた一般式(1)の化合物及
びその医薬に許容しうる塩に関する。
The present invention particularly relates to compounds of general formula (1) mentioned in the Examples and pharmaceutically acceptable salts thereof.

本発明の化合物は、自体公知の方法で製造することがで
きる。
The compound of the present invention can be produced by a method known per se.

新規化合物は、例えば、下記のようにして製造される; a)一般式(I’): 〔式中R1は一般式(1)の下に挙げた定義を有し、R
2Tは保護されたカルボキシ基を表し、Qは基R3に変
換しうる基を表す〕の化合物中の基Qを基R3に変換さ
せるか、又は b)一般式(■): 1 〔式中R1及びR3は一般式(T)の下に挙げた定義を
有し、R2′は保護されたカルボキシ基を表し、Zは酸
素又は硫黄を表し、XOは陽イオンと一緒にトリー置換
ホスホニオ基又はジエステル化ホスボッ基を表す〕のイ
リド化合物を閉環させるか、又は C)一般式(■): 〔式中R1及びR3は一般式(1)の下に挙げた定義を
有し、Zは酸素又は硫黄を表し、R2′は保護されたカ
ルボキシ基を表す〕の化合物を3価の燐の有機化合物で
処理するか、又は d)一般式(I’l+’): 〔式中R1及びR3は一般式(1)の下に挙げた定義を
有し、R21は保護されたカルボキシ基を表し、Xは基
−8−又は基−3O2−を表す〕の化合物中の基Xを除
去し、 所望又は必要な場合、一般式(1)の生成した化合物に
おいて、基R2中の保護されたヒドロキシ基を遊離ヒド
ロキシ基に変え、及び/又は所望の場合、一般式(I)
の生成した化合物中の保護されたカルボキシ基R2′を
遊離カルボキシ基、生理学的条件下に分解しうるエステ
ル化カルボキシ基又は異なる保護されたカルボキシ基R
2′に変えるか、又は遊離カルボキシ基R2を生理学的
条件下に分解しうるエステル化カルボキシ基又は保護さ
れたカルボキシ基R21に変え、及び/又は所望の場合
、保護されたアミノ基R3を遊離アミノ基に変えるか、
又は遊離アミノ基R3を置換アミノ基に変え、及び/又
は所望の場合、生成する塩形成基を有する化合物を塩に
変えるか、又は生成する塩を遊離化合物又は異なる塩に
変え、及び/又は所望の場合、生成する一般式(1)の
異性体化合物の混合物を個々の異性体に分離する。
The novel compound is produced, for example, as follows; a) General formula (I'): [wherein R1 has the definition listed under general formula (1), R
2T represents a protected carboxy group and Q represents a group convertible to group R3], or b) general formula (■): 1 [wherein R1 and R3 have the definitions listed under general formula (T), R2' represents a protected carboxy group, Z represents oxygen or sulfur, and XO together with the cation represents a tri-substituted phosphonio group or a diester. or C) general formula (■): [wherein R1 and R3 have the definitions listed under general formula (1), and Z is oxygen or sulfur] and R2' represents a protected carboxy group] is treated with an organic compound of trivalent phosphorus, or d) general formula (I'l+'): [wherein R1 and R3 are the general formula (1), R represents a protected carboxy group and X represents a group -8- or a group -3O2-, as desired or necessary. in the resulting compound of general formula (1), the protected hydroxy group in the group R2 is changed to a free hydroxy group, and/or if desired, the compound of general formula (I)
The protected carboxy group R2' in the generated compound can be replaced with a free carboxy group, an esterified carboxy group that can be decomposed under physiological conditions, or a different protected carboxy group R.
2' or the free carboxy group R2 to an esterified carboxy group or a protected carboxy group R21 that can be decomposed under physiological conditions, and/or if desired, the protected amino group R3 to a free amino or change it to the base
or convert the free amino group R3 into a substituted amino group, and/or, if desired, convert the resulting compound with a salt-forming group into a salt, or convert the resulting salt into the free compound or a different salt, and/or if desired In this case, the resulting mixture of isomeric compounds of general formula (1) is separated into individual isomers.

(以下余白) 一般式(Io)、(TI)及び(III)の出発化合物
において、官能基、例えば基R1中の遊離ヒドロキシ基
、及び特に遊離アミノ基R3は、常用の保護基、例えば
前記の保護基のうちの一つで保護されているのが好まし
い。
(Left below) In the starting compounds of the general formulas (Io), (TI) and (III), the functional groups, such as the free hydroxy group in the group R1, and in particular the free amino group R3, can be replaced by conventional protecting groups, such as those described above. Preferably it is protected with one of the protecting groups.

a) lb(λ導入 基R3に変換しうる基Qは、特に親核反応によって変換
されうる対応する基である。このような基Qは、特にエ
ステル化されたヒドロキシ基、例えばハロゲン化水素酸
、ジー低級アルキル燐酸、ジアリール燐酸、場合により
オキソ基もしくはハロゲンで置換された低級アルカンカ
ルボン酸、場合によりハロゲンで置換された低級アルカ
ンスルホン酸又は場合によりハロゲン若しくは低級アル
キル基で置換されたベンゼンスルホン酸でエステル化さ
れたヒドロキシ基である。このような基Qは、例えばハ
ロゲン、例えば塩素、臭素若しくは沃素、ジー低級アル
キル−若しくはジアリール−ホスホリルオキシ基、例え
ばジメチル−、ジエチル−若しくはジフェニル−ホスホ
リルオキシ基、場合によりハロゲン若しくはオキソ基で
置換された低級アルカノイルオキシ基、例えばホルミル
オキシ基、アセトキシ基若しくはアセトアセトキシ基、
場合によりハロゲンで置換された低級アルカンスルホニ
ルオキシ基、例えばメタンスルホニルオキシ基若しくは
トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、又は場合によ
りハロゲン若しくは低級アルキル基で置換されたヘンゼ
ンスルホニルオキシ基、例えばヘンゼンスルホニルオキ
シ基、4−クロロ−,4−プロモー若しくは4−メチル
−ヘンゼンスルホニルオキシ基である。
a) Groups Q convertible into lb(λ-introducing groups R3 are in particular corresponding groups which can be converted by nucleophilic reactions. Such groups Q are in particular esterified hydroxy groups, for example hydrohalic acid , di-lower alkyl phosphoric acid, diaryl phosphoric acid, lower alkane carboxylic acid optionally substituted with an oxo group or halogen, lower alkanesulfonic acid optionally substituted with halogen, or benzenesulfonic acid optionally substituted with halogen or lower alkyl group. Such groups Q are, for example, halogens, such as chlorine, bromine or iodine, di-lower alkyl- or diaryl-phosphoryloxy groups, such as dimethyl-, diethyl- or diphenyl-phosphoryloxy groups. , lower alkanoyloxy groups optionally substituted with halogen or oxo groups, such as formyloxy, acetoxy or acetoacetoxy groups,
a lower alkanesulfonyloxy group optionally substituted with a halogen, such as a methanesulfonyloxy group or a trifluoromethanesulfonyloxy group, or a henzenesulfonyloxy group optionally substituted with a halogen or a lower alkyl group, such as a henzenesulfonyloxy group, 4-chloro-, 4-promo or 4-methyl-henzenesulfonyloxy group.

反応は、式R3H(式中R3は前記のものを表す)の化
合物又はその塩、例えばアルカリ金属塩、例えばナトリ
ウム塩若しくはカリウム塩、即ち、アジ化水素若しくは
フタルイミド又はそのアルカリ金属塩、例えばすl・リ
ウム塩若しくはカリウム塩、及び更にアンモニア、低級
アルキルアミン、ジー低級アルキルアミン、アミジン、
グアニジン等(それぞれは場合により保護された形で存
在してもよいが、反応するアミノ基に少なくとも1個の
水素原子が存在することが必要である)を用いて実施す
る。反応を不活性溶剤、例えば低級アルカノール、ジメ
チルホルムアミド、環状エーテル、例えばジオキサン又
はジメチルスルホキシド中で室温で又は温度を少し高め
るか又は低下して、例えば約0〜40゛C1特に室温で
実施する。
The reaction is carried out using a compound of the formula R3H (wherein R3 is as defined above) or a salt thereof, such as an alkali metal salt, such as a sodium salt or a potassium salt, i.e. hydrogen azide or phthalimide or an alkali metal salt thereof, such as a salt thereof.・Rium salt or potassium salt, and further ammonia, lower alkyl amine, di-lower alkyl amine, amidine,
This is carried out using guanidine, etc. (each may optionally be present in a protected form, but it is necessary that at least one hydrogen atom be present in the amino group to be reacted). The reaction is carried out in an inert solvent, such as a lower alkanol, dimethylformamide, a cyclic ether, such as dioxane or dimethyl sulfoxide, at room temperature or at slightly elevated or reduced temperatures, for example from about 0 to 40° C1, especially at room temperature.

一般式(■″)の出発化合物は、方法b)に記載したの
と類似の方法で一般式(IT’):1 〔式中Z及びX■は一般式(n)の下に挙げた定義を有
する〕のホスホランの閉環によって、製造することがで
きる。
The starting compound of the general formula (■'') is prepared in a manner analogous to that described in method b) with the general formula (IT'): 1 [wherein Z and X■ are the definitions listed under the general formula (n)] can be produced by ring closure of a phosphorane having

b)]式N+)のし^の■ 一般式(I[)の出発原料中の基X■は、ヴイ・7テイ
’ニー (Wittig)の縮合反応に通常使用される
ホスホニオ基若しくはホスホノ基の一つ、特にトリフり
−ルー、例えばトリフエニル−若しくはトリー低級アル
キル−1例えばトリーn−ブチル−ホスホニオ基、又は
低級アルキル基、例えばエチル基でジエステル化された
ホスホノ基であり、ホスボッ基の場合に基X○は更に強
塩基の陽イオン、特に適当な金属イオン、例えばアルカ
リ金属イオン、例えばリチウムイオン、ナトリウムイオ
ン又はカリウムイオンを包含する。一方では、トリフェ
ニルホスホニオ基、他方では、アルカリ金属イオン、例
えばナトリウムイオンと一緒にジエチルホスホノ基が基
X■として好ましい。
b)] The group X in the starting material of the general formula (I[) of the formula N+) is a phosphonio group or a phosphono group commonly used in the Wittig condensation reaction. One, in particular, a trifluoride group, such as a triphenyl- or tri-lower alkyl-1, such as a tri-n-butyl-phosphonio group, or a phosphono group diesterified with a lower alkyl group, such as an ethyl group, in the case of a phosphono group; The radical X○ further includes strong basic cations, in particular suitable metal ions, such as alkali metal ions, such as lithium, sodium or potassium ions. On the one hand, a triphenylphosphonio group and, on the other hand, a diethylphosphono group together with an alkali metal ion, for example a sodium ion, are preferred as radicals X■.

一般式(11)のホスホニオ化合物において、正に帯電
したホスホニオ基によって負の電荷は中和される。一般
式(II)のホスホノ化合物において、負の電荷は強塩
基の陽イオンで中和され、その陽イオンは、ホスホノ出
発原料の製造方法に応じて例えばアルカリ金属イオン、
例えばナトリウム、リチウム又はカリウムイオンであっ
てよい。従って、ホスホノ出発原料は塩の形で反応に使
用される。閉環反応は、自然に、即ち、出発原料の製造
中に起こるか、又は例えば約30〜160℃、好ましく
は約50’C〜約100℃の温度範囲で加熱することに
よって行うことができる。反応は、適当な不活性溶剤、
例えば脂肪族、脂環式又は芳香族炭化水素、例えばシク
ロヘキサン、ベンゼン又はl・ルエン、ハロゲン化炭化
水素、例えば塩化メチレン、エーテル、例えばジエチル
エーテル、環状エーテル、例えばジオキサン又はテトラ
ヒドロフラン、カルボン酸アミド、例えばジメチルホル
ムアミド、ジー低級アルキルスルホキシド、例えばジメ
チルスルホキシド、又は低級アルカノール、例えばエタ
ノール、又はこれらの混合物中で、必要に応じて不活性
ガス雰囲気、例えば窒素雰囲気中で実施するのが好まし
い。
In the phosphonio compound of general formula (11), negative charges are neutralized by the positively charged phosphonio group. In the phosphono compounds of general formula (II), the negative charge is neutralized by strong basic cations, which cations can be, for example, alkali metal ions,
For example, it may be sodium, lithium or potassium ions. The phosphono starting material is therefore used in the reaction in salt form. The ring closure reaction can occur naturally, ie, during the preparation of the starting materials, or can be carried out by heating, for example, at a temperature range of about 30 to 160<0>C, preferably about 50'C to about 100<0>C. The reaction is carried out in a suitable inert solvent,
For example, aliphatic, cycloaliphatic or aromatic hydrocarbons, such as cyclohexane, benzene or l-toluene, halogenated hydrocarbons, such as methylene chloride, ethers, such as diethyl ether, cyclic ethers, such as dioxane or tetrahydrofuran, carboxylic acid amides, such as Preference is given to carrying out in dimethylformamide, di-lower alkyl sulfoxides, such as dimethyl sulfoxide, or lower alkanols, such as ethanol, or mixtures thereof, optionally under an inert gas atmosphere, such as nitrogen atmosphere.

C)−〇 ■ の A の 1 3価の燐の有機化合物は、例えば亜燐酸から誘導され、
特に低級アルカノール、例えばメタノール若しくはエタ
ノール、及び/又は場合により置換された芳香族ヒドロ
キシ化合物、例えばフェノール若しくはピロカテコール
とのエステル、又は式P(○Ra )2 N (Rh 
)2 (式中Ra及びRbはそれぞれ相互に独立に低級
アルキル基、例えばメチル基、又はアリール基、例えば
フェニル基を表す)のアミドエステルである。3価の燐
の好ましい化合物はトリー低級アルキルボスファイト、
例えばトリメチルホスファイト又はトリエチルホスファ
イトである。
C)-〇 ■ A of 1 The organic compound of trivalent phosphorus is derived from, for example, phosphorous acid,
Especially lower alkanols, such as methanol or ethanol, and/or esters with optionally substituted aromatic hydroxy compounds, such as phenol or pyrocatechol, or esters of the formula P(○Ra )2 N (Rh
)2 (wherein Ra and Rb each independently represent a lower alkyl group, such as a methyl group, or an aryl group, such as a phenyl group). Preferred compounds of trivalent phosphorus are tri-lower alkylbosphites,
For example trimethyl phosphite or triethyl phosphite.

反応は、不活性溶剤、例えば芳香族炭化水素、例えばト
ルエン若しくはキシレン、エーテル、例えばジオキサン
若しくはテトラヒドロフラン、又はハロゲン化炭化水素
、例えば塩化メチレン若しくはクロロホルム中で約20
’C〜約150°C1好ましくは約20’C〜約120
°Cの温度で実施するのが好ましく、1モル当量の一般
式(TIE)の化合物を2モル当量の燐化合物と反応さ
せる。一般式(Ill)の化合物を不活性溶剤中に入れ
、好ましくは同じ不活性溶剤に溶かした燐化合物を、長
時間かけて、例えば2〜4時間かけて滴加するのが好ま
しい。
The reaction is carried out in an inert solvent, such as an aromatic hydrocarbon, such as toluene or xylene, an ether, such as dioxane or tetrahydrofuran, or a halogenated hydrocarbon, such as methylene chloride or chloroform, for about 20 minutes.
'C to about 150°C1 preferably about 20'C to about 120
Preferably carried out at a temperature of 0.degree. C., 1 molar equivalent of a compound of general formula (TIE) is reacted with 2 molar equivalents of a phosphorus compound. Preferably, the compound of general formula (Ill) is placed in an inert solvent and the phosphorus compound, preferably dissolved in the same inert solvent, is added dropwise over an extended period of time, for example from 2 to 4 hours.

好ましい実施態様においては、一般式(T[T)の出発
原料を下記のようにして製造し、反応混合物から単離す
ることなく、3価の燐の有機化合物と反応させ、一般式
(I)の最終生成物を生成させる。
In a preferred embodiment, a starting material of general formula (T[T) is prepared as follows and is reacted with an organic compound of trivalent phosphorus without isolation from the reaction mixture to form a compound of general formula (I). to produce the final product.

d)1式ゴ】」ユJ刈り会物涛巨ヅ刈[℃9除去。d) Type 1 Go] "Yu J Kari Kaimono Gyozu Kari [℃9 removed.

一般式(■′)の化合物は対応して置換された2−チア
−3−セフェム−4−カルボン酸又は特に2−チア−3
−セフェム−4−カルボン酸1゜1−ジオキシドである
Compounds of general formula (■') are correspondingly substituted 2-thia-3-cephem-4-carboxylic acids or especially 2-thia-3
-cephem-4-carboxylic acid 1°1-dioxide.

一般式(■″)の2−チア−3−セフェム−4−カルボ
ン酸(X=S)から硫黄を除去する反応は、例えば3価
の燐の有機化合物、例えば方法C)に挙げた化合物を用
いて実施する。適当な3価の燐の化合物は、例えばトリ
ー低級アルキルホスファイト、例えばトリエチルホスフ
ァイト及び特にトリフェニルホスファイトである。除去
は室温又は少し高い温度で、例えば約20゛C〜60゛
Cで、不活性溶剤又は溶剤混合物中、例えば炭化水素、
例えばベンゼン、塩素化炭化水素、例えばクロロホルム
、又は低級アルカノン、例えばアセトン中で、必要に応
じて不活性ガス雰囲気、例えば窒素雰囲気中で実施する
The reaction for removing sulfur from 2-thia-3-cephem-4-carboxylic acid (X=S) of the general formula (■'') can be carried out using, for example, an organic compound of trivalent phosphorus, such as the compound listed in method C). Suitable compounds of trivalent phosphorus are, for example, tri-lower alkyl phosphites, such as triethyl phosphite and especially triphenyl phosphite.The removal is carried out at room temperature or at slightly elevated temperatures, e.g. at 60 °C in an inert solvent or solvent mixture, e.g.
It is carried out, for example, in benzene, chlorinated hydrocarbons, such as chloroform, or lower alkanones, such as acetone, optionally in an inert gas atmosphere, such as nitrogen.

XがSO2を表す一般式(■“)の化合物から二酸化硫
黄を除去する反応は、例えば該化合物を含む溶液中で緩
和〜中程度の加熱、例えば約り0℃〜約80℃に加熱す
ることによって行われ、その際、溶剤としては、特に不
活性溶剤、例えば場合により塩素化された炭化水素、例
えばクロロボルム、脂肪族エーテル又は芳香族炭化水素
、例えばベンゼンが適当である。
The reaction of removing sulfur dioxide from the compound of the general formula (■") in which X represents SO2 can be carried out by mild to moderate heating in a solution containing the compound, for example, heating to about 0°C to about 80°C. Suitable solvents are inert solvents, such as optionally chlorinated hydrocarbons, such as chloroborum, aliphatic ethers, or aromatic hydrocarbons, such as benzene.

初めに特に好ましいとして挙げた一般式(I)の化合物
を生成する一般式(Io)、(TI)、(III)及び
(■“)の出発原料を使用するのが好ましい。
Preference is given to using starting materials of the general formulas (Io), (TI), (III) and (■") which produce compounds of the general formula (I) mentioned at the outset as particularly preferred.

1個以上の官能基が保護されている一般式(1)の生じ
る化合物において、保護された官能基、例えば保護され
たカルボキシ基、ヒドロキシ基及びアミノ基を場合によ
り複数の工程で又は同時に、自体公知の方法で加溶媒分
解、特に加水分解、アルコーリシス若しくはアシドーリ
シスによるか、又は還元、特に水素添加分解若しくは化
学的還元によって遊離させることができる。
In the resulting compounds of general formula (1) in which one or more functional groups are protected, the protected functional groups, such as protected carboxy groups, hydroxy groups and amino groups, are removed by themselves, optionally in several steps or simultaneously. It can be liberated in known manner by solvolysis, especially hydrolysis, alcoholysis or acidolysis, or by reduction, especially hydrogenolysis or chemical reduction.

本発明方法によって得られる、R2が保護されたカルボ
キシ基を表す一般式(1)の化合物中の保護されたカル
ボキシ基を自体公知の方法で遊31[させることができ
る。即ち、ter を−低級アルコキシカルボニル基、
又は2−位がトリー置換シリル基で置換されているか又
は1−位が低級アルコキシ基で置換された低級アルコキ
シカルボニル基、又は場合により置換されたジフェニル
メ1−キシカルボニル基を、例えば場合により親核性化
合物、例えばフェノール又はアニソールを添加して、カ
ルボン酸、例えばギ酸又はトリフルオロ酢酸で処理する
ことによって遊離カルボキシ基に変えることができる。
The protected carboxy group in the compound of general formula (1) in which R2 represents a protected carboxy group obtained by the method of the present invention can be liberated by a method known per se. That is, ter is -lower alkoxycarbonyl group,
or a lower alkoxycarbonyl group substituted in the 2-position with a tri-substituted silyl group or substituted in the 1-position with a lower alkoxy group, or an optionally substituted diphenylmeth-1-oxycarbonyl group, e.g. Nuclear compounds such as phenol or anisole can be added and converted into free carboxy groups by treatment with carboxylic acids such as formic acid or trifluoroacetic acid.

場合により置換されたベジルオキシカルボニル基は、例
えば水素添加分解、即ち、金属水素添加触媒、例えばパ
ラジウム触媒の存在で水素で処理することによって分解
することができる。更に、適当に置換されたベンジルオ
キシカルボニル基、例えば4−ニトロペンジルオキシカ
ルボニルを化学的還元、例えばアルカリ金属亜ニチオン
酸塩、例えば亜ニチオン酸すトリウムで処理するか、又
は通常、金属と共に発生期の水素を生成しうる水素発生
剤、例えば適当なカルボン酸、例えば場合により例えば
ヒドロキシ基で置換された低級アルカンカルボン酸、例
えば酢酸、ギ酸若しくはグリコール酸又はアルコール又
はチオールの存在で還元性金属、例えば錫又は還元性金
属塩、例えばクロム(IT)塩、例えば塩化クロム(H
)で処理することによって遊離カルボキシ基に変えるこ
とができる。
Optionally substituted bezyloxycarbonyl groups can be decomposed, for example, by hydrogenolysis, ie, treatment with hydrogen in the presence of a metal hydrogenation catalyst, such as a palladium catalyst. Furthermore, a suitably substituted benzyloxycarbonyl group, such as 4-nitropenzyloxycarbonyl, can be treated with chemical reduction, for example with an alkali metal dithionite, such as sthorium dithionite, or is usually treated with a nascent metal. Hydrogen generators capable of producing hydrogen, such as suitable carboxylic acids, such as lower alkane carboxylic acids optionally substituted with e.g. Tin or reducing metal salts, such as chromium (IT) salts, such as chromium chloride (H
) can be converted into a free carboxy group.

アリル保護基の除去は、例えばトリフェニルポスフィン
の存在でカルボン酸、例えば2−エチルヘキサン酸又は
その塩を添加して、パラジウム化合物、例えばテトラキ
ス(トリフェニルホスフィン)−パラジウムとの反応に
より行う。前記のように、還元性金属又は金属塩で処理
することによって2−ハロー低級アルコキシカルボニル
基(場合により2−ブロモ−低級アルコキシカルボニル
基を対応する2−ヨード−低級アルコキシカルボニル基
に変えた後)又はアロイルメトキシカルボニル基を遊離
カルボキシ基に変えることができ、アロイルメトキシカ
ルボニル基を同様に、親核性の好ましくは塩形成試薬、
たとえばナトリウムチオフェノラート又は沃化ナトリウ
ムで処理することによって分解することができる。置換
2−シリルエトキシカルボニル基を大環状ポリエーテル
く“クラウンエーテル”)の存在で弗化物陰イオンを生
じる弗化水素酸の塩、例えばアルカリ金属弗化物、例え
ば弗化ナトリウムで処理するか、又は有機第四級塩基の
弗化物、例えばテトラ低級アルキルアンモニウムフルオ
リド、例えばテトラブチルアンモニウムフルオリドで処
理することによって遊離カルボキシ基に変えることがで
きる。有機シリル基又はスフニル基、例えばトリー低級
アルキルシリル基又はトリー低級アルキルスタニル基で
エステル化されたカルボキシを常法で加溶媒分解、例え
ば水又はアルコールで処理することによって遊離させる
ことができる。2−位が低級アルキルスルホニル基又は
シアノ基で置換された低級アルコキシカルボニル基を、
例えば塩基性試薬例えばアルカリ金属又はアルカリ土類
金属の水酸化物又は炭酸塩、例えば水酸化すトリウム、
水酸化カリウム、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムで処
理することによって遊離カルボキシ基に変えることがで
きる。
Removal of the allyl protecting group is carried out, for example, by reaction with a palladium compound, for example tetrakis(triphenylphosphine)-palladium, in the presence of triphenylphosphine and by addition of a carboxylic acid, for example 2-ethylhexanoic acid or a salt thereof. 2-halo lower alkoxycarbonyl group (optionally after converting the 2-bromo-lower alkoxycarbonyl group to the corresponding 2-iodo-lower alkoxycarbonyl group) by treatment with a reducing metal or metal salt, as described above. Alternatively, the aroylmethoxycarbonyl group can be converted into a free carboxy group, and the aroylmethoxycarbonyl group can likewise be converted to a nucleophilic, preferably salt-forming reagent,
For example, it can be decomposed by treatment with sodium thiophenolate or sodium iodide. The substituted 2-silylethoxycarbonyl group is treated with a salt of hydrofluoric acid, such as an alkali metal fluoride, such as sodium fluoride, which yields a fluoride anion in the presence of a macrocyclic polyether ("crown ether"), or It can be converted to a free carboxy group by treatment with a fluoride of an organic quaternary base, such as a tetra-lower alkylammonium fluoride, such as tetrabutylammonium fluoride. Carboxyls esterified with organosilyl or suphnyl groups, such as tri-lower alkylsilyl or tri-lower alkylstannyl groups, can be liberated in the usual manner by solvolysis, for example by treatment with water or alcohol. A lower alkoxycarbonyl group substituted with a lower alkylsulfonyl group or a cyano group at the 2-position,
For example, basic reagents such as alkali metal or alkaline earth metal hydroxides or carbonates, such as thorium hydroxide,
It can be converted to free carboxy groups by treatment with potassium hydroxide, sodium carbonate or potassium carbonate.

また、R2がカルボキシ基を表す一般式(1)の化合物
を、R2が保護されたカルボキシ基、特にエステル化カ
ルボキシ基又は生理学的条件下に分解しうるエステル化
カルボキシ基を衷ず一般式(I)の化合物に変えること
ができる。遊離カルボキシ基を、必要に応じてルイス酸
、例えば三弗化硼素の存在で、例えば適当なジアゾ化合
物、例えばジアゾ−低級アルカン、例えばジアゾメタン
又はフェニル−ジアゾ−低級アルカン、例えばジフェニ
ルジアゾメタンで処理するか、又はエステル化剤、例え
ばカルボジイミド、例えばジシクロへキシルカルボジイ
ミド及びカルボニルジイミダゾールの存在でエステル化
に適当なアルコールと反応させることによってエステル
化することができる。また、酸の塩(場合によりその場
で製造する)をアルコールの反応性エステル及び強無機
酸、例えば硫酸又は強有機スルホン酸、例えば4−トル
エンスルホン酸と反応させることによってエステルを製
造することもできる。更に、酸ハライド、−例えば塩化
物(例えば塩化オキサリルで処理することにより製造)
、活性エステル(例えばN−ヒドロキシ窒素化合物、例
えばN−ヒドロキシスクシンイミドを用いて形成)、又
は混成無水物(例えば、ハロギ酸低級アルキルエステル
、例えばクロロギ酸エチルエステル又はクロロギ酸イソ
ブチルエステル、又はハロ酢酸ハライド、例えばトリク
ロロアセチルクロリドを用いて得られる)を、場合によ
り塩基、例えばピリジンの存在で適当なアルコールと反
応させることによってエステル化カルボキシ基に変える
ことができる。
Further, the compound of the general formula (1) in which R2 represents a carboxyl group may be converted to a compound of the general formula (I ) can be converted into a compound. The free carboxy group is treated with a suitable diazo compound, for example a diazo-lower alkane, for example diazomethane, or a phenyl-diazo-lower alkane, for example diphenyldiazomethane, optionally in the presence of a Lewis acid, for example boron trifluoride. or by reaction with an alcohol suitable for esterification in the presence of an esterification agent, such as a carbodiimide, such as dicyclohexylcarbodiimide and carbonyldiimidazole. Esters may also be prepared by reacting salts of acids (optionally prepared in situ) with reactive esters of alcohols and strong inorganic acids, such as sulfuric acid or strong organic sulfonic acids, such as 4-toluenesulfonic acid. can. Furthermore, acid halides - e.g. chlorides (prepared e.g. by treatment with oxalyl chloride)
, active esters (e.g. formed using N-hydroxy nitrogen compounds, e.g. N-hydroxysuccinimide), or mixed anhydrides (e.g. haloformic acid lower alkyl esters, e.g. chloroformic acid ethyl ester or chloroformic acid isobutyl ester, or haloacetic acid halides). (obtained for example using trichloroacetyl chloride) can be converted into an esterified carboxy group by reaction with a suitable alcohol, optionally in the presence of a base, for example pyridine.

エステル化カルボキシ基を有する一般式(1)の化合物
中のこの基を異なるエステル化カルボキシ基に変えるこ
とができる。例えば2−クロロエトキシカルボニル基又
は2−プロモエトキシカルボニル基を沃素塩、例えば沃
化ナトリウムでの処理によって2−ヨードエトキシカル
ボニル基に変えることができる。更に、エステル化され
た形で保護されたカルボキシ基を含む一般F(T)の化
合物中のカルボキシ保護基は、前記のようにして除去す
ることができ、遊離カルボキシ基を有する一般式(1)
の生じた化合物又はその塩を対応するアルコールの反応
性エステルとの反応によ・ってR2が生理学的条件下に
分解しうるエステル化カルボキシ基を表す一般式(1)
の化合物に変えることができる。
This group in compounds of general formula (1) having an esterified carboxy group can be changed to a different esterified carboxy group. For example, a 2-chloroethoxycarbonyl group or a 2-promoethoxycarbonyl group can be converted into a 2-iodoethoxycarbonyl group by treatment with an iodide salt, such as sodium iodide. Furthermore, the carboxy protecting group in the compound of general F(T) containing a protected carboxy group in esterified form can be removed as described above, and the carboxyl protecting group in the compound of general formula (1) having a free carboxy group can be removed as described above.
General formula (1) in which R2 represents an esterified carboxy group that can be decomposed under physiological conditions by reacting the resulting compound or its salt with a reactive ester of the corresponding alcohol
can be converted into compounds of

本発明方法により得られる一般式(1)の化合物におい
て、基R1に存在する保護されたヒドロキシ基を自体公
知の方法で遊離ヒドロキシ基に変えることができる。例
えば、適当なアシル基又は有機シリル基若しくはスタニ
ル基で保護されたヒドロキシ基を対応して保護されたア
ミ、ノ基と同じ方法で(以下の記載を参照)遊離させる
。トリー低級フルキルシリル基を例えばテトラブチルア
ンモニウムフルオリド及び酢酸を用いて除去することも
できる(これらの条件下に、I−リー置換シリルエトキ
シ基で保護されたカルボキシ基は分解されない)。2−
ハロー低級アルキル基及び場合により置換されたベンジ
ル基は、還元によって除去される。
In the compounds of general formula (1) obtained by the process of the invention, the protected hydroxy group present in the group R1 can be converted into a free hydroxy group by methods known per se. For example, a hydroxy group protected with a suitable acyl group or an organosilyl group or stannyl group is liberated in the same way as a correspondingly protected amine, no group (see description below). The tri-lower furkylsilyl group can also be removed using, for example, tetrabutylammonium fluoride and acetic acid (under these conditions, the carboxy group protected by the I-ly substituted silylethoxy group is not decomposed). 2-
Halo lower alkyl groups and optionally substituted benzyl groups are removed by reduction.

保護されたアミノ基R3を有する、本発明により得られ
る一般式(1)の化合物において、この基を自体公知の
方法で、例えば保護基の性質に応じて、好ましくは加溶
媒分解又は還元によって遊離アミン基に変えることがで
きる。例えば、2−ハロー低級アルコキシカルボニルア
ミノ基(場合により2−ブロモ−低級アルコキシカルボ
ニルアミノ基を2−ヨード−低級アルコキシカルボニル
アミノ基に変えた後)、アロイルメトキシカルボニルア
ミノ基又は4−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ
基を適当なカルボン酸、例えば酢酸水溶液の存在で適当
な化学的還元剤、例えば亜鉛で処理するか、又はパラジ
ウム触媒の存在で水素と接触させることにより分解する
ことができる。
In the compounds of the general formula (1) obtainable according to the invention which have a protected amino group R3, this group can be liberated in a manner known per se, for example, depending on the nature of the protecting group, preferably by solvolysis or reduction. Can be converted to amine group. For example, a 2-halo lower alkoxycarbonylamino group (optionally after changing the 2-bromo-lower alkoxycarbonylamino group to a 2-iodo-lower alkoxycarbonylamino group), an aroylmethoxycarbonylamino group or a 4-nitrobenzyloxy The carbonylamino group can be cleaved by treatment with a suitable chemical reducing agent, such as zinc, in the presence of an aqueous solution of a suitable carboxylic acid, such as acetic acid, or by contact with hydrogen in the presence of a palladium catalyst.

アロイルメトキシカルボニルアミノ基を、親核性試薬、
好ましくは塩形成試薬、例えばナトリウムチオフェルレ
ートでの処理によって分解することもでき、4−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルアミノ基をアルカリ金属面ニ
チオン酸、例えば亜ニチオン酸ナトリウムでの処理によ
って分解することもできる。場合により置換されたベン
ジルオキシカルボニルアミノ基を、例えば水素添加分解
、即ち適当な水素添加触媒、例えばパラジウム触媒の存
在で水素で処理することによって分解することができ、
アリルオキシカルボニルアミノ基を、トリフェニルホス
フィンの存在でパラジウム化合物、例えばテトラキス(
トリフェニルホスフィン)−パラジウムと反応させ、カ
ルボン酸、例えば2−エチルへキサン酸又はその塩と反
応させることによって分解することができる。有機シリ
ル基又はスタニル基で保護されるアミノ基を、例えば加
水分解又はアルコーリシスによって遊離させることがで
き、2−ハロー低級アルカノイル基、例えば2−クロロ
アセチル基で保護されたアミノ基を塩基の存在でチオ尿
素で処理するか又はチオ尿素のチオレート塩、例えばア
ルカリ金属チオレートで処理し、その後、生成する縮合
生成物を加溶媒分解、例えばアルコーリシス又は加水分
解することによって遊離させることができる。2−置換
シリルエトキシカルボニル基で保護されたアミノ基を大
環状ポリエーテル(“クラウンエーテル”)の存在で、
弗化物陰イオンを生じる弗化水素酸の塩、例えばアルカ
リ金属弗化物、例えば弗化ナトリウムで処理するか、又
は有機第四級塩基の弗化物、例えばテトラ−低級アルキ
ルアンモニウムフルオリド、例えばテトラエチルアンモ
ニウムフルオリドで処理することによって遊離アミノ基
に変えることができる。アジド基又はニトロ基の形で保
護されたアミノ基は、例えば還元、例えば水素添加触媒
、例えば酸化白金又はパラジウムの存在で水素を用いる
接触水素添加、又は酸、例えば酢酸の存在で亜鉛での処
理によって遊離アミノ基に変えられる。フタルイミド基
の形で保護されたアミノ基は、ヒドラジンとの反応によ
って遊離アミノ基に変えることができる。更に、了り−
ルチオアミノ基を親核性試薬、例えば亜硫酸で処理する
ことによってアミン基に変えることができる。
aroylmethoxycarbonylamino group, a nucleophilic reagent,
Preferably, the 4-nitrobenzyloxycarbonylamino group can also be decomposed by treatment with a salt-forming reagent, such as sodium thioferlate, and the 4-nitrobenzyloxycarbonylamino group can be decomposed by treatment with an alkali metal-faced dithionate, such as sodium dithionite. . The optionally substituted benzyloxycarbonylamino group can be decomposed, for example, by hydrogenolysis, i.e. by treatment with hydrogen in the presence of a suitable hydrogenation catalyst, such as a palladium catalyst,
The allyloxycarbonylamino group can be converted into a palladium compound, such as tetrakis (
(triphenylphosphine)-palladium and a carboxylic acid such as 2-ethylhexanoic acid or a salt thereof. Amino groups protected with organosilyl or stannyl groups can be liberated, for example by hydrolysis or alcoholysis, and amino groups protected with 2-halo lower alkanoyl groups, e.g. 2-chloroacetyl groups, can be liberated in the presence of a base. with thiourea or with a thiolate salt of thiourea, for example an alkali metal thiolate, and the resulting condensation product can then be liberated by solvolysis, for example alcoholysis or hydrolysis. With the presence of a macrocyclic polyether (“crown ether”), an amino group protected by a 2-substituted silylethoxycarbonyl group,
Salts of hydrofluoric acid, such as those treated with alkali metal fluorides, such as sodium fluoride, yielding fluoride anions, or fluorides of organic quaternary bases, such as tetra-lower alkylammonium fluorides, such as tetraethylammonium. It can be converted to a free amino group by treatment with fluoride. Amino groups protected in the form of an azide group or a nitro group can be removed, for example, by reduction, e.g. catalytic hydrogenation with hydrogen in the presence of a hydrogenation catalyst, e.g. platinum or palladium oxide, or treatment with zinc in the presence of an acid, e.g. acetic acid. converted into a free amino group by Amino groups protected in the form of phthalimide groups can be converted into free amino groups by reaction with hydrazine. Moreover, it's over.
A ruthioamino group can be converted to an amine group by treatment with a nucleophilic reagent, such as sulfite.

また、遊離アミン基R3を自体公知の方法で置換アミノ
基に変えることができる。例えば、アミノ基を対応する
アシルハライド、例えば塩化物と反応させることによっ
てアシルアミノ基R3に変え、β−ジカルボニル化合物
、例えば1−低級アルカノイルアセトン又はアセト酢酸
低級アルキルエステルと反応させることによって1−低
級アルカノイル−又は1−低級アルコキシ力ルポニルプ
ロプ−1−エン−2−イル−アミノ基に変えることがで
きる。アミノ基をアミジノ基、グアニジノ基、イツ尿素
基、イミドエーテル基、イミドチオエーテル基に変える
反応は、例えばドイツ連邦共和国特許出願公開第265
2679号公報に記載されている方法の一つにより行う
。例えば、R3がアミノ基を表す一般式(1)の化合物
を式:C(XI 、 Yt ) C=X2 H〕0Y2
0〔式中X、は水素、低級アルキル基、置換低級アルキ
ル基、低級アルケニル基、フェニル基又は単環式へテロ
アリール基を表し、Xlは場合により置換されたイミノ
基を表し、Ylはハロゲン、例えば塩素、又は低級アル
コキシ基、例えばエトキシ基を表し、Ylは陰イオン、
例えば塩素イオンを表す〕のイミドハライド又はイミド
エステルとの反応によりアミジンに変えるか、又は式:
XI C(=S) Xl (式中XI及びx2は同−又
は異なり、場合により置換されたアミノ基を表す)のチ
オ尿素又は式: (XI Y3 )C=X2’(式中Y
3は低級アルコキシ基又は低級アルキルチオ基を表し、
Xlは場合により置換されたアミノ基を表し、X21は
場合により置換されたイミノ基を表す)のイソ尿素又は
イソチオ尿素との反応によってグアニジンに変えること
ができる。更に、遊離アミノ基R3を低級アルキル基で
七ノー又はジー置換されたアミノ基に変えることができ
る。
Furthermore, the free amine group R3 can be converted into a substituted amino group by a method known per se. For example, an amino group is converted into an acylamino group R3 by reacting with the corresponding acyl halide, e.g. chloride, and a 1-lower Alkanoyl- or 1-lower alkoxy groups can be converted into luponylprop-1-en-2-yl-amino groups. The reaction for converting an amino group into an amidino group, a guanidino group, an iturea group, an imidoether group, or an imidothioether group is described, for example, in German Patent Application Publication No. 265
This is carried out by one of the methods described in Japanese Patent No. 2679. For example, a compound of the general formula (1) in which R3 represents an amino group is represented by the formula: C(XI, Yt) C=X2H]0Y2
0 [In the formula, X represents hydrogen, a lower alkyl group, a substituted lower alkyl group, a lower alkenyl group, a phenyl group, or a monocyclic heteroaryl group, Xl represents an optionally substituted imino group, Yl represents a halogen, For example, it represents chlorine, or a lower alkoxy group, such as an ethoxy group, and Yl is an anion,
for example by reaction with an imidohalide or imidoester of chlorine ion], or by reaction with an imidoester of the formula:
XI C(=S)
3 represents a lower alkoxy group or a lower alkylthio group,
Xl represents an optionally substituted amino group and X21 represents an optionally substituted imino group) can be converted to guanidine by reaction with isourea or isothiourea. Furthermore, the free amino group R3 can be converted into a hepano- or di-substituted amino group with a lower alkyl group.

低級アルキル基の導入は、例えば、不活性溶剤、例えば
低級アルカノール中で塩基性縮合剤、例えばアルカリ金
属又はアルカリ土類金属の水酸化物又は炭酸塩、例えば
水酸化カリウム又は炭酸ナトリウムの存在で対応する反
応性低級アルキルエステル、例えばハロゲン化物、例え
ば塩化物又は臭化物、又はスルホネート、例えばメタン
スルホネート又はp−)ルエンスルホネートと室温又は
温度を高めるか、又は低下して、例えば約−20°C〜
+80℃で反応させることにより行う。
The introduction of lower alkyl groups can be achieved, for example, in the presence of a basic condensing agent, such as an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide or carbonate, such as potassium hydroxide or sodium carbonate, in an inert solvent, such as a lower alkanol. reactive lower alkyl esters, such as halides, such as chlorides or bromides, or sulfonates, such as methanesulfonate or p-)luenesulfonate, at room temperature or at elevated or lower temperatures, e.g. from about -20°C to
This is carried out by reacting at +80°C.

塩形成基を有する一般式(1)の化合物の塩は自体公知
の方法で製造することができる。即ち、遊離カルボキシ
基又はスルホ基を有する一般式(1)の化合物の塩は、
例えば金属化合物、例えば適当7j有機カルボン酸のア
ルカリ金属塩、例えばα−エチルカプロン酸のナトリウ
ム塩、又は無機アルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩
、例えば重炭酸ナトリウム、又はアンモニア又は適当な
有機アミンで処理することによって形成することができ
、塩形成剤を化学N論的量又は少過剰で使用するのが好
ましい。一般式(I)の化合物の酸付加塩は、常法で、
例えば適当な酸又は適当な陰イオン交換試薬で処理する
ことによって得られる。
A salt of the compound of general formula (1) having a salt-forming group can be produced by a method known per se. That is, the salt of the compound of general formula (1) having a free carboxy group or sulfo group is
For example, with metal compounds, such as alkali metal salts of suitable organic carboxylic acids, such as the sodium salt of α-ethylcaproic acid, or inorganic alkali metal or alkaline earth metal salts, such as sodium bicarbonate, or ammonia or suitable organic amines. It is preferred to use the salt-forming agent in stoichiometric amounts or in small excess. The acid addition salt of the compound of general formula (I) can be prepared by a conventional method,
For example, it can be obtained by treatment with a suitable acid or a suitable anion exchange reagent.

一般式(I)の化合物の分子内塩は、例えば塩、例えば
酸付加塩を例えば弱塩基を用いるか又はイオン交換体で
の処理によって等電点に中和することによって形成する
ことができる。
Inner salts of compounds of general formula (I) can be formed, for example, by neutralizing the salts, for example acid addition salts, to their isoelectric point, for example with a weak base or by treatment with an ion exchanger.

塩を常法で遊離化合物に変えることができる。The salt can be converted into the free compound in a conventional manner.

即ち、金属塩及びアンモニウム塩は、例えば適当な酸で
の処理によって、酸付加塩は、例えば適当な塩基性試薬
での処理によって遊離化合物に変えることができる。
Thus, metal salts and ammonium salts can be converted into the free compounds, for example by treatment with a suitable acid, and acid addition salts can be converted into the free compounds, for example by treatment with a suitable basic reagent.

生成する異性体化合物の混合物を自体公知の方法により
個々の異性体に分離することができる。
The resulting mixture of isomeric compounds can be separated into the individual isomers by methods known per se.

例えば、生じるラセミ体を光学活性助剤と反応させ、生
じる2種のジアステレオマー化合物の混合物を適当な物
理化学的方法(例えば、分別結晶法、吸着クロマトグラ
フィー)によって分離し、次いで個々のジアステレオマ
ー化合物を光学活性化金物に分離する。
For example, the resulting racemate is reacted with an optically active auxiliary, the resulting mixture of two diastereomeric compounds is separated by appropriate physicochemical methods (e.g. fractional crystallization, adsorption chromatography), and then the individual diastereomeric compounds are separated Separation of stereomeric compounds into optically activated metals.

対掌体に分離するため竺に適当なラセミ体は酸性基を含
むもの、例えばR2がカルボキシ基を表す一般式(1)
の化合物のラセミ体である。これらの酸性ラセミ体を光
学活性塩基、例えば光学活性アミノ酸のエステル、又は
(−)−ブルシン、(+)−キニジン、(−)−キニン
、(+)−シンコニン、(+)−デヒドロアビエチルア
ミン、(+)及び(−)−エフェドリン、(+)及び(
1−1−フェニルエチルアミン又はこれらのN−モノ−
又はN、 N−ジ−アルキル化誘導体と反応させて2種
のジアステレオマー塩から成る混合物を形成させること
ができる。
Racemates suitable for separation into enantiomers are those containing an acidic group, for example, the general formula (1) in which R2 represents a carboxy group.
It is a racemate of the compound. These acidic racemates are treated with optically active bases, such as esters of optically active amino acids, or (-)-brucine, (+)-quinidine, (-)-quinine, (+)-cinchonine, (+)-dehydroabiethylamine, (+) and (-)-ephedrine, (+) and (
1-1-phenylethylamine or their N-mono-
Alternatively, it can be reacted with an N,N-di-alkylated derivative to form a mixture of two diastereomeric salts.

カルボキシ基を含むラセミ体において、カルボキシ基を
光学活性アルコール、例えば(−)−メントール、(」
−)−ボルネオール (−)−2−オクタツールでエステル化し、その後、所
望のジアステレオマーの単離が完了した時に、カルボキ
シ基を遊離させることもできる。
In the racemate containing a carboxyl group, the carboxyl group is replaced with an optically active alcohol, such as (-)-menthol, (
It is also possible to esterify with -)-borneol (-)-2-octatool and then liberate the carboxy group when isolation of the desired diastereomer is complete.

ラセミ体を分離するため、存在するヒドロキシを光学活
性酸又はその反応性官能性誘導体でエステル化してジア
ステレオマーエステルを形成させることもできる。この
ような酸は、例えば(−)−アビエチン酸、D(+)−
及びL(−)−リンゴ酸、N−アシル化光学活性アミノ
酸、(+)−及び(−)−カンファン酸、(+)−及び
(=)−ケトピン酸、L(→−)−アスコルビン酸、(
+)−樟脳酸、(+)−樟脳−10−スルボン酸(β)
、(+)又は(−)−α−ブロモ樟脳−π−スルホン酸
、D(=)−キナ酸、D(−)−イソアスコルビン酸、
D(−)及びL(+)−マンデル酸、(→−)−1−メ
ン1〜キシ酢酸、D(−)−及びL(+) −酒石酸並
びにそのジーOーヘンゾイル誘導体及びジー0−p−1
ルオイル誘導体である。
To separate the racemates, the hydroxy present can also be esterified with an optically active acid or a reactive functional derivative thereof to form diastereomeric esters. Such acids are, for example, (-)-abietic acid, D(+)-
and L(-)-malic acid, N-acylated optically active amino acid, (+)- and (-)-camphanic acid, (+)- and (=)-ketopic acid, L(→-)-ascorbic acid ,(
+)-camphoric acid, (+)-camphor-10-sulfonic acid (β)
, (+) or (-)-α-bromocamphor-π-sulfonic acid, D(=)-quinic acid, D(-)-isoascorbic acid,
D(-)- and L(+)-mandelic acid, (→-)-1-men-1-xyacetic acid, D(-)- and L(+)-tartaric acid and its di-O-henzoyl derivatives and di-O-p- 1
It is a luoyl derivative.

光学活性イソシアネート、例えば(+)又は(−)−1
−フェニルエチルイソシアネートと反応させることによ
り、R2が保護されたカルボキシ基を表し、R,がヒド
ロキシ基で置換された低級アルキル基を表す一般式(I
)の化合物をジアステレオマーウレタンの混合物に変え
ることができる。
Optically active isocyanates, such as (+) or (-)-1
- By reacting with phenylethyl isocyanate, the general formula (I
) can be converted into a mixture of diastereomeric urethanes.

塩基性ラセミ体、例えばR3がアミノ基を表ず一般式(
1)の化合物を前記の光学活性酸を用いてジアステレオ
マー塩にすることができる。
A basic racemate, for example, R3 does not represent an amino group and the general formula (
The compound of 1) can be converted into a diastereomeric salt using the optically active acid described above.

分離したジアステレオマーを常法で一般式(1)の光学
活性化合物に分割することができる。塩から例えば初め
に使用したものより強い酸又は塩基で処理することによ
り酸又は塩基を遊離させる。
The separated diastereomers can be divided into optically active compounds of general formula (1) by a conventional method. The acid or base is liberated from the salt, for example by treatment with a stronger acid or base than the one originally used.

エステル又はウレタンから、例えばアルカリ加水分解又
は錯水素化物、例えばリチウムアルミニウムヒドリドで
還元した後、所望の光学活性化合物が得られる。
The desired optically active compounds are obtained from the esters or urethanes, for example after alkaline hydrolysis or reduction with complex hydrides, such as lithium aluminum hydride.

別のラセミ体分離法は、光学活性吸着層、例えばせ蔗糖
」二でのクロマトグラフィーを含む。
Another racemate separation method involves chromatography on an optically active adsorption layer, such as sucrose.

第三の方法では、ラセミ体を光学活性溶剤に溶かし、よ
り難溶性の光学対掌体を晶出させることができる。
In the third method, the racemate is dissolved in an optically active solvent, and the less soluble optical antipode can be crystallized.

第四の方法は、生物学的材料、例えば微生物又は単離さ
れた酵素に対する光学活性対掌体の反応性の相違を利用
する。
A fourth method exploits the differences in the reactivity of optically active enantiomers towards biological materials, such as microorganisms or isolated enzymes.

第五の方法では、ラセミ体を溶解させ、前記の方法で得
られた少量の光学活性生成物を接種することによって一
方の光学的対掌体を晶出させる。
In a fifth method, one optical enantiomer is crystallized by dissolving the racemate and inoculating with a small amount of the optically active product obtained in the above method.

ラセミ体は、任意の操作工程で、即ち、例えば一般式(
■′)、(II)、(II[)又は(■1)の出発原料
の段階で又は一般式(lo)、(II)、(III)又
は(■“)の出発化合物の、後記の製造工程の任意の段
階で光学的対掌体に分離することができる。
The racemate can be produced in any operating step, i.e. for example with the general formula (
■'), (II), (II[) or (■1) at the stage of the starting materials or the production of the starting compounds of the general formula (lo), (II), (III) or (■“) as described below. The optical antipodes can be separated at any stage of the process.

一般式(I)の生じる化合物のその後のすべての変換反
応において、それらの反応をアルカリ性又は特に中性条
件下に行うのが好ましい。
In all subsequent transformation reactions of the resulting compounds of general formula (I), preference is given to carrying out these reactions under alkaline or especially neutral conditions.

本発明方法は、中間体として生成した化合物を出発原料
として使用し、残りの処理工程を実施する実施態様又は
工程を任意の段階で中断する実施態様を含む。更に出発
原料を誘導体の形で使用するか、又はその場で、場合に
より反応条件下で製造することができる。
The process of the present invention includes embodiments in which the compound produced as an intermediate is used as a starting material and the remaining process steps are carried out, or embodiments in which the process is interrupted at any stage. Furthermore, the starting materials can be used in the form of derivatives or prepared in situ, optionally under reaction conditions.

一般式(TI)及び(III)の出発化合物は、下記の
反応式Iに示したようにして製造することができる。
Starting compounds of general formulas (TI) and (III) can be prepared as shown in Scheme I below.

(以下余白) 反応式I 2 一般式(n)、(V)及び(Vl)の化合物において、
R4は基R3又は基Qである。
(Left below) Reaction formula I 2 In the compounds of general formulas (n), (V) and (Vl),
R4 is group R3 or group Q.

工楯上 一般式(V)のチオアゼチジノンは一般式(IV)の化
合物を基−3−C(−Z) CH2R4を導入する化合
物と反応させることによって得られる。
Thioazetidinones of the general formula (V) can be obtained by reacting a compound of the general formula (IV) with a compound that introduces a group -3-C(-Z)CH2R4.

一般式(IV)の出発原料において、Wば基−3−C(
−Z) −CH2R,4によって置換されうる離核性(
nucleofugal )基である。このような基W
は、例えばアシルオキシ基、スルホニル基ROSO2(
式中R6は有機基を表す)、又はアジド基又はハロゲン
である。アシルオキシ基W中のアシル基は、例えば有機
カルボン酸の基であり、例えば低級アルカノイル基、例
えばアセチル基又はプロピオニル基、場合により置換さ
れたベンゾイル基、例えばヘンジイル基若しくは2゜4
−ジニトロヘンジイル基、又はフェニル−低級アルカノ
イル基、例えばフェニルアセチル基を表す。スルボニル
基R8−302(式中R6ば、例えば場合によりヒドロ
キシ基で置換された低級アルキル基、例えばメチル基、
エチル基、tert −ブチル基、1−ヒドロキシ−2
−イル基、1−ヒドロキシ−2−メチルプロプ−2−イ
ル基若しくは2−ヒドロキシエチル基、ベンジル基又は
場合により置換されたフェニル基、例えばフェニル基、
4−ブロモフェニル基若しくは4−メチルフェニル基で
ある。ハロゲンWば、例えば臭素、沃素又は特に塩素で
ある。Wは、メチルスルホニル基、ter t−ブチル
スルホニル基又は2−ヒドロキシエチルスルホニル基、
アセトキシ基又は塩素であるのが好ましい。
In the starting material of general formula (IV), the W group-3-C (
-Z) Nucleofugal (
nucleofugal) group. Such a group W
is, for example, an acyloxy group, a sulfonyl group ROSO2 (
In the formula, R6 represents an organic group), an azide group, or a halogen. The acyl group in the acyloxy group W is, for example, an organic carboxylic acid group, such as a lower alkanoyl group, such as an acetyl group or a propionyl group, an optionally substituted benzoyl group, such as a hendiyl group or a 2.4
- represents a dinitrohendiyl group, or a phenyl-lower alkanoyl group, such as a phenylacetyl group. Sulbonyl group R8-302 (wherein R6 is a lower alkyl group optionally substituted with a hydroxy group, such as a methyl group,
Ethyl group, tert-butyl group, 1-hydroxy-2
-yl group, 1-hydroxy-2-methylprop-2-yl group or 2-hydroxyethyl group, benzyl group or optionally substituted phenyl group, such as phenyl group,
4-bromophenyl group or 4-methylphenyl group. Halogens are, for example, bromine, iodine or especially chlorine. W is a methylsulfonyl group, a tert-butylsulfonyl group, or a 2-hydroxyethylsulfonyl group,
Preferably, it is an acetoxy group or chlorine.

基−3C(=Z) CH2R4を導入する化合物は、例
えば式R4CH2C(=Z) SHの酸又はその塩、例
えばアルカリ金属塩、例えばナトリウム塩又はカリウム
塩である。置換は有機溶剤、例えば低級アルカノール、
例えばメタノール若しくはエタノール、低級アルカノン
、例えばアセトン、低級アルカンカルボン酸アミド、例
えばジメチルホルムアミド、環状エーテル、例えばテト
ラヒドロフラン若しくはジオキサン又は同様の不活性溶
剤中で実施することができる。反応は通常室温で実施さ
れるが、温度を高めるか又は低下して、例えば約0”C
〜約40°Cで実施することもできる。沃化水素酸又は
チオシアン化水素酸の塩、例えばアルカリ金属塩、例え
ばナトリウム塩を添加することによって反応を加速する
ことができる。
Compounds introducing the group -3C(=Z) CH2R4 are, for example, acids of the formula R4CH2C(=Z) SH or salts thereof, such as alkali metal salts, such as sodium or potassium salts. Substitution is carried out using organic solvents such as lower alkanols,
It can be carried out, for example, in methanol or ethanol, lower alkanones such as acetone, lower alkanecarboxylic acid amides such as dimethylformamide, cyclic ethers such as tetrahydrofuran or dioxane or similar inert solvents. The reaction is usually carried out at room temperature, but the temperature may be increased or decreased, e.g.
It can also be carried out at ~40°C. The reaction can be accelerated by adding salts of hydriodic acid or hydrothiocyanic acid, for example alkali metal salts, eg sodium salts.

導入される基−3−〇 (=Z) CI(2R4は基R
1によって優先的にトランス−位に向けられる。従って
、一般式(IV)の(33,4R)−及び(3S、43
)−配置の出発化合物を使用することができる。主とし
て、トランス−異性体が生成するが、場合により少量の
シス−異性体も生成する。シス−異性体を前記のような
富法により、特にクロマトグラフィー及び/又は結晶に
よって分離する。
Group to be introduced -3-〇 (=Z) CI (2R4 is group R
1 is preferentially directed to the trans-position. Therefore, (33,4R)- and (3S,43) of general formula (IV)
)-configuration starting compounds can be used. Primarily, the trans-isomer is formed, but occasionally also small amounts of the cis-isomer. The cis-isomers are separated by enrichment methods as described above, in particular by chromatography and/or crystallization.

一般式(IV)の適当な出発化合物は、例えばヨーロッ
パ特許出願第82113号明細書、ドイツ連邦共和国特
許出願公開第3013997号又は同第3224.05
5号公報から公知であるか、又ば類似の方法で製造する
ことができる。これらの化合物は、実施例に記載した方
法で製造することもできる。
Suitable starting compounds of the general formula (IV) are, for example, those described in European Patent Application No. 82113, German Patent Application No. 3013997 or German Patent Application No. 3224.05.
5 or can be produced by similar methods. These compounds can also be produced by the methods described in the Examples.

工程叉 R4が基R3を表す一般式(V)のアゼチジノンを不活
性溶剤、例えば一般式(I’)の化合物を形成するため
一般式(III)の化合物を反応させるために挙げた溶
剤中で一20℃〜80℃、好ましくは一20°C〜40
℃の温度で式R2’−COOHの酸又は特に、その反応
性誘導体、例えばエステル若しくは酸ハライド、例えば
酸クロリドで処理することによって一般式(nl)の出
発化合物を得る。酸ハライドを使用する場合には、操作
を酸結合剤、例えば第三級脂肪族アミン、例えばトリエ
チルアミン若しくはジイソプロピルエチルアミン(「ヒ
ューニソヒ(Iluenig)塩基」)、芳香族アミン
、例えばピリジン又は特にアルカリ金属又はアルカリ土
類金属の炭酸塩又は重炭酸塩、例えば炭酸カリウム又は
炭酸カルシウムの存在で実施するのが好ましい。
Processing process The azetidinone of general formula (V) in which R4 represents a radical R3 is prepared in an inert solvent, for example the solvent mentioned for reacting the compound of general formula (III) to form the compound of general formula (I'). -20°C to 80°C, preferably -20°C to 40°C
The starting compounds of the general formula (nl) are obtained by treatment with an acid of the formula R2'-COOH or in particular a reactive derivative thereof, such as an ester or an acid halide, such as an acid chloride, at a temperature of .degree. When acid halides are used, the operation is carried out with acid binders, such as tertiary aliphatic amines such as triethylamine or diisopropylethylamine ("Iluenig bases"), aromatic amines such as pyridine or especially alkali metals or alkali Preference is given to working in the presence of earth metal carbonates or bicarbonates, such as potassium carbonate or calcium carbonate.

」1[影 Xoが反応性エステル化ヒドロキシ基、特にハロゲン、
例えば塩素若しくは臭素、又は有機スルホニルオキシ基
、例えば低級アルカンスルホニルオキシ基、例えばメタ
ンスルボニルオキシ基、又はアレーンスルホニルオキシ
基、例えばベンゼン−スルホニルオキシ基若しくは4−
メチルベンゼン−スルホニルオキシ基を表す一般式(V
l)の化合物は、一般式(V)の化合物を弐〇HC−R
2’のグリオキシル酸化合物又はその適当な誘導体、例
えば水和物、ヘミ水和物又はヘミアセクール、例えば低
級アルカノール、例えばメタノール若しくはエタノール
とのへミアセクールと反応させ、得られる、Xoがヒド
ロキシ基を表す一般式(Vl)の化合物中のヒドロキシ
基を反応性エステル化ヒドロキシ基に変えることによっ
て製造する。
"1 [Shadow Xo is a reactive esterified hydroxy group, especially a halogen,
For example, chlorine or bromine, or organic sulfonyloxy groups, such as lower alkanesulfonyloxy groups, such as methanesulfonyloxy groups, or arenesulfonyloxy groups, such as benzene-sulfonyloxy groups or 4-
General formula (V
Compound l) is a compound of general formula (V)
2' glyoxylic acid compound or a suitable derivative thereof, such as a hydrate, hemihydrate or hemisecur, such as a lower alkanol such as methanol or ethanol, resulting in a general It is produced by changing the hydroxy group in the compound of formula (Vl) to a reactive esterified hydroxy group.

一般式(Vl)の化合物は、通常、2種の異性体〔〜C
H(R2’)間N−X、基に関して〕の混合物の形で得
られる。しかし、例えばクロマ1−グラフィーによって
その純粋な異性体を単離することもできる。
The compound of general formula (Vl) usually has two isomers [~C
H(R2') N-X, with respect to the group] is obtained in the form of a mixture. However, it is also possible to isolate the pure isomers, for example by chromatography.

一般式(V)の化合物中のラクタム環の窒素原子にグリ
オキシル酸エステル化合物を付加する反応は室温で、又
は必要に応じて加熱しながら、例えば約100°Cで、
実際の縮合剤の不存在で実施する。グリオキシル酸化合
物の水和物を使用する場合、生成する水を必要に応じて
蒸溜、例えば共沸蒸溜によって除去するか、又は適当な
脱水剤、例えばモレキュラーシーブを使用して除去する
The reaction of adding the glyoxylic acid ester compound to the nitrogen atom of the lactam ring in the compound of general formula (V) is carried out at room temperature or, if necessary, with heating, for example at about 100°C.
Performed in the absence of actual condensing agent. If a hydrate of a glyoxylic acid compound is used, the water formed is optionally removed by distillation, for example azeotropic distillation, or by using a suitable dehydrating agent, for example molecular sieves.

操作を適当な溶剤、例えばジオキサン、トルエン又はジ
メチルホルムアミド、又は溶剤混合物の存在で、必要に
応じて不活性ガス雰囲気、例えば窒素ガス雰囲気中で実
施するのが好ましい。
Preferably, the operation is carried out in the presence of a suitable solvent, such as dioxane, toluene or dimethylformamide, or a mixture of solvents, if necessary in an inert gas atmosphere, for example nitrogen gas.

一般式(Vl)の化合物において、ヒドロキシ基Xoの
反応性エステル化ヒドロキシ基X0への変換は、好まし
くは塩基性試薬、特に有機塩基性試薬、例えば脂肪族第
三級アミン、例えばトリエチルアミン若しくはジイソプ
ロピルアミン、又はピリジン型のへテロ環式塩基、例え
ばピリジン又はコリジンの存在で、適当なエステル化剤
、例えばハロゲン化チオニル、例えば塩化チオニル、オ
キシハロゲン化燐、特にオキシ塩化燐、ハロボスホニウ
ムハライド、例えばトリフェニルポスホニウムジブロミ
ド若しくはジクロリド、又は適当な有機スルホン酸ハラ
イド、例えばクロリドで処理することによって実施する
。操作を適当な溶剤、例えばジオキサン又はテトラヒド
ロフラン、又は溶剤混合物中で必要に応じて冷却しなが
ら、例えば約−30℃〜約30℃で、場合により不活性
ガス雰囲気、例えば窒素ガス雰囲気中で実施するのが好
ましい。
In the compounds of general formula (Vl), the conversion of the hydroxy group Xo into the reactive esterified hydroxy group X0 is preferably carried out using a basic reagent, especially an organic basic reagent, such as an aliphatic tertiary amine, such as triethylamine or diisopropylamine. , or in the presence of a heterocyclic base of the pyridine type, such as pyridine or collidine, suitable esterifying agents, such as thionyl halides, such as thionyl chloride, phosphorous oxyhalides, especially phosphorous oxychloride, halobosphonium halides, This is carried out, for example, by treatment with triphenylphosphonium dibromide or dichloride, or with a suitable organic sulfonic acid halide, such as chloride. The operation is carried out in a suitable solvent, such as dioxane or tetrahydrofuran, or a solvent mixture, with optional cooling, e.g. from about -30° C. to about 30° C., optionally in an inert gas atmosphere, e.g. nitrogen gas atmosphere. is preferable.

工程↓ 一般式(n)の出発原料は、一般式(VI)の化合物を
適当なホスフィン化合物、例えば1・り一低級アルキル
ホスフィン、例えばトリーn−ブチルホスフィン、又は
トリアリールホスフィン、例えばトリフェニルホスフィ
ン又は適当なホスファイト化合物、例えばトリー低級ア
ルキルポスファイト、例えばトリエチルホスファイト、
又はアルカリ金属ジー低級アルキルホスファ・イ1−1
例えばアルカリ金属ジエチルボスファイトで処理するこ
とによって得られる。
Step ↓ The starting material for general formula (n) is a compound of general formula (VI) which is combined with a suitable phosphine compound, such as a 1-di-lower alkylphosphine, such as tri-n-butylphosphine, or a triarylphosphine, such as triphenylphosphine. or a suitable phosphite compound, such as tri-lower alkyl phosphite, such as triethyl phosphite,
or alkali metal di-lower alkyl phosphatide 1-1
For example, it can be obtained by treatment with an alkali metal diethylbosphite.

上記の反応は、適当な不活性溶剤、例えば炭化水素、例
えばシクロヘキサン若しくはベンゼン、又はエーテル、
例えばジオキサン、又は溶剤混合物の存在で実施するの
が好ましい。反応性に応じて、操作を冷却しながら又は
温度を高めて、約=10℃〜+100℃、好ましくは約
20〜80°Cで及び/又は不活性ガス雰囲気、例えば
窒素ガス雰囲気中で実施するのが好ましい。酸化反応が
起こるのを防止するため、触媒量の酸化防止剤、例えば
ヒドロキノンを添加することができる。
The above reaction can be carried out in a suitable inert solvent, such as a hydrocarbon such as cyclohexane or benzene, or an ether.
Preferably, it is carried out, for example, in the presence of dioxane or a solvent mixture. Depending on the reactivity, the operation is carried out with cooling or at elevated temperature, from about 10° C. to +100° C., preferably from about 20 to 80° C., and/or in an inert gas atmosphere, for example a nitrogen gas atmosphere. is preferable. To prevent oxidation reactions from occurring, catalytic amounts of antioxidants, such as hydroquinone, can be added.

反応を通常、塩基性試薬、例えば有機塩基、例えばアミ
ン、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミン、ピリジン、ルチジン又は“ポリスチレン・ヒュー
ニッヒ塩基”、又は無機塩基、例えばアルカリ金属炭酸
塩、例えば炭酸ナトリウム又は炭酸カリウムの存在で実
施し、初めに生成する一般式(ITa): cJ下全余 白式中X“はホスホノ基又は陰イオン(基X0の定義に
応じて、例えば塩素イオンである)と−緒ニホスホニオ
基を表す〕のホスホニウム塩を一般式(n)のイリド出
発原料に変える。し、かじ、塩基の不存在で反応を実施
し、一般式(Ila)の化合物、特に対応するホスホノ
化合物を単離し、該化合物を一般式(T)の目的生成物
の製造中にその場で一般式(IT)の出発原料に変える
こともできる。
The reaction is usually carried out in the presence of a basic reagent, such as an organic base, such as an amine, such as triethylamine, diisopropylethylamine, pyridine, lutidine or "polystyrene Hunig's base", or an inorganic base, such as an alkali metal carbonate, such as sodium carbonate or potassium carbonate. The general formula (ITa) initially produced is: cJ In the entire blank formula, X'' represents a phosphono group or an anion (depending on the definition of the group X0, for example, a chloride ion) and a phosphonio group. ] into the ylide starting material of general formula (n). Then, the reaction is carried out in the absence of a base and the compound of general formula (Ila), in particular the corresponding phosphono compound, is isolated and the compound can also be converted into the starting material of the general formula (IT) in situ during the preparation of the desired product of the general formula (T).

工程j 更に、Mが金属陽イオンを表す一般式(■)のメルカプ
チドを基R4−CH2C(=Z)−を導入するアシル化
剤で処理することによって一般式(II)の化合物を得
ることができる。
Step j Furthermore, a compound of general formula (II) can be obtained by treating the mercaptide of general formula (■) in which M represents a metal cation with an acylating agent that introduces a group R4-CH2C(=Z)-. can.

一般式(■)の出発原料において、金属陽イオンMは、
例えば弐M十又はM++/2(式中M+は特に銀イオン
を表し、M ”は特に、適当な遷移金属、例えば銅、鉛
又は水銀の2価の陽イオンを表す)の陽イオンである。
In the starting material of general formula (■), the metal cation M is
For example, cations of 2M or M++/2, in which M+ especially represents a silver ion and M'' especially a divalent cation of a suitable transition metal, such as copper, lead or mercury.

基R4−C)(z C(−Z)−を導入するアシル化剤
は、例えば酸R4CH2C(=Z)−OH又は特にその
反応性官能性誘導体、例えば酸ハロゲン化物、例えば酸
クロリド若しくはプロミド、又はそのアジド又は無水物
である。
Acylating agents introducing the group R4-C)(z C(-Z)- are, for example, the acid R4CH2C(=Z)-OH or especially its reactive functional derivatives, such as acid halides, such as acid chlorides or bromides, or its azide or anhydride.

式R4CH2C(=Z) OHの酸の反応性官能性誘導
体、例えば酸クロリドを使用する場合には、アシル化を
不活性溶剤、例えば塩素化炭化水素、例えば塩化メチレ
ン、又はエーテル、例えばジエチルエーテル若しくはジ
オキサン中で室温で又は加熱又は冷却しながら、例えば
約−50℃〜約+60℃、特に約−30℃〜約+20℃
の温度範囲で実施する。
When using reactive functional derivatives of acids of the formula R4CH2C(=Z)OH, such as acid chlorides, the acylation is carried out in an inert solvent, such as a chlorinated hydrocarbon, such as methylene chloride, or an ether, such as diethyl ether or in dioxane at room temperature or with heating or cooling, for example from about -50°C to about +60°C, especially from about -30°C to about +20°C.
Conducted in a temperature range of

一般式(■)の出発化合物は、例えば、一般式(■): のアゼチジノンをチオー低級アルカンカルボン酸、例え
ばチオ酢酸又はI・リフェニルメチルメルカブタンのア
ルカリ金属塩、例えばすトリウム塩と反応させることに
よって一般式(■); 〔式中W′はトリフェニルメチルチオ基又は低級アルカ
ノイルチオ基、例えばアセチルチオ基を表す〕の化合物
に変え、この化合物を反応工程3及び4に記載した方法
と同様にして一般式(■):の化合物に変え、これを適
当な溶剤、例えばジエチルエーテル又はメタノール中で
塩基、例えばピリジン又はトリーn−ブチルアミンの存
在で、式MA(式中Mは前記のものを表し、特に銀イオ
ンを表し、Aは選択した溶剤中で塩MAの熔解を促進す
る通常の陰イオン、例えば硝酸イオン、酢酸イオン又は
弗化物イオンを表す)の塩と反応させることによって製
造される。
Starting compounds of general formula (■) can be prepared, for example, by reacting an azetidinone of general formula (■) with a thio-lower alkanecarboxylic acid, such as thioacetic acid, or an alkali metal salt, such as the storium salt, of I.riphenylmethylmercabutan. [In the formula, W' represents a triphenylmethylthio group or a lower alkanoylthio group, such as an acetylthio group], and this compound was treated in the same manner as described in reaction steps 3 and 4. to give a compound of the general formula (■): which is prepared in a suitable solvent such as diethyl ether or methanol in the presence of a base such as pyridine or tri-n-butylamine to a compound of formula MA (where M represents , in particular silver ions, A is prepared by reacting with a salt of a customary anion, such as nitrate, acetate or fluoride, which promotes the dissolution of the salt MA in the chosen solvent.

一般式N)の目的物質を製造する閉環反応に一般式(U
)のイリドを直接することができる。
In the ring-closing reaction to produce the target substance of the general formula (N),
) can be used directly.

しかし、R1が保護されたヒドロキシ基、例えば加水分
解により容易に分解されうる保護されたヒドロキシ基、
例えばトリー置換シリルオキシ基で置換された低級アル
キル基を表す一般式(It)の化合物中のヒドロキシ保
護基をまず除去し、R1がヒドロキシ基で置換された低
級アルキル基を表す一般式(II)の生成する化合物を
閉環反応に使用することもできる。
However, if R1 is a protected hydroxy group, e.g. a protected hydroxy group that can be easily decomposed by hydrolysis,
For example, the hydroxy protecting group in the compound of general formula (It) representing a lower alkyl group substituted with a tri-substituted silyloxy group is first removed, and then the hydroxy protecting group in the compound of general formula (II) representing a lower alkyl group substituted with a hydroxy group is removed. The resulting compounds can also be used in ring closure reactions.

Xが基−8−を表ず一般式(■“)の出発化合物は公知
(例えば、ベルギー特許第898382号明細書及びテ
トラヘドロン・レタース(TetrahedronLe
tters ) 、1983.1631〜1634 )
であるか又は類似の方法で製造することができる。Xが
スルホニル基−302−を表ず一般式(■°)の化合物
は、一般式(X): 〔式中R2及びR3は一般式(I)の下に挙げた定義を
有し、R2′は保護されたカルボキシ基を表す〕の化合
物を不活性溶剤又は溶剤混合物、例えばハロゲン化炭化
水素、例えはクロロホルム、エーテル又は芳香族炭化水
素、例えばベンゼン中で約り℃〜約60°Cの温度で脂
肪族又は芳香族過カルボン酸、例えば過酢酸、m−クロ
ロ過安息香酸又はモノ過フタル酸と反応させることによ
って製造される。
Starting compounds of general formula (■") in which X does not represent a group -8- are known (for example, Belgian Patent No. 898382 and Tetrahedron
tters), 1983.1631-1634)
or can be produced in a similar manner. A compound of the general formula (■°) in which X does not represent a sulfonyl group -302- is a compound of the general formula (X): [wherein R2 and R3 have the definitions listed under the general formula (I), and R2' represents a protected carboxy group] in an inert solvent or solvent mixture, such as a halogenated hydrocarbon, such as chloroform, an ether, or an aromatic hydrocarbon, such as benzene, at a temperature of from about 60°C to about 60°C. peracetic acid, m-chloroperbenzoic acid or monoperphthalic acid.

一般式(l゛)、(II)、(m)、(■“)及び(I
V)〜(X)の出発原料及び中間体中に存在する官能基
は、一般式(1)の目的生成物に関して記載したのと同
様の方法で常用の保護基で保護することができる。
General formulas (l゛), (II), (m), (■“) and (I
The functional groups present in the starting materials and intermediates of V) to (X) can be protected with customary protecting groups in a manner analogous to that described for the desired products of general formula (1).

一般式(Tl)〜(X)の化合物において、官能基を保
護された官能基に変えるか又は保護された官能基を遊離
基又は異なる保護基に変えることができる。更に、一般
式(II)、(m)、(■“)、(V)及び(Vl)の
化合物において、基R3を異なる基R3に変えることが
できる。これらの変換反応を行う際に、分子中に存在す
る別の置換基を考慮して、一般式(1)の化合物への対
応する変換に示したものと同じ方法を使用することがで
きる。
In the compounds of general formulas (Tl) to (X), the functional groups can be changed into protected functional groups or the protected functional groups can be changed into free radicals or different protecting groups. Furthermore, in the compounds of general formulas (II), (m), (■"), (V) and (Vl), the group R3 can be changed to a different group R3. When carrying out these conversion reactions, the molecule Taking into account the further substituents present therein, the same methods as indicated for the corresponding transformation to compounds of general formula (1) can be used.

一般式(Io)、(II>、(TIT)及び(V)〜(
■)の化合物の製造のため反応式lに記載した方法及び
光学的に不活性な化合物を含む一般式(1)の目的生成
物の製造のため示した方法を実施し、生じるジアステレ
オマー混合物又はラセミ体から前記のように所望の任意
の処理工程で本発明による光学活性化合物を単離するこ
ともできる。
General formulas (Io), (II>, (TIT) and (V) - (
The diastereomer mixture produced by carrying out the method described in reaction formula 1 for the production of the compound of Alternatively, the optically active compound according to the invention can be isolated from the racemate by any desired processing steps as described above.

本発明は更に、新規出発化合物及び本発明方法により得
られる新規中間体、例えば一般式(IT)、(1)、(
V)〜(■)、(IX)及び(X)の化合物及びこれら
の製造方法に関する。
The present invention further provides new starting compounds and new intermediates obtainable by the process of the present invention, such as general formulas (IT), (1), (
V) - (■), (IX) and (X) and their production methods.

使用する出発原料及び選択する反応条件は、特に好まし
いとして既に記載した化合物を生じるものが好ましい。
The starting materials used and the reaction conditions chosen are preferably those which give rise to the compounds already mentioned as particularly preferred.

一般式(I)の化合物は、有用な薬理作用を有するか、
又は有用な薬理作用を有する化合物を製造する中間体と
して使用することができる。R2がヒドロキシ−低級ア
ルキル基を表し、R2がカルボキシ基又は生理学的条件
下に分解しうるエステル化カルボキシ基を表し、R3が
アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ低級アルキルアミ
ノ基、又は前記のように置換されたメチレンアミノ基を
表す一般式(1)の化合物及び塩形成基を有する該化合
物の薬学的に許容しろる塩は、抗菌活性を有する。例え
ば、これらの化合物は、例えば、試験管内でダラム陽性
及びグラム陰性球菌、例えば黄色ブドウ球菌(Stap
hylococcus aureus ) 、化膿レン
サ球菌(St、reptococcus pyoBen
es) 、、肺炎レンサ球菌(Streptococc
us pneumoniae) 、ストレプトフッカス
・フェカーリス(Streptococcusfaec
alis) 、髄膜炎菌(N、eisseria me
njnHitidis)及び淋菌(Neisseria
 gonorr)+oeae )に対して、また、腸内
細菌、例えば大腸菌(lEsc’nerichiaco
li) 、、プロテウス・ミラビリス(proteus
mirabilis )及び肺炎桿菌(Klebsie
llapneumoniae) 、インフルエンザ菌(
Haemoph i Iusinfluenzae)及
び緑膿菌(Pseudomonasaeruginos
a)並びに嫌気性菌、例えばバタテロイデス種(Bac
teroides sp、 )及びクロストリジウム種
(Clostridium sp、 )に対して約0.
02〜64μg/m+の最小濃度で有効である。生体内
では、例えば黄色ブドウ球菌、大腸菌又は化膿レンサ球
菌によるマウスの全身感染の場合に、皮下投与又は経口
投与で、約0.3〜30 mg/ kgのED50が得
られる。
Does the compound of general formula (I) have a useful pharmacological action?
Alternatively, it can be used as an intermediate for producing compounds with useful pharmacological effects. R2 represents a hydroxy-lower alkyl group, R2 represents a carboxy group or an esterified carboxy group decomposable under physiological conditions, and R3 represents an amino group, a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, or as described above. Compounds of general formula (1) representing a methylene amino group substituted with and pharmaceutically acceptable salts of the compounds having a salt-forming group have antibacterial activity. For example, these compounds can be used, for example, in vitro to infect Durham-positive and Gram-negative cocci, such as Staphylococcus aureus (Staphylococcus aureus).
hylococcus aureus), Streptococcus pyogenes (St, reptococcus pyoBen)
es), Streptococcus pneumoniae
us pneumoniae), Streptococcus faecalis (Streptococcus faecalis)
alis), meningococcus (N, eisseria me
njnHitidis) and Neisseria gonorrhoeae (Neisseria
gonorr) + oeae ), and also enterobacteria, such as Escherichia coli (lEsc'nerichiaco
li) , Proteus mirabilis
mirabilis) and Klebsiella pneumoniae (Klebsie)
llapneumoniae), Haemophilus influenzae (
Haemoph i Iusinfluenzae) and Pseudomonas aeruginos
a) as well as anaerobes, such as Bactheroides sp.
Clostridium sp.) and Clostridium sp.
Effective at a minimum concentration of 02-64 μg/m+. In vivo, for example in the case of systemic infection of mice with Staphylococcus aureus, Escherichia coli or Streptococcus pyogenes, an ED50 of approximately 0.3-30 mg/kg is obtained by subcutaneous or oral administration.

即ち、(5R,6S)−2−アミノメチル−6−((1
’R)−1−ヒドロキシエチル〕−2−ベネム−3−カ
ルボン酸(化合物A)及び(5R56S)−2−アミツ
メデル−6−ヒドロキシメチル−2−ベネム−3−カル
ボン酸(化合物C)は、米国特許第4,272,437
号明細書から公知のラセミ体(1’R,5R,6s+1
 ’S、 5S、 6R)−2−アミノメチル−6−(
1″−ヒドロキシエチル)−2−ペネム−3−カルボン
酸(化合物B)に比べて、下記の優れた活性を示す。:
(以下余白) 第」Jし 試験管内における一般式(1)の化合物及び
公知対照化合物Bの抗生活性 第1表(続き) 第1表(続き) 本発明による光学活性化合物Aは、試験した菌株すべて
において、対応する公知ラセミ体(化合物B)と比較し
て2〜4倍高い′活性を示す。本発明による光学活性化
合物Cは試験したすべての菌株において著しく一貫した
活性を示し、公知のラセミ同族体(化合物B)より、特
にグラム陰性領域において2〜8倍優れている。
That is, (5R,6S)-2-aminomethyl-6-((1
'R)-1-hydroxyethyl]-2-benem-3-carboxylic acid (Compound A) and (5R56S)-2-amitumedel-6-hydroxymethyl-2-benem-3-carboxylic acid (Compound C) are U.S. Patent No. 4,272,437
Racemic body known from the specification (1'R, 5R, 6s+1
'S, 5S, 6R)-2-aminomethyl-6-(
Compared to 1″-hydroxyethyl)-2-penem-3-carboxylic acid (compound B), it exhibits the following superior activities:
(Leaving space below) Antibiotic activity of the compound of general formula (1) and known control compound B in vitro Table 1 (continued) Table 1 (continued) All exhibit 2-4 times higher 'activity compared to the corresponding known racemate (compound B). The optically active compound C according to the invention shows a remarkably consistent activity in all tested strains and is 2 to 8 times better than the known racemic homolog (compound B), especially in the Gram-negative region.

ヒトの腎臓からの酵素デヒドロペプチダーゼに対する化
合物A、B及びCの安定性は下記のとおりである(半減
期t ’Aで示す)。
The stability of compounds A, B and C against the enzyme dehydropeptidase from human kidney is as follows (denoted by half-life t'A).

tV2(時間) 化合物A 6.75 化合物8 2.20 化合物C5,50 本発明による化合物A及びCば、意外にも、公知のラセ
ミ体(化合物B)と比べて、腎臓デヒドロペプチダーゼ
の作用下に著しく大きい半減期を有する。
tV2 (hours) Compound A 6.75 Compound 8 2.20 Compound C 5,50 Compounds A and C according to the invention surprisingly exhibit lower resistance under the action of renal dehydropeptidase than the known racemate (compound B). It has a significantly longer half-life.

従って、新規化合物は、感染の治療のため、経口投与又
は非経口投与可能な抗菌性抗生物質として、例えば相応
する医薬製剤の形で使用することができる。
The novel compounds can therefore be used as orally or parenterally administrable antibacterial antibiotics for the treatment of infections, for example in the form of corresponding pharmaceutical preparations.

存在する官能基の少なくとも1個が保護された形で存在
する一般式(I)の化合物(保護されたカルボキシ基は
生理学的条件下に分解されうるエステルカルボキシ基以
外のものである)は、一般式(I)の前記の薬理活性化
合物を製造するための中間体として使用することができ
る。
Compounds of general formula (I) in which at least one of the functional groups present is present in protected form (the protected carboxy group is other than an ester carboxy group which can be decomposed under physiological conditions) are generally It can be used as an intermediate for the preparation of the abovementioned pharmacologically active compounds of formula (I).

本発明の薬学的に許容しうる化合物は、例えば有効量の
活性成分を経口投与又は非経口投与に適当な、即ち、筋
肉内、皮下又は腹腔内投与に適当な、無機又は有機の固
体又は液体の、医薬に許容しうる賦形剤と一緒に又は混
合して含む医薬製剤の製造に使用することができる。
The pharmaceutically acceptable compounds of the invention may be, for example, inorganic or organic solids or liquids suitable for oral or parenteral administration, i.e. intramuscular, subcutaneous or intraperitoneal administration of an effective amount of the active ingredient. It can be used in the preparation of pharmaceutical formulations containing, together with or in admixture with, pharmaceutically acceptable excipients.

経口投与するには、有効成分を希釈剤、例えば乳糖、ブ
ドウ糖、蔗糖、マンニット、ソルビ・ノド、セルロース
及び/又はグリシン及び滑沢剤、例えばシリカ、タルク
、ステアリン酸又はその塩、例えばステアリン酸マグネ
シウム又はカルシウム、及び/又はポリエチレングリコ
ールを含む錠剤又はゼラチンカプセルを使用する。錠剤
は更に、結合剤、例えば珪酸アルミニウムマグ筈シウム
、澱粉、例えばトウモロコシ澱粉、小麦澱粉、米澱粉又
はくず澱粉、ゼラチン、トラガント、メチル七ロース、
ナトリウムカルボキシメチルセルロース及び/又はポリ
ビニルピロリドン、及び必要に応じて、崩壊剤、例えば
澱粉、寒天、アルギン酸又はその塩、例えばアルギン酸
ナトリウム、及び/又は発泡混合物又は吸着剤、着色剤
、香料又は甘味料を含む。
For oral administration, the active ingredient may be combined with diluents such as lactose, glucose, sucrose, mannitol, sorbitol, cellulose and/or glycine and lubricants such as silica, talc, stearic acid or its salts, such as stearic acid. Tablets or gelatin capsules containing magnesium or calcium and/or polyethylene glycol are used. The tablets may further contain binders such as aluminum magnesium silicate, starches such as corn starch, wheat starch, rice starch or waste starch, gelatin, tragacanth, methyl heptulose,
sodium carboxymethylcellulose and/or polyvinylpyrrolidone, and optionally disintegrants, such as starch, agar, alginic acid or its salts, such as sodium alginate, and/or foaming mixtures or adsorbents, colorants, flavors or sweeteners. .

非経口投与には、特に輸注溶液、好ましくば等張水溶液
又は懸濁液が適当であり、これらは使用前に、例えば有
効成分を単独で又は賦形剤、例えばマンニットと一緒に
含む凍結乾燥製剤から調製することができる。このよう
な製剤は滅菌されていてもよく及び/又は助剤、例えば
保存剤、安定剤、湿潤剤及び/又は乳化剤、可溶化剤、
浸透圧調整塩及び/又は緩衝剤を含んでいてよい。
For parenteral administration, infusion solutions, preferably isotonic aqueous solutions or suspensions, are particularly suitable, which can be prepared, for example, by lyophilization before use, containing the active ingredient alone or together with excipients, such as mannitol. It can be prepared from formulations. Such formulations may be sterile and/or contain auxiliary agents such as preservatives, stabilizers, wetting agents and/or emulsifiers, solubilizers,
Osmotic pressure regulating salts and/or buffers may be included.

必要に応じて、他の薬学的に有用な物質を含む本発明の
医薬製剤は、自体公知の方法で、例えば常用の混合、溶
解又は凍結乾燥工程によって製造され、有効成分を約0
.1%〜100%、特に約1%〜約50%、又は凍結乾
燥物の場合には100%まで含む。
The pharmaceutical preparations according to the invention, which optionally contain other pharmaceutically useful substances, are prepared in a manner known per se, for example by conventional mixing, dissolving or lyophilizing processes, containing about 0% of the active ingredient.
.. It comprises from 1% to 100%, especially from about 1% to about 50%, or in the case of a lyophilizate up to 100%.

感染の種類及び感染した生体の状態に応じて、体重約7
0kgの温血動物(ヒト又は動物)の治療に使用する1
日の投与量は125■〜約5gである。
Depending on the type of infection and the condition of the infected organism, it weighs approximately 7
1 for use in the treatment of 0 kg warm-blooded animals (human or animal)
The daily dose is from 125 g to about 5 g.

下記の実施例は本発明を説明するだめのものである。温
度は摂氏で示す。
The following examples are merely illustrative of the invention. Temperatures are given in degrees Celsius.

実施例において、下記の略記号を使用する。In the examples, the following abbreviations are used:

TLCn薄y留クロマりグラフィー ■R:赤外線スペクトル UV:紫外線スペクトル NMR:核磁気共鳴スペクトル DBU=1,5−ジアザビシクロC5,4,0)ウンデ
ク−5−エン THF:テトラヒドロフラン DMF ニジメチルホルムアミド 無水トルエン200m1中の2−C(3s、4R)3 
(tert−ブチルジメチルシリルオキシメチル)−4
−(アリルオキシカルボニルアミノアセチルチオ)−2
−オキソ−アゼチジン−1−イル〕−2−1−リフェニ
ルホスホラニリデン酢酸アリルエステル3.05gの溶
液をアルゴン雰囲気下に還流温度で90分攪拌する。次
に、溶剤を蒸発により濃縮し、粗製生成物をシリカゲル
上でのクロマトグラフィーにより精製する(ン容MIt
斉1. l−ルーエン/酢酸エチル9:1)。I R(
CH2CI2 ) : 3435.1785.1710
.1580cm″1゜出発原料は、下記のようにして製
造する。
TLCn thin y distillation chromatography ■R: Infrared spectrum UV: Ultraviolet spectrum NMR: Nuclear magnetic resonance spectrum DBU = 1,5-diazabicycloC5,4,0) undec-5-ene THF: Tetrahydrofuran DMF Nidimethylformamide Anhydrous toluene 200ml 2-C(3s,4R)3 in
(tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-4
-(allyloxycarbonylaminoacetylthio)-2
A solution of 3.05 g of -oxo-azetidin-1-yl]-2-1-liphenylphosphoranylidene acetic acid allyl ester is stirred at reflux temperature for 90 minutes under an argon atmosphere. The solvent is then concentrated by evaporation and the crude product is purified by chromatography on silica gel (in MIt
Qi 1. l-ruene/ethyl acetate 9:1). I R(
CH2CI2): 3435.1785.1710
.. A 1580 cm″1° starting material is produced as follows.

メタノール70m1中に0℃でトリフェニルメチルメル
カプタン12.5 gを懸濁し、油中の55%水素化ナ
トリウム懸濁液の合計2.2gを10分かけて少しずつ
添加する。次に、アセトン70m1及び水70m1中の
(3S、4 R) −3−(tert−ブチルジメチル
シリルオキシメチル)−4−メチルスルホニルアゼチジ
ン−2−オン(ヨーロッパ特許出願第82113号明細
書)11.1gのエマルジョンを30分かけて滴加する
。0℃で30分及び室温で1時間攪拌した後、反応混合
物を回転蒸発器中で濃縮し、これに塩化メチレンを添加
し、水相を分離する。有機溶液を食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥する。濃縮後、粗製の標題の化合物
をシリカゲル上でのクロマトグラフィーにより精製する
(溶離剤、トルエン/酢酸エチル19 : 1) 、T
LC()ルエン/酢酸エチル19: 1) : Rf 
=0.64、TR(塩化メチレン)−3390,176
0,1117,835cm−”。
12.5 g of triphenylmethyl mercaptan are suspended in 70 ml of methanol at 0° C. and a total of 2.2 g of a 55% sodium hydride suspension in oil are added portionwise over 10 minutes. Then (3S,4R)-3-(tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-4-methylsulfonylazetidin-2-one (European Patent Application No. 82113) 11 in 70 ml acetone and 70 ml water Add .1 g of emulsion dropwise over 30 minutes. After stirring for 30 minutes at 0° C. and 1 hour at room temperature, the reaction mixture is concentrated in a rotary evaporator, to which methylene chloride is added and the aqueous phase is separated off. Wash the organic solution with brine and dry over sodium sulfate. After concentration, the crude title compound is purified by chromatography on silica gel (eluent toluene/ethyl acetate 19:1), T
LC() toluene/ethyl acetate 19: 1): Rf
=0.64, TR (methylene chloride)-3390,176
0,1117,835 cm-”.

モレキュラーシーブ(4人)27gを無水トルエン17
0m1中の(3S、4R) −3−(tert −ブチ
ルジメチルシリルオキシメチル)−4−)リフェニルメ
チルチオーアゼチジン−2−オン8.4g及びグリオキ
シル酸アリルエステルエチルへミアセタール8.23 
gに添加し、全体を55℃で10時間攪拌する。シ戸遇
し、回転蒸発器中で減圧下に濃縮した後、粗製の標題の
化合物をシリカゲル上でのクロマトグラフィーにより精
製する(溶離剤、トルエン/酢酸エチル95:5)。T
 L C(シリカゲル、トルエン/酢酸エチ′ル10 
: 1):Rf=0.37及び0.27、I R(CH
2C12) :3520.1760.1745cm−”
Molecular sieve (4 people) 27g to anhydrous toluene 17g
8.4 g of (3S,4R)-3-(tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-4-)liphenylmethylthioazetidin-2-one and 8.23 g of glyoxylic acid allyl ester ethyl hemiacetal in 0 ml
g and the whole is stirred at 55° C. for 10 hours. After washing and concentrating under reduced pressure in a rotary evaporator, the crude title compound is purified by chromatography on silica gel (eluent toluene/ethyl acetate 95:5). T
L C (silica gel, toluene/ethyl acetate 10
: 1): Rf=0.37 and 0.27, I R(CH
2C12) :3520.1760.1745cm-”
.

テトラヒドロフラン5n+1中のl−((33,4R)
 3 (tert−ブチルジメチルシリルオキシメチル
)−4−)リフェニルメチル千オー2−オキソ−アゼチ
ジン−1−イル〕−2−ヒドロキシ酢酸アリルエステル
604■の溶液に一15°Cで攪拌しながら5分かけて
塩化チオニル80μe及びピリジン88μlを順次添加
する。次に、白色懸濁液を一10℃で1時間攪拌し、ハ
イフロー(Hyflo )上で1戸通ずる。残渣をトル
エンで洗浄した後、回転蒸発器中で濃縮を実施する。残
渣をジオキサン3mlに溶かし、これにトリフェニルホ
スフィン293■及び2.6−ルチジン0.13m1を
添加し、全体を115℃の浴温で2時間攪拌する。混合
物をハイフロー上で1濾過し、次いで、残渣をトルエン
で洗浄する。合したf′P液を蒸発により濃縮する。残
渣をシリカゲル上でクロマトグラフィー処理すると、純
粋な生成物が生しる(溶離剤、トルエン/酢酸エチル9
5:5)。TLC(シリカゲル、トルエン/酢酸エチル
1:1):Rf=0.1.8、Ill (CH2CI2
 ) : 1745.1605cm−12((3S、4
R) 3 (tert−ブチルジメチルシリルオキシメ
チル)−4,−(トリフェニルメチル千オー2−オキソ
−アゼチジン−1−イル3−2−1−リフェニルホスホ
ラニリデン酢酸アリルエステル7.5gをエーテル87
m1中に導入し、これに室温で0.5M硝酸銀水溶液7
0m1を添加す9 る。次いで、トリブチルアミン3.6ml、トリフオロ
酢酸0.18m1及びエーテル25m1の混合物をン匈
加し、反応混合物を更に20分攪拌する。固体物質を吸
引濾過し、エーテル、水及びエーテルで洗浄する。精製
するため、固体物質をエーテル40m1及び水40m1
中のスラリーにし、吸引濾過し、乾燥する。I R(C
H2C12) : 1’760.1620cm−’。
l-((33,4R) in tetrahydrofuran 5n+1
3 (tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-4-)riphenylmethyl 10-2-oxo-azetidin-1-yl]-2-hydroxyacetic acid allyl ester 604μ 80 μe of thionyl chloride and 88 μl of pyridine are added sequentially over minutes. The white suspension is then stirred at -10° C. for 1 hour and passed on a Hyflo. After washing the residue with toluene, concentration is carried out in a rotary evaporator. The residue was dissolved in 3 ml of dioxane, 293 ml of triphenylphosphine and 0.13 ml of 2,6-lutidine were added thereto, and the whole was stirred at a bath temperature of 115 DEG C. for 2 hours. The mixture is filtered once on Hyflow and the residue is then washed with toluene. The combined f'P liquids are concentrated by evaporation. Chromatography of the residue on silica gel gives the pure product (eluent, toluene/ethyl acetate 9
5:5). TLC (silica gel, toluene/ethyl acetate 1:1): Rf=0.1.8, Ill (CH2CI2
): 1745.1605cm-12((3S, 4
R) 7.5 g of 3 (tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-4,-(triphenylmethyl 10-2-oxo-azetidin-1-yl 3-2-1-riphenylphosphoranylidene acetic acid allyl ester) was dissolved in ether. 87
ml, and add 0.5M silver nitrate aqueous solution 7 at room temperature.
Add 0ml. A mixture of 3.6 ml of tributylamine, 0.18 ml of trifluoroacetic acid and 25 ml of ether is then added and the reaction mixture is stirred for a further 20 minutes. The solid material is filtered off with suction and washed with ether, water and ether. For purification, the solid substance was mixed with 40 ml of ether and 40 ml of water.
Make a slurry, filter it with suction, and dry it. I R(C
H2C12): 1'760.1620 cm-'.

無水塩化メチレン20m1中の2−((3S、4R)3
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシメチル)−
4−メルカプI・−2−オキソ−アゼチジン−1−イル
)−1−)リフェニルホスポラニリデン酢酸アリルエス
テルの銀塩5gにピリジン1.7mlを加え、次に0℃
でアリルオキシカルボニルアミノアセチルクロリド1.
87 g及び無水塩化メチレン10m1の混合物を滴加
する。30分攪拌00 した後、固体物質をハイフロー上で)戸去し、1戸液を
N a It C03水溶液、次に食塩水で洗浄する。
2-((3S,4R)3 in 20 ml of anhydrous methylene chloride
-(tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-
1.7 ml of pyridine was added to 5 g of silver salt of 4-mercap I.-2-oxo-azetidin-1-yl)-1-)riphenylphosporanilidene acetic acid allyl ester, and then heated at 0°C.
Allyloxycarbonylaminoacetyl chloride 1.
A mixture of 87 g and 10 ml of anhydrous methylene chloride is added dropwise. After stirring for 30 minutes, the solid material is removed (on high flow) and the solution is washed with an aqueous solution of Na It C03 and then with brine.

Na2 SO4上で乾燥した後、真空中で濃縮する。残
渣をシリカゲル上でのクロマトグラフィーにより精製す
る(溶離剤、トルエン/酢酸エチル4;1)。TR(C
H2C12) : 3435.1750.1735.1
695.1615cm””。
After drying over Na2SO4, concentrate in vacuo. The residue is purified by chromatography on silica gel (eluent toluene/ethyl acetate 4:1). TR(C
H2C12): 3435.1750.1735.1
695.1615cm"".

出発原料であるアリルオキシカルボニルアミノアセチル
クロリドは下記のように製造することができる。
The starting material, allyloxycarbonylaminoacetyl chloride, can be produced as follows.

ea)ア軍ルオキシカルボニルアLJIJE。ea) Armyloxycarbonyla LJIJE.

クロロギ酸アリルエステル12m1を水20m1及び5
 N Na0ll溶液44m1中のグリシン7.51g
の溶液にQ ’Cで滴加する。次いで、懸濁液を室温で
16時間攪拌する。不溶性物質を)濾過により除去した
後、5f液を水100m1で希釈し、CH2Cl2で2
回洗浄する。水相を4 N 1rclでpH2に調節し
、CI(2chで2回抽出する。合した有機抽出液を食
塩水で1回洗浄し、MgSO4上で乾燥し、蒸発により
濃縮すると、標題の化合物の白色結晶が生じる。
12 ml of allyl chloroformate and 20 ml of water and 5
7.51 g of glycine in 44 ml of N Na0ll solution
Add dropwise to the solution at Q'C. The suspension is then stirred for 16 hours at room temperature. After removing insoluble substances by filtration, the 5f solution was diluted with 100 ml of water and diluted with 2 ml of CH2Cl2.
Wash twice. The aqueous phase is adjusted to pH 2 with 4 N 1 rcl and extracted twice with CI (2 ch. The combined organic extracts are washed once with brine, dried over MgSO4 and concentrated by evaporation to give the title compound. White crystals form.

01 CH2CI2中でのT R: 3450.1715cm
−’。
TR in 01 CH2CI2: 3450.1715cm
-'.

eb)アリルオキシカルボニルアミノアセチルクロリド アリルオキシカルボニルアミノ酢酸3.18 gに0℃
で塩化チオニル5.7mlを加える。混合物を保護ガス
下に2時間攪拌する。次に、混合物を無水トルエンで希
釈し、回転蒸発器中で濃縮する。
eb) Allyloxycarbonylaminoacetyl chloride 3.18 g of allyloxycarbonylaminoacetic acid at 0°C
Add 5.7 ml of thionyl chloride. The mixture is stirred for 2 hours under protective gas. The mixture is then diluted with anhydrous toluene and concentrated in a rotary evaporator.

I R(CH2CI2 ) : 3435.1800.
1725cm−1゜無水TIIF 50ml中の(5R
,6S)−2−(アリルオキシカルボニルアミノメチル
)−6−(tert−ブチルジメチルシリルオキシメチ
ル)−2−ペネム−3−カルボン酸アリルエステル1.
79gの溶液に酢酸1.83m1及びTHF中の0.I
Nテトラブチルアンモニウムフルオリド溶液80m1を
、順次添加する。4.5時間攪拌した後、混合物をCH
2Cl21.41!で希釈し、200m1の飽和Na1
lCOi水溶液で洗浄する。次いで、有機相を食塩水で
洗02 浄し、MBSO,上で乾燥し、I濾過後、蒸発により濃
縮する。和製生成物をシリカゲル上でのクロマトグラフ
ィーにより精製する(l容′#li斉L)ルエン/酢酸
エチル1:1から無水酢酸エチルまで)。
IR(CH2CI2): 3435.1800.
1725cm-1° (5R
, 6S)-2-(allyloxycarbonylaminomethyl)-6-(tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-2-penem-3-carboxylic acid allyl ester 1.
A solution of 79 g with 1.83 ml of acetic acid and 0.0 ml of acetic acid in THF was added. I
80 ml of N-tetrabutylammonium fluoride solution are added in sequence. After stirring for 4.5 hours, the mixture was dissolved in CH
2Cl21.41! diluted with 200 ml of saturated Na1
Wash with lCOi aqueous solution. The organic phase is then washed with brine, dried over MBSO, filtered and concentrated by evaporation. The product is purified by chromatography on silica gel (1 volume toluene/ethyl acetate 1:1 to anhydrous ethyl acetate).

T R(CH2C12) : 3600.3435.1
785.1695.1615cm−’。
T R (CH2C12): 3600.3435.1
785.1695.1615 cm-'.

無水THF2Oml中の(5R,6S)−2−アリルオ
キシカルボニルアミノメチル−6−ヒドロキシメチル−
2−ペネム−3−カルボン酸アリルエステル55b■の
溶液に一10°Cでテトラキス−(トリフェニルホスフ
ィン)−ハラシウム60■及びトリブチル錫ヒドリド1
mlを添加する。
(5R,6S)-2-allyloxycarbonylaminomethyl-6-hydroxymethyl- in 20 ml of anhydrous THF
To a solution of 55 parts of 2-penem-3-carboxylic acid allyl ester was added 60 parts of tetrakis-(triphenylphosphine)-halacium and 1 part of tributyltin hydride at -10°C.
Add ml.

−10℃で20分攪拌した後、酢酸0.2mlを添加し
、冷却浴を取り除いた後、反応混合物を更に30分攪拌
する。回転蒸発器で濃縮した後、残渣を水/酢酸エチル
に取り、水相を除去し、有機相を水で更に3回抽出する
。回転蒸発器で簡単に濃縮した後、合した水相を凍結乾
燥する。UV(燐酸塩03 緩衝剤、pl+7.4) :λmax=309nm。
After stirring for 20 minutes at −10° C., 0.2 ml of acetic acid is added and, after removing the cooling bath, the reaction mixture is stirred for a further 30 minutes. After concentration on a rotary evaporator, the residue is taken up in water/ethyl acetate, the aqueous phase is removed and the organic phase is extracted three more times with water. After brief concentration on a rotary evaporator, the combined aqueous phases are lyophilized. UV (phosphate 03 buffer, pl+7.4): λmax=309nm.

無水トルエン300m1中の2− ((3S、4.R)
−:l((1’R)−1−アリルオキシカルボニルオキ
シエチル)−4−(アリルオキシカルボニルアミノアセ
チルチオ)−2−オキソ−アゼチジン−1−イル)−2
−)リフェニルホスボラニリデン酢酸アリルエステル2
.4.2 gの溶液をアルゴン雰囲気下に還流温度で2
4時間攪拌する。次に、溶剤を蒸発により濃縮し、粗製
生成物をシリカゲル上でのクロマトグラフィーにより精
製する(溶MIt剤、トルエン/酢酸エチル9:1)。
2- ((3S, 4.R) in 300ml of anhydrous toluene
-:l((1'R)-1-allyloxycarbonyloxyethyl)-4-(allyloxycarbonylaminoacetylthio)-2-oxo-azetidin-1-yl)-2
-) Riphenylphosboranylidene acetic acid allyl ester 2
.. 4.2 g of the solution was heated at reflux temperature under an argon atmosphere for 2 hours.
Stir for 4 hours. The solvent is then concentrated by evaporation and the crude product is purified by chromatography on silica gel (solvent MIt agent, toluene/ethyl acetate 9:1).

IR(CH2C12) 3435.1790.1740
.1720.1580cm−”出発原料は、下記のよう
にして製造する。
IR(CH2C12) 3435.1790.1740
.. 1720.1580 cm-'' starting material is prepared as follows.

04 スー(p−メトキシベンジル)−へキサヒドロ−1,3
,5−)リアジン(ドイツ連邦共和国特許出願公開第2
,431,862号公報に記載されているのと類似の方
法で製造)lo、69g (23,9ミリモル)の溶液
に、室温でアセトニトリル20m1中の塩化水素2.8
8g(78,8tlルモル)の溶液及びter t−ブ
チルメルカプタン6.45 g (71,66ミリモル
)を順次添加する。混合物を22時間攪拌する。不溶性
物質を吸引う戸遇し、う戸液を減圧下に濃縮する。得ら
れる結晶性残渣をエーテルと共に攪拌し、吸引う濾過す
る。融点142°C0(2S、3R)−2−プロモー3
−ヒドロキシ酪酸(シモヒガシら著、Bull、 Ch
em、 Soc、 Japan52.949 (197
9)に記載されている方法と同様にして製造)1.83
g(10ミリモル)の溶液に、室温でN−p−メトキシ
ベンジル−N−tert−ブチルチオメチルアンモニウ
ムクロリド05 2.76g(10ミリモル)及びジシクロへキシルカル
ボジイミド2.06g(10ミリモル)を加え、トリエ
チルアミン1.40m1(10ミリモル)を滴加する。
04 Sue(p-methoxybenzyl)-hexahydro-1,3
, 5-) Reazine (Federal Republic of Germany Patent Application Publication No. 2
A solution of 69 g (23.9 mmol) of 2.8 ml of hydrogen chloride in 20 ml of acetonitrile at room temperature was added to a solution of 69 g (23.9 mmol) of
8 g (78.8 tl mol) of solution and 6.45 g (71.66 mmol) of tert-butyl mercaptan are added in succession. Stir the mixture for 22 hours. The insoluble material is aspirated and the dental fluid is concentrated under reduced pressure. The crystalline residue obtained is stirred with ether and filtered with suction. Melting point 142°C0 (2S, 3R)-2-promo 3
-Hydroxybutyric acid (Shimo Higashi et al., Bull, Ch.
em, Soc, Japan52.949 (197
Produced in the same manner as described in 9)) 1.83
g (10 mmol) at room temperature, add 2.76 g (10 mmol) of N-p-methoxybenzyl-N-tert-butylthiomethylammonium chloride 05 and 2.06 g (10 mmol) of dicyclohexylcarbodiimide, 1.40 ml (10 mmol) of triethylamine are added dropwise.

生じる反応混合物を室温で2時間攪拌する。分離したジ
シクロヘキシル尿素を吸引1濾過し、r液を塩化メチレ
ンで希釈し、水及びp+I8の燐酸塩緩衝剤溶液で洗浄
する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発により
濃縮し、油性残渣をシリカゲル上で、トルエン/酢酸エ
チルを用いてクロマトグラフィー処理する。標題の化合
物が無色の粘稠油の形で得られる。Rf ()ルエン/
酢酸エチル1:1):0.55、IR(塩化メチレン)
: 3550−3200.2950−2850.163
2.1608.1508.1457.1438.140
7.1360.1242.1202.1175.115
0.1028cm−”。
The resulting reaction mixture is stirred at room temperature for 2 hours. The separated dicyclohexyl urea is filtered off with suction, the r-liquid is diluted with methylene chloride and washed with water and a phosphate buffer solution of p+I8. The organic phase is dried over sodium sulfate, concentrated by evaporation and the oily residue is chromatographed on silica gel using toluene/ethyl acetate. The title compound is obtained in the form of a colorless viscous oil. Rf () Ruen/
Ethyl acetate 1:1): 0.55, IR (methylene chloride)
: 3550-3200.2950-2850.163
2.1608.1508.1457.1438.140
7.1360.1242.1202.1175.115
0.1028cm-”.

塩化メチレン50m1中の<23,3R)−N−p−メ
トキシベンジル−N tert−プチルチオメ06 チル−2−ブロモ−3−ヒドロキシブチルアミド1.9
7 g (4,89ミリモル)の1g液に一14゛Cで
攪拌しながら90%m−クロロ過安息香酸2.06g(
約2.2当量)を加える。反応混合物を0℃で80分攪
拌する。分離したm−クロロ安息香酸をi戸去し、iP
液を塩化メチレンで希釈し、3%重重亜硫ナナトリム水
溶液及び8%重炭酸すトリウム水溶液と順次振盪する。
<23,3R)-N-p-methoxybenzyl-N tert-butylthiome 06 thyl-2-bromo-3-hydroxybutyramide 1.9 in 50 ml of methylene chloride
Add 2.06 g of 90% m-chloroperbenzoic acid (2.06 g) to 1 g solution of 7 g (4.89 mmol) at -14°C while stirring.
approximately 2.2 equivalents). The reaction mixture is stirred at 0° C. for 80 minutes. The separated m-chlorobenzoic acid was removed by iP
The solution is diluted with methylene chloride and shaken sequentially with a 3% aqueous sodium bisulfite solution and an 8% aqueous sodium bicarbonate solution.

有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に蒸発によ
り濃縮し、残渣をシリカゲル上でトルエン/酢酸エチル
(71)及び(6:1.)を用いてクロマトグラフィー
処理する。標題の化合物が無色の粘稠油の形で得られる
。Rf (トルエン/酢酸エチル1:1)0.43、〔
α)=+88±1° (クロロボルム中1.01%)。
The organic phase is dried over sodium sulfate, concentrated by evaporation under reduced pressure and the residue is chromatographed on silica gel with toluene/ethyl acetate (71) and (6:1.). The title compound is obtained in the form of a colorless viscous oil. Rf (toluene/ethyl acetate 1:1) 0.43, [
α)=+88±1° (1.01% in chloroborum).

I H−NMRスペクトル(CDC]3中400 Ml
lz)は二つの回転異性体力月、3:1の比で存在する
ことを示す。
I H-NMR spectrum (CDC) 400 Ml in 3
lz) indicates that two rotamers exist in a ratio of 3:1.

07 テトラヒドロフラン8ml中の(2S、3R)−N−p
−メトキシベンジル−N −tert−ブチルスルボニ
ルメチル−2−ブロモ−3−ヒドロキシブチルアミド4
86■(1,1ミリモル)の溶液に水分を排除しながら
一14℃でテ1−ラヒドロフラン1ml中の1.5−ジ
アザビシクロC5,4,O)ウンデク−5−エン340
m1を添加する。溶液を室温、で75分攪拌する。塩化
メチレンを添加した後、有機相を15%クエン酸水溶液
及び8%重炭酸ナトリウム水溶液と振盪することによっ
て抽出する。
07 (2S,3R)-N-p in 8 ml of tetrahydrofuran
-Methoxybenzyl-N-tert-butylsulfonylmethyl-2-bromo-3-hydroxybutyramide 4
A solution of 1,5-diazabicycloC5,4,O)undec-5-ene 340 in 1 ml of te-1-rahydrofuran at -14°C with exclusion of water was added to a solution of
Add m1. The solution was stirred at room temperature for 75 minutes. After addition of methylene chloride, the organic phase is extracted by shaking with 15% aqueous citric acid and 8% aqueous sodium bicarbonate.

有機相を硫酸ナトリウム」二で乾燥し、減圧下に蒸発に
より濃縮する。残渣をシリカゲル上で1−ルエン/酢酸
エチル(4:1)を用いてクロマトグラフィー処理した
後、標題の化合物が無色の粘稠油の形で得られる。Rf
 ()ルエン/酢酸エチル1:1):0.29、〔α)
=+45±1” (CIlCI3中1.065%)。’
 H−NMRスペクトル(CI]CI3中4. OOM
llz)は二つの回転異性体が1:2.8の比で存在す
ることを示す。
The organic phase is dried over sodium sulfate and concentrated by evaporation under reduced pressure. After chromatography of the residue on silica gel with 1-toluene/ethyl acetate (4:1), the title compound is obtained in the form of a colorless viscous oil. Rf
() toluene/ethyl acetate 1:1): 0.29, [α)
=+45±1" (1.065% in CIlCI3).'
H-NMR spectrum (CI) in CI3 4. OOM
llz) indicates that the two rotamers are present in a ratio of 1:2.8.

e)−←L5−!LB −−−」うZ乞Cυに08 −3− ((1’ R)−1−ヒドロキシエチルツーテ
トラヒドロフラン2.5ml中の(2S、3R)−N−
p−メトキシベンジル−N tert−ブチルスルボニ
ルメチル−2,3−エポキシブチルアミド398■(1
,12ミリモル)の溶液に、水分を排除しなから0℃で
攪拌しながら、THF中の脱水テトラ−n−プチルアン
モニウムフルオリドの溶液(テトラ−n−プチルアンモ
ニウムフルオリド3水和物5gを55℃、Q、 111
11111111で脱水し、テトラヒドロフランで20
m1にすることによって製造) ?’mlを流加する。
e)-←L5-! LB ---' 08 -3- ((1'R)-1-Hydroxyethyl-(2S,3R)-N- in 2.5 ml of tetrahydrofuran)
p-Methoxybenzyl-N tert-butylsulfonylmethyl-2,3-epoxybutyramide 398■ (1
, 12 mmol) in THF with stirring at 0° C. without excluding water, add 5 g of dehydrated tetra-n-butylammonium fluoride trihydrate (tetra-n-butylammonium fluoride trihydrate) in THF. 55℃, Q, 111
Dehydrated with 11111111 and 20% with tetrahydrofuran.
(manufactured by making it m1)? 'ml is fed-batch.

4人の活性モレキュラーシーブを反応混合物に添加し、
全体を2時間攪拌する。モレキュラーシーブを吸引ir
″去し、毎回20m1の塩化メチレンで4回洗浄する。
4 active molecular sieves were added to the reaction mixture;
Stir the whole thing for 2 hours. suction ir for molecular sieve
” and washed four times with 20 ml of methylene chloride each time.

個々のシr液にジエチルエーテル5部を加え、ir液を
順次p’l18の燐酸塩緩衝剤水溶液で洗浄する。合し
た有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下に蒸発
により濃縮する。残渣をシリカゲル20g上でトルエン
/酢酸エチル(3:1)を用いてクロマトグラ09 フィー処理し、結晶性の標題化合物が得られる。
Add 5 parts of diethyl ether to each IR solution and wash the IR solution sequentially with an aqueous phosphate buffer solution of p'l18. The combined organic phases are dried over magnesium sulphate and concentrated by evaporation under reduced pressure. The residue is chromatographed on 20 g of silica gel with toluene/ethyl acetate (3:1) to give the crystalline title compound.

融点112〜】13°C(コフラー、塩化メチレン、ジ
エチルエーテル、ペンタンから);Rf (トルエン/
酢酸エチル1:1):0.27、〔α〕−十9±1° 
(クロロホルム中1.105%)。I H−NMRスペ
クトル(CDCI3中400 Mllz) :4 (R
)−炭素原子の位置のプロトン(a)に関するδ−4,
65,3(S)−炭素原子の位置のプロトン(b)に関
するδ−3,6L及びヒドロキシエチル基の1“ (R
)−炭素原子の位置のプロトン(C)に関するδ=4.
09;J a−b:約2 、Jb−c: 約 7 。
Melting point 112~] 13°C (from Koffler, methylene chloride, diethyl ether, pentane); Rf (toluene/
Ethyl acetate 1:1): 0.27, [α]-19±1°
(1.105% in chloroform). I H-NMR spectrum (400 Mllz in CDCI3): 4 (R
) - δ-4 with respect to the proton (a) at the position of the carbon atom,
65,3(S)-δ-3,6L for the proton (b) at the position of the carbon atom and 1″ (R
) - δ for the proton (C) at the position of the carbon atom = 4.
09; J a-b: about 2, Jb-c: about 7.

テトラ−n−ブチルアンモニウム硫酸水素塩0.68g
(2ミリモル)を塩化メチレン20m1中の(33,4
R)−1,−p−メトキシベンジル−3−((1’R)
−1−ヒドロキシエチル〕−410 ter t−ブチルスルホニル−2−アゼチジノン1.
77g(5ミリモル)の溶液及びIN水酸化ナトリウム
水溶液20m1から成る2相系に添加する。
Tetra-n-butylammonium hydrogen sulfate 0.68g
(2 mmol) in 20 ml of methylene chloride (33,4
R)-1,-p-methoxybenzyl-3-((1'R)
-1-Hydroxyethyl]-410 ter t-butylsulfonyl-2-azetidinone 1.
77 g (5 mmol) of solution and 20 ml of IN aqueous sodium hydroxide solution are added to a two-phase system.

激しく攪拌しながら、0℃でクロロギ酸アリルエステル
0.8ml (7,5ミリモル)を添加する。これに2
0分及び40分後に再びクロロギ酸アリルエステル0.
8mlを添加する。60分の反応時間の後に、混合物に
塩化メチレンを添加し、水相を分離し、有機相を5%ク
エン酸水溶液及び8%重炭酸ナトリウム水溶液で順次洗
浄する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下に
蒸発により濃縮した後、粗製生成物が残渣として得られ
る。これをメルク社のシリカゲル上で1〜ルエン/酢酸
エチル(9:1)を用いてクロマトグラフィーにより精
製する。融点90〜91“c、Rf(トルエン/酢酸エ
チル4:1):0.43、〔α)=+46±1° (ク
ロロボルム中1.49%)。
With vigorous stirring, at 0° C., 0.8 ml (7.5 mmol) of chloroformic acid allyl ester are added. 2 for this
After 0 minutes and 40 minutes, allyl chloroformate 0.
Add 8ml. After a reaction time of 60 minutes, methylene chloride is added to the mixture, the aqueous phase is separated and the organic phase is washed successively with 5% aqueous citric acid and 8% aqueous sodium bicarbonate. After drying the organic phase over sodium sulfate and concentrating by evaporation under reduced pressure, the crude product is obtained as a residue. This is purified by chromatography on Merck silica gel using 1 to toluene/ethyl acetate (9:1). Melting point 90-91"c, Rf (toluene/ethyl acetate 4:1): 0.43, [α) = +46±1° (1.49% in chloroborm).

11 アセトニトリル1.2ml中の(3S、4R)−1−p
−メトキシベンジル−3−[(1’R) −1−アリル
オキシカルボニルオキシエチル〕−4〜tert−ブチ
ルスルホニル−2−アゼチジノン518■(1,18ミ
リモル)の溶液に0℃で水6ml中の硝酸アンモニウム
セリウム(rV) 2.46 g (4,48ミリモル
)の溶液を添加し、全体を室温で1時間攪拌する。酢酸
エチルで抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
減圧下に蒸発により濃縮した後、粗製生成物が得られる
。これをメルクのシリカゲル20g上でトルエン/酢酸
エチル(4:1及び1;1)を用いてクロマトグラフィ
ーにより精製する。融点137〜138℃、〔α〕−+
49+1’ (りoo*ルム中1.067%)、Rf(
トルエン/酢酸エチル1:1):0.48゜例1a)に
記載したのと同様の方法で、(3s。
11 (3S,4R)-1-p in 1.2 ml of acetonitrile
-Methoxybenzyl-3-[(1'R)-1-allyloxycarbonyloxyethyl]-4-tert-butylsulfonyl-2-azetidinone in a solution of 518 μm (1.18 mmol) in 6 ml of water at 0°C. A solution of 2.46 g (4.48 mmol) of ammonium cerium nitrate (rV) is added and the whole is stirred for 1 hour at room temperature. Extracted with ethyl acetate, dried the organic phase over sodium sulfate,
After concentration by evaporation under reduced pressure, the crude product is obtained. This is purified by chromatography on 20 g of Merck silica gel using toluene/ethyl acetate (4:1 and 1:1). Melting point 137-138℃, [α]-+
49+1' (1.067% in Rioo*rum), Rf(
Toluene/ethyl acetate 1:1): 0.48° (3s) in a similar manner as described in Example 1a).

4R)−3−((1’R) −1−アリルオキシカ12 ルボニルオキシエチル) −4−tert−ブチルスル
ホニルアゼチジン−2−オン0.86 gを標題の化合
物に変える。
0.86 g of 4R)-3-((1'R)-1-allyloxycarbonyloxyethyl)-4-tert-butylsulfonylazetidin-2-one are converted to the title compound.

I R(CH2CI2 ) : 3395.1770.
1750cu−1゜例1b)に記載したのと同様の方法
で(3S。
IR(CH2CI2): 3395.1770.
1750 cu-1° (3S) in a similar manner as described in Example 1b).

4、R)−3−C(1°R)−1−アリルオキシカルボ
ニルオキシエチル) 4 tert−ブチルスルホニル
アゼデシン−2−オン0.82gを標題の化合物に変え
る。
4, R)-3-C(1°R)-1-allyloxycarbonyloxyethyl) 4 0.82 g of tert-butylsulfonylazedecin-2-one is converted to the title compound.

I R(CH2C12) : 3510.1770.1
745cm−”。
I R(CH2C12): 3510.1770.1
745cm-”.

13 例1c)に記載したのと同様の方法で、2−((3S、
4R) −3−((1’ R)−1−アリルオキシカル
ボニルオキシエチル)−4=)リフェニルメチルチオー
2−オキソ−アゼチジン−1−イル〕−2−ヒドロキシ
酢酸アリルエステル1gを標題の化合物に変える。
13 In a similar manner as described in Example 1c), 2-((3S,
4R) -3-((1'R)-1-allyloxycarbonyloxyethyl)-4=)liphenylmethylthio2-oxo-azetidin-1-yl]-2-hydroxyacetic acid allyl ester (1 g) of the title convert into a compound.

I R(CH2CI2 )、 : 1745.1620
cm−1゜例1d)に記載したのと同様の方法で、2−
((33,4R)−3−((1’R)−1−アリルオキ
シカルボニルオキシエチル)−4−)リフエールメチル
チオ−2〜オキソ−アゼチジン−1−イル〕−2−トリ
フェニルポスホラニリデン酢酸アリルエステル0.46
 gを標題の化合物に変える。I R(CH2CI2 
) :1765.1745.1630cm−1゜m) 
−,3S R−−[LL1Yニー14 1−アリルオキシカルボニルオキシエチル〕−4例1e
)に記載したのと同様の方法で、2−((3S、4R)
−3−C(1’R)−1−アリルオキシカルボニルオキ
シエチル〕−4−メルカプト−2−オキソ−アゼチジン
−1−イルツー2−トリフェニルホスホラニリデン酢酸
アリルエステル(銀塩)0.385gをアリルオキシカ
ルボニルアミノアセチルクロリドを用いて標題の化合物
に変える。、I R(CH2CI2 ) :3440.
1750.1740.1700、1620cm −’ 
IR(CH2CI2): 1745.1620
cm-1° In a similar manner as described in Example 1d), 2-
((33,4R)-3-((1'R)-1-allyloxycarbonyloxyethyl)-4-)rifle methylthio-2-oxo-azetidin-1-yl]-2-triphenylphosphoranylidene Acetic acid allyl ester 0.46
Replace g with the title compound. I R(CH2CI2
): 1765.1745.1630cm-1゜)
-,3S R--[LL1Ynee14 1-allyloxycarbonyloxyethyl]-4 Example 1e
), 2-((3S,4R)
-3-C(1'R)-1-allyloxycarbonyloxyethyl]-4-mercapto-2-oxo-azetidin-1-yl2-triphenylphosphoranylidene acetic acid allyl ester (silver salt) 0.385 g Conversion to the title compound using allyloxycarbonylaminoacetyl chloride. , IR(CH2CI2):3440.
1750.1740.1700, 1620cm -'
.

無水TIIF 20ml中の(5R,63)−2−アリ
ルオキシカルボニルアミノメチル−6−((1’R)−
1−アリルオキシカルボニルオキシエチル〕−2−ペネ
ム−3−カルボン酸アリルエステル15 425■の溶液に一10℃でテトラキス−(トリフェニ
ルポスフィン)−パラジウム60mg及び次に、トリブ
チル錫ヒドリド1.07m1を添加する。
(5R,63)-2-allyloxycarbonylaminomethyl-6-((1'R)- in 20 ml of anhydrous TIIF
To a solution of 15 425 μl of 1-allyloxycarbonyloxyethyl]-2-penem-3-carboxylic acid allyl ester was added at -10° C. 60 mg of tetrakis-(triphenylphosphine)-palladium and then 1.07 ml of tributyltin hydride. Add.

−10℃で20分攪拌した後、酢酸0.3mlを添加し
、冷却浴を除去した後、反応混合物を更に30分攪拌す
る。回転蒸発器で濃縮した後、残渣を水/酢酸エチルに
取り、水相を分離し、有機相を更に水で3回抽出する。
After stirring for 20 minutes at −10° C., 0.3 ml of acetic acid is added and, after removing the cooling bath, the reaction mixture is stirred for a further 30 minutes. After concentration on a rotary evaporator, the residue is taken up in water/ethyl acetate, the aqueous phase is separated off and the organic phase is further extracted three times with water.

回転蒸発器で簡単に濃縮した後、合した水相を凍結乾燥
する。UV(燐酸塩緩衝剤、pl+7.4):λmax
 =308 nm ; α2D(水中0.07%):+
220°±11°。
After brief concentration on a rotary evaporator, the combined aqueous phases are lyophilized. UV (phosphate buffer, pl+7.4): λmax
=308 nm; α2D (0.07% in water): +
220°±11°.

エステル 例4に記載したのと同様の方法で2−C(3S。ester 2-C (3S) in a similar manner as described in Example 4.

4R)−3−C(1’R)−1−アリルオキシカルボニ
ルオキシエチル)−4−(N−メチル−N−アリルオキ
シカルボニルアミノアセチルチオ)16 −2−オキソ−アゼチジン−1−イル)−2−1〜リフ
エニルホスホラニリデン酢酸アリルエステル2、42 
gを標題の化合物に変える。
4R)-3-C(1'R)-1-allyloxycarbonyloxyethyl)-4-(N-methyl-N-allyloxycarbonylaminoacetylthio)16 -2-oxo-azetidin-1-yl)- 2-1 ~ rifhenylphosphoranylidene acetic acid allyl ester 2, 42
Replace g with the title compound.

TR(塩化メチレン)X1780.1745.1705
.1580cm−1゜ 出発原料は、下記のようにして製造する。
TR (methylene chloride) X1780.1745.1705
.. The 1580 cm −1° starting material is prepared as follows.

a)N−アリルオキシカルボニルザル347例1.ea
)に記載したのと同様の方法で、ザルコシン15gを標
題の化合物に変える。
a) 347 N-allyloxycarbonyl salts 1. ea
15 g of sarcosine are converted to the title compound in a similar manner as described in ).

IR(塩化メチレン) : 1705cm−’ 。IR (methylene chloride): 1705 cm-'.

例1eb)に記載したのと同様の方法で、N−アリルオ
キシカルボニルザルコシン3.46 gを、塩化チオニ
ル6.27m1を用いて標題の化合物に変える。IR(
塩化メチレン):1800.1710cm−1゜17 ■−イル)−2−)リフェニルホスポラニリデン例1e
)に記載したのと同様の方法で、2−((33,4R)
−3−((1’ R)−1−アリルオキシカルボニルオ
キシエチル〕−4−メルカプト−2−オキソ−アゼチジ
ン−1−イル〕−2−トリフェニルホスホラニリデン酢
酸アリルエステル(例41参照)3.75gをN−アリ
ルオキシ力ルポニルアミノザルコシルクロリド1.55
 gを用いて標題の化合物に変える。IR(塩化メチレ
ン):1750.1700.1620cm−1゜例5に
記載したのと同様の方法で、(5R,6S)−2−(N
−メチル−N−アリルオキシカルボニルアミノメチル)
−6−((1’R) −1−アリルオキシカルボニルオ
キシエチル〕−2−ベネム−3−カルボン酸アリルエス
テル1.3gを標題の化合物に変える。UV(燐酸塩緩
衝剤、pH18 7.4) λIIIax=311nm 水1ml中の(5R,6S)−2−アミノメチル−6−
ヒドロキシメチル−2−ベネム−3−カルボン酸23■
及び重炭酸ナトリウム8.4■の溶液を室温で水4n+
l中のエチルポルムイミデ−1・塩酸塩109.5mg
及び重炭酸ナトリウム84■の溶液に添加する。室温で
50分間攪拌した後、IN塩191m1を加え、全体を
高度真空下に蒸発により濃縮する。粗製物質をOPT 
I −UPC,2,上でクロマトグラフィーにより精製
する。UV(燐酸塩緩衝剤、pH7,4)λmax=3
06.5nm。
In a similar manner as described in Example 1eb), 3.46 g of N-allyloxycarbonylsarcosine are converted to the title compound using 6.27 ml of thionyl chloride. IR(
Methylene chloride): 1800.1710 cm-1°17 ■-yl)-2-) Liphenylphosporanylidene Example 1e
), 2-((33,4R)
-3-((1'R)-1-allyloxycarbonyloxyethyl]-4-mercapto-2-oxo-azetidin-1-yl]-2-triphenylphosphoranylidene acetic acid allyl ester (see Example 41) 3 .75g of N-allyloxylponylaminosarcosyl chloride 1.55g
g to give the title compound. IR (methylene chloride): 1750.1700.1620 cm-1° In a similar manner as described in Example 5, (5R,6S)-2-(N
-methyl-N-allyloxycarbonylaminomethyl)
Convert 1.3 g of -6-((1'R) -1-allyloxycarbonyloxyethyl]-2-benem-3-carboxylic acid allyl ester to the title compound. UV (phosphate buffer, pH 18 7.4 ) λIIIax = 311 nm (5R,6S)-2-aminomethyl-6- in 1 ml of water
Hydroxymethyl-2-benem-3-carboxylic acid 23■
A solution of 8.4μ of sodium bicarbonate and 4n+ of water at room temperature.
109.5 mg of ethylpormimide-1 hydrochloride in l
and 84 μm of sodium bicarbonate. After stirring for 50 minutes at room temperature, 191 ml of IN salt are added and the whole is concentrated by evaporation under high vacuum. OPT crude materials
Purify by chromatography on I-UPC, 2. UV (phosphate buffer, pH 7,4) λmax=3
06.5nm.

例8に記載したのと同様の方法で、(5R,6S)−2
−アミノメチル−6−((1’R) −1−ヒトロキシ
エチル〕−2−ベネム−3−カルボ】19 ン酸51mgを標題の化合物に変える。UV(燐酸塩緩
衝剤、pll ’7.4 ) λmax = 310 
nm。
In a similar manner as described in Example 8, (5R,6S)-2
-Aminomethyl-6-((1'R)-1-hydroxyethyl]-2-benem-3-carbo]19 Convert 51 mg of phosphoric acid to the title compound. UV (phosphate buffer, pll '7. 4) λmax = 310
nm.

例1に記載したのと同様の方法で、2−CC3S、4.
R) 3 (tert−メチレンメチ/L/ シIJ 
ルオキシメチル)−4−クロロアセチルチオ−2−オキ
ソ−アゼチジン−1−イル〕−2−1−リフェニルホス
ホラニリデン酢酸アリルエステル0.71gを標題の化
合物に変える。IR(塩化メチレン): 1790.1
705.1560cm−1゜出発原料は下記のようにし
て製造する。
In a similar manner as described in Example 1, 2-CC3S, 4.
R) 3 (tert-methylenemethylene/L/SiIJ
0.71 g of liphenylphosphoranylidene acetic acid allyl ester are converted into the title compound. IR (methylene chloride): 1790.1
705.1560 cm-1° The starting material is prepared as follows.

デ止 2− C(3S、4−R) −3−(tert−ブチル
ジメチルシリルオキシメチル)−4−メルカプト−20 2−オキソ−アゼチジン−1−イル)−2−1−リフェ
ニルホスホラニリデン酢酸2−アリルエステルの銀塩〔
例1d))30gを無水塩化メチレン600’mlに溶
かし、溶液をO′cに冷却し、これに4−ジメチルアミ
ノピリジン120mg及びピリジン6.8mlを添加す
る。クロロアセチルクロリド5.04m1及び更にピリ
ジン1.5mlを添加した後、反応混合物を0℃で30
分間攪拌する。沈澱を1戸去し、1F液をN a II
 CCh水溶液及び次に食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、蒸発により濃縮する。シリカゲル上で精
M(溶離剤、トルエン/酢酸エチル9:1)した後、純
粋な標題化合物が得られる。TLC(シリカゲル、トル
エン/酢酸エチル1: 1) : Rf =0.5 ;
 I R(CH2C12): 1750.1680.1
610cm −’ 。
De-2-C(3S,4-R)-3-(tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-4-mercapto-20 2-oxo-azetidin-1-yl)-2-1-liphenylphosphoranylidene Silver salt of acetic acid 2-allyl ester [
Example 1 d)) 30 g are dissolved in 600' ml of anhydrous methylene chloride, the solution is cooled to O'c and 120 mg of 4-dimethylaminopyridine and 6.8 ml of pyridine are added thereto. After adding 5.04 ml of chloroacetyl chloride and a further 1.5 ml of pyridine, the reaction mixture was heated at 0°C for 30
Stir for a minute. Remove the precipitate from one unit, and reduce the 1F liquid to Na II.
Wash with aqueous CCh solution and then with brine, dry over sodium sulfate and concentrate by evaporation. After purification on silica gel (eluent, toluene/ethyl acetate 9:1), the pure title compound is obtained. TLC (silica gel, toluene/ethyl acetate 1:1): Rf = 0.5;
I R(CH2C12): 1750.1680.1
610cm-'.

4、04 gの(5R,6S)−2−クロロメチル−6
−(tert−ブチルジメチルシリルオキシメチ21 ル)−2−ベネム−3−カルボン酸アリルエステルをD
MF40mlに溶かし、これにナトリウムアジド0.9
gを添加する。6時間攪拌した後、溶剤を115の容量
まで減少させ、残渣を酢酸エチルと水との間で分配させ
る。硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶剤を蒸発させる。粗
製混合物をシリカゲル上でクロマトグラフィーにより精
製する(溶離剤、トルエン/酢酸)。I R(CH2C
I2 ) : 2110.1790.1705.158
5cm−1゜例2に記載したのと同様の方法で、(5R
,6S)−2−アジドメチル−6−(tert−ブチル
ジメチルシリルオキシメチル)−2−ベネム−3−カル
ボン酸アリルエステル1.2gを標題の化合物に変える
。IR(塩化メチレン):3595.2120.179
0.1710.1585cm−”。
4,04 g of (5R,6S)-2-chloromethyl-6
-(tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-2-benem-3-carboxylic acid allyl ester
Dissolve in 40ml of MF and add 0.9 ml of sodium azide to this.
Add g. After stirring for 6 hours, the solvent is reduced to a volume of 115 and the residue is partitioned between ethyl acetate and water. Dry over sodium sulfate and evaporate the solvent. The crude mixture is purified by chromatography on silica gel (eluent toluene/acetic acid). I R(CH2C
I2): 2110.1790.1705.158
5cm-1° (5R
, 6S)-2-azidomethyl-6-(tert-butyldimethylsilyloxymethyl)-2-benem-3-carboxylic acid allyl ester are converted into the title compound. IR (methylene chloride): 3595.2120.179
0.1710.1585cm-”.

22 例3に記載したのと同様の方法で、(5R,6S)−2
−アジドメチル−6−ヒドロキシメチル−2−ペネム−
3−カルボン酸アリルエステル0、89 gを標題の化
合物に変える。UV(燐酸塩緩衝剤、pH7,lI)λ
max=309nm。
22 In a similar manner as described in Example 3, (5R,6S)-2
-azidomethyl-6-hydroxymethyl-2-penem-
0.89 g of 3-carboxylic acid allyl ester are converted to the title compound. UV (phosphate buffer, pH 7, lI) λ
max=309nm.

鼠 (5R,6S)−2−アジドメチル−6−ヒドロキシメ
チル−2−ペネム−3−カルボン酸0.53gをTHF
/水(1: 1)の混合物10m1に溶かし、10%パ
ラジウム付活性炭0.53 gの存在で常圧で室温で4
時間水素添加する。)濾過及び濃縮を実施し、粗製混合
物を逆相カラムクロマトグラフィー(溶離剤、水)によ
り精製する。UV(燐酸塩緩衝剤、pH7,4)λma
x=309nrn。
0.53 g of (5R,6S)-2-azidomethyl-6-hydroxymethyl-2-penem-3-carboxylic acid was dissolved in THF.
/water (1:1) in the presence of 0.53 g of activated carbon with 10% palladium at room temperature at normal pressure.
Hydrogenate for an hour. ) Filtration and concentration are carried out and the crude mixture is purified by reverse phase column chromatography (eluent, water). UV (phosphate buffer, pH 7,4) λma
x=309nrn.

この生成物は例3により製造された化合物と同一である
This product is identical to the compound prepared according to Example 3.

園上上:且R65−−1」」弓LL区立23 ルボニルアミノメチール)−6−((1’R) −1(
3S、4R)−1(1−アリルオキシカルボニルオキシ
エチル)−4−アリルオキシカルボニルアミノアセチル
チオ−アゼチジン−2−オン317■(0,852ミリ
モル)を塩化メチレン5mlに熔かし、溶液を一15°
Cに冷却する。次に、これにアリルオキシオキサリルク
ロリド0.143m1及びヒューニッヒ塩基0.217
m1を添加し、全体を一15℃で30分攪拌する。反応
溶液を0.IN塩酸(冷却)で1回、飽和塩化ナトリウ
ム溶液で2回洗浄し、硫酸ナトリウム」二で乾燥し、回
転蒸発器中で濃縮する。残渣を回転蒸発器中でトルエン
で2回抽出する。
Sonoue upper: and R65--1'' Bow LL Ward 23 Rubonylaminomethyl)-6-((1'R)-1(
3S, 4R)-1(1-allyloxycarbonyloxyethyl)-4-allyloxycarbonylaminoacetylthio-azetidin-2-one (317 mmol) was dissolved in 5 ml of methylene chloride, and the solution was evaporated. 15°
Cool to C. This was then added with 0.143 ml of allyloxyoxalyl chloride and 0.217 ml of Hunig's base.
m1 is added and the whole is stirred at -15°C for 30 minutes. The reaction solution was reduced to 0. Wash once with IN hydrochloric acid (cooled) and twice with saturated sodium chloride solution, dry over sodium sulfate and concentrate in a rotary evaporator. The residue is extracted twice with toluene in a rotary evaporator.

粗製1− C(33,4R)−3−((1’ R)=1
−アリルオキシカルボニルオキシエチル〕−4−アリル
オキシカルボニルアミノアセチルチオ=2−オキソ−ア
ゼチジン−1−イル〕−2−オキソー酢酸アリルエステ
ルを含む油性残渣をトル24 エン20m1に熔かし、トリエチルホスファイト0.3
2m1を添加し、全体をアルゴン下に103°Cで17
時間加熱する。溶液を濃縮し、シリカゲル上で調製用薄
層クロマトグラフィー(系:トルエン/酢酸エチル3:
1)により精製する。生成物は例4に記載した化合物と
同一である。
Crude 1-C(33,4R)-3-((1'R)=1
The oily residue containing allyl ester of -allyloxycarbonyloxyethyl]-4-allyloxycarbonylaminoacetylthio=2-oxo-azetidin-1-yl]-2-oxoacetate was dissolved in 20 ml of toluene and triethyl phosphatide was dissolved. Fight 0.3
2 ml was added and the whole was heated under argon at 103°C for 17 ml.
Heat for an hour. The solution was concentrated and subjected to preparative thin layer chromatography on silica gel (system: toluene/ethyl acetate 3:
Purify according to 1). The product is identical to the compound described in Example 4.

出発原料である(33,4.R)−3−(1−アリルオ
キシカルボニルオキシエチル)−4−アリルオキシカル
ボニルアミノアセチルチオ−アゼチジン−2−オンは、
下記のようにして製造する。
The starting material (33,4.R)-3-(1-allyloxycarbonyloxyethyl)-4-allyloxycarbonylaminoacetylthio-azetidin-2-one is
It is manufactured as follows.

アリルオキシカルボニルアミノチオ酢酸450■(2,
57ミリモル)を水7ml中のスラリーとし、窒素雰囲
気下に室温でIN水酸化ナトリウム2.5mlを加える
。次に、塩化メチレン51中の(3s。
Allyloxycarbonylaminothioacetic acid 450■ (2,
57 mmol) in 7 ml of water and 2.5 ml of IN sodium hydroxide are added at room temperature under a nitrogen atmosphere. Then (3s in methylene chloride 51).

4R)−3−((1’R)−1−了りルオキシカルボニ
ルオキシエチル) 4 tert−ブチルスルホニルア
ゼチジン−2−オン585■(1,83ミリモル)の溶
液を加え、エマルジョンを窒素雰囲気に室温で1時間激
しく攪拌する。反応混合物を分配させ、有機相を飽和塩
化ナトリウム溶液で225 面洗浄する。水相を塩化メチレンで2回抽出する。
4R)-3-((1'R)-1-Roxycarbonyloxyethyl) 4 A solution of 585 μm (1,83 mmol) of tert-butylsulfonyl azetidin-2-one was added and the emulsion was placed in a nitrogen atmosphere. Stir vigorously for 1 hour at room temperature. The reaction mixture is partitioned and the organic phase is washed 225 times with saturated sodium chloride solution. The aqueous phase is extracted twice with methylene chloride.

有機溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、回転蒸発器中で
濃縮する。粗製生成物をfllil製用薄層クロマトグ
ラフィー(系:ヘキサン/エーテル1:9)により精製
する。
The organic solution is dried over sodium sulfate and concentrated in a rotary evaporator. The crude product is purified by flilli thin layer chromatography (system: hexane/ether 1:9).

倒」」罎 前記の実施例に記載したのと同様の方法で、対応する出
発化合物を使用して下記の化合物を製造することができ
る。: (5R,6S)−2−(N−アセトアミジノメチル)−
6−ヒドロキシメチル−2−ペネム−3−カルボン酸 UV(燐酸塩緩衝剤、pH7,4)、λmax5307
n m。
The following compounds can be prepared in a manner similar to that described in the examples above using the corresponding starting compounds. : (5R,6S)-2-(N-acetamidinomethyl)-
6-Hydroxymethyl-2-penem-3-carboxylic acid UV (phosphate buffer, pH 7,4), λmax 5307
nm.

(5R,63)−2−(N−アセトアミジノメチル)−
6−((1’R)−1−ヒドロキシエチル〕−2−ペネ
ム−3−カルボン酸 UV(燐酸塩緩衝剤、pl+7.4)、λmax=31
1n m。
(5R,63)-2-(N-acetamidinomethyl)-
6-((1'R)-1-hydroxyethyl]-2-penem-3-carboxylic acid UV (phosphate buffer, pl+7.4), λmax=31
1 nm.

(5R,63)−2−(N−グアニジニルメチル)26 −6−ヒ1′ロキシメチル−2−ベネム−3−カルボン
酸 UV(燐酸塩緩衝剤、pH7,4)、λll1ax=3
06n m。
(5R,63)-2-(N-guanidinylmethyl)26-6-hyroxymethyl-2-benem-3-carboxylic acid UV (phosphate buffer, pH 7,4), λll1ax=3
06 nm.

(5R,6S)−2−(N−グアニジニルメチル)−6
−C(1’R)−1−ヒドロキシエチル〕−2−ペネム
−3−カルボン酸 UV(燐酸塩緩衝剤、pl+7.4)、λmax=31
0n m。
(5R,6S)-2-(N-guanidinylmethyl)-6
-C(1'R)-1-hydroxyethyl]-2-penem-3-carboxylic acid UV (phosphate buffer, pl+7.4), λmax=31
0 nm.

(5R,63)−2−(N−エチルアミノメチル)−6
−((1’R)−1−ヒドロキシエチル〕−2−ベネム
−3−カルボン酸 UV(燐酸塩緩衝剤、pl+7.4)、λmax=31
0n m。
(5R,63)-2-(N-ethylaminomethyl)-6
-((1'R)-1-hydroxyethyl]-2-benem-3-carboxylic acid UV (phosphate buffer, pl+7.4), λmax=31
0 nm.

(5R,6S)−2−(N−エチルアミノメチル)−6
〜ヒドロキシメチル−2−ベネム−3−カルボン酸 UV(燐酸塩緩衝剤、pl+7.4)、λmax = 
311n m。
(5R,6S)-2-(N-ethylaminomethyl)-6
~Hydroxymethyl-2-benem-3-carboxylic acid UV (phosphate buffer, pl+7.4), λmax =
311 nm.

(5R,6S)−2−(N−プロピルアミノメチ12フ ル)−6−((1“R)−1−ヒドロキシエチル〕=2
−ベネム−3−カルボン酸 UV(燐酸塩緩衝剤、pl+ 7.4 )、λmax=
312n m。
(5R,6S)-2-(N-propylaminomethy12ful)-6-((1“R)-1-hydroxyethyl]=2
-Benem-3-carboxylic acid UV (phosphate buffer, pl+ 7.4), λmax=
312 nm.

(5R,6S)−2−(N−プロピルアミノメチル)−
6−ヒドロキシメチル−2−ベネム−3−カルボン酸 UV(燐酸塩緩衝剤、pl+7.4)、λmax=31
1n m。
(5R,6S)-2-(N-propylaminomethyl)-
6-Hydroxymethyl-2-benem-3-carboxylic acid UV (phosphate buffer, pl+7.4), λmax=31
1 nm.

(5R,6S)−2−(N−メチルアミノメチル)−〇
−ヒドロキシメチルー2−ペネム−3−カルボン酸 UV(燐酸塩緩衝剤、pH7,4)、λmax=306
n m。
(5R,6S)-2-(N-methylaminomethyl)-〇-hydroxymethyl-2-penem-3-carboxylic acid UV (phosphate buffer, pH 7,4), λmax=306
nm.

沃化すトリウム1.2gをアセトン3.7mlに溶かし
、これにエチル−1−クロロエチルカーボネー)0.2
75m1を加える。混合物を室温で3時間攪2B 拌する。次に、溶液を塩化メチレン15.0mlに流加
し、沈澱する無機塩を1戸去する。塩化メチレン溶液を
2mlの容量に濃縮し、0℃でジメチルアセトアミド4
ml中の(5R,63)−2−アミノメチル−6−ヒド
ロキシメチル−2−ベネム−3−カルボン酸0.23g
(1ミリモル)の溶液に添加する。次に、混合物をO′
Cで3時間攪拌し、酢酸エチルで希釈し、水で3回洗浄
する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、回転蒸発器
中で濃縮する。粗製生成物をシリカゲル10g上で溶離
剤として酢酸エチルを用いて精製する。標題の化合物が
白色の泡状体の形で得られる。IR(塩化メチレン):
1790及び1740cm−1での吸着ハンド。
Dissolve 1.2 g of thorium iodide in 3.7 ml of acetone, and add 0.2 g of ethyl-1-chloroethyl carbonate to this solution.
Add 75ml. The mixture is stirred at room temperature for 3 hours. Next, the solution was added to 15.0 ml of methylene chloride to remove one precipitated inorganic salt. The methylene chloride solution was concentrated to a volume of 2 ml and dissolved in dimethylacetamide 4 at 0°C.
0.23 g of (5R,63)-2-aminomethyl-6-hydroxymethyl-2-benem-3-carboxylic acid in ml
(1 mmol). Next, mix the mixture with O'
Stir at C for 3 hours, dilute with ethyl acetate and wash three times with water. The organic phase is dried over sodium sulfate and concentrated in a rotary evaporator. The crude product is purified on 10 g of silica gel using ethyl acetate as eluent. The title compound is obtained in the form of a white foam. IR (methylene chloride):
Suction hand at 1790 and 1740 cm-1.

沃化ナトリウム0.6gをアセトン2ml中に溶かし、
ピバリン酸クロロメチルエステル0.15m1を加える
。混合物を室温で3時間攪拌し、次に、塩化メチレン7
.5mlに流加する。沈澱する無機塩を29 )戸去する。塩化メチレン溶液を1mlの容量に濃縮し
、0℃でN、 N−ジメチルアセトアミド4n+1中の
(5R,6S)−2−アミノメチル−6−ヒドロキシメ
チル−2−ベネム−3−カルボン酸0.092g(0,
4ミリモル)及びジイソプロピルエチルアミン0.07
m1の溶液に添加する。次に、混合物を0℃で3時間攪
拌し、その後、酢酸エチルで希釈し、水で3回洗浄する
。有機相を硫酸すトリウム上で乾燥し、回転蒸発器中で
濃縮する。粗製生成物をシリカゲル10g上で溶離剤と
して酢酸エチルを用いて精製する。標題の化合物が白色
の泡状体の形で得られる。IR(塩化メチレン)=17
90及び1730cm−1での吸着ハント。
Dissolve 0.6 g of sodium iodide in 2 ml of acetone,
Add 0.15 ml of pivalic acid chloromethyl ester. The mixture was stirred at room temperature for 3 hours, then diluted with methylene chloride, 7
.. Add to 5 ml. 29) Remove the precipitated inorganic salt. Concentrate the methylene chloride solution to a volume of 1 ml and prepare 0.092 g of (5R,6S)-2-aminomethyl-6-hydroxymethyl-2-benem-3-carboxylic acid in N,N-dimethylacetamide 4n+1 at 0 °C. (0,
4 mmol) and diisopropylethylamine 0.07
m1 solution. The mixture is then stirred at 0° C. for 3 hours, then diluted with ethyl acetate and washed three times with water. The organic phase is dried over thorium sulfate and concentrated in a rotary evaporator. The crude product is purified on 10 g of silica gel using ethyl acetate as eluent. The title compound is obtained in the form of a white foam. IR (methylene chloride) = 17
Adsorption hunt at 90 and 1730 cm-1.

別−19− 前記の実施例に記載したのと同様の方法で下記の化合物
が得られる。
Separate-19- The following compound is obtained in the same manner as described in the above example.

(5R,6S)−2−アミノメチル〜6−((1’R)
−1−ヒドロキシエチル〕−2−ペネム−3−カルボン
酸1−エトキシカルボニルオキシエチルエステル 30 T R(CH2CI2 ) 41785.1.740c
m−’。
(5R,6S)-2-aminomethyl~6-((1'R)
-1-Hydroxyethyl]-2-penem-3-carboxylic acid 1-ethoxycarbonyloxyethyl ester 30 T R (CH2CI2) 41785.1.740c
m-'.

(5R,6S)−2−アミノメチル−6−((1’R)
−1−ヒドロギシエチル〕−2−ペネム−3−カルボン
酸ピバロイルオキシメチルエステルT R(CH2C1
2) : 1790.1735cm−”。
(5R,6S)-2-aminomethyl-6-((1'R)
-1-Hydroxyethyl]-2-penem-3-carboxylic acid pivaloyloxymethyl ester TR (CH2C1
2): 1790.1735cm-”.

桝叉度 有効成分として(5R,6S)−2−アミノメチル−6
−((1’R)−1−ヒドロキシエチル〕−2−ペネム
−3−カルボン酸0.5gをそれぞれ含む乾式アンプル
又はバイアルを下記のようにして製造する。
As an active ingredient, (5R,6S)-2-aminomethyl-6
Dry ampoules or vials each containing 0.5 g of -((1'R)-1-hydroxyethyl]-2-penem-3-carboxylic acid are prepared as follows.

uくアンプル又はバイアル1個当たり):有効成分 0
.5g マンニット 0.05 g 有効成分及びマンニットの滅菌水溶液を無菌条件下に5
mlのアンプル又は5mlのバイアル中で凍結乾燥し、
アンプル又はバイアルを融封し、チェックする。
(per ampoule or vial): Active ingredient 0
.. 5g Mannitol 0.05g A sterile aqueous solution of the active ingredient and Mannitol was prepared under aseptic conditions.
lyophilized in ml ampoules or 5 ml vials;
Melt and check the ampoule or vial.

前記の有効成分の代わりに、前記実施例の別の有効成分
、例えば(5R,63)−2−アミツメ31− チル−6−ヒドロキシメチル−2−ペネム−カルボン酸
を同量使用することもできる。
Instead of the active ingredients mentioned above, it is also possible to use the same amount of another active ingredient from the examples above, such as (5R,63)-2-amythyl-31-thyl-6-hydroxymethyl-2-penem-carboxylic acid. .

以下余白 +32Margin below +32

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式(■): 〔式中R1はヒドロキシ基又は保護されたヒドロキシ基
で置換された低級アルキル基を表し、R2はカルボキシ
基又は官能基で変性されたカルボキシ基を表し、R3は
アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、置換
メチレンアミノ基又は保護されたアミノ基を表す〕の光
学的に実質的に純粋な(5R,6S)−配置の化合物、
基R3にキラリティ中心を有する一般式(1)の化合物
の光学異性体、これらの光学異性体の混合物及び塩形成
基を有する一般式(1)の化合物の塩。 2、 R1がヒドロキシ基又は保護されたヒドロキシ基
で置換された低級アルキル基を表し、R2がカルボキシ
基、生理学的条件下に分解しうるエステル化カルボキシ
基、又は保護されたカルボキシ基R21を表し、R3が
アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジー低級アルキルア
ミノ基、弐N−C(X+ 、X2 ) (式中X1は水
素、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジー低級アルキ
ルアミノ基、低級アルキレンアミノ基、ニトロアミノ基
、ヒドラジノ基、アニリノ基、低級アルコキシ基、フェ
ニル−低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級ア
ルキル基、アミノ−低級アルキル基、N−低級アルキル
アミノー低級アルキル基、N、 N−ジー低級アルキル
アミノ−低級アルキル基、低級アルケニル基、フェニル
基、ピリジル基、例えば2−若しくは4−ピリジル基、
チェニル基、例えば2−チェニル基、又はチアゾリル基
、例えば4−チアゾリル基を表し、X2はアミノ基、低
級アルキルアミノ基、ジー低級アルキルアミノ基、低級
アルキレンアミノ基、シアンアミノ基、ヒドラジノ基、
アニリノ基、低級アルコキシ基、フェニル−低級アルコ
キシ基又は低級アルキルチオ基を表す)の基を表すか、
又はR3が保護されたアミノ基を表す特許請求の範囲第
1項記載の一般式(T)の化合物、基R1にキラリティ
中心を有する一般式(1)の化合物の光学異性体、これ
らの光学異性体の混合物及び光学的に実質的に純粋な形
の、塩形成基を有する一般式(1)の化合物の塩。 3、 R1がα−位がヒドロキシ基、トリー低級アルキ
ルシリルオキシ基、2−ハロー低級アルコキシ基、2−
ハロー低級アルコキシカルボニルオキシ基、低級アルケ
ニルオキシカルボニルオキシ基又は非置換若しくはニト
ロ置換フ、lニルー低級アルコキシカルボニルオキシ基
で置換された低級アルキル基を表し、R2がカルボキシ
基、低級アルケニルオキシカルボニル基、非置換若しく
はニトロ置換ベンジルオキシカルボニル基、低級アルカ
ノイルメトキシカルボニル基、2−ハロー低級アルコキ
シカルボニル基、2−トリー低級アルキルシリルエトキ
シカルボニル基又は生理学的条件下に分解しうるエステ
ル化カルボキシ基、例えば1−低級アルコキシカルボニ
ルオキシー低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノ
イルオキシメトキシカルボニル基、α−アミノ−低級ア
ルカノイルオキシメトキシカルボニル基又はフタリジル
オキシカルボニル基を表し、R3がアミノ基、低級アル
キルアミノ基、ジー低級アルキルアミノ基、式−N−C
(X+ 、X2 )(式中X1は水素、アミノ基、低級
アルキルアミノ基、低級アルキル基、フェニル基又はピ
リジル基、例えば2−ピリジル基を表し、X2はアミノ
基、低級アルキルアミノ基又はジー低級アルキルアミノ
基を表す)の基を表すか、又はR3がアジド基、フタル
イミノ基、ニトロ基、低級アルケニルオキシカルボニル
アミノ基、非置換若しくはニトロ置換ベンジルオキシカ
ルボニルアミノ基、1−低級アルカノイルー低級アルク
−1−エン−2−イルアミノ基又は1−低級アルコキシ
カルボニルー低級アルク−1−エン−2−イルアミノ基
を表ず特許請求の範囲第1項記載の一般式(1)の化合
物、基R1にキラリティ中心を有する一般式(T)の化
合物の光学異性体、これらの光学異性体の混合物及び光
学的に実質的に純粋な形の、塩形成基を有する一般式(
I)の化合物の塩。 4、 R1がα−位がヒドロキシ基で置換された低級ア
ルキル基を表し、R2がカルボキシ基又は生理学的条件
下に分解しうるエステル化カルボキシ基、例えば1−低
級アルコキシーカルボニルオキシー低級アルコキシカル
ボニル基又は低級アルカノイルオキシ−メトキシカルボ
ニル基を表し、R3がアミノ基、低級アルキルアミノ基
又はホルムアミジノ基を表す特許請求の範囲第1項記載
の一般式(1)の化合物、基R1にキラリティ中心を有
する一般式(1)の化合物の光学異性体、これらの光学
異性体の混合物及び光学的に実質的に純粋な形の、塩形
成基を有する一般式N)の化合物の塩。 5、 R1がヒドロキシメチル基又は1−ヒドロキシエ
チル基を表し、R2がカルボキシ基を表し、R3がアミ
ノを表す特許請求の範囲第1項記載の一般式(1)の化
合物及び光学的に実質的に純粋な形のその塩。 6、基R,にキラリティ中心を有する特許請求の範囲第
1項記載の一般式(1)の化合物の純粋な光学異性体。 7、 R1が1−ヒドロキシエチル基を表し、R2及び
R3が特許請求の範囲第1項に記載のものを表す特許請
求の範囲第1項記載の一般式(1)の化合物のく1“R
)−異性体。 8、特許請求の範囲第1項に記載の一般式CI)の化合
物の医薬に許容しうる塩。 9、生理学的条件下に分解しろる一般式(I)の化合物
のエステル特許請求の範囲第1項記載の化合物。 10、(5R,6S)−2−アミノメチル−6−ヒドロ
キシメチル−2−ベネム−3−カルボン酸及びその光学
的に実質的に純粋な形の、医薬に許容しうる塩である特
許請求の範囲第1項記載の化合物。 1.1.2−(N−メチルアミノメチル)−6−((1
’R)−1−ヒドロキシエチルツー2−ベネム−3−カ
ルボン酸及びその光学的に実質的に純粋な形の、医薬に
許容しうる塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物
。 12、(5R,6S)−1−(N−ホルムアミジノメチ
ル)−6−ヒドロキシメチル−2−ペネム−3−カルボ
ン酸及びその光学的に実質的に純粋な形の、医薬に許容
しうる塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 ]、3. (5R,6S)−2−(N−ポルムアミジノ
メチル)−6−((1’R)−1−ヒドロキシエチルツ
ー2−ベネム−3−カルボン酸及びその光学的に実質的
に純粋な形の、医薬に許容しうる塩である特許請求の範
囲第1項記載の化合物。 14、(5R,63)−2−(N−アセトアミジノメチ
ル)−6−((1’R)−1−ヒドロキシエチルツー2
−ベネム−3−カルボン酸及びその光学的に実質的に純
粋な形の、医薬に許容しうる塩である特許請求の範囲第
1項記載の化合物。 15、 (5R,6S)−2−(N−メチルアミノメチ
ル)−6−ヒドロキシメチル−2−ベネム−3−カルボ
ン酸及びその光学的に実質的に純粋な形の、医薬に許容
しうる塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物。 16、(5R,63)−2−アミノメチル−6−((1
’R)−1−ヒドロキシエチルツー2−ペネム−3−カ
ルボン酸及びその光学的に実質的に純粋な形の、医薬に
許容しうる塩である特許請求の範囲第1項記載の化合物
。 17、一般式(■); 〔式中R1はヒドロキシ基又は保護されたヒドロキシ基
で置換された低級アルキル基を表し、R2はカルボキシ
基又は官能基で変性されたカルボキシ基を表し、R3は
アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、置換
メチレンアミノ基又は保護されたアミノ基を表す〕の化
合物又は塩形成基を有する該化合物の医薬に許容しうる
塩を含む医薬製剤。 18、哺乳動物に特許請求の範囲第1項記載の一般式(
1)の化合物又は該化合物の医薬に許容しうる塩の治療
有効量を投与することを特徴とする哺乳動物の細菌感染
の治療方法。 19、一般式(■): 〔式中R1はヒドロキシ基又は保護されたヒドロキシ基
で置換された低級アルキル基を表し、R2はカルボキシ
基又は官能基で変性されたカルボキシ基を表し、R3は
アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、置換
メチレンアミノ基又は保護されたアミノ基を表す〕の光
学的に実質的に純粋な(5R,6,5)−配置の化合物
、基R1にキラリティ中心を有する一般式(I)の化合
物の光学異性体、これらの光学異性体の混合物及び塩形
成基を有する一般式(1)の化合物の塩を製造するため
、 a)一般式(I’): 〔式中R7は一般式(I)の下に挙げた定義を有し、R
2Tは保護されたカルボキシ基を表し、Qは基R3に変
換しうる基を表す〕の化合物中の基Qを基R3に変換さ
せるか、又は b)一般式(■): 1 〔式中R1及びR3は一般式(T)の下に挙げた定義を
有し、R21は保護されたカルボキシ基を表し、Zは酸
素又は硫黄を表し、X■は陽イオンと−緒にトリー置換
ホスホニオ基又はジエステル化ホスボッ基を表す〕のイ
リド化合物を閉環させるか、又は C)一般式(■): 〔式中R1及びR3は一般式(1)の下に挙げた定義を
有し、Zは酸素又は硫黄を表し、R2’は保護されたカ
ルボキシ基を表す〕の化合物を3価の燐の有機化合物で
処理するか、又は d)一般式(III’): 〔式中R1及びR3は一般式(I)の下に挙げた定義を
有し、R21は保護されたカルボキシ基を表し、Xは基
−8−又は基−3O2−を表す〕の化合物中の基Xを除
去し、所望又は必要な場合、一般式N)の生成した化合
物において、基R1中の保護されたヒドロキシ基を遊離
ヒドロキシ基に変え、及び/又は所望の場合、一般式N
)の生成した化合物中の保護されたカルボキシ基R2′
を遊離カルボキシ基、生理学的条件下に分解しうるエス
テル化カルボキシ基又は異なる保護されたカルボキシ基
R2′に変えるか、又は遊離カルボキシ基R2を生理学
的条件下に分解しうるエステル化カルボキシ基又は保護
されたカルボキシ基R2ゝに変え、及び/又は所望の場
合、保護されたアミノ基R3を遊離アミノ基に変えるか
、又は遊離アミノ基R3を置換アミノ基に変え、及び/
又は所望の場合、生成する塩形成基を有する化合物を塩
に変えるか、又は生成する塩を遊離化合物又は異なる塩
に変え、及び/又は所望の場合、生成する一般式(1)
の異性体化合物の混合物を個々の異性体に分離すること
を特徴とする2−アミノメチル化合物の製造方法。 20、一般式(V’): 〔式中R1はヒドロキシ基又は保護されたヒドロキシ基
で置換された低級アルキル基を表し、Zは酸素又は硫黄
を表し、R3はアミノ基、低級アルキル置換アミノ基、
置換メチレンアミノ基又は保護されたアミノ基を表す〕
の光学的に実質的に純粋な(3R,43)−配置の化合
物、基R1にキラリティ中心を有する一般式(Vl)の
化合物の光学異性体及びこれらの光学異性体の混合物。 21、一般式(■): 〔式中R1はヒドロキシ基又は保護されたヒドロキシ基
で置換された低級アルキル基を表し、R2′は保護され
たカルボキシ基を表し、R3はアミノ基、低級アルキル
置換アミノ基、置換メチレンアミノ基又は保護されたア
ミノ基を表し、Zは酸素又は硫黄を表す〕の光学的に実
質的に純粋な(3R,43)−配置の化合物、基R1に
キラリティ中心を有する一般式(III)の化合物の光
学異性体及びこれらの光学異性体の混合物。
[Claims] 1. General formula (■): [In the formula, R1 represents a hydroxy group or a lower alkyl group substituted with a protected hydroxy group, and R2 is a carboxy group or a carboxy group modified with a functional group. and R3 represents an amino group, an amino group substituted with a lower alkyl group, a substituted methylene amino group or a protected amino group], an optically substantially pure (5R,6S)-configured compound,
Optical isomers of the compound of general formula (1) having a chirality center in the group R3, mixtures of these optical isomers, and salts of the compound of general formula (1) having a salt-forming group. 2, R1 represents a hydroxy group or a lower alkyl group substituted with a protected hydroxy group, R2 represents a carboxy group, an esterified carboxy group that can be decomposed under physiological conditions, or a protected carboxy group R21; R3 is an amino group, a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, 2N-C(X+, X2) (wherein X1 is hydrogen, an amino group, a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, a lower alkylene amino group , nitroamino group, hydrazino group, anilino group, lower alkoxy group, phenyl-lower alkoxy group, lower alkylthio group, lower alkyl group, amino-lower alkyl group, N-lower alkylamino-lower alkyl group, N, N-di lower alkylamino-lower alkyl groups, lower alkenyl groups, phenyl groups, pyridyl groups, such as 2- or 4-pyridyl groups,
represents a chenyl group, such as a 2-chenyl group, or a thiazolyl group, such as a 4-thiazolyl group;
anilino group, lower alkoxy group, phenyl-lower alkoxy group or lower alkylthio group),
or a compound of the general formula (T) according to claim 1, in which R3 represents a protected amino group, optical isomers of the compound of the general formula (1) having a center of chirality in the group R1, and optical isomers thereof. Salts of compounds of general formula (1) having salt-forming groups in mixtures of compounds and in optically substantially pure form. 3. R1 is a hydroxy group at the α-position, a tri-lower alkylsilyloxy group, a 2-halo lower alkoxy group, a 2-
halo represents a lower alkoxycarbonyloxy group, a lower alkenyloxycarbonyloxy group, or a lower alkyl group substituted with an unsubstituted or nitro-substituted phenylene group, and R2 represents a carboxy group, a lower alkenyloxycarbonyl group, a Substituted or nitro-substituted benzyloxycarbonyl groups, lower alkanoylmethoxycarbonyl groups, 2-halo lower alkoxycarbonyl groups, 2-tri-lower alkylsilylethoxycarbonyl groups or esterified carboxy groups decomposable under physiological conditions, such as 1-lower Alkoxycarbonyloxy-lower alkoxycarbonyl group, lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group, α-amino-lower alkanoyloxymethoxycarbonyl group or phthalidyloxycarbonyl group, R3 is an amino group, a lower alkylamino group, a di-lower alkylamino group, Formula-N-C
(X+, (represents an alkylamino group), or R3 represents an azide group, a phthalimino group, a nitro group, a lower alkenyloxycarbonylamino group, an unsubstituted or nitro-substituted benzyloxycarbonylamino group, a 1-lower alkanoyl-lower alk-1 The compound of the general formula (1) according to claim 1, which does not represent an -en-2-ylamino group or a 1-lower alkoxycarbonyl-lower alk-1-en-2-ylamino group, has a chirality center in the group R1. Optical isomers of compounds of the general formula (T) having a salt-forming group, mixtures of these optical isomers and optically substantially pure forms of the compound of the general formula (T) having a salt-forming group
Salts of compounds of I). 4. R1 represents a lower alkyl group substituted with a hydroxy group at the α-position, and R2 is a carboxy group or an esterified carboxy group that can be decomposed under physiological conditions, such as a 1-lower alkoxycarbonyloxy-lower alkoxycarbonyl group. or represents a lower alkanoyloxy-methoxycarbonyl group, and R3 represents an amino group, a lower alkylamino group, or a formamidino group, a compound of the general formula (1) according to claim 1, having a center of chirality in the group R1 Optical isomers of compounds of general formula (1), mixtures of these optical isomers and salts of compounds of general formula N) with salt-forming groups in optically substantially pure form. 5. The compound of the general formula (1) according to claim 1, in which R1 represents a hydroxymethyl group or a 1-hydroxyethyl group, R2 represents a carboxy group, and R3 represents an amino group, and an optically substantially its salt in its pure form. 6. A pure optical isomer of the compound of general formula (1) according to claim 1, which has a center of chirality in the group R. 7. 1"R of the compound of the general formula (1) according to claim 1, in which R1 represents a 1-hydroxyethyl group and R2 and R3 represent the compounds described in claim 1
) - isomer. 8. A pharmaceutically acceptable salt of a compound of general formula CI) according to claim 1. 9. Ester of the compound of general formula (I) which decomposes under physiological conditions. The compound according to claim 1. 10, (5R,6S)-2-aminomethyl-6-hydroxymethyl-2-benem-3-carboxylic acid and the pharmaceutically acceptable salts thereof in optically substantially pure form. A compound according to scope 1. 1.1.2-(N-methylaminomethyl)-6-((1
'R)-1-Hydroxyethyl-2-benem-3-carboxylic acid and the pharmaceutically acceptable salt thereof in optically substantially pure form. 12, (5R,6S)-1-(N-formamidinomethyl)-6-hydroxymethyl-2-penem-3-carboxylic acid and its optically substantially pure form, pharmaceutically acceptable salts. The compound according to claim 1, which is ], 3. (5R,6S)-2-(N-polamidinomethyl)-6-((1'R)-1-hydroxyethyl-2-benem-3-carboxylic acid and its optically substantially pure form The compound according to claim 1, which is a pharmaceutically acceptable salt of 14, (5R,63)-2-(N-acetamidinomethyl)-6-((1'R)-1- Hydroxyethyl two 2
-Benem-3-carboxylic acid and its pharmaceutically acceptable salts in optically substantially pure form. 15. (5R,6S)-2-(N-methylaminomethyl)-6-hydroxymethyl-2-benem-3-carboxylic acid and pharmaceutically acceptable salts thereof in optically substantially pure form The compound according to claim 1, which is 16, (5R,63)-2-aminomethyl-6-((1
'R)-1-Hydroxyethyl-2-penem-3-carboxylic acid and its pharmaceutically acceptable salts in optically substantially pure form. 17, General formula (■); [In the formula, R1 represents a hydroxy group or a lower alkyl group substituted with a protected hydroxy group, R2 represents a carboxy group or a carboxy group modified with a functional group, and R3 represents an amino or a pharmaceutically acceptable salt of said compound having a salt-forming group. 18. The general formula (
1. A method for treating bacterial infections in mammals, which comprises administering a therapeutically effective amount of the compound of 1) or a pharmaceutically acceptable salt thereof. 19. General formula (■): [In the formula, R1 represents a hydroxy group or a lower alkyl group substituted with a protected hydroxy group, R2 represents a carboxy group or a carboxy group modified with a functional group, and R3 represents an amino group, representing an amino group substituted with a lower alkyl group, a substituted methylene amino group or a protected amino group], a compound having chirality in the group R1 For producing optical isomers of compounds of general formula (I) having a center, mixtures of these optical isomers and salts of compounds of general formula (1) having a salt-forming group, a) general formula (I') : [In the formula, R7 has the definition given below in general formula (I), and R
2T represents a protected carboxy group and Q represents a group convertible to group R3], or b) general formula (■): 1 [wherein R1 and R3 have the definitions listed under general formula (T), R21 represents a protected carboxy group, Z represents oxygen or sulfur, and X, together with the cation, represents a tri-substituted phosphonio group or or C) general formula (■): [wherein R1 and R3 have the definitions listed under general formula (1), and Z is oxygen or sulfur and R2' represents a protected carboxy group] with an organic compound of trivalent phosphorus, or d) a compound of the general formula (III'): [wherein R1 and R3 are of the general formula ( I), R21 represents a protected carboxy group and X represents a group -8- or a group -3O2-] by removing the group If desired, in the resulting compound of general formula N) the protected hydroxy group in the group R1 is changed to a free hydroxy group and/or if desired, in the resulting compound of general formula N
) protected carboxy group R2' in the compound produced
into a free carboxy group, an esterified carboxy group that can be decomposed under physiological conditions or a different protected carboxy group R2', or an esterified carboxy group or a protection that can decompose the free carboxyl group R2 under physiological conditions. and/or, if desired, changing the protected amino group R3 to a free amino group or changing the free amino group R3 to a substituted amino group, and/or
or, if desired, converting the resulting compound with a salt-forming group into a salt, or converting the resulting salt into a free compound or a different salt, and/or, if desired, creating the general formula (1)
A method for producing a 2-aminomethyl compound, which comprises separating a mixture of isomeric compounds into individual isomers. 20. General formula (V'): [In the formula, R1 represents a hydroxy group or a lower alkyl group substituted with a protected hydroxy group, Z represents oxygen or sulfur, and R3 is an amino group, a lower alkyl-substituted amino group ,
Represents a substituted methylene amino group or a protected amino group]
optically substantially pure (3R,43)-configured compounds, optical isomers of compounds of general formula (Vl) having a center of chirality in the group R1 and mixtures of these optical isomers. 21. General formula (■): [In the formula, R1 represents a hydroxy group or a lower alkyl group substituted with a protected hydroxy group, R2' represents a protected carboxy group, and R3 is an amino group, a lower alkyl substituted represents an amino group, a substituted methylene amino group or a protected amino group, and Z represents oxygen or sulfur], having a center of chirality in the group R1 Optical isomers of the compound of general formula (III) and mixtures of these optical isomers.
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