JPS6067654U - イオン注入装置 - Google Patents
イオン注入装置Info
- Publication number
- JPS6067654U JPS6067654U JP16000883U JP16000883U JPS6067654U JP S6067654 U JPS6067654 U JP S6067654U JP 16000883 U JP16000883 U JP 16000883U JP 16000883 U JP16000883 U JP 16000883U JP S6067654 U JPS6067654 U JP S6067654U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- chamber
- ion implanter
- airtight chamber
- ion implantation
- Prior art date
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- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は従来のイオン注入装置の要部を示す要部説明縦
断面図、第２図はこの考案に係るイオン注入装置の一実
施例を示す第１図相当図である。 ７・・・・・・イオン注入装置、８・・・・・・気密室
、９・・・・・・高電圧室、１０・・・・・・絶縁架台
体、１１・・・・・・Ｓ Ｆ ｓガス。
断面図、第２図はこの考案に係るイオン注入装置の一実
施例を示す第１図相当図である。 ７・・・・・・イオン注入装置、８・・・・・・気密室
、９・・・・・・高電圧室、１０・・・・・・絶縁架台
体、１１・・・・・・Ｓ Ｆ ｓガス。
Claims (1)
- Ｘ線を遮蔽する気密室内に、イオン源を高電圧下に置く
高電圧室と、この高電圧室を気密室の内周壁面と空間を
介して支持する絶縁支持体とを備え、気密室内に、前記
空間絶縁用の六フッ化イオウガスを封入してなるイオン
注入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16000883U JPS6067654U (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | イオン注入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16000883U JPS6067654U (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | イオン注入装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6067654U true JPS6067654U (ja) | 1985-05-14 |
Family
ID=30352065
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16000883U Pending JPS6067654U (ja) | 1983-10-14 | 1983-10-14 | イオン注入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6067654U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009532826A (ja) * | 2006-03-31 | 2009-09-10 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | イオン注入システムのターミナル構造体のための絶縁体系 |
-
1983
- 1983-10-14 JP JP16000883U patent/JPS6067654U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009532826A (ja) * | 2006-03-31 | 2009-09-10 | バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド | イオン注入システムのターミナル構造体のための絶縁体系 |
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