JPS606350A - Wet type blast device - Google Patents

Wet type blast device

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JPS606350A
JPS606350A JP11379183A JP11379183A JPS606350A JP S606350 A JPS606350 A JP S606350A JP 11379183 A JP11379183 A JP 11379183A JP 11379183 A JP11379183 A JP 11379183A JP S606350 A JPS606350 A JP S606350A
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boiling point
tank
line
low boiling
liquid
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Shigeru Sakuma
繁 佐久間
Seihachiro Honma
本間 征八郎
Toshimasa Nakahara
中原 敏雅
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GENSHIRYOKU DAIKO KK
MIKI KOGYO KK
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C S C KK
GENSHIRYOKU DAIKO KK
MIKI KOGYO KK
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/08Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for polishing surfaces, e.g. smoothing a surface by making use of liquid-borne abrasives

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain good flushing and degreasing effects as well as to perform a speedy process and dryness in a processed work in a short time, by jetting a mixed solution of a low boiling point solvent and an abrasive and thereby performing both flushing and grinding for the processed work. CONSTITUTION:A mixed solution 2 of a low boiling point solvent and an abrasive is stored inside a lower tank 3 of a processing vessel 1 having highly sealability and jetted to a processed work inside the vessel 1 from an injection nozzle 4 by a pump 6 via a line 30 and a valve V8. With this constitution, a process for the processed work can be speedily achieved by good flushing and degreasing effects owing to the low boiling point solvent of dichlorodifluoromethane or the like and furthermore the processed work is dried up in a short time by the low boiling point properties of the said solvent, while flushing impurities and the abrasive are dried up in a short time as well and able to be collected.

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は研磨材である砥粒を混合させた混合液を機械部
品等の被処理物に投射し被処理物に付着した汚れ、油脂
 錆等の表面固着物の研削、又は表面硬化等を行う湿式
ブラスト装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] Technical field The present invention is directed to the treatment of surface-fixed substances such as dirt, oil, and rust that adhere to the workpiece by projecting a liquid mixture containing abrasive grains, which is an abrasive material, onto the workpiece such as mechanical parts. This relates to a wet blasting device that performs grinding, surface hardening, etc.

従来技術 従来、この種の湿式ブラスト装置は、水とアルミナ又は
ガラス・ビーズ等の研磨材の混合液を圧縮空気と共にノ
ズルから噴射させる構成のものがある。混合液の噴射に
よって被処理物の表面及び隙間等にイリ着した汚れ等の
固着物の除去と表面の仕上げ加工等を行うものである。
BACKGROUND ART Conventionally, this type of wet blasting apparatus has a structure in which a liquid mixture of water and an abrasive material such as alumina or glass beads is injected from a nozzle together with compressed air. By spraying the mixed liquid, dirt and other adhered substances stuck to the surface and gaps of the object to be treated are removed, and the surface is finished.

ところが、上記従来の湿式ブラスト装置においては、噴
射液として水を用いているので十分な洗浄脱脂効果が得
られず、被処理物の処理に時間を要し、かつ研削処理後
の被処理物の乾燥に時間がかかる。また、水分を含んで
いるため、使用済の研磨材の回収が困難であると共に、
研削によって除去された固着物からなる汚物の処理が面
倒である等の問題点を有していた。
However, in the above-mentioned conventional wet blasting equipment, since water is used as the injection liquid, a sufficient cleaning and degreasing effect cannot be obtained, it takes time to process the workpiece, and the workpiece after grinding is It takes time to dry. In addition, it is difficult to collect used abrasive materials because they contain moisture.
There have been problems in that it is troublesome to dispose of the dirt made up of stuck substances removed by grinding.

発明の目的 本発明は以」二述べたような従来の湿式ブラスト装置の
有する問題点に鑑みなされたものであり。
OBJECTS OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the problems of conventional wet blasting equipment as described below.

その目的とするところは極めて良好な洗浄・脱脂効果が
得られ、迅速な処理を行うことができかつ被処理物の乾
燥が短時間に行われる湿式ブラスト装置を提供すること
にある。
The purpose is to provide a wet blasting apparatus that can provide extremely good cleaning and degreasing effects, can perform rapid processing, and can dry objects to be treated in a short period of time.

また、本発明の他の目的は洗浄汚物及び研磨材の乾燥時
間を短縮できる湿式ブラスト装置を提供することにある
Another object of the present invention is to provide a wet blasting device that can shorten the drying time of cleaned dirt and abrasive material.

実施例 以下、本発明につき好適なる一実施例を示す図面を参照
して詳細に説明する。
Embodiment Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本発明の一実施例に係る湿式ブラスト装置の基本構成を
示す図において、参照番号lは原子力発電所における汚
染工具等の被処理物(図示せず)の処理を行う処理容器
であり、高い密閉性を有する構造である。処理容器lの
下部に設けられたタンク3内には低沸点溶剤であるフロ
ンとアルミナ又はガラス・ビーズ等の研磨材を混合して
成る混合液2が貯えられている。4は噴射ノズルである
。タンク3の4昆合液2はポンプ6によりライン30、
バルブV8を介して送られ後述のフロンガスと共に噴射
ノズル4から処理容器1内に配された被処理物に噴出さ
れる。
In the diagram showing the basic configuration of a wet blasting apparatus according to an embodiment of the present invention, reference number 1 is a processing container for processing objects to be processed (not shown) such as contaminated tools in a nuclear power plant, and is highly airtight. It is a structure that has characteristics. A tank 3 provided at the bottom of the processing container 1 stores a liquid mixture 2 made of a mixture of fluorocarbon, which is a low boiling point solvent, and an abrasive material such as alumina or glass beads. 4 is an injection nozzle. The liquid 2 in the tank 3 is transferred to the line 30 by the pump 6.
It is sent through the valve V8 and is ejected from the injection nozzle 4 onto the object to be processed placed in the processing container 1 together with a fluorocarbon gas which will be described later.

噴出した混合液2は被処理物から除去された固着物と共
に再びタンク3に戻るが、フロン液のうち一部は気化し
処理容器1上部の廃棄筒よりフィルタ7、バルブv2の
あるライン31を通って圧縮機8に送られる。フィルタ
7はフロンガスに含まれている研磨材等の微粒子を除去
するためのものである。ライン31を介して圧縮機8に
送られたフロンガスは圧縮されて高圧ガスとなり、油分
離器9及びドライヤlOを経てライン32、バルブVl
を通って前述したポンプ6によって吸い上げられた混合
液2の加圧源として噴射される。運転中は以上の循環系
により連続平衡状態を保つ。
The spouted mixed liquid 2 returns to the tank 3 together with the solid matter removed from the object to be processed, but a portion of the Freon liquid is vaporized and is sent from the waste tube at the top of the processing container 1 to the line 31 where the filter 7 and valve v2 are located. and is sent to the compressor 8. The filter 7 is for removing particulates such as abrasives contained in the fluorocarbon gas. The fluorocarbon gas sent to the compressor 8 via the line 31 is compressed and becomes a high-pressure gas, which passes through the oil separator 9 and the dryer lO to the line 32 and the valve Vl.
The mixed liquid 2 is injected as a pressurized source through which the mixed liquid 2 is sucked up by the pump 6 described above. During operation, a continuous equilibrium state is maintained by the above circulation system.

ここで、油分離器9は圧縮機8内の潤滑油がフロンガス
に混入するため、これを除去すると共にライン33及び
34を介して再び圧縮機8内に戻すものである。これに
より、潤滑油の消費が抑えられる。ドライヤ10は処理
容器l内の残留空気がフロンガスに4記入するため、空
気に含まれる水分を除去するものである。
Here, since the lubricating oil in the compressor 8 mixes with the freon gas, the oil separator 9 removes it and returns it to the compressor 8 via the lines 33 and 34. This reduces lubricant consumption. The dryer 10 removes moisture contained in the air since residual air in the processing container 1 is added to the fluorocarbon gas.

なお、前述のポンプ6によりライン30、噴射ノズル4
、タンク3を高速循環する混合液2の一部は攪拌用ライ
ン35に分流して直接タンク3に返還される。この攪拌
用ライン35からの返還により、タンク3内の混合液2
の撹拌がなされ、フロン液と研磨材粒子との混合状態が
均一に保たれ、研磨材のみが沈εすることが防市される
In addition, the line 30 and the injection nozzle 4 are
A part of the liquid mixture 2 circulating at high speed in the tank 3 is diverted to the stirring line 35 and directly returned to the tank 3. By returning from this stirring line 35, the mixed liquid 2 in the tank 3
Stirring is performed to maintain a uniform mixing state of the Freon liquid and the abrasive particles, and to ensure that only the abrasive particles settle.

さて、噴射ノズル4から噴射された混合液2及びフロン
ガスは高圧状態から急激に解放されることから、フロン
ガスの自己冷却作用が働き温度が低下する。一方、ポン
プ6により高速循環する混合液2は前述の撹拌に伴う熱
によって温度がhklするか、上記の温度低下と平衡す
るため処理容器1内の温度及びタンク3内の混合液2の
温度はフロンの大気圧での沸点以下の温度に保たれる。
Now, since the mixed liquid 2 and the fluorocarbon gas injected from the injection nozzle 4 are suddenly released from the high pressure state, the self-cooling action of the fluorocarbon gas acts and the temperature decreases. On the other hand, the temperature of the mixed liquid 2 circulated at high speed by the pump 6 increases due to the heat generated by the stirring described above, or the temperature in the processing container 1 and the temperature of the mixed liquid 2 in the tank 3 decrease. The temperature is kept below the boiling point of Freon at atmospheric pressure.

従って、被処理物を処理容器lに出し入れする時に、開
閉用扉を開放してもフロンの蒸発による消費は微少に抑
えられる。また、圧縮機8のフロンガス吸引量をノズル
4からの噴出量よりも多くして運転中の処理容器内を常
に外気より負圧に保つことにより、ガスの漏れを防ぐと
共に、汚染物の外部漏洩を防いでいる。
Therefore, even if the opening/closing door is opened when the object to be processed is taken into or taken out of the processing container 1, the consumption of fluorocarbon due to evaporation can be suppressed to a minimum. In addition, by increasing the amount of fluorocarbon gas suctioned by the compressor 8 than the amount ejected from the nozzle 4 to maintain the inside of the processing container at a negative pressure compared to the outside air at all times during operation, gas leakage is prevented and contaminants are leaked to the outside. is prevented.

圧縮機8から吐出された高圧のフロン刀゛スの一部はラ
イン36で分流され圧力弁11を経て液化器12へ送ら
れる。圧力弁11は圧縮4a、8による吸引、吐出を調
節するものであり、処理容器1がらライン31、ライン
32を経て処理容器1へ至るフロンガスの流れが平衡状
態を保つよう余剰のガスを液化器12へ導く。液化器1
2は送られたフロンガスを冷却器12−1によって液化
されるト共に、フロンガスに混入していた残留空気を#
[気管12−1から分離除去させることができる。
A portion of the high-pressure front fluid discharged from the compressor 8 is diverted through a line 36 and sent to the liquefier 12 via a pressure valve 11. The pressure valve 11 is used to adjust suction and discharge by the compressors 4a and 8, and drains excess gas into the liquefier so that the flow of fluorocarbon gas from the processing container 1 to the processing container 1 via the lines 31 and 32 maintains an equilibrium state. Lead to 12. Liquefier 1
2 liquefies the sent Freon gas by the cooler 12-1, and removes the residual air mixed in the Freon gas.
[It can be separated and removed from the trachea 12-1.

更に、液化したフロンは液化器12からライン37、バ
ルブv3を経て蒼留器13に送られる。
Further, the liquefied fluorocarbon is sent from the liquefier 12 to the liquefier 13 via the line 37 and valve v3.

蒸留器13に送られたフロンはヒータエ4の加熱による
蒸発と、冷凍機19からの冷却器13−1による液化に
よって再度凝縮され、ライン38を介して次の貯液器1
6に送られる。なお、15は水分離器であり、蒸留器1
3内の残留水分を除去する。また、」二記蒸留によって
フロンから分離され蒸留器13下部に溜った油(前記油
分離器9によって除去17きれなかった圧縮機8の潤滑
油)はライン39を介して圧縮機8に戻される。
The fluorocarbons sent to the distiller 13 are evaporated by heating by the heater 4 and condensed again by the cooler 13-1 from the refrigerator 19, and then sent to the next liquid reservoir 1 via the line 38.
Sent to 6. In addition, 15 is a water separator, and distiller 1
Remove residual moisture in 3. In addition, the oil separated from the fluorocarbons by the second distillation and accumulated at the bottom of the distiller 13 (the lubricating oil of the compressor 8 that could not be removed by the oil separator 9) is returned to the compressor 8 via the line 39. .

貯液器16は蒸留された清浄フロンを貯えるため冷凍機
19による冷却器16−1を備える。また新液供給のた
めの給液口17を備える。貯液器16に接続された給液
ポンプ18は、貯えられたフロンをライン40を経て処
理容器l内のタンク3に供給すると共に、噴射ノズル4
による処理が終了した被処理物の最終洗浄のため洗浄ノ
ズル5へ送る。洗浄ノズル5へのフロン液の供給はライ
ン40から分流するライン41を介して行われる。また
、タンク3及び洗浄ノズル5への供給はバルブto、i
iの開閉により同時に又は必要に応じ一方のみが行われ
、かつ供給量が調節される。タンク3に取付けられた液
面計120は常に適正な液量を保つよう、減少分を検知
し、給液ポンプを作動させて液面を一定に保つ。
The liquid reservoir 16 includes a cooler 16-1 including a refrigerator 19 to store distilled clean fluorocarbon. It also includes a liquid supply port 17 for supplying new liquid. A liquid supply pump 18 connected to the liquid reservoir 16 supplies the stored fluorocarbon to the tank 3 in the processing container l through a line 40, and also supplies it to the injection nozzle 4.
The processed object is sent to the cleaning nozzle 5 for final cleaning. The fluorocarbon liquid is supplied to the cleaning nozzle 5 via a line 41 that branches off from a line 40. In addition, the supply to the tank 3 and the cleaning nozzle 5 is through valves to and i.
By opening and closing i, either one of them is performed simultaneously or as necessary, and the supply amount is adjusted. A liquid level gauge 120 attached to the tank 3 detects a decrease and operates a liquid supply pump to maintain a constant liquid level so as to always maintain an appropriate liquid level.

次に、前述した如くポンプ6で吸い上げられた混合液2
の一部はライン42 、 /<ルプv7を通って2本の
サイクロン21に送られる。サイクロン2工によって混
合液2に含まれる噴射ノズル4の噴出による研削のため
に破砕した微細な研磨材や被処理物から除去された表面
固着物(洗浄汚物)を分離除去し、下部に連結されてい
るスラッジタンク22に落す、このシステムより、タン
ク3内に研磨材等の微塵や洗浄汚物が蓄積するのを防止
することができる。サイクロン21による分離除去が終
了して残ったフロンは、ライン43.バルブV6を介し
て再びタンク3に回収される。また、洗浄汚物と共にタ
ンク22内に混入したフロン液はライン49.バルブv
9を介してタンク3に戻る。
Next, as mentioned above, the mixed liquid 2 sucked up by the pump 6
A part of it is sent to the two cyclones 21 through line 42, /<rupuv7. The cyclone 2 separates and removes the fine abrasives crushed for grinding by the jet from the jet nozzle 4 contained in the mixed liquid 2 and the surface adherents (cleaning dirt) removed from the workpiece, and connects it to the lower part. This system can prevent fine dust such as abrasive materials and cleaning dirt from accumulating in the tank 3. The remaining fluorocarbons after separation and removal by the cyclone 21 are transferred to the line 43. It is collected again into tank 3 via valve V6. Furthermore, the fluorocarbon solution mixed into the tank 22 along with the cleaning waste is transferred to the line 49. valve v
Return to tank 3 via 9.

23はタンク3内の研磨材を外部に回収するためのウェ
ットサイクロンである。ウェットサイクロン23は図中
A、A’において連結するライン44を介してタンク3
に接続しており、タンク3内から送られた混合液2から
研磨材を分離する。
23 is a wet cyclone for recovering the abrasive material in the tank 3 to the outside. The wet cyclone 23 connects to the tank 3 via a line 44 connected at A and A' in the figure.
The abrasive material is separated from the mixed liquid 2 sent from inside the tank 3.

分離された研磨材は回収タンク24に貯えられる。また
、残ったフロンはライン45を介して夕、ンク3へ戻さ
れる。
The separated abrasive material is stored in a recovery tank 24. Further, the remaining fluorocarbons are returned to the tank 3 via the line 45.

なお、上記スラッジタンク22及び回収タンク24に貯
えられた洗浄汚物や研磨材にはフロンが含まれているが
、その場合バルブV5 、V9およびバルブV13等を
操作することによりスラッジタンク22のライン46、
回収タンク24のライン47(B、B’において接続し
ている)を圧縮機8の吸入側のライン31.48と連通
させれば、圧縮機8の吸引によりスラッジタンク22、
回収タンク24内のフロンは気化回収され、タンク22
.24内に残留した洗浄汚物や研磨材は短時間で乾燥状
態となる。これにより、洗浄汚物及び回収した研磨材の
処理が極めて容易となる。また、以上の動作により研磨
材を回収した後のタンク3内のフロンはバルブv2開、
バルブvl閉の状態で圧縮機8のみを作動させることに
より貯液器16に気化回収することかできる。この場合
気化熱による温度低下を防ぎ、かつ気化を促進させるた
めヒータ25により加熱する。
Note that the cleaning filth and abrasive material stored in the sludge tank 22 and recovery tank 24 contain fluorocarbons, and in this case, the line 46 of the sludge tank 22 can be removed by operating valves V5, V9, and valve V13, etc. ,
If the line 47 of the recovery tank 24 (connected at B and B') is connected to the line 31.48 on the suction side of the compressor 8, the sludge tank 22,
The fluorocarbons in the recovery tank 24 are vaporized and recovered, and then transferred to the tank 22.
.. Cleaning dirt and abrasive material remaining in the cleaning device 24 become dry in a short period of time. This makes it extremely easy to dispose of the washed dirt and recovered abrasive material. In addition, after the abrasive material has been collected through the above operations, the Freon in the tank 3 is removed by opening the valve v2.
By operating only the compressor 8 with the valve vl closed, the liquid can be vaporized and recovered in the liquid reservoir 16. In this case, heating is performed by the heater 25 in order to prevent a temperature drop due to heat of vaporization and to promote vaporization.

また、50は前述のポンプ6に代わって高圧フロンカス
の気流によるベンチュリ効果を用いてタンク3内の混合
W、2を吸い上げ噴射ノズル4から噴出させるための吸
い上げラインである。吸い上げライン50によって混合
液2の吸い上げを行う場合、バルブv8を閉じてバルブ
V12を開く。
Further, 50 is a suction line for sucking up the mixture W and 2 in the tank 3 and ejecting it from the injection nozzle 4 by using the venturi effect of the airflow of the high-pressure flon gas instead of the pump 6 described above. When sucking up the mixed liquid 2 using the suction line 50, the valve v8 is closed and the valve V12 is opened.

ライン32よりバルブv1を通して高圧フロンガスが送
り込まれると、噴射ノズル4の出口にて負圧状態となる
ためベンチュリ効果によってタンク3内の混合液2が吸
い上げライン50を介して噴射ノズル4まで吸い上げら
れ、フロンガスと共に噴射ノズル4から噴射されるもの
である。このベンチュリ効果を用いた混合液2の吸い上
げでは、ポンプ6による吸い上げの場合に比べ吸い上げ
る力が弱く噴射流量が少ないため洗浄及び研削効果は低
下するが、被処理物に付着する汚れや油脂分が軽微な場
合には充分な効果が得られる。また、ポンプ6を用いる
場合より、消費電力が少なくかつ装置を・簡略化できる
利点がある。
When high-pressure Freon gas is sent from the line 32 through the valve v1, a negative pressure is created at the outlet of the injection nozzle 4, so the mixed liquid 2 in the tank 3 is sucked up to the injection nozzle 4 via the suction line 50 due to the Venturi effect. It is injected from the injection nozzle 4 together with the fluorocarbon gas. When the mixed liquid 2 is sucked up using the venturi effect, the cleaning and grinding effects are lowered because the suction force is weaker and the injection flow rate is lower than when the pump 6 is used to suck up the mixed liquid 2. In minor cases, sufficient effects can be obtained. Further, compared to the case where the pump 6 is used, there is an advantage that power consumption is lower and the device can be simplified.

以上ではポンプ6と吸い上げライン50を併設したこと
から、バルブv8とV12を調節することにより被処理
物の汚れ等の度合に応じてポンプ6による吸い上げとラ
イン50による吸い上げのいずれかを適宜選択すること
ができるので、より効率的な洗浄、研削が行え極めて便
利である。なお、ポンプ6と吸い上げライン50は必ず
しも併設する必要はなく、装置の用途に応じていずれか
一方のみの吸い上げ手段を設けてもよい。
In the above, since the pump 6 and the suction line 50 are installed together, by adjusting the valves v8 and V12, either suction by the pump 6 or suction by the line 50 can be selected as appropriate depending on the degree of dirt etc. of the object to be treated. This makes cleaning and grinding more efficient and extremely convenient. Note that the pump 6 and the suction line 50 do not necessarily need to be installed together, and only one of the suction means may be provided depending on the application of the device.

本発明の一実施例に係る湿式プラスト装置は以上の如く
構成されかつ動作するものであり、気化により損失し易
いが洗浄、脱脂効果に優れた低沸点溶剤であるフロンを
用い損失を最小限に抑えた効率のよい使用を行うもので
ある。
The wet-type blasting apparatus according to an embodiment of the present invention is constructed and operates as described above, and uses CFC, which is a low boiling point solvent that is easily lost through vaporization but has excellent cleaning and degreasing effects, to minimize loss. It is intended to be used in a controlled and efficient manner.

そして、水装置によればフロンの良好な洗浄、脱脂効果
により被処理物の処理を迅速に行うことができると共に
、フロンを損失なく循環させて使用することができる。
According to the water device, the object to be treated can be processed quickly due to the good cleaning and degreasing effects of the fluorocarbon, and the fluorocarbon can be circulated and used without loss.

また、フロンの低沸点性により、被処理物が短時間で乾
燥すると共に、洗浄汚物及び研磨材を短時間で乾燥させ
回収することかできる。更に、フロンの気化ガスを加圧
して噴射用に用いるので、従来の水と研磨材の混合液2
を圧縮空気と共に噴射する湿式ブラスト装置のように別
に圧縮空気の供給装置を設ける必要がない。
Further, due to the low boiling point of fluorocarbons, the object to be treated can be dried in a short time, and cleaning dirt and abrasive materials can be dried and recovered in a short time. Furthermore, since the vaporized fluorocarbon gas is pressurized and used for injection, it is possible to
There is no need to provide a separate compressed air supply device unlike a wet blasting device that injects the air with compressed air.

また、以上の実施例では低沸点溶剤であるフロンと研磨
材を混ぜた混合液2を洗浄液として用いた場合を示した
が、研磨材を混入せずフロンのみを洗浄液として用いて
もよい、被処理物に付着した汚れ、油脂等が軽度な場合
には、フロンの噴射だけで充分な洗浄効果が得られる。
In addition, in the above embodiment, a case was shown in which the mixed solution 2, which is a mixture of Freon, which is a low-boiling point solvent, and an abrasive material was used as the cleaning solution, but it is also possible to use only Freon as the cleaning solution without mixing an abrasive material. If the amount of dirt, oil, etc. adhering to the object to be treated is light, a sufficient cleaning effect can be obtained by simply spraying Freon.

この場合、研磨材の分だけ洗浄に要する費用が少なくな
ると共に、使用済の研磨材を分離回収するためのウェッ
トサイクロン23及び回収タンク24が必要なくなるの
で装置全体が簡素化されよう。また、低沸点溶剤として
フロンを用いた例を示したが、他の低沸点溶剤であるト
リクロエチレン及びパークロロエチレン等を用いても上
記フロン液と同様の効果を得ることができる。ただ、不
燃性、無毒性、無臭性の点でフロン液が最適であろう。
In this case, the cost required for cleaning will be reduced by the amount of the abrasive material, and the entire apparatus will be simplified because the wet cyclone 23 and recovery tank 24 for separating and recovering the used abrasive material are not required. Further, although an example using fluorocarbon as a low-boiling point solvent has been shown, the same effect as the above-mentioned fluorocarbon solution can be obtained by using other low-boiling point solvents such as trichlorethylene and perchlorethylene. However, Freon liquid is probably the most suitable because it is non-flammable, non-toxic, and odorless.

また、上記の実施例においては蒸留器13、ヒータ】4
、貯靜器16、冷凍機19等から成る蒸留系統が前記装
置内に組込まれた構成となっているが前記同様の作用が
得られれば別設してもさしつかえない。
In addition, in the above embodiment, the distiller 13 and the heater ]4
Although the distillation system consisting of , a reservoir 16, a refrigerator 19, etc. is built into the apparatus, it may be provided separately if the same effect as described above can be obtained.

効果 本発明によれば、洗浄、脱脂効果の優れた低沸点溶剤又
は低沸点溶剤と研磨材の混合液を用いるので、被処理物
の洗浄、研削が効果的かつ迅速に行われる。低沸点溶剤
は気化し易いので被処理物の乾燥が短時間でなされる。
Effects According to the present invention, since a low boiling point solvent having excellent cleaning and degreasing effects or a mixed solution of a low boiling point solvent and an abrasive material is used, cleaning and grinding of the object to be processed can be performed effectively and quickly. Since the low boiling point solvent easily vaporizes, the object to be treated can be dried in a short time.

また、洗浄汚物及び研磨材の乾燥にかかる時間も短縮さ
れるので、その処理が容易となる。
Furthermore, the time required for drying the cleaned dirt and the abrasive material is shortened, making it easier to dispose of them.

おける放射能汚染物の廃棄処理の際に行う除染作業に最
も有効である。同用途においては、汚染物質の飛散は不
可であるので1本装置の如く、完全なりローズド・シス
テム(密閉循環系)を有することが重要であり、かつ洗
浄後の汚物や研磨材粒子を分離除去するサイクロン装置
を備えること、さらに溶剤の分離回収を行い、汚染残渣
物を乾燥状態で回収できることなどは、廃棄物を最少限
にて回収容易ならしめる点で大変に有用である。
It is most effective for decontamination work performed when disposing of radioactive contaminated materials. In this application, it is impossible to scatter contaminants, so it is important to have a completely closed system (closed circulation system) such as a single device, and to separate and remove dirt and abrasive particles after cleaning. The provision of a cyclone device to separate and recover the solvent and the ability to recover contaminated residue in a dry state are extremely useful in terms of minimizing waste and facilitating recovery.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は本発明の一実施例に係る湿式ブラスト装置の基本構
成図である。 ここで、l・・・処理容器、2・・・混合液、3・・・
タンク、4・・・噴射ノズル、6・・・ポンプ、8・・
・圧縮機、12・・・液化器、13蒸留器、16・・・
貯液器、21・・・サイクロン、22・・・スラッジタ
ンク、23・・・ウェットサイクロン、24・・・回収
タンク、50・・・吸い上げラインである。
The figure is a basic configuration diagram of a wet blasting device according to an embodiment of the present invention. Here, l...processing container, 2...mixture, 3...
Tank, 4... Injection nozzle, 6... Pump, 8...
・Compressor, 12... liquefier, 13 distiller, 16...
Liquid reservoir, 21... cyclone, 22... sludge tank, 23... wet cyclone, 24... collection tank, 50... suction line.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)液体を研磨材の混合液又は液体のみを被処理物に
噴射して該被処理物表面の洗浄、研削を行う湿式ブラス
ト装置において、前記混合液の液体として低梯点溶液を
用いたことを特徴とする湿式ブラスト装置。
(1) In a wet blasting device that cleans and grinds the surface of a workpiece by spraying a liquid mixture of abrasives or only the liquid onto the workpiece, a low ladder point solution is used as the liquid mixture. A wet blasting device characterized by:
(2)低沸点溶剤がフロンであることを特徴とする特許
請求の範FIII第1項に記載の湿式ブラスト装置。
(2) The wet blasting apparatus according to claim FIII, item 1, wherein the low boiling point solvent is fluorocarbon.
JP11379183A 1983-06-24 1983-06-24 Wet type blast device Granted JPS606350A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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