JPS6052089A - Printing circuit - Google Patents

Printing circuit

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JPS6052089A
JPS6052089A JP12903284A JP12903284A JPS6052089A JP S6052089 A JPS6052089 A JP S6052089A JP 12903284 A JP12903284 A JP 12903284A JP 12903284 A JP12903284 A JP 12903284A JP S6052089 A JPS6052089 A JP S6052089A
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JP
Japan
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layer
adhesive
circuit
path
dielectric
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JP12903284A
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JPH0370917B2 (en
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リチヤード.アール.シーガー,ジユニア
ノアデイン.ハツサン.モーガン
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KOMERITSUKUSU Inc
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KOMERITSUKUSU Inc
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Publication date
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  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、印刷回路装置のためのインク、回路転写方
法、印刷回路装置およびそれの製造方法を含む。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention includes an ink for a printed circuit device, a circuit transfer method, a printed circuit device and a method of manufacturing the same.

この出願は、以下の係属中となっている米国特許出願の
一部継続である。米国出願番号508.056.198
3年6月24日出願、米国出願番号516,689.1
983年7月25日出願、米国出願番号516,677
.1983年7月25日出願。
This application is a continuation in part of the following pending U.S. patent applications: U.S. Application No. 508.056.198
Filed on June 24, 2015, U.S. Application No. 516,689.1
Filed on July 25, 1998, U.S. Application No. 516,677
.. Filed on July 25, 1983.

電気に関して使用される印刷回路はしばしば臨界的要求
をめられる。すなわち、印刷回路は回路と導線がよく結
分するようはんだによって湿潤可能であるべきである。
Printed circuits used electrically are often subject to critical demands. That is, the printed circuit should be wettable by solder to ensure good bonding between the circuit and the conductors.

また、様々な、生産物の応用に適応するため、無電解金
属メッキでありうるべきである。
It should also be capable of electroless metal plating to accommodate a variety of product applications.

それらを扱う以上、印刷回路は誘電性基質に対しても良
好な接着性をもつべきである。本願発明の場合において
は、接着性とは1引っ張り力10レベルとして記載する
。そして、最後になったが、回路は良好な電気導電性を
有するべきである。
As such, printed circuits should also have good adhesion to dielectric substrates. In the case of the present invention, adhesiveness is expressed as 1 tensile force and 10 levels. And last but not least, the circuit should have good electrical conductivity.

印刷回路または印刷回路ボードの製造方法は多く知られ
ている。多様な研究が、それらを製造するための公知技
術により明確にされてきているが。
Many methods of manufacturing printed circuits or printed circuit boards are known. Although a variety of studies have been carried out with known techniques for producing them.

以下に述べる方法には、しばしば1乃至いくつかの点で
の欠点がある。
The methods described below often have one or more drawbacks.

米国特許4,396,666号には、はん、だ可能な金
属粉を65〜85重量%で含有するエポキシ混会物を基
質上に印刷し、硬化したエポキシドをわずかに熱分解し
、はんだ付けするために金属を十分にさらすという方法
が記載されているが、この方法には明らかに欠点がある
。1つは、樹脂の分解が不規則で、回路のさらされた面
が不均一となること。確かに、揮発性物質を回路から除
くことによシフレ−ターや穴などの形成をもたらし1回
路の均一性は妨げられるであろう。熱分解はフィルムの
均一性、特に結合剤部分に作用するので、金属粒子の基
質への接着は疑わしくなるであろう。
U.S. Pat. No. 4,396,666 discloses printing an epoxy mixture containing 65-85% by weight of solderable metal powder onto a substrate, slightly pyrolyzing the cured epoxide, and soldering. Although a method has been described in which the metal is fully exposed for attachment, this method has obvious drawbacks. One is that the resin decomposes irregularly, making the exposed surface of the circuit uneven. Indeed, removing volatile materials from the circuit will result in the formation of sifters, holes, etc., and the uniformity of the circuit will be disturbed. Since pyrolysis affects the uniformity of the film, especially the binder part, the adhesion of the metal particles to the substrate will be questionable.

高温熱分解、すなわち最低2000℃によって、熱可塑
性材料で基質ができているときには、実質的なダメージ
をうけることとなるであろう。
High temperature pyrolysis, ie at least 2000° C., will cause substantial damage when the substrate is made of thermoplastic material.

日本特許出願56.357/73(1981年1月26
日、2435/81として公開)には、回路パターンを
伝導性インクによシ転写紙に印刷し、転写紙の印刷表面
をボードに瞬間熱圧縮結合剤で接触せしめることが記載
されている。パターンは、転写紙へスクリーン印刷方法
により形成される。
Japanese patent application 56.357/73 (January 26, 1981
2435/81) describes printing a circuit pattern on a transfer paper with conductive ink and contacting the printed surface of the transfer paper to a board with a flash heat compression bonding agent. The pattern is formed on the transfer paper by a screen printing method.

この出願では、この方法の利点を以下のようにあげてい
る。簡便性、正確性、均一性、非汚染的段階、不充分に
形成され九ボードの再利用、融通性。
This application lists the advantages of this method as follows. Simplicity, accuracy, uniformity, non-contaminating steps, reuse of poorly formed nine boards, flexibility.

日本特許の方法を試みると、誘電性表面への転写に問題
があり、結果として得られた生産物は、伝導性、結合性
またはメッキ能の望ましい・ぞラメータに欠ける可能性
がある。
If the method of the Japanese patent is attempted, there may be problems with transfer to dielectric surfaces, and the resulting product may lack desirable parameters of conductivity, bonding, or plating ability.

日本出願の中で使用されるインクは、熱可塑性コポリマ
ーを含む溶液に散布した銀を含有したものである。実施
例1には、ビニルクロライド9−ビニルアセテート コ
ポリマを、実施例2には、成分の記載のないアクリツク
樹脂金用いている。実施例1では、′銀粉−同型重量と
して89.47%、実施例2では、88.09%含有し
ておシ、良好なメッキ能、簡便にはんだやけされた回路
、良好な接着性が得られたと記載されている。しかしな
がら、使用されたボードについては記載がない。
The ink used in the Japanese application contains silver dispersed in a solution containing a thermoplastic copolymer. Example 1 uses a vinyl chloride 9-vinyl acetate copolymer, and Example 2 uses an acrylic resin whose components are not listed. In Example 1, the silver powder contained 89.47% by weight, and in Example 2, it contained 88.09%, resulting in good plating performance, easily soldered circuits, and good adhesion. It is stated that this was done. However, there is no mention of the board used.

友しかに、この日本出願の技術は、回路をボードに転写
しうるが、いくつかの欠点がこの方法には見出されてい
る。
Advantageously, the technology of this Japanese application can transfer circuits onto a board, but several drawbacks have been found in this method.

インク中の熱可塑性樹脂の量によシ、樹脂が十分に金属
を被覆することになり、逆に、はんだの湿潤性、回路の
無電解メッキにマイナスの影響を与えることとなる。加
えて、熱可塑性樹脂の使用は回路を効果的にはんだづけ
する能力を制限し、ひいては、そのはんだ技術をその技
術本来の方法以下のものにしてとまっている。
Depending on the amount of thermoplastic resin in the ink, the resin will coat the metal sufficiently, which will adversely affect the wettability of the solder and the electroless plating of the circuit. In addition, the use of thermoplastics limits the ability to effectively solder circuits, thus rendering the soldering technique less than its native method.

他の技術は、1982年4月27日に特許された米国特
許4,327,124号に記載される散布方法である。
Another technique is the dispersion method described in US Pat. No. 4,327,124, issued April 27, 1982.

この特許には、熱硬化性フェノール樹脂(B段階)に銅
粉を飽和させ、70〜75%担持させ、シルクスクリー
ンを通して、回路パターンをボードに形成する。その後
銅粉は、湿潤樹脂フィルムの印刷上に散布される。フィ
ルムは硬化され、はんだ付けされる。
In this patent, a thermosetting phenolic resin (B stage) is saturated with copper powder, with a loading of 70-75%, and a circuit pattern is formed on the board through a silk screen. Copper powder is then sprinkled onto the wet resin film print. The film is cured and soldered.

銅粉散布は、金属分布を均一にできないという不都合な
方法であるという事実に加え、銅粉自体の使用は、時間
の経過により、非伝導性酸化物を作るという傾向からみ
ても、疑わしい選択である。
In addition to the fact that copper dusting is an inconvenient method that does not allow uniform metal distribution, the use of copper powder itself is a questionable choice due to its tendency to form non-conducting oxides over time. be.

酸化物を作る金属の金属粉は、その金属粉によってより
表面部分が拡大するというだけで、より容易に酸化物を
作る。
Metal powder of a metal that forms oxides forms oxides more easily simply because the surface area is expanded by the metal powder.

その他の技術としては1重量90%もしくは多少多くの
銀粒子含有インクをある回路パターンに応用する技術が
、1971年8月28日発行米国特許4,264,47
7号により知られているが、いずれの公知の技術もこの
発明の持つ利点を有してはいない。
Another technique is to apply ink containing 90% or more silver particles by weight to a certain circuit pattern, as disclosed in U.S. Patent No. 4,264,47, issued on August 28, 1971.
No. 7, but none of the known techniques has the advantages of this invention.

この発明は、様々々観点から、印刷インクを含む熱硬化
性接着性結合剤に高度に担持された金属粒子;インクに
よシ形成された径路を伝える剥離層、および熱硬化性接
着剤からなる印刷転写組成物;印刷回路ボードのような
様々な構成要素を作る方法における転写組成物の使用お
よび、この発明を利用して得られる望ましい特徴を有す
る印刷回路やその装置を含む生産物全新規な方法で生み
だした生産物、からなる。
This invention consists of highly supported metal particles in a thermosetting adhesive binder comprising a printing ink; a release layer conveying the path formed by the ink; and a thermosetting adhesive. Printed transfer compositions; the use of transfer compositions in methods of making various components, such as printed circuit boards, and all new products, including printed circuits and devices thereof, having desirable characteristics obtainable using this invention. Consists of products produced by a method.

この発明は、ある部分としては%(Al 印刷回路をそ
の装置のような構成要素、とりわけ(α)固体誘電性支
持表面;(h)熱硬化性樹脂および電気伝導性金属粒子
からなる層または径路からなっており。
The present invention relates, in part, to an Al printed circuit as a component of its device, in particular (α) a solid dielectric support surface; (h) a layer or path consisting of a thermosetting resin and electrically conductive metal particles. It consists of

少くとも1つの電気回路素子の配列において、金属粒子
を乾燥層に基づき約68〜約87体積%存在させ、前述
の電気回路素子は無電解メッキ技術により良好なメッキ
能を有するものである。
In the arrangement of at least one electrical circuit element, the metal particles are present at about 68% to about 87% by volume based on the dry layer, and the aforementioned electrical circuit element has good plating ability by electroless plating technology.

(C1熱硬化性樹脂よりなる層(Alの支持表面と下部
表面との間の活性粘着界面。
(C1 layer consisting of thermosetting resin (active adhesive interface between the supporting surface and the lower surface of Al).

最も好ましくは、構成要素がはんだ付は標準試験および
/または、メッキ能標準試験および/または表面抵抗が
0.5オーム/スクエア以下、望ましくは0.1〜0.
1オーム/スクエアの伝導性回路素子の条件を満たして
いる構成要素には、特定部位が接着し、絶縁体によシ他
の特定部位と隔たれている電気的径路の並列層がある。
Most preferably, the components are soldered to a standard test and/or a standard plating test and/or a surface resistance of 0.5 ohm/square or less, preferably 0.1-0.
A component that meets the requirements for a 1 ohm/square conductive circuit element has parallel layers of electrical paths that are bonded at specific points and separated from other specific sections by an insulator.

径路は平面上を角度を保ち、互いに伸び、ボード基部の
側部周辺の非平面的支持をこえ伸びる。
The paths lie at angles in the plane and extend from each other and beyond the non-planar supports around the sides of the board base.

発明は、但)印刷転写組成物、とりわけ、その上に電気
回路の配置の径路や、電気回路の原図または素子を被覆
した固体剥離表面、および、54〜87体積%の電気的
伝導性金属粒子からなる熱硬化性樹脂からなる。ここで
用いた1電気的伝導性金属粒子1とは、(1)電気的伝
導性を持つ金属成分であって(2)米国ふるい(シープ
)標準での100メツシユを通過するもので、最も好ま
しいものは、米国ふるい(シープ)標準で200メツシ
ユふるいを通過し、350メツシユふるいでとどまるも
のである。
The invention relates, however, to a) a print transfer composition, in particular a solid release surface coated thereon with a path of arrangement of an electrical circuit, an original diagram or element of an electrical circuit, and 54 to 87% by volume of electrically conductive metal particles; Made of thermosetting resin. The electrically conductive metal particles 1 used here are (1) a metal component having electrical conductivity, and (2) passing through 100 mesh according to the US sieve standard, which is most preferable. It passes through a 200 mesh sieve and stays on a 350 mesh sieve according to the US Sieving (Sheep) standard.

さらにこの発明は、(C)熱硬化性樹脂の交差結合が、
例えばA段階樹脂からB段階樹脂へと変化するように、
分解している印刷転写組成物tBlをも含む、進展した
樹脂を用いる好適な具体化は、被覆の実質的に粘性をな
くし、好ましくは、被覆剥離表面に粘性がなく、被覆を
変えることなく被覆され九表面を重ねることができる程
度にすることによシ交差結合を分解することである。
Furthermore, this invention provides that (C) the cross-linking of the thermosetting resin is
For example, changing from A stage resin to B stage resin,
A preferred embodiment using an advanced resin that also includes a decomposing print transfer composition tBl substantially eliminates tackiness of the coating and preferably has no viscosity at the coating release surface and can be coated without changing the coating. The goal is to break up the cross-links by making it possible to overlap nine surfaces.

この発明社、■)印刷転写物であって、金属粒子回路を
誘電性固体支持表面へと転写するに好適であシ、該表面
は、(a)固体剥離表面および(b1層からなり、該層
は少くとも電気回路素子の形態で、+11熱硬化性樹脂
と(11電気的伝導性金属粒子1、この粒子の樹脂成分
における量は、十分にはんだ付は標準試験を満足させる
もので、からなる熱硬化性樹脂組成物を含む剥離表面に
おかれているもので、随意により、tC1熱硬化性樹脂
組成物を供給する活性接着層をも含んでいる。
This inventor, ii) a printed transfer suitable for transferring a metal particle circuit to a dielectric solid support surface, the surface comprising: (a) a solid release surface; and (a) a solid release surface; The layer is at least in the form of an electrical circuit element, containing 11 thermosetting resin and 11 electrically conductive metal particles, the amount of which in the resin component is such that the soldering satisfies standard tests, and tC1 thermosetting resin composition, and optionally also includes an active adhesive layer providing a tC1 thermosetting resin composition.

この発明は、(El前述の熱硬化性樹脂組成物、とシわ
け、(1)体積%で32〜13%の熱硬化性樹脂および
+11電気的伝導性金属粒子を体積%で68〜87%そ
れぞれ乾燥インク当り含む混合物を製造するためのイン
クを含む。好ましくは、そのインクは、はんだ付は標準
試験、メッキ能標準試験を満足させ1表面抵抗が0.5
、最も好ましくは01オーム/スクエアまたはそれ以下
の、回路を製造することができるものである。
This invention comprises (El) the aforementioned thermosetting resin composition, in particular: (1) 32-13% by volume of thermosetting resin and 68-87% by volume of +11 electrically conductive metal particles; Each dry ink contains an ink for producing a mixture containing per dry ink. Preferably, the ink satisfies the standard test for soldering, the standard test for plating ability, and has a surface resistance of 0.5.
, most preferably 01 ohms/square or less.

この発明は、さらに、(F′)前述の構成要素や印刷転
写組成物を製造する方法を含むものであって、とりわけ
、以下のステップを含む。
The invention further includes (F') a method of manufacturing the aforementioned components and print transfer compositions, including, inter alia, the following steps.

(1)剥離表面の供給し、 (2)所望の量の電気的伝導性金属粒子を含む熱硬化性
樹脂組成物のインクを、少くとも1つの電気回路素子の
配列中の剥離表面に、フィルムのように(すなわち、径
路)適用し、 (3)誘電性表面を供給し、 (41(2)で述べた熱硬化性樹脂組成物と誘電性表面
との相互に作用し得る活性接着性界面を供給し、(5)
剥離表面と誘電性表面と全接触させ、その結果、電気回
路素子のフィルムは誘電性表面に対向し、接着性界面に
より分離され、 (6)・構成要素を形成するに十分な熱と圧力を与え、
それにより、熱硬化性樹脂は原則として十分に硬化し、
接着剤は、原則として十分に相互に作用し、それにより
電気回路は効果的に結合するようになる剥離表面から誘
電性表面に転写され、(力 剥離表面を構成要素から分
離し、抵抗が05オーム/スクエア以下、好ましくは0
.1オーム/スクエア以下、より好ましくは0.05オ
ーム/スクエア以下の電気回路を得る。
(1) providing a release surface; (2) applying an ink of a thermosetting resin composition containing a desired amount of electrically conductive metal particles to the release surface in an array of at least one electrical circuit element; (i.e., a path); (3) providing a dielectric surface; (5)
Full contact is made between the release surface and the dielectric surface, so that the film of the electrical circuit element faces the dielectric surface and is separated by an adhesive interface, and (6) sufficient heat and pressure are applied to form the component. give,
Thereby, the thermosetting resin is, in principle, fully cured,
The adhesive is transferred from the release surface to the dielectric surface such that in principle the electrical circuit interacts sufficiently so that the electrical circuit is effectively bonded (force separating the release surface from the component and having a resistance of 05 Ohm/square or less, preferably 0
.. An electrical circuit of less than 1 ohm/square, more preferably less than 0.05 ohm/square is obtained.

その他の発明の具体化は、以下にさらに記載し、またこ
れ以後の記載から明らかになるであろう。
Other embodiments of the invention are described further below, and will be apparent from the description hereinafter.

この発明の特徴として、高度に入り組んだ回路デザイン
を、迅速に印刷でき、所望の印刷回路装置を作れること
は特記できる。こうした装置としては、回路ボード、コ
ネクター、様々な誘電性基板回路が精密な基板回路と同
様に含まれる。この発明におけるインクは、好ましくは
93.94〜98%の範囲で金属粒子が高度に担持され
たものである。そのインクの体積分画としては、インク
の乾燥重量をもとに計算して、68〜87%体積分画を
金属粒子、および13〜32%体積分画金熱硬化樹脂で
ある。転写装置は径路における金属粒子の体積%を、5
4〜87%体積分画とやや広めとし、残りを熱硬化樹脂
バインダーであるインク径路で行うことができる0重量
で93〜94%以下、または体積分画で68%以下で金
属粒子が。
A special feature of the present invention is that highly intricate circuit designs can be quickly printed to produce desired printed circuit devices. Such devices include circuit boards, connectors, and various dielectric substrate circuits as well as precision substrate circuits. The ink of the present invention has metal particles highly supported, preferably in the range of 93.94 to 98%. The volume fraction of the ink is 68-87% volume fraction of metal particles and 13-32% volume fraction of gold thermosetting resin, calculated based on the dry weight of the ink. The transfer device transfers the volume percent of metal particles in the path to 5
4-87% volume fraction is a little wide, and the remainder can be carried out in the ink path where the thermosetting resin binder is 93-94% or less by weight, or 68% or less by volume fraction of metal particles.

それぞれ下限である重量で90%以下1体積分画で54
%以下の場合では、本願発明の最も有利な特徴が得られ
ないこととなる。好適な具体例においては、良好な湿潤
性と、強い引張シカを有する径路を含む最上のはんだ付
は能が得られる。最上のメッキ能は、最適の範囲の金属
粒子を用いた転写方法によって得られる。このように無
電解ニッケルおよび/または銅によるメッキ技術は、利
点を得るために表面の活性化をせずに用いられる。
54 in 1 volume fraction of 90% or less by weight, which is the lower limit for each
% or less, the most advantageous features of the present invention cannot be obtained. In preferred embodiments, optimal soldering performance is achieved that includes a path with good wetting and strong tensile strength. The best plating performance is obtained by transfer methods using an optimal range of metal particles. Thus, electroless nickel and/or copper plating techniques can be used without surface activation to advantage.

インクにおいて使用されている金属粒子の体積分画が6
8〜87%である場合には、抵抗が0.5オーム/スク
エア以下の場合に、0.1〜0.01.t−入/スクエ
アの範囲で好ましくは0.1オーム/スクエア以下で表
面抵抗が0.005程度の時に得られるように、高伝導
性が得られる。この発明においてさらに特徴的なのは、
転写紙および転写装置を使用したことによシ、回路パタ
ーンにおいて、単一回路パターン層状装置、および複数
回路パターン装置いずれにおいても融通性を可能にした
ことである。回路パターンを転写紙に形成され、誘電性
ボードの平面である表面だけでなく、たとえば、1番上
の表面をボート9の枠をこえ拡大し、ボードの表面角度
に対して、転写シートを圧縮し、側面または裏面に転写
することができれば、この融通性は多大に進展するもの
となる。
The volume fraction of metal particles used in the ink is 6
8-87%, if the resistance is 0.5 ohms/square or less, 0.1-0.01. High conductivity is obtained in the range of t-in/square, preferably less than 0.1 ohm/square, as is obtained when the surface resistance is around 0.005. What is more distinctive about this invention is that
The use of transfer paper and transfer equipment allows for flexibility in circuit patterns, both in single circuit pattern layered devices and in multiple circuit pattern devices. The circuit pattern is formed on the transfer paper, and not only the flat surface of the dielectric board, but also the top surface, for example, is expanded beyond the frame of the boat 9, and the transfer sheet is compressed with respect to the surface angle of the board. However, this flexibility would be greatly improved if it could be transferred to the side or back side.

金属の電気伝導能力は、この分野では、よく知られてい
る。金属が空気中で酸化物へと変わり得る場合には、電
気伝導能力は酸化物への酸化の程度により決まる。酸化
型は非伝導性である。同じ金属を細分すれば、酸素との
接触面積が増し、粒子はより非伝導性となる。その結果
、電気的コンダクタンスとして用いる場合には、所望の
金属は、酸素に対して比較的活性の小さい、銀、金、パ
ラジウム、プラチナ、ロジウム、ルタニウム等の貴金属
となる。貴金属のうち、釧は最も電気伝導能力があり、
印刷回路の製造においては最も広く使用されている。し
かしながら、その値段は、より安い金属によシいつでも
変えられる程であシ、節約の面から常に銀から他の金属
への変換がめられている。このように銀粒子から電気伝
導フィルムをつくる場合には、銀はいっで吃他の材料に
置換される。
The ability of metals to conduct electricity is well known in the art. If the metal is capable of converting to an oxide in air, its ability to conduct electricity is determined by the degree of oxidation to the oxide. The oxidized form is nonconductive. If the same metal is subdivided, the area of contact with oxygen increases, making the particles more nonconductive. As a result, when used as an electrical conductance, the desired metal is a noble metal such as silver, gold, palladium, platinum, rhodium, or rutanium, which has relatively low activity toward oxygen. Among the precious metals, Chie has the highest electrical conductivity.
It is most widely used in the manufacture of printed circuits. However, its price is such that it can be replaced with a cheaper metal at any time, and in order to save money, it is always recommended to replace silver with other metals. When an electrically conductive film is made from silver particles in this way, the silver is replaced with another material.

今後、誘電性基板の上に電気伝導性素子を作るうえでは
、銀の他の材料への置換に対抗する数多くの相殺する要
素がある。例えば、銀粒子を、絶縁体表面に適当に接着
するためには、接着剤または結合樹脂の使用がめられる
。しかしながら、回路の適用要件を満たすためには、銀
粒子は誘電性表面に適当に結合されねばならず、このこ
とは、接着剤および/またはノ之イングーの実質的な使
用量を要求することになる。結果として銀粒子は接着剤
/ノ2イングーに包接(カプセル化)される。
In the future, there are a number of countervailing factors that work against replacing silver with other materials in the fabrication of electrically conductive devices on dielectric substrates. For example, adhesives or bonding resins may be used to properly adhere the silver particles to the insulator surface. However, to meet circuit application requirements, the silver particles must be properly bonded to the dielectric surface, which may require substantial usage of adhesives and/or adhesives. Become. As a result, the silver particles are included (encapsulated) in the adhesive/no2ing.

回路表面がはんだ付けされ、または無電解的に金属メッ
キされる場合には、金属をカプセル化する接着剤/ノ之
イングーの割分は変えられ、はんだ付けまたは無電解金
属(すなわちニッケル)を金属粒子に直接接着すればよ
い。このことは、接着剤/バインダーシステムの均一さ
を破り、その強さを弱めることに役立つ。この問題は、
ある割分の銀を他の金属粒子、例えば、ニッケル、銅、
亜鉛、鉄J1のような充てん素材で置換する時に生ずる
If the circuit surface is to be soldered or electrolessly metal plated, the proportion of the adhesive/noing that encapsulates the metal can be changed and the solder or electroless metal (i.e. nickel) It can be directly attached to particles. This serves to break the uniformity of the adhesive/binder system and weaken its strength. This problem,
A certain proportion of silver is mixed with other metal particles, such as nickel, copper,
Occurs when replacing with filler materials such as zinc or iron J1.

こうした場合に、カプセル化する接着剤/ノ之イングー
の分解が1回路の伝導性を低めるこうした酸化される金
網會さらすとととなる。
In these cases, the decomposition of the encapsulating adhesive/glue will expose the wire mesh to oxidation, reducing the conductivity of the circuit.

この発明は、多くの顕著な事をなした。この発明により
電気回路素子の体積分画での大部分、主要部分を電気的
伝導性金属粒子が占めるどとにより、これらの粒子が結
合しうるようになる。好適な具体化では、粒子の体積分
画は、乾燥状態での電気回路素子の体積の少くとも54
%、より好適にハ少くとも68〜87%である。これが
、電気的伝導性粒子が銀粒子であれば、変化し、熱硬化
性樹脂組成物の固体重量%で少くとも90%、好ましく
は少くとも94%、最適では少くとも95%、最高で9
8%となる。一般的には、どのシステムにおいても、電
気的伝導性金属含量が高いほど、電気回路素子の電気伝
導性は優れたものとなる。
This invention accomplished many remarkable things. According to the present invention, the electrically conductive metal particles occupy a large portion or a major portion of the volume fraction of the electric circuit element, so that these particles can be bonded together. In a preferred embodiment, the volume fraction of the particles is at least 54% of the volume of the electrical circuit element in the dry state.
%, more preferably at least 68-87%. This changes if the electrically conductive particles are silver particles, with the solids weight percent of the thermosetting resin composition being at least 90%, preferably at least 94%, optimally at least 95%, and up to 9%.
It becomes 8%. Generally, in any system, the higher the electrically conductive metal content, the better the electrical conductivity of the electrical circuit element.

この発明では、樹脂バインダーを分解する必要なく、回
路表面に金属粒子を十分にさらすことを可能とする。所
望の伝導度を得るために少量の銀が必要であることが決
められた。例えば、高金属担持物を使用することにより
、この発明が明らかにし、例えば、25重量%の銀粒子
と75重量%のニッケル粒子(重量比1:3)の混合物
により、100%銀粒子を使い得られる電気伝導度の6
5%が得られる。一般的に、この重量比が増すと結果書
られる伝導性も増す。
This invention allows metal particles to be fully exposed to the circuit surface without the need to decompose the resin binder. It was determined that a small amount of silver was required to obtain the desired conductivity. For example, by using a high metal loading, the present invention reveals, for example, by using a mixture of 25% silver particles and 75% nickel particles (weight ratio 1:3), using 100% silver particles. 6 of the electrical conductivity obtained
5% is obtained. Generally, as this weight ratio increases, the resulting conductivity also increases.

結局、この発明の好適な実施例の電気回路素子は、はん
だにより湿潤しく後述するはんだ付は標準試験を通過し
ている)無電解ニッケルメッキされる(後述するメッキ
能標準試験による)こうした利点は、印刷回路に載置さ
れたインクに使われたバインダーの機能を分離すること
により得られる。電気的伝導性金属粒子に対するバイン
ダーに誘電性表面への接着剤としての機能をもたせるか
わりに、この発明では、電気回路素子の中へ粒子と共に
支持させるために、それだけを調整した。分離段階では
、粒子とノよインダーは混合され、特異的に電気的伝導
性金属粒子を多く担持した混合物ができる。これは、特
異的で非目的の組成物である。
Ultimately, the electrical circuit elements of the preferred embodiment of the present invention are electroless nickel plated (according to the plating performance standard test described below), which is wetted by solder and has passed the soldering standard test described below. , obtained by separating the functions of the binder used in the ink placed on the printed circuit. Instead of having a binder for electrically conductive metal particles function as an adhesive to a dielectric surface, in this invention it is tailored solely for support with the particles into an electrical circuit element. In the separation step, the particles and the inder are mixed to form a mixture specifically enriched with electrically conductive metal particles. This is a specific, non-purpose composition.

この組成物は、熱硬化条件では交差結合が硬化する樹脂
バインダーを作ることにより、より特異的となる。した
がって、これらは、熱硬化され、または熱硬化条件でし
うるため、熱硬化樹脂といわれる。その組成は、熱硬化
バインダーに伝導性金属が高いボリームで担持されてい
ることからなる。硬化すると、バインダーは樹脂粒子を
最も効果的に保持し、はんだにより湿潤し、不電解ニッ
ケルが活性剤の必要なく被覆される良好な電気回路素子
が出来る。
The composition is made more specific by creating a resin binder in which the crosslinks are cured under heat curing conditions. They are therefore referred to as thermoset resins because they are thermoset or capable of being subjected to thermosetting conditions. Its composition consists of a high volume of conductive metal supported on a thermosetting binder. Once cured, the binder most effectively retains the resin particles, resulting in a good electrical circuit element that is wetted by the solder and coated with electroless nickel without the need for an activator.

つぎに、金属/バインダー組成物ヶ、この分野でしばし
ば行なわれているように、誘電性基板または回路ボード
に被覆(印刷)するかわりに、組成物はフィルムのよう
に剥離表面基板に印刷され、所望の回路素子の配置に組
成物はゆるやかに保持−される。こうすることにより、
被覆または印刷された素子に興味深い変化が生ずる。粒
子の相持。
Next, instead of coating (printing) the metal/binder composition onto a dielectric substrate or circuit board, as is often done in this field, the composition is printed onto a release surface substrate like a film; The composition is loosely held in the desired circuit element configuration. By doing this,
Interesting changes occur in the coated or printed elements. Compatibility of particles.

特に樹脂への高密度の相持ゆえに容易にしかも粒子の沈
殿作用が生じ、電子顕微鏡の観とで粒子は、剥離表面の
界面を決定すべく、集合塊化することがみられると思わ
れる。このフィルムの表面は結局、回路素子のむきだし
の表面であるから、濃縮された全域表面ははんだ付けお
よび無電解金属メッキに供される。
In particular, due to the high-density adhesion to the resin, precipitation of the particles occurs easily, and when viewed under an electron microscope, the particles appear to form agglomerates to determine the interface of the peeled surface. Since the surface of this film is ultimately the bare surface of the circuit elements, the concentrated area surface is available for soldering and electroless metal plating.

載置の際の利点は、剥離表面の上および/または転写段
階の間に、湿潤フィルムまたはセミド9ライフイルムを
圧縮することにより得られもしくはさらに高められる。
Advantages during mounting are obtained or further enhanced by compressing the wet film or semi-dry 9 film onto the release surface and/or during the transfer step.

圧縮により、剥離表面/フィルム界面に、基盤として剥
離表面を用いることなく、フィルムの強度と粒子の濃縮
を与える。このように、加熱、圧縮により垂直印刷に利
用され、載置だけは要求されなくなる。
Compression provides the release surface/film interface with film strength and particle concentration without using the release surface as a foundation. In this way, heating and compression can be used for vertical printing, and only mounting is no longer required.

剥離表面の樹脂/粒子組成物は部分的に硬化する。この
ことは他の方法でも定義される。樹脂は、交差結合の部
分的度合により、しばしば、A段階樹脂からB段階樹脂
へのように、1つの段階から他への進行具合で特徴づけ
られる。このことは、誘電性表面への転写に十分用いら
れる均一なフィルムへの粒子の付着に役立つ。
The resin/particle composition on the release surface is partially cured. This is also defined in other ways. Resins are often characterized by their partial degree of cross-linking, progressing from one stage to another, such as from A-stage resins to B-stage resins. This aids in adhering the particles to a uniform film that is sufficient for transfer to a dielectric surface.

この発明の実施に際しては、金属粒子を担持した熱硬化
性フィルムの結合は、フィルムと誘電性表面との間の分
離接着界面を作ることにより得られる。したがって、バ
インダーは1粒子が誘電性表面に結合されるべく作用す
る試薬を必要としないのである。この接着界面は、フィ
ルム上の過被覆として供給される接着材料に、それがま
だ剥離表面上にある間は、なり、または熱硬化フィルム
と誘電性表面を一体化する前に誘電性表面に供給される
分離供給接着界面となる。他の実施例においては、接着
剤は誘電性表面の構造の一部となる。
In the practice of this invention, bonding of the thermoset film carrying metal particles is obtained by creating a separate adhesive interface between the film and the dielectric surface. Therefore, the binder does not require a reagent to act to bind one particle to the dielectric surface. This adhesive interface can result in adhesive material being applied as an overcoat on the film while it is still on the release surface, or applied to the dielectric surface prior to integrating the thermoset film and dielectric surface. This results in a separated and supplied adhesive interface. In other embodiments, the adhesive becomes part of the structure of the dielectric surface.

例えば、誘電性表面は熱硬化性樹脂であって、熱硬化性
フィルムが供給され、それらは結合され構成成分として
一緒に硬化する。
For example, the dielectric surface may be a thermoset resin, provided with a thermoset film, and then bonded and cured together as a component.

この発明においては、誘電体へと転写される熱硬化性樹
脂フィルムと誘電性表面との間に得られるある種の結合
が重要である。この発明にとって、この結合は過酷な条
件に耐えなければならない。
In this invention, the type of bond that is obtained between the thermosetting resin film transferred to the dielectric and the dielectric surface is important. For this invention, this bond must withstand harsh conditions.

最終物品は、その物理的、電気的特性を何らそこねるこ
となくはんだ付は標準試験と、メッキ能標準試験を通過
せねば々らない。最終物品は、その物理的、電気的特性
を何らそこねることなく空気中で260℃(500°F
)、20秒秒間光なければならない。
The final product must pass standard soldering tests and standard plating tests without any loss in its physical or electrical properties. The final article can be heated to 260°C (500°F) in air without any loss in its physical or electrical properties.
), it must glow for 20 seconds.

熱硬化性フィルムを含む剥離表面は誘電性表面と接触さ
せられ、それによシフイルムは誘電性表面と面と向かう
ことになる。剥離表面、熱硬化性樹脂フィルム、接着界
面と誘電性表面とからなる多層においては、フィルムが
基本的に硬化(C段階)すべくに充分な加熱と圧力をう
け、最終物品構造に接着性が付与される。さらに、解離
表面が硬化した樹脂より除かれる。濃厚であればある程
、担持されている。す々わち、濃厚であれば、フィルム
の金属粒子表面は露出する。
A release surface comprising a thermoset film is brought into contact with a dielectric surface, such that the film faces the dielectric surface. In multilayers consisting of a release surface, a thermoset film, an adhesive interface, and a dielectric surface, the film is subjected to sufficient heat and pressure to essentially cure (C stage), imparting adhesive properties to the final article structure. be done. Additionally, the dissociated surface is removed from the cured resin. The more concentrated it is, the more it is carried. That is, if it is dense, the surface of the metal particles in the film will be exposed.

好ましい実施例では、多層が形成される際には、それら
は、硬化する間に、熱硬化フィルムの圧縮をもたらすべ
く十分な圧縮をうけることになる。
In a preferred embodiment, as the multilayers are formed, they will undergo sufficient compression during curing to provide compression of the thermoset film.

このことにより回路素子はさらに強化され、その伝導性
をも改善される。この圧縮は、樹脂がこの条件では熱硬
化するため、フィルムの構造内に永久に残ることになる
。こうした圧縮は、フィルムを汚損しないことは注記す
べきであり、印刷による精巧な鋭さは保たれる。好まし
くは、もとの径路の厚さの25〜40%の圧縮が望まし
い。
This further strengthens the circuit element and also improves its conductivity. This compaction will remain permanently within the structure of the film as the resin will heat cure under these conditions. It should be noted that such compression does not stain the film, and the fine sharpness of the print is preserved. Preferably, compression of 25-40% of the original channel thickness is desired.

この発明は過去における、簡便さ、操作の容易さ、機能
的利用や性能の点からみた印刷回路設計における多くの
欠点を打ち破るものである。上記したように、この発明
は、いままでの技術における生産物や生産方法において
含まれなかった利点を提供する素材の相互機能性を保証
している。
This invention overcomes many of the shortcomings of past printed circuit designs in terms of simplicity, ease of operation, functional utilization and performance. As mentioned above, the present invention ensures interfunctionality of materials which provides advantages not included in prior art products and production methods.

上記で指摘したように、この発明の基本は、1、熱硬化
性樹脂および 2、電気伝導性金属粒子 からなる樹脂組成物の利用である。
As pointed out above, the basis of this invention is the use of a resin composition consisting of 1. a thermosetting resin and 2. electrically conductive metal particles.

熱硬化可能(または熱硬化性)樹脂としては、有機また
は無機、合成または天然樹脂素材があり、好ましくは、
有機物で合成のものであり、加熱、触媒および/または
放射により活性化し、交差結合反応を起こす。交差結合
の度什は、樹脂が部分的にまたは全体的に硬化するかど
うかで決める。
Thermosetting (or thermosetting) resins include organic or inorganic, synthetic or natural resin materials, preferably
It is an organic and synthetic substance that is activated by heat, catalysts, and/or radiation to cause cross-linking reactions. The degree of cross-linking is determined by whether the resin is partially or fully cured.

硬化とは、交差結合のレベルがこの樹脂は熱硬化である
と認められる;すなわち、交差結合が完全におこなわれ
る点でその樹脂が交差結合の固体といわれるような童味
を持つ。熱硬化可能樹脂は、樹脂の外枠に結合し、交差
結合を引き起こす官能基または部分からなる。4例えば
知られているフェノール樹脂は、それとメチロールとの
縮合反応により交差結合となる。この縮合は、同価の官
能基をもつ、ヘキサメチレンテトラアミンのようなもの
により促進される。尿素−ホルムアルデヒド9樹脂は、
同様のメタノール縮合により作用し、メランンーホルム
アルデヒド樹脂も同様である。他の、熱硬化可能樹脂に
エポキク樹脂がある。これらの樹脂は、隣位エポキク基
と活性水素化合物例えば、アミン、フェノール性又はア
ルコール性ヒト90キシル、メルカプタン、シラン化水
素、アシド8、カルバミン酸塩、尿素および類似物また
は酸および塩基の反応に基づいている。シリコン樹脂は
、典型的に次の式であって、 R,5i04−。
Curing means that the level of cross-linking is such that the resin is thermoset; that is, the cross-linking is complete and the resin is said to be a cross-linked solid. Thermosetting resins consist of functional groups or moieties that attach to the outer frame of the resin and cause cross-linking. 4 For example, known phenolic resins become cross-linked through condensation reactions with methylol. This condensation is facilitated by equivalent functional groups such as hexamethylenetetraamine. Urea-formaldehyde 9 resin is
It works by a similar methanol condensation, and so do melane-formaldehyde resins. Another thermosetting resin is epoxy resin. These resins react with vicinal epochyl groups and active hydrogen compounds such as amines, phenolic or alcoholic human 90xyls, mercaptans, hydrogen silanates, acids 8, carbamates, ureas and the like or acids and bases. Based on. The silicone resin typically has the following formula: R,5i04-.

]璽 ルは平均値約0.5〜約1,7、Rは、有機の基で炭素
がSi またはC4またはSi に炭素−酸素−クリコ
ン結合しているより大きな有機部分と結合しており、次
のような、7ラン七ツマ−の加水分解縮合により典型的
に形成される。
] A mean value of about 0.5 to about 1.7, R is an organic group in which the carbon is bonded to a larger organic moiety having a carbon-oxygen-tricon bond to Si or C4 or Si; It is typically formed by hydrolytic condensation of a 7-run 7-mer as follows.

R,5zX4−rL ルとRは上述のとおりで、Xは、加水分解可能な基、例
えば、ハライド(塩素、臭素、フッ素ま友はよう素)、
アルコキ7(好ましくは、炭素数1〜4)またはアロキ
7(好ましくは、1環構造よりも大きい)である。他の
樹脂は、上述のシリコンの化学的性質と、ここで指摘す
る、有機官能相互作用を化合する。そうした樹脂では、
Rは有機官能性例えば、アミノアルキル、アクリロキク
アルキル、メタアクリノロキンアルキル、グリ7ジロキ
シアルキル、3.4−エポキ7、シクロヘキクルアルキ
ル、メルカプトアルキル等を含tr。
R, 5zX4-rL and R are as described above, and X is a hydrolyzable group, such as halide (chlorine, bromine, fluorine and iodine),
It is alkoxy 7 (preferably having 1 to 4 carbon atoms) or aloki 7 (preferably having a larger than one ring structure). Other resins combine the silicon chemistry described above and the organofunctional interactions noted here. In such resins,
R includes organic functional groups such as aminoalkyl, acryloxyalkyl, methacrinoloquinalkyl, glyc7dyloxyalkyl, 3,4-epoxy7, cyclohexylalkyl, mercaptoalkyl, and the like.

その他の熱硬化性樹脂は、樹脂の骨格ケなすインシアネ
ート基と上記および水を含む活性水素化合物との反応に
より形成される。これらの結果得られるポリマーは、ポ
リウレタン、ポリウレア計よびそれらの組合わせで呼ば
れる。
Other thermosetting resins are formed by reacting the incyanate groups forming the resin skeleton with the above and active hydrogen compounds containing water. These resulting polymers are referred to as polyurethanes, polyureas, and combinations thereof.

その他の熱硬化性樹脂は、フリーラジカルの付加方法に
よυ形成される。例えば、ビス、トリスおよびテトラア
クリレートおよびメトアクリレートは、樹脂中にフリー
ラジカルのインクエータ−を混在させること、または、
フリーラジカルの生成を誘起する例えば電子線、紫外放
射、またはビニリックラジカルを相互反応させるあらゆ
る放射等の適当な放射に樹脂を供することにより交差結
合しうる。
Other thermosetting resins are formed by free radical addition methods. For example, bis, tris and tetraacrylates and methacrylates can be mixed with free radical inductors in the resin, or
Cross-linking may be achieved by subjecting the resin to suitable radiation that induces the formation of free radicals, such as electron beams, ultraviolet radiation, or any radiation that causes vinylic radicals to interact.

こうした交差結合の方法を結合するシステムは、この発
明の実際に最も適している。例えば、縮合とフリーラジ
カル交差結合能の両方を有する樹脂は、ポリマー化を進
める方法のうちの1つを利用でき、樹脂は、非粘着性で
あるが、部分的にしか硬化していない、Nk終的な硬化
は、その後の段階によ郵1例えば、複合生産物が形成へ
の応用がなされ九抜に印刷転写組成物への特徴づけがな
されるように、もたらされる。
A system that combines these cross-linking methods is most suitable for the practice of this invention. For example, a resin with both condensation and free radical cross-linking capabilities can utilize one of the methods of proceeding with polymerization, and the resin is non-tacky but only partially cured, Nk Final curing is effected by subsequent steps, such as for example, so that the composite product can be applied to the formation and characterization of the print transfer composition.

特異的にこの発明において最適な熱硬化可能樹脂は以下
のようである。
Specifically, the most suitable thermosetting resin for this invention is as follows.

(1)不飽和ポリエステル これらのポリエステルは典
型的には、ジオールと不飽和ジカルボン酸または無水物
の縮合による生産物である。ジオールtlj: 一般的
にハ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、シフロピレングリコール、ネオシ
ンチルグリコール、ヒスフェノールAのアルコキシル誘
導L 2,2.4− トリメチル−1,3−ベンタンジ
オール、2.2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピル、
2.2−yメチル−3−ヒドロキシプロピオネートおよ
び1.3−、/タジオールから選ばれる。不飽和の塩と
しては、リンゴ酸、フマル酸を含む。活性2重結合がな
く、量の調節に使用する酸としてFi、フタール酸、イ
ソフタル酸テレフタール酸、アジピン酸がある。
(1) Unsaturated Polyesters These polyesters are typically the product of the condensation of diols and unsaturated dicarboxylic acids or anhydrides. Diol tlj: Generally ha, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, cyfropylene glycol, neosynthyl glycol, alkoxyl derivative of hisphenol A L 2,2.4-trimethyl-1,3-bentanediol, 2.2 -dimethyl-3-hydroxypropyl,
selected from 2.2-y methyl-3-hydroxypropionate and 1.3-,/tadiol. Unsaturated salts include malic acid and fumaric acid. Acids that have no active double bond and can be used to adjust the amount include Fi, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, and adipic acid.

上記酸の無水物1例えば無水リンゴ酸、無水フタール酸
はしばしば使用される。
Anhydrides of the above-mentioned acids, such as malic anhydride and phthalic anhydride, are often used.

不飽和ポリエステルは、一般的には約等モル蓋のジオー
ルとカルボン酸又はその無水物を約200℃を超え、約
4〜24時間加熱することで得られる。
Unsaturated polyesters are generally obtained by heating about equimolar amounts of diol and carboxylic acid or anhydride above about 200° C. for about 4 to 24 hours.

ポリエステルの付加基もまた、その使用がここでは期待
されている。これらのポリエステルは、ジクロロインタ
ジエン全ポリエステルの主骨格に混入することにより得
られる。こうしたポリエステルは、例えば、米国特許3
,347,806.3.933,757.4,029,
848.4,148,765゜4.224,430に記
載されている。
Additional groups of polyesters are also contemplated for use herein. These polyesters can be obtained by incorporating dichlorointadiene into the main skeleton of an all-polyester. Such polyesters are used, for example, in U.S. Pat.
,347,806.3.933,757.4,029,
848.4,148,765°4.224,430.

(2)次の実験式で示される。水酸基末端ポリエステル
のハーフェステル ルは平均値として約1.5〜2の間1mは2−n。
(2) It is shown by the following empirical formula. The average value of the hafestellurium of the hydroxyl-terminated polyester is between about 1.5 and 2, and 1 m is 2-n.

Rは分子量1500をこえずジオールとジカルボン酸ま
たはその無水物との縮合により得られる有力な水酸基末
端ポリエステルの水酸基のない残りの部分である。
R is the remainder of a hydroxyl-terminated polyester having a molecular weight not exceeding 1,500 and having no hydroxyl group and obtained by the condensation of a diol and a dicarboxylic acid or its anhydride.

これらは、米国特許4,294,751に記載されてい
る。
These are described in US Pat. No. 4,294,751.

(3)次の実験室で示される、有機ポリオールの71−
フエステル OO (ml ()To−C−CH=CHC−0)、Rr(O
H)。
(3) 71- of the organic polyol shown in the following laboratory
Fester OO (ml ()To-C-CH=CHC-0), Rr(O
H).

αは1.5から4以下までの平均値をもつ値、bはaの
平均値より小のR1のフリー原子価に等しく、R1は水
酸基を2〜4含めた有機ポリオールの水酸基のない残シ
を示す。
α is a value with an average value from 1.5 to 4 or less, b is equal to the free valence of R1 smaller than the average value of a, and R1 is the residue without hydroxyl groups of the organic polyol containing 2 to 4 hydroxyl groups. shows.

無水マレイン酸と反応して、式(IIIで示されたハー
フェステルを形成する、有機ポリオールは少くとも2コ
の炭素原子を含み、水酸基を2〜4含む。
The organic polyol that reacts with maleic anhydride to form a halfester of formula (III) contains at least 2 carbon atoms and 2 to 4 hydroxyl groups.

式(川で示されるハーフェステルは例えば米国特許42
63413に記載されている。
The formula (the river Hafestel is shown in U.S. Pat. No. 42, for example)
63413.

こうしたハーフェステルはポリエポキサイド又は不飽和
ポリエステルと、混合される。
Such halfesters are mixed with polyepoxides or unsaturated polyesters.

(4)次の実験式で示される、ポリ(アクリレート ) R3は、異なる炭素原子と結合したアルコール性水酸基
を含む有機ポリハイドリンクアルコールの水酸基を含ま
ない残り、R2とR4はそれぞれ水素またはメチルでC
は1〜3である。
(4) Poly(acrylate) R3 is the hydroxyl-free remainder of an organic polyhydric alcohol containing alcoholic hydroxyl groups bonded to different carbon atoms, and R2 and R4 are hydrogen or methyl, respectively, as shown in the following empirical formula. C
is 1-3.

前記した有機ポリハイドリンクアルコールのポリ(アク
リル酸エステル)は、アクリル酸、メタアクリル酸また
はその簡単なエステルとポリハイド9リツクアルコール
を、公知の方法で反応させ得られる。
The poly(acrylic acid ester) of the organic polyhydric alcohol described above can be obtained by reacting acrylic acid, methacrylic acid, or a simple ester thereof with polyhydric alcohol by a known method.

前記、ハーフェステル、ポリアクリル酸エステルは典型
的には粘性が低く、充てん樹脂として微量だけ溶媒に用
いられる。
The above-mentioned Hafestel and polyacrylic acid esters typically have low viscosity and are used in small amounts as filler resins in solvents.

(5)不飽和モノカルボン酸のポリエポキサイドへの付
加により作られるビニルエステル樹脂この発明で使用さ
れるビニルエステルは、ポリエポキサイドへ不飽和モノ
カルボン酸を付加することで得られる。こうしたビニル
エステルは、この分゛野ではよく知られており、商業的
にも利用されている。これらは、例えば、米国特許3.
377.406、; 3,637,618 ;4,19
7,340;3.31?、365;3,373,075
;に記載されている。
(5) Vinyl ester resin made by adding unsaturated monocarboxylic acid to polyepoxide The vinyl ester used in this invention is obtained by adding unsaturated monocarboxylic acid to polyepoxide. Such vinyl esters are well known in the art and are also commercially available. These include, for example, US Patent No. 3.
377.406; 3,637,618; 4,19
7,340; 3.31? , 365; 3,373,075
;It is described in.

ここで使われる不飽和カルボン酸には、アクリル酸、メ
タアクリル酸、クロトン酸、または、水酸化アルキルア
クリル酸塩、またはメタアクリル酸塩と無水マレイン酸
、無水フタル酸との反応により得られる酸を含んでいる
The unsaturated carboxylic acids used here include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, or acids obtained by reacting hydroxylated alkyl acrylates or methacrylates with maleic anhydride or phthalic anhydride. Contains.

ここで使われるエポキサイドには、ノボラック樹脂のグ
リシジルエステル、例えばフェノール−アルデヒド濃縮
物が含まれる。このタイプの樹脂の好ましい例としては
、次式で示される。
Epoxides used herein include glycidyl esters of novolac resins, such as phenol-aldehyde concentrates. A preferred example of this type of resin is shown by the following formula.

R5は水素またはアルキル基、dは、0.1〜5の値を
とり、好ましくは1.0より少ない。こうしたポリエポ
キサイドの調製は例えば、米国特許2.216,099
や2,658,885に図示されている。
R5 is hydrogen or an alkyl group, and d takes a value of 0.1 to 5, preferably less than 1.0. The preparation of such polyepoxides is described, for example, in U.S. Pat.
2,658,885.

より好ましいポリエポキサイドとしては、ポリハイド9
リツクフエノールまたはポリハイドリンクアルコールの
グリフジルポリエステルである。特に好ましくは、次式
で示される2、2−ビス(4−ハイトロキシフェニル)
プロパンのジグリシジル、ポリエーテルである。
More preferable polyepoxide is polyhide 9
It is a glyphyl polyester of lime phenol or polyhydric alcohol. Particularly preferably, 2,2-bis(4-hydroxyphenyl) represented by the following formula:
Diglycidyl propane is a polyether.

一〇−1□−CH−CH2 au、飽和ポリエポキサイドの平均分子Iが340−2
10OOとなるような値をとる。ビニルエステル樹脂で
修飾された酸もまたこの発明に含まれる。これらは1例
えば、米国特許3,634,542 ;3.548,0
30 :3,564,074に記載されている。
10-1□-CH-CH2 au, the average molecule I of saturated polyepoxide is 340-2
Take a value that becomes 10OO. Acids modified with vinyl ester resins are also included in this invention. These include 1 e.g. U.S. Pat. No. 3,634,542;
30:3,564,074.

(6)次の実験式で示されるウレタンポリ(アクリレー
ト) 6 R6は水素またはメチル;R7は、炭素原子2〜5を有
する直線状または枝分れした2価のアルキレンまたはオ
キクアルキレン基;R8は置換または非置換ジイソシア
ネートの反応の後に残っている2価の基:R0は異なる
炭素原子と結合している水酸基を含む有機ハイドリンク
アルコールの水酸基のない残り;fは2〜4の平均値を
持つ値。
(6) Urethane poly(acrylate) represented by the following empirical formula 6 R6 is hydrogen or methyl; R7 is a linear or branched divalent alkylene or oxyqualkylene group having 2 to 5 carbon atoms; R8 is Divalent groups remaining after reaction of substituted or unsubstituted diisocyanates: R0 is the hydroxyl-free remainder of the organic hydrin alcohol containing hydroxyl groups bonded to different carbon atoms; f has an average value of 2 to 4 value.

こうした化合物は、まず最初に、水酸基あたりシイツク
アネートの1価を用い、ジイソシアネートと水酸基を反
応させ、つづいて、フリーイソシアネート基がアクリル
酸またはメタアクリル酸のヒビロΦクアルキルエステル
と反応したポリオールの典型的な反応生産物である。
These compounds are typical of polyols in which the hydroxyl group is first reacted with a diisocyanate using a monovalent hydroxide per hydroxyl group, and then the free isocyanate group is reacted with a hibiro-qualyl ester of acrylic acid or methacrylic acid. It is a reaction product.

上述のウレタンポリ(アクリレート)は1例えば米国特
許3,700,643;4,131,602;4.21
3,837;3,772,404に記載されている。
The above-mentioned urethane poly(acrylates) are described in US Pat. No. 3,700,643;
3,837; 3,772,404.

(7)次の実験式で示されるウレタンポリ(アクリレー
ト) Rloは水素またはメチル:R1□は炭素数2〜5の直
線状または枝分れしたアルキレンまたはオキシアルキレ
ン基;R1□は、置換または非置換ポリイソシアネート
の反応の後に残った多価残基:gは約2〜4の平均値を
もつ値。これらの化合物は、ポリイソシアネートとアク
リル酸またはメタアクリル酸とのイソシアネート基あた
シハイドロキシアルキル1価を用いた反応の結果得られ
る典型的生産物である。
(7) Urethane poly(acrylate) represented by the following empirical formula Rlo is hydrogen or methyl; R1□ is a linear or branched alkylene or oxyalkylene group having 2 to 5 carbon atoms; R1□ is substituted or unsubstituted Multivalent residues remaining after reaction of substituted polyisocyanates: g values with an average value of about 2-4. These compounds are typical products resulting from the reaction of polyisocyanates with acrylic acid or methacrylic acid using monohydric cyclohydroxyalkyl groups per isocyanate group.

ウレタンポリ(アクリレート)調整のために適したポリ
イソシアネートは、この分野で公知であり、芳香族、脂
肪族、環状脂肪族ポリイソシアネートを含む、あるジイ
ソシアネートは、少量めグリコールを加えられ、その融
点を下げられ、液体ジイソ7アネートを提供する。
Polyisocyanates suitable for urethane poly(acrylate) preparation are known in the art, and certain diisocyanates, including aromatic, aliphatic, and cycloaliphatic polyisocyanates, may be added with small amounts of glycol to raise their melting point. is lowered to provide liquid diiso7anate.

上述のウレタンポリ(アクリレート)は、例えば、米国
特許3,297,745;英国特許1.159,552
に記載されている。
The above-mentioned urethane poly(acrylates) are described, for example, in US Pat. No. 3,297,745; British Patent No. 1,159,552.
It is described in.

(8)次の実験式で示される、ハーフェステルまたはハ
ーフアミド9 13 RIllは水素またはメチル、R14は炭素数2〜20
を含む、脂肪族あるいは芳香族基で、−〇−または、た
は、−N−から独立しておルs R1,Fi水素または
低級アルキルである。こうした化合物は、アクリル酸ま
たはメタアクリル酸のエステルまたはアミド誘導体を含
む水酸化、アミノまたはアルキルアミノと、無水マレイ
ン酸、マレイン酸・、フマル酸との反応によシ形成され
る典型的なハーフェステルまたはハーフアミドである。
(8) Halfester or half amide 9 13 RIll is hydrogen or methyl, and R14 has 2 to 20 carbon atoms, as shown in the following empirical formula.
an aliphatic or aromatic group containing -0- or, independently from -N-, R1, Fi is hydrogen or lower alkyl. Such compounds are typically halfesters or It is half amide.

これらは、例えば、米国特許3,150,118や3.
367.992に記載されている。
These include, for example, US Pat. No. 3,150,118 and 3.
367.992.

(9)次の実験式で示される不飽和イソシアニュレート R16は水素またはメチル:R17は炭素数2〜5の直
線状まfcは枝分れ状アルキレンまたはオキシアルキレ
ン基、R18は置換または非置換ジイソシアネートの反
応の後に残る2価ラジカル、ζうした生産物は、残留フ
リーイソシアネート基とアクリル酸またはメタアクリル
酸のハイドロキンアルキルエステルの反応に引き続く、
シイツクアネートの三量化反応により典型的に得られる
(9) Unsaturated isocyanurate represented by the following empirical formula R16 is hydrogen or methyl: R17 is a linear group having 2 to 5 carbon atoms or fc is a branched alkylene or oxyalkylene group, R18 is substituted or unsubstituted The divalent radicals remaining after the reaction of diisocyanates, ζ products, are the products of subsequent reaction of hydroquine alkyl esters of acrylic or methacrylic acid with the remaining free isocyanate groups.
It is typically obtained by the trimerization reaction of sitsuquanate.

こうした不飽和イソ゛シアニュレートは、例えば、米国
特許4,195,146に記載されている。
Such unsaturated isocyanurates are described, for example, in US Pat. No. 4,195,146.

舖 以下の実験式に示されるポリ(アシド−エステル) RlGは別々に水嵩またはメチルS R2Oは、別々に
水素ま九は低級アルキル、hは0または1゜こうした化
合物は、オフサゾリン付属物または5.6−シヒドロー
4H−1,3−オフサジンを多く合むビニル付加プレポ
リマーと、アクリル酸またはメタアクリル酸の反応の典
型的生産物である。こうしたdfす(アミド9−エステ
ル)は、例えば、英国特許1,490,308に記載さ
れている。
A poly(acid-ester) as shown in the following empirical formula: RlG is separately water or methyl S R2O is separately hydrogen; h is lower alkyl; h is 0 or 1°. It is a typical product of the reaction of acrylic acid or methacrylic acid with a vinyl addition prepolymer enriched in 6-hydro-4H-1,3-ofsazine. Such dfs (amide 9-esters) are described, for example, in British Patent 1,490,308.

01)以下の実験式で示されるポリ(アクリルアミP)
またはポリ(アクリレート−アクリルアミド9) R23は、異なる炭素原子と結合した1級または2級ア
ミンを含み、アミノアルコールの場合にはアミンまたは
アルコール基が異なる炭素原子と結合している。有機ポ
リハイド9リツクアミンまたはポリハイドリックアミノ
アルコールの多価残基、R21とR2□は、別々に水素
またはメチル、Kは別iは1〜3.1!、− 上述の化合物の例は、例えば、日本公告J800305
02、J80030503、J80030504、米国
特許3,470,079、および英国特許905,18
6に記載されている。
01) Poly(acrylamide P) represented by the following experimental formula
or poly(acrylate-acrylamide 9) R23 contains a primary or secondary amine bonded to different carbon atoms, and in the case of an amino alcohol the amine or alcohol group is bonded to different carbon atoms. Polyhydric residue of organic polyhydric amine or polyhydric amino alcohol, R21 and R2□ are hydrogen or methyl separately, K is different, i is 1 to 3.1! , - Examples of the above-mentioned compounds are, for example, Japanese Publication J800305
02, J80030503, J80030504, U.S. Patent 3,470,079, and British Patent 905,18
6.

これらの樹脂(1)〜0υのいづれかは、液体均−混会
物を形成し、これらの樹脂と共重合し得るエチレン化不
飽和モノマーと混合される。このエチレン化不飽和モノ
マーには、少くとも1つの一0H−(1,基、好ましく
はCH2−(基を含み、スチレンおよびその誘導体、同
族体、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、アクリ
ル酸またはメタアクリル酸の非機能的エステル(たとえ
ば、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、メチル
メタアクリレート等)および不飽和ニトリル(例えば、
アクリロニトリル メタアクリロニトリル)等を含む、
モノマーは、ビニルエステル、例エバビニルアセテート
、ビニルプロピオネート等である。ここでは、低級無水
マレイン酸をも含む。上述のモノマーの継合物は、との
発明の具体例で効果的に使用される。
Any of these resins (1) to 0υ are mixed with an ethylenically unsaturated monomer that can form a liquid homogeneous mixture and copolymerize with these resins. The ethylenically unsaturated monomers contain at least one 0H-(1, group, preferably CH2-), and include styrene and its derivatives, homologues, divinylbenzene, diallylphthalate, acrylic acid or methacrylic acid. non-functional esters (e.g. ethyl acrylate, butyl acrylate, methyl methacrylate, etc.) and unsaturated nitriles (e.g.
Acrylonitrile (methacrylonitrile), etc.
Monomers are vinyl esters, such as evaporation vinyl acetate, vinyl propionate, and the like. Here, lower maleic anhydride is also included. Combinations of the monomers described above are advantageously used in embodiments of the invention.

インシエーターは、一般にこうした不飽和樹脂の硬化を
始めるために使用され、ジアシルパーオキサイド、ノ々
−ケタル、パーエステル、およびアゾ化合物が含まれる
Inciators are commonly used to initiate the cure of such unsaturated resins and include diacyl peroxides, non-ketals, peresters, and azo compounds.

(Iz 少くとも1つのエポキシ基を有するエポキサイ
ド9は次式の構造を有まる。
(Iz Epoxide 9 having at least one epoxy group has the structure of the following formula.

1 エポキシ基には末端エポキシ基と内部エポキシ基があり
、エポキサイドは主として環脂肪族エポキサイドである
。こうし−た環脂肪族エポキサイド9樹脂は、少量のグ
リシジル型エポキサイド″、脂肪族エポキサイド、エポ
キシフレソールノボラック樹脂、ポリニュクレアーフェ
ノールーグリシジルエーテル誘導体樹脂、芳香族および
ヘテロサイクリックグリシジルアミン樹脂、ヒダントイ
ンエポキシ樹脂1等およびそれらの混合物と混合される
1 Epoxy groups include terminal epoxy groups and internal epoxy groups, and epoxides are mainly cycloaliphatic epoxides. These cycloaliphatic epoxide 9 resins include small amounts of glycidyl-type epoxides, aliphatic epoxides, epoxy fresol novolac resins, polynucleophenol-glycidyl ether derivative resins, aromatic and heterocyclic glycidyl amine resins, and hydantoins. Mixed with epoxy resin 1 etc. and mixtures thereof.

環脂肪族エポキサイド9樹脂は、また次の式のような粘
性200センチポアズ以下の微量の環脂肪族エポキサイ
ドと混会し得る。
The cycloaliphatic epoxide 9 resin may also be mixed with a trace amount of a cycloaliphatic epoxide having a viscosity of 200 centipoise or less, such as:

さらに、こうした環脂肪族エポキサイドは環脂肪族エポ
キサイドの混合物および上述の他のエポキサイドで混合
される。こうしたエポキサイドは、この分野ではよく知
られておシ、多くは商用である。
Additionally, such cycloaliphatic epoxides are mixed with mixtures of cycloaliphatic epoxides and other epoxides mentioned above. These epoxides are well known in the art and many are commercially available.

との発明の目的のだめの適した環脂肪族エポキサイド樹
脂は、1分子あたシ平均1〜2のビシナルエポキシ基を
有してお#)、適した環脂肪族エポキサイド9は次式に
示される。
Suitable cycloaliphatic epoxide resins for the purpose of the invention have an average of 1 to 2 vicinal epoxy groups per molecule), and a suitable cycloaliphatic epoxide 9 is represented by the following formula: It will be done.

式1 ジカルボン酸の環脂肪族エステルのジエポキサイ
ドは次式で示される。
Formula 1 The diepoxide of a cycloaliphatic ester of dicarboxylic acid is represented by the following formula.

R25〜R42は、同一でも異ガつでいても、水素また
は一般的に炭素原子1〜9コのアルキル基で好ましくは
、炭素原子1〜3個を含み、例えばメチル、エチル、 
n−フロール、n−1fル、ルーヘキシル、2−エチル
ヘキシル、ルーオクチル、n−ノニル等;R43は一般
的に炭素原子1〜20コの原子価結合または二価の炭化
水素基を含み、好ましくは、炭素原子4〜6コで、例え
ばアルキレン基、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、2−エチルへキサメチレ
ン、オクタメチレン、ノナメチレン等である。
R25 to R42, whether the same or different, are hydrogen or an alkyl group generally containing 1 to 9 carbon atoms, preferably containing 1 to 3 carbon atoms, such as methyl, ethyl,
n-fluor, n-1f, ruhexyl, 2-ethylhexyl, ruoctyl, n-nonyl, etc.; R43 generally contains a valence bond or divalent hydrocarbon group of 1 to 20 carbon atoms, preferably, It has 4 to 6 carbon atoms, and is, for example, an alkylene group, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, 2-ethylhexamethylene, octamethylene, nonamethylene, etc.

環脂肪族基としては、例えば1.4−シクロヘキサン、
1.3−シクロヘキサンs 1.2−シクロヘキサン等
である。
Examples of the cycloaliphatic group include 1,4-cyclohexane,
1,3-cyclohexane s 1,2-cyclohexane, etc.

特に好ましいエポキサイドは、式lの中に含まれるもの
としては、R4〜R21が水素で、Rが炭素原子1〜4
コのアルキレンである。
Particularly preferred epoxides are those included in formula 1 in which R4 to R21 are hydrogen and R is 1 to 4 carbon atoms.
This is an alkylene.

特異的なジカルボン酸の環脂肪族エステルのジオキサイ
ドには以下のものがある。
Dioxides of specific cycloaliphatic esters of dicarboxylic acids include:

ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)しゆう
酸塩 ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジピ
ン酸塩 ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサメチ
ル)アジピン酸塩 ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)ピメレ
ート等。
Bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl) oxalate Bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate Bis(3,4-epoxy-6-methylcyclohexamethyl)adipate Bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl)adipate -epoxycyclohexylmethyl) pimelate, etc.

その他の好ましい化合物については例えば、米国特許2
,750,395に記載がある式■ 次の式で示される
3、4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポ
キシシクロヘキサンカルボン酸塩 R1〜R1gは同じであっても異なっていてもよく。
Other preferred compounds are described, for example, in U.S. Pat.
, 750, 395 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexane carboxylic acid salts R1 to R1g represented by the following formula may be the same or different.

式IにおけるR25〜R4□ に定義している。特に好
ましい化合物ではR1〜RIBが水素である。
R25 to R4□ in Formula I are defined. In particularly preferred compounds R1-RIB are hydrogen.

特異的な化合物として式■に含まれるものは次の式で示
される。3.4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,
4−エポキシシクロヘキサン炭酸塩;3.4−エポキシ
−1−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキ7
−1−メチルシクロヘキサン炭酸塩;6−メチル−3,
4−エポキシ−シクロヘキシルメチル−6−メチル−3
,4−エポキシシクロヘキサン炭酸塩;3.4−エポキ
シ−3−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキ
シ−3−メチルシクロヘキサン炭酸塩;3,4−エポキ
シ−5−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキ
シ−5−メチルシクロヘキサン炭酸塩。他の好適な化合
物は、例えば、米国特許2890194に記載されてい
る。
Specific compounds included in formula (1) are represented by the following formula. 3.4-epoxycyclohexylmethyl-3,
4-Epoxycyclohexane carbonate; 3,4-epoxy-1-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy 7
-1-methylcyclohexane carbonate; 6-methyl-3,
4-epoxy-cyclohexylmethyl-6-methyl-3
,4-epoxycyclohexane carbonate; 3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-3-methylcyclohexane carbonate; 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy -5-Methylcyclohexane carbonate. Other suitable compounds are described, for example, in US Pat. No. 2,890,194.

式■ 次式を有するジオキサイド 「は、同じでも異なってもよく、1価の置換物、例えば
水素、またはハロゲン、すなわち、塩素、臭素、ヨウ素
またはフッ素であるハロゲンまたは1価炭化水素基また
は、米国特許3,318,822に定義されている基で
ある。特に好適り化合物はすべてのR′が水素である。
Dioxides of the formula "are monovalent substituents, which may be the same or different, such as hydrogen, or halogen or monovalent hydrocarbon radicals, i.e. chlorine, bromine, iodine or fluorine, or A particularly preferred compound is one in which all R's are hydrogen.

その他の好ましい環脂肪族エポキサイド等を示す。Other preferred cycloaliphatic epoxides are shown below.

好ましい環脂肪族エポキサイド9は次のようである。3
,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキ
シ−シクロヘキサン炭酸塩、 ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジピ
ン酸塩。
The preferred cycloaliphatic epoxide 9 is as follows. 3
, 4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxy-cyclohexane carbonate, bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate.

2−(3,4−エポキシシクロへキシル−5,5−スピ
ロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキ
サン、 またはこれらの化合物。
2-(3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy)cyclohexane-meta-dioxane, or these compounds.

6員環構造のエポキサイドもまた使用可能であって、例
えば、フタル酸のジグリシジルエステル、部分的または
全体的に水素化したフタル酸である代表的なフタル酸の
ジグリシジルエステルは以下の通シである。
Epoxides with six-membered ring structures can also be used, such as diglycidyl esters of phthalic acid, a representative diglycidyl ester of phthalic acid, which is partially or fully hydrogenated phthalic acid, can be used according to the following general scheme. It is.

ヘキサハイドロフタル酸のジグリシジルエステルは好ま
しい。
Diglycidyl esters of hexahydrophthalic acid are preferred.

グリシジル型エポキサイド9は好ましくは、ビスフェノ
ールAとエビクロロヒビリンから誘導されるビスフェノ
ールAのジグリシジルエステルであり、以下に式を示す
Glycidyl-type epoxide 9 is preferably a diglycidyl ester of bisphenol A derived from bisphenol A and shrimp chlorohibirin, and has the formula shown below.

フレソール−ノボラックエポキシ樹脂は、多機能、固体
ポリマーで低イオン、加水分解性塩素不純物、高化学的
抵抗および温度で行いうる特徴を有している。
Fresol-novolak epoxy resins are multifunctional, solid polymers with the characteristics of low ionic, hydrolyzable chlorine impurities, high chemical resistance and temperature performance.

エポキシフェノールノボラック樹脂は一般的には以下の
式で与えられる。
Epoxyphenol novolac resins are generally given by the following formula.

多核性フェノール−グリシジルエーテル誘導体樹脂は一
般的には以下の式となる ここに含まれる芳香族、ヘテロサイクリックグリシジル
アミン樹脂の中のものとしては、以下のものがある。次
式の構造をもつテトラグリシジルトリグリシジル−P−
アミンフェノール誘導体樹脂、トリアジンに基づく樹脂
とヒダントインエポキシ樹脂の式、R44はメチル基、 適当な硬化剤を、エポキサイド化合物が効果的に硬化す
るために添加してもよい。
Polynuclear phenol-glycidyl ether derivative resins generally have the following formula. Among the aromatic and heterocyclic glycidyl amine resins included herein, there are the following. Tetraglycidyl triglycidyl-P- with the following structure:
Formula of amine phenol derivative resin, triazine based resin and hydantoin epoxy resin, R44 is methyl group, A suitable curing agent may be added to effectively cure the epoxide compound.

好適な硬化剤は以下のようなものである。Suitable curing agents are as follows.

1、少くとも2コのフェノール性水酸基を有するフェノ
ール性硬化剤ア、好ましくは、1分子あた#)3コのフ
ェノール性水酸基を有するもの2.1分子あたり少くと
も2コのカルボン酸基をもつ多塩基酸 3.1分子あたり少くとも2コのカルボン酸基をもつ酸
無水物 好適なフェノール性硬化剤の例は、次の多水素フェノー
ルである。カテコール、ハイド90キノン、ハイドロキ
シハイ10キノン、クロログルシノール、レゾルシノー
ル、ピロガロール。ビスフェノールのような多核性フェ
ノールはQBeルdgr atαl、米国特許2506
486に記載されており、フェノールと飽和または不飽
和で1分子あたル平均3〜20以上のフェニロール基を
含むアルデヒドとのノボラック凝縮物のような、ポリフ
ェニーロールがある。
1. Phenolic curing agent having at least 2 phenolic hydroxyl groups A, preferably #) having 3 phenolic hydroxyl groups per molecule 2. At least 2 carboxylic acid groups per molecule Examples of suitable phenolic curing agents include the following polyhydric phenols. Catechol, hyde-90quinone, hydroxyhyde-10quinone, chloroglucinol, resorcinol, pyrogallol. Polynuclear phenols such as bisphenols are used in QBel dgr atαl, US Pat. No. 2506
486, such as novolak condensates of phenols and aldehydes, saturated or unsaturated, containing an average of 3 to 20 or more phenylol groups per molecule.

(参考T、S、CarzwaLL著 ’Phanopl
asts”1947発行 1ntarscianca 
Pubハ5harpof Ngu+ York) フェノールと、アクロレインのような不飽和アルデヒド
9からなる好適なポリフェニロール誘導体の例としては
、1959年5月5日にA、G。
(Reference T, S, CarzwaLL 'Phanopl
asts” 1947 issue 1ntarscianca
Examples of suitable polyphenyrol derivatives consisting of phenol and an unsaturated aldehyde such as acrolein include A, G, May 5, 1959;

Farルルαmに特許された米国特許2,885,38
5に記載されているトリフェニロール、バンタフェニロ
ール、ヘフタフエニロールカアル。
U.S. Patent No. 2,885,38 granted to Far Lulu αm
Triphenylol, bantaphenyrol, heftafenylol Kaal described in 5.

フェノールには、アルキルレゾルシノール、トリブロモ
レゾルシノール、芳香族環に、アルキルまたはハロゲン
の置換したジフェノールに例示されるアルキルまたはア
リル埠置換またはハロゲンを含む。
Phenol includes alkyl or allyl substitution or halogen, exemplified by alkylresorcinol, tribromoresorcinol, and diphenols substituted with alkyl or halogen on the aromatic ring.

(Bgndgr at aL、米国特許2,506,4
86)さらに酸についても、1959年12月22日關 付B、PhiLlipzgtal の米国特許2918
444の中では教えられている。
(Bgndgr at aL, U.S. Pat. No. 2,506,4
86) Furthermore, regarding acids, U.S. Pat.
It is taught in 444.

その他の好適な多塩基酸の中では、1分子あたシ少くと
も2コのカルボン酸基を有するものとして、以下に述べ
る。トリカルパリリック酸、トリメリテイク酸等。その
他の好適な多塩基酸は、ポリエステルを含め、B、Ph
1llipt の米国特許2.921,925に記載さ
れている。
Other suitable polybasic acids are described below as having at least two carboxylic acid groups per molecule. Tricarpallic acid, trimellitic acid, etc. Other suitable polybasic acids include polyesters, B, Ph
1llipt US Pat. No. 2,921,925.

好適な無水物としては、上記した酸の無水物であり、好
ましい硬化剤としては、メチルテトラハイド90フタル
酸無水物、ヘキサハイピロフタル酸無水物およびメチル
ベキサハイド90フタル酸無水物がある。
Suitable anhydrides are those of the acids listed above, and preferred curing agents include methyltetrahydride-90 phthalic anhydride, hexahypyrophthalic anhydride, and methylbexahyde-90 phthalic anhydride. .

エポキサイげは、光電開始剤の使用により硬化せられる
。ここでの光電開始剤には、1またはそれ以上の金属フ
ッ素ホウ酸塩または三フッ化臭素が含まれ、それは米国
特許3379653に記載されている;ビス(ノーフル
オロアルキルスルフォニル)メタン金属塩は米国特許3
586616に記載され;アリルジアゾニウム化合物は
、米国(財) 特許3708296に記載され;■α族元素の芳香族オ
ニウム塩は米国特許4058400に記載され;Vα族
元素の芳香族オニウム塩は米国特許4069055に記
載され、■α族元素のジカルボニルキレートは米国特許
4086091に記載され;チオピリリウム塩は、米国
特許4139655に記載され;MがP、AsまたはB
hから選ばれる、MF6−イオンを持つvra族元素は
米国特許4.161,478に記載され;トリアリルス
ルフオニウム化合物塩は米国特許4,231,951に
記載され;芳香族ヨードニウムおよび芳香族スルフオニ
ウム化合物塩は米国特許4,256,828に記載され
ている。好適な光電開始剤としては、トリアリルスルフ
オニウム化合物塩、ハロゲン含有化合物イオンの芳香族
スルフオニウム、またはヨー1ニウム塩、mtz、vα
、■α族元素の芳香族オニウム塩がある。これらの塩の
うち、あるものは、FC−508、F C−509(M
innazotaMining and Manufa
cturing Gompanyから利用できる)やU
VE−1014(GgrLaraZELactric 
Companyから利用できる)のように商業的な利用
が可能である。
Epoxides are cured through the use of photoelectric initiators. Photoinitiators herein include one or more metal fluoroborates or bromine trifluoride, which are described in US Pat. No. 3,379,653; bis(nofluoroalkylsulfonyl)methane metal salts are Patent 3
Allyl diazonium compounds are described in US Pat. No. 3,708,296; ■ Aromatic onium salts of α group elements are described in US Pat. No. 4,058,400; aromatic onium salts of Vα group elements are described in US Pat. No. 4,069,055. dicarbonyl chelates of alpha group elements are described in U.S. Pat. No. 4,086,091; thiopyrylium salts are described in U.S. Pat. No. 4,139,655;
vra group elements with MF6- ions selected from h are described in US Pat. No. 4,161,478; triallylsulfonium compound salts are described in US Pat. No. 4,231,951; Sulfonium compound salts are described in US Pat. No. 4,256,828. Suitable photoinitiators include triallylsulfonium compound salts, aromatic sulfonium or iolinium salts of halogen-containing compound ions, mtz, vα
, ■There are aromatic onium salts of α-group elements. Some of these salts are FC-508, FC-509 (M
innazotaMining and Manufa
(available from curing Company) and U
VE-1014 (GgrLaraZELactric
Commercial use is possible, such as available from the Company.

光電開始剤は、この発明の組成中では、エポキサイド1
00重1部に対し、0.1〜30重量部のような、従来
からの1で使われる。
The photoinitiator in the composition of this invention is epoxide 1
It is conventionally used at 1 part by weight, such as 0.1 to 30 parts by weight per 1 part by weight.

(131次の式で示されるフェノールホルムアルデヒド
樹脂 には1より大きく、レゾールおよびノボラックを含む。
(131 Phenol formaldehyde resins with the following formula are greater than 1 and include resols and novolacs.

(14) ポリオールと、イソシアネートからなるポリ
ウレタン誘導体。ポリオ−々には、水素を含む成分とし
て、例えば、ハイド90キシ末端であるポリ炭化水素(
米国特許2,877.212号);ハイビロキシ末端で
あるポリホルエール(米国特許2870097号);脂
肪族トリグリセリド9(米国特許2,833,730号
、2,878,601号);ハイド90キシ末端である
ポリエステル(4米国特許2.698,838号、2,
921,915号、2.591,884号、2,866
,762号、2.850,476号、2,602,78
3号、2.729,618号、2,779,686号、
2.811,493号、2,621,166号);ヒド
ロキシメチルが末端であるパーフルオロメチレン(米国
特許2,911,390号、2,902,473号);
英国特許733,624号;ポリアルキレンアリレンエ
ーテル(米国特許2,8Q・S、3’l/。);ポリア
ルキレンエーテルトリオール(米国特許286.674
>。
(14) A polyurethane derivative consisting of a polyol and an isocyanate. For example, polyhydrocarbons with hydride 90-oxy terminals (
(U.S. Pat. No. 2,877,212); Polyphorere (U.S. Pat. No. 2,870,097) that is hybiloxy-terminated; Aliphatic triglyceride 9 (U.S. Pat. No. 2,833,730, 2,878,601); Hyde-90 (oxy-terminated) Polyester (4 U.S. Pat. No. 2,698,838, 2,
No. 921,915, No. 2.591,884, No. 2,866
, No. 762, No. 2.850,476, No. 2,602,78
No. 3, No. 2,729,618, No. 2,779,686,
2,811,493, 2,621,166); hydroxymethyl-terminated perfluoromethylene (U.S. Pat. Nos. 2,911,390, 2,902,473);
British Patent No. 733,624; Polyalkylene Arylene Ether (U.S. Patent 2,8Q.S, 3'l/.); Polyalkylene Ether Triol (U.S. Patent No. 286.674)
>.

サイクリックエステルポリマーの調整は、米国特許3,
021,309号から、3,021,317号まで、3
,169,945号、2,962,524号に例示され
る特許文献中によく記載されている。
The preparation of cyclic ester polymers is described in U.S. Pat.
From No. 021,309 to No. 3,021,317, 3
, No. 169,945, and No. 2,962,524.

サイクリックエステルのポリマーは、米国特許2.96
2,524号に記載される方法によっても製造される。
Polymers of cyclic esters are disclosed in U.S. Pat.
It is also produced by the method described in No. 2,524.

その他のとの発明で有用な活性水素含有物質としては、
英国特許1,063,222号および米国特許3,38
3,351号に記載され、参照としてここに一緒に、開
示されたようにポリオール中でエチ1/ン化した不飽和
モノマーをIIl、 &化することにより得られるポリ
マー/ポリオールである。
Other active hydrogen-containing substances useful in inventions include:
British Patent No. 1,063,222 and US Patent No. 3,38
No. 3,351, herein incorporated by reference, is a polymer/polyol obtained by converting an ethylenated unsaturated monomer in a polyol as disclosed.

インシアネートには、すべての好適な高分子インシアネ
ート組成物が含まれる。とれには、こうしたインシアネ
ートの1または複数の混合物をも含む。実際の重台イソ
シアネートは、Slggrらに1954年7月31日%
軒された米国特許2.6;83,730に記載されてお
り、参照によシ、まとめた開示として組み入れられてい
る。
Incyanates include all suitable polymeric incyanate compositions. It also includes mixtures of one or more of these incyanates. The actual heavy isocyanate was reported by Slggr et al. on July 31, 1954.
No. 2.6;83,730, incorporated by reference in its entirety.

電気的伝導性粒子と化合するための特に好ましい熱硬化
性樹脂の種類としては、ビスフェノールAのグリシジル
エーテルまたはフェノール−ホルムアルデヒド樹脂のグ
リシジルエーテル(上述したエポキシ化したノボラック
のような)または環脂肪族エポキサイド9およびそれら
の混合物に基づくようなエポキシ樹脂である。それぞれ
はすでに述べた。これらは、酸またはアルカリの添加ま
たは無添加の条件で、上記定義した活性水素化置物の混
入によ如交差結合される。時として、交差結合密度がこ
うしたポリマーで被覆を完全にするだめには大きすぎ、
および/または被覆(インク)混合物を作る際に充分な
金属粒子の湿潤性を効果的に得られないことがある。こ
うした樹脂を完全に得るためには、熱硬化性樹脂の表示
の中に、エポキシ樹脂と、交差納会反応のための様々な
段階で反応する能力を持つ熱可塑性樹脂を混入させると
されている。
Particularly preferred types of thermosetting resins for combination with the electrically conductive particles include glycidyl ethers of bisphenol A or glycidyl ethers of phenol-formaldehyde resins (such as the epoxidized novolacs described above) or cycloaliphatic epoxides. 9 and mixtures thereof. Each has already been mentioned. These are cross-linked by incorporation of the active hydrogenation moieties defined above, with or without the addition of acid or alkali. Sometimes the cross-linking density is too great to achieve complete coverage with these polymers;
and/or sufficient metal particle wettability may not be effectively achieved when forming the coating (ink) mixture. In order to obtain such resins completely, it is said that thermosetting resins are mixed with epoxy resins and thermoplastic resins capable of reacting in various stages for cross-coupling reactions.

例えば、熱可塑性樹脂としては、加水分解されたアセテ
ートを含むポリビニルアセテート、これによりビニルア
ルコール基を供給し;また、ポリビニルホルマルまたは
ノチラル、これはビニルアルコールまたはビニルオキシ
基を供給し;また、ポリビニルアセテートで、そこでは
わずかな加水分解基が芳香族モノイソシアネートと反応
し、硬化の条件下ではインシアネートと活性水素を放出
する、イソシアネート構造のブロックを供給するものが
あシ、エポキシ樹脂に電気的伝導金属粒上溶媒その他の
表示に従い添加される。熱可塑性樹脂はエポキシ樹脂の
交差結合に必要な活性水素の一部または全部を提供し、
交差結合した熱硬化構造の部分となる。
For example, thermoplastic resins include polyvinyl acetate, including hydrolyzed acetate, which provides vinyl alcohol groups; also polyvinyl formal or notyral, which provides vinyl alcohol or vinyloxy groups; , in which a few hydrolyzed groups react with the aromatic monoisocyanate, releasing incyanate and active hydrogen under curing conditions, providing a block of isocyanate structures, and electrically conductive metals in the epoxy resin. Add the solvent on the grains and other items according to the instructions. The thermoplastic resin provides some or all of the active hydrogen required for cross-linking of the epoxy resin;
It becomes part of a cross-linked thermoset structure.

誘電性表面 誘電性表面は、公知の誘電性表面から作られる。dielectric surface The dielectric surface is made from any known dielectric surface.

この発明の実施に際しては誘電性表面としては有機樹脂
材料が使用される。好適な有機樹脂とは熱硬化性樹脂で
あ如、上述しであるが、単独で使用または充てん剤およ
び/または繊維によシ補強し使用してもよい。一般に補
強の充てん剤および/または繊維は好ましいことである
。これは以下の添加の箇所で触れられる。こうした補強
がないと、こうした樹脂は硬化の際に収縮しがちであシ
、こうした収縮を最小にする成分組成とかたどシ条件が
望まれている。その他の誘電性材料としては、熱可塑性
樹脂があシ、以下に述べる。
In the practice of this invention, an organic resin material is used as the dielectric surface. Suitable organic resins include thermosetting resins, as mentioned above, but they may be used alone or reinforced with fillers and/or fibers. Reinforcing fillers and/or fibers are generally preferred. This will be touched upon in the addition section below. Without such reinforcement, such resins are prone to shrinkage upon curing, and compositions and conditions that minimize such shrinkage are desired. Other dielectric materials include thermoplastic resins and are discussed below.

熱可塑性樹脂は、ボリアリルエーテルスルフオン、ポリ
(アリルエーテル)、ボリアリレート、ポリエーテルイ
ミド9、ポリエステル、芳香族ポリカーボネート、スチ
レン樹脂、ポリ(アリルアクリレート)、ポリハイピロ
キシルエーテル、ポリ(アリレンスルファイト9)また
はポリアミド1から1または複数選ばれる。
Thermoplastic resins include polyaryl ether sulfone, poly(allyl ether), polyarylate, polyetherimide 9, polyester, aromatic polycarbonate, styrene resin, poly(allyl acrylate), polyhypyroxylether, poly(allyl) one or more selected from ruphite 9) or polyamide 1.

A、yllJアリルエーテルスルフォンこの発明におけ
るポリアリルエーテルスルフォンは次式のユニットを含
むアモルファス熱可塑性ポリマーである。
A, yllJ Allyl Ether Sulfone The polyallyl ether sulfone of this invention is an amorphous thermoplastic polymer containing units of the following formula.

および/または R55は、それぞれ水素、01〜C6のアルキル基、ま
たは04〜C8のシクロアルキル基、x′ はそれぞれ 56 0・ 身 57 R56とR57はそれぞれ水素、01〜C9アルキル基
または \/ R2Oと”59 はそれぞれ、水素、またはG1〜C8
アルキル基、α1は3〜8の−S−1−0−またはルは
1〜3の完全なものでユニット(りのユニット(川およ
び/または叫の会計に対する比は1より大きい。ユニッ
トはそれぞれ互いに一〇−納会で結合する。
and/or R55 is each hydrogen, an alkyl group of 01 to C6, or a cycloalkyl group of 04 to C8, and “59” are hydrogen, or G1 to C8, respectively.
an alkyl group, α1 is 3 to 8 -S-1-0- or 1 to 3 complete units (the ratio of the ratio to the account of river and/or shout is greater than 1; each unit is Join each other in 10-Naai.

下記の式のユニットを含むこの発明の好適なポリマー その他の、下記の式のユニットを含む、この発明の好適
な、ポリアリルエーテルスルフォン。
Preferred polymers of this invention containing units of the formula:Other preferred polyallylether sulfones of this invention containing units of the formula:

これらのユニットは互いに一〇−結合で結合している。These units are connected to each other through 10-bonds.

ポリアリルエーテルスルフォンは、ランダムまたは規則
的構造となっている。
Polyarylether sulfone has a random or regular structure.

この発明における、ポリアリルエーテルスルフォンは、
N−メチルピロリドンまたは適応な溶媒中で25°で測
定し、0.4〜2.5を越えない低粘性を有している。
In this invention, the polyallyl ether sulfone is
It has a low viscosity of not more than 0.4 to 2.5, measured at 25° in N-methylpyrrolidone or a suitable solvent.

この発明のポリアリルエーテルスルフォンは、次式で表
わされるモノマーの反応により調整される。
The polyallyl ether sulfone of this invention is prepared by reacting monomers represented by the following formula.

R55J α、X′ およびルは前記定義であし、Xと
Yはそれぞれ、C1、BrlF%NO2,9Hから選ば
れ、少くともYがOHであるが50%を超えないように
した。
R55J α, X' and R are as defined above, X and Y are each selected from C1, BrlF%NO2,9H, and at least Y is OH, but does not exceed 50%.

ポリアリルエーテルスルフォンを形成するだめのOH基
濃度のG1.3r%Fおよび/″!!たけNO2基に対
する比は0.90〜約1.10であシ、好ましくは、約
0.98〜1.02である。
The ratio of the OH group concentration to the G1.3r%F and NO2 groups forming the polyallyl ether sulfone is from 0.90 to about 1.10, preferably from about 0.98 to 1. It is .02.

式i国、(Vl、(7)および(至)で示されるモノマ
ーには以下を含む。2.2−ビス(4−ハイビロキシフ
ェニル)フロノン、ビス(4−ハイド10キシフエニル
)メタン、4.4’−9ハイドロキシフエニルスルフア
イド、4.4’−ジハイ10キシジフェニルエーテル、
4.4’−シハイドロキシジフェニルスルフオ/、2.
4’−シバイト90キシフエニルスルフオン、4.4′
−ジクロロジフェニルスルフォン、4.4’−0ニトロ
ジフエニルスルフオン、4−クロロ−4/−ハイドロキ
シジフェニルスル7オン、4.4−ビスフェノール、ハ
イド90キノン等。
Monomers of formula i, (Vl, (7) and (to)) include: 2.2-bis(4-hybiloxyphenyl)furonone, bis(4-hydro-10xyphenyl)methane, 4. 4'-9 hydroxyphenyl sulfide, 4.4'-dihy 10-oxydiphenyl ether,
4.4'-cyhydroxydiphenylsulfo/2.
4'-Sivite 90xyphenyl sulfone, 4.4'
-dichlorodiphenylsulfone, 4.4'-0 nitrodiphenylsulfone, 4-chloro-4/-hydroxydiphenylsulfone, 4,4-bisphenol, hyde-90quinone, etc.

好適なモノマーとしては、ハイド90キノン、4゜4−
ビフェノール、2.2−ビス(4−ハイド90キシフエ
ニル)フロノぞン、4.4′−ジクロロジフェニルスル
フォン、および4.4′−ジハイドロキシジフェニルス
ルフオンtたは4−クロロ−4′−ノーイト90キシジ
フエニルスルフオンである。
Suitable monomers include Hyde 90 quinone, 4°4-
Biphenol, 2,2-bis(4-hydro-90xyphenyl)fluorozone, 4,4'-dichlorodiphenylsulfone, and 4,4'-dihydroxydiphenylsulfone or 4-chloro-4'-noite90 It is xydiphenyl sulfone.

この発明のポリマーは、実質的に等モル量のノ翫イドロ
キシ含有化合物(前述の式(5)〜(9)に示されてい
る)とハロおよび/またはニトロ含有化合物(前述の式
四と(Vlに示されている)を反応させるととで得られ
、その際には溶液中のハイドロキシ化合物1モルあたシ
ロ。5〜1.0モルのアルカリ金属の炭酸塩を添加し、
溶媒は重台の間が実質的に無水状態とし、反応る温和に
保つために水との共沸混合物を形成する溶媒の混合から
なっている。
The polymers of this invention contain substantially equimolar amounts of hydroxy-containing compounds (as shown in formulas (5) to (9) above) and halo- and/or nitro-containing compounds (formulas 4 and ( Vl) is reacted with 5 to 1.0 mol of alkali metal carbonate per mol of hydroxy compound in solution, and
The solvent is substantially anhydrous between the plates and consists of a mixture of solvents that form an azeotrope with water to keep the reaction mild.

B、ポリアリルエーテル樹脂 ポリアリルエーテルスルホンと混合するのに適したポリ
(アリルエーテル)樹脂は、ポリアリルエーテルスルホ
ンとは異なるものであシ次の一般式の繰返し一位を包含
する線状の熱可塑性ポリアリレンポリエーテルである。
B. Polyallyl ether resin The poly(allyl ether) resin suitable for mixing with polyallyl ether sulfone is different from polyallyl ether sulfone. It is a thermoplastic polyarylene polyether.

−0−E−0−E/− この式において、Eは二塩基性フェノールの残基であり
、E′はオルソ位及びパラ位のうちの少なくとも1つの
位置における、不活性電子を原子価結合に吸引する基を
有するペンゾノイビ化合物の残基であシ、前記両残基は
芳香族炭素原子を介してエーテルの酸素に結合している
ものである。このような芳香族ポリエーテルは例えば米
国特許第3.264,536号及び同4,175,17
5号明細書に記載されているポリアリレンポリエステ/
’ It 脂の類に含まれる。該二塩基性フェノールは
、弱酸性の2核フエノール、例えばジヒドロキシジフェ
ニルアルカン類又はそれらの核ハロゲン化誘導体、例、
tば2,2−ビス(4−ヒビ0キシフエニル)フロパン
、1.1−ヒス(4−ヒビ0キシフエニル)2−フェニ
ルエタン、ヒス(4−ヒビロキシフェニル)メタン、又
は、各芳香族環に1個又は2個の塩素を有する塩素化誘
導体であることが好ましい。適当な長さのフェノール類
も他の材料として価格が高く好ましい。このような材料
は、例えばエーテル酸素(−0−)、 カルボニル残基
C−C−)、1 スルホン残基(−8−)、又は炭化水素残基に関し1 て対称的又は非対称的に結合している基を有するビスフ
ェノール類であって、2つのフェノール性の核が該残基
の同じ炭素原子又は異なる炭素原子に結合しているもの
である。
-0-E-0-E/- In this formula, E is the residue of a dibasic phenol, and E' is a valence bond that connects an inactive electron at at least one of the ortho and para positions. It is a residue of a penzonoubi compound having a group that attracts ether, both of which are bonded to the oxygen of the ether via an aromatic carbon atom. Such aromatic polyethers are described, for example, in US Pat. Nos. 3,264,536 and 4,175,17.
Polyarylene polyester described in specification No. 5/
'It is included in the class of fats. The dibasic phenol is a weakly acidic dinuclear phenol, such as dihydroxydiphenylalkanes or their nuclear halogenated derivatives, e.g.
2,2-bis(4-bioxyphenyl)furopane, 1,1-his(4-bioxyphenyl)2-phenylethane, his(4-bioxyphenyl)methane, or each aromatic ring Preference is given to chlorinated derivatives having one or two chlorines. Phenols of appropriate length are also preferred as other materials due to their high cost. Such materials may be bonded symmetrically or asymmetrically with respect to, for example, an ether oxygen (-0-), a carbonyl residue C-C-), a sulfone residue (-8-), or a hydrocarbon residue. bisphenols having a group in which the two phenolic nuclei are bonded to the same or different carbon atoms of the residue.

このような2核性フエノールは次の構造の式を有するも
のとして特徴づけられる。
Such dinuclear phenols are characterized as having the following structural formula.

この式においてArは芳香族基、好ましくはフェニレン
基であり、R6□は同じの又は異なる不活性置換基、例
えば1乃至4個の炭素原子を有するアルキル基、アリル
基、ノ・ロゲン原子例えばフッ素、塩素、臭素又はヨウ
票、又は1乃至4個の炭素原子を有するアルコキシ基で
あり、0′ は0を含む4までの整数であり、そしてR
63はジヒドロキシ−ジフェニル結合のような芳香族炭
素原子間の結合を現わすか、又は、2価の基、例えば1 −C−1−〇−1−S−1−SO−1−S−S−1−S
O2−のような基、及びアルキレン、アルキリデン、シ
クロアルキレン、シクロアルキリ−7’7、ハロ)Iン
置換アルキレン、アルキル置換アルキレン、アリル置換
アルキレンのような置換アルキレン、置換アルキデン及
び置換脂環族基、芳香族基、及び2つの前記Ar基の融
合環のような2価の基を現わす。
In this formula, Ar is an aromatic group, preferably a phenylene group, and R6□ is the same or a different inert substituent, such as an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an allyl group, a fluorine atom, etc. , chlorine, bromine or iodine, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, 0' is an integer up to 4, including 0, and R
63 represents a bond between aromatic carbon atoms such as a dihydroxy-diphenyl bond, or represents a divalent group such as 1-C-1-〇-1-S-1-SO-1-S-S -1-S
groups such as O2-, and substituted alkylene, substituted alkydene and substituted alicyclic groups such as alkylene, alkylidene, cycloalkylene, cycloalkyly-7'7, halo)I-substituted alkylene, alkyl-substituted alkylene, allyl-substituted alkylene, It represents an aromatic group and a divalent group such as a fused ring of two of the above Ar groups.

該E′に関する定義すなわち二基基性フェノールの残基
は勿論、芳香族性の水酸基2個が除かれた後の二基基性
フェノール残基をも意味する。そして簡単に理解される
ように該ポリアリレンポリエーテル類は、二基基フェノ
ール残基の繰返し単位及び芳香族エーテルの酸素原子を
介して結合したベンゾノイド化合物残基の繰返し単位を
包含する。
The definition of E' refers not only to the dibasic phenol residue, but also to the dibasic phenol residue after two aromatic hydroxyl groups have been removed. As can be easily understood, the polyarylene polyethers include repeating units of dibasic phenol residues and repeating units of benzonoid compound residues bonded via the oxygen atom of the aromatic ether.

ベンゼンIN’のオルソ位及びノR2位のうちの少なく
とも1つの位置にハロゲン又はニトロ基の方に電子を吸
引する基を有する、イ/ゼン環に2つのハロゲン又はニ
トロ基を持ったジハロベンジノイト9化合物又はジニト
ロベンゾノイド化什物又はそれらの混合物を本発明にお
いて使用できる。ジハロベンゾノイド化合物又はジニト
ロベンジノイト9化合物は、はンゾノイド核のオルソ又
はパラ位に活性電子吸引基を有するかぎり、ハロゲン原
子又はニトロ基が同じベンゾノイド環に付いた単核化合
物、又は、ハロゲン又はニトロ基が異なるインジノイト
9に付いた多核化合物のいずれであってもよい。フッ素
置換されたベンゾノイド反応原料及び塩素置換されたベ
ンゾノイド反応原料が好ましく、フッ素置換されたベン
ゾノイド化合物は反応が速く、塩素置換されたベンゾノ
イド化合物は廉価である。特に重台反応系中に根跡量の
水が存在する場合にはフッ素置換されたベンゾノイド化
合物が最も好ましい。しかしながら、この水の存在量は
最良の結果を得るためには約1パーセント、未満、好ま
しくは0.5ノ一セント未満に維持しなければならない
A dihalobenzi having two halogen or nitro groups in the i/zene ring, which has a group that attracts electrons toward the halogen or nitro group at at least one of the ortho position and the noR2 position of benzene IN' Noite 9 compounds or dinitrobenzonoid compounds or mixtures thereof can be used in the present invention. A dihalobenzonoid compound or dinitrobenzinoite9 compound is a mononuclear compound in which a halogen atom or a nitro group is attached to the same benzonoid ring, or a halogen or Any polynuclear compound having different nitro groups attached to indinoites 9 may be used. Fluorine-substituted benzonoid reaction raw materials and chlorine-substituted benzonoid reaction raw materials are preferred; fluorine-substituted benzonoid compounds react quickly, and chlorine-substituted benzonoid compounds are inexpensive. In particular, when trace amounts of water are present in the heavy-duty reaction system, fluorine-substituted benzonoid compounds are most preferred. However, the amount of water present should be maintained at less than about 1 percent, preferably less than 0.5 no cents, for best results.

電子吸引性基は、これら化合物中で活性化用基として使
用される。これは、勿論反応条件下で不活性でなければ
ならず、しかし反面、その構造には制限がない。好まし
いのは、2つのハロゲン原子又はニトロ基で置換された
ベンゾノイド核に結& f ル、4.4 ’−0クロロ
ジフエニルスルホンにお1 あるが、他の強い吸引性を有する本明細書で後述するそ
の余の基も同様の簡便さを以って使用することができる
。よシ強力な電子吸引基はより迅速な反応を提供するの
で好ましい。ハロゲン又はニトロ基を有する同じベンゾ
ノイド核上に電子供与基を包含しない環がさらに好まし
いが、核に又は化合物残基部分に他の基が存在するのは
差しつかえない。
Electron-withdrawing groups are used as activating groups in these compounds. It must of course be inert under the reaction conditions, but on the other hand there are no restrictions on its structure. Preferred is the benzonoid nucleus substituted with two halogen atoms or nitro groups, and 4.4'-0 chlorodiphenyl sulfone, but other strongly attractive compounds are used herein. The remaining groups described below can be used with similar ease. Stronger electron-withdrawing groups are preferred as they provide more rapid reactions. More preferred are rings that do not include electron-donating groups on the same benzonoid nucleus with a halogen or nitro group, although other groups may be present on the nucleus or on the residue portion of the compound.

さらに、該ポリエーテル類はカナダ特許第847.96
3号明細書に記載の方法によって製造することができ、
その場合には、ビスフェノール化合物又はジハロはンゼ
ノイド化合物は、ジフェニルスルホンのような高沸点溶
媒を用いて炭酸カリウムの存在下で加熱される。
Additionally, the polyethers are described in Canadian Patent No. 847.96.
It can be produced by the method described in Specification No. 3,
In that case, the bisphenol compound or dihaloenzenoid compound is heated in the presence of potassium carbonate using a high boiling solvent such as diphenylsulfone.

ポリ(アリルエーテル)類は、個々のポリエーテルに応
じて適当な溶剤中で適当な温度で、例えばメチレンクロ
ライド9中25℃で、0.35〜1.5の減少した粘度
を有する。
The poly(allyl ether)s have a reduced viscosity of 0.35 to 1.5 in a suitable solvent at a suitable temperature, for example methylene chloride 9 at 25°C, depending on the particular polyether.

好ましいポリ(アリルエーテル)類は、次の繰シ返し単
位の構造を有する。
Preferred poly(allyl ether)s have the following repeating unit structure.

本発明において使用するのに適したボリアリレートは、
二基基性フェノール及び少なくとも1つ、の芳香族ジカ
ルボン酸から誘導され、約0.4乃至1.01好ましく
は約0.6〜0.8dlllin&の減少した粘度をク
ロロホルム(0,5117100mlクロロホルム)又
は他の適当な溶剤中で25℃で測定した場合に有する。
Polyarylates suitable for use in the present invention include:
derived from a dibasic phenol and at least one aromatic dicarboxylic acid and having a reduced viscosity of about 0.4 to 1.01, preferably about 0.6 to 0.8 dllin&; When measured at 25°C in another suitable solvent.

特に望ましい二基基性フェノールは次の一般式この式に
おいて、Yは水素、炭素原子1〜4のアルキル基、塩素
又は臭素から独立して選ばれたものであシ、各dは0〜
4の値を独立して有し、そして、R66は2価の飽和又
は不飽和脂肪族炭化水素基、特に炭素原子1〜6個を有
するアルキレン又はアルキリジン基、又は最大限9個の
炭素原子を有するシクロアルキリデン又はシクロアルキ
レン基、酸素、C01So2、又はSである。これら二
基基性フェノールは個別に、又は組み合せて用いること
ができる。
Particularly desirable dibasic phenols have the general formula: where Y is independently selected from hydrogen, an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms, chlorine or bromine, and each d is 0 to 4.
and R66 independently has a value of 4 and R66 is a divalent saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group, in particular an alkylene or alkylidine group having 1 to 6 carbon atoms, or up to 9 carbon atoms. a cycloalkylidene or cycloalkylene group, oxygen, C01So2, or S. These dibasic phenols can be used individually or in combination.

本発明において用いつる芳香族ジカルボン酸には、テレ
フタール酸、イソフタル酸、各種のナフタレンジカルボ
ン酸及びそれらの混合物、1〜4個の炭素原子のアルキ
ル基で置換された該ジカルボン酸の同様体、及び、ハロ
ゲン、アルキルエーテル又はアリルエーテル等の他の不
活性な置換基を含むこれら酸が含まれる。アセトキシ安
息香酸も同様に使用することができる。好ましくはイソ
フタル酸類とテレフタル酸類の混合物が使用される。該
混合物におけるテレフタル酸に対するイソフタル酸の割
合は約0:100から約100:0.2であるが、最も
好ましくは約75:25から約50 : 50である。
The aromatic dicarboxylic acids used in the present invention include terephthalic acid, isophthalic acid, various naphthalene dicarboxylic acids and mixtures thereof, analogs of the dicarboxylic acids substituted with alkyl groups of 1 to 4 carbon atoms, and , halogens, alkyl ethers, or allyl ethers. Acetoxybenzoic acid can be used as well. Preferably a mixture of isophthalic acids and terephthalic acids is used. The ratio of isophthalic acid to terephthalic acid in the mixture is from about 0:100 to about 100:0.2, but most preferably from about 75:25 to about 50:50.

アジピン酸、七/Zシン酸等の炭素原子2〜10個を有
する脂肪族ジカルボン酸約0.5〜20%を付随的に重
合反応に用いることができる。
About 0.5 to 20% of aliphatic dicarboxylic acids having 2 to 10 carbon atoms, such as adipic acid, 7/Z cinic acid, etc., can be used concomitantly in the polymerization reaction.

本発明のボリアリレートは、芳香族ジカルボン酸の酸ク
ロリドゞと二基基性フェノールの反応、芳香族ジカルボ
ン酸のジアリルエステルと二基基性フェノールとの反応
、又は、芳香族ジカルボン酸と二基基性フェノールのジ
エステル誘導体トの反応、のような、従来周知のポリエ
ステル形成反応の何れによっても製造することができる
。これら方法は例えば米国特許第3,317,464号
明細書、米国特許第3,948,856号明細書、米国
特許第3.780,148号明細書、米国特許第3,1
33,898号明細書及び特に米国特許第4,321,
355号明細書中に記載されている。
The polyarylate of the present invention can be produced by a reaction between an acid chloride of an aromatic dicarboxylic acid and a dibasic phenol, a reaction between a diallyl ester of an aromatic dicarboxylic acid and a dibasic phenol, or a reaction between an aromatic dicarboxylic acid and a dibasic phenol. It can be produced by any of the conventionally known polyester-forming reactions, such as the reaction of diester derivatives of basic phenols. These methods are described, for example, in U.S. Pat. No. 3,317,464, U.S. Pat. No. 3,948,856, U.S. Pat.
33,898 and especially U.S. Pat. No. 4,321,
No. 355.

D ポリエーテルイミド 本発明において用いるのに適したポリエーテルイミドは
この分野において周知であし、例えば米国特許第3,8
47,867号、同3,838,097号及び同4,1
07,147号明細書に記載されている。
D. Polyetherimides Polyetherimides suitable for use in the present invention are well known in the art and are described, for example, in U.S. Pat.
No. 47,867, No. 3,838,097 and No. 4.1
No. 07,147.

該ポリエーテルイミドは次の一般式を有する。The polyetherimide has the following general formula.

この式において、−は1より大きい整数、好ましくけ約
10〜約10,000又はそれ以上の整数であ如、−0
−R67−0−は3又は4位及び3′ 又は4′位に結
合しており%R6□は、(al のような置換又は未置換の芳香族基、又はり、(Al一
般式 立に炭素原子1〜6個のアルキル、アリル又はハロゲン
であシ、そしてR7゜は、−〇−1−S−1)l −a−1−SO□−1−so−1炭素原子1〜6個のア
ルキリン、炭素原子1〜6個のアルキリデン、又は、炭
素原子4〜8個のシクロアルキリゾ/からなる群から選
ばれる) を有する2価の基であり、R68は炭素原子6〜20個
の芳香族炭化水素基及びそれらのハロゲン化誘導体、又
はそれらのアルキル置換体(ここでアルキル基は炭素原
子1〜6個を含む)、炭素原子2〜20個を有するアル
キレン基又はシクロアルキレン基及び炭素原子2〜8個
を有しポリジオルガノシロキサンを末端に有するアルキ
レン基又は一般式 (ここでR69とR7o は前記定義と同じものである
) を有する2価の基、から選ばれたものである。
In this formula, - is an integer greater than 1, preferably from about 10 to about 10,000 or more, such as -0
-R67-0- is bonded to the 3 or 4 position and the 3' or 4' position, and %R6□ is a substituted or unsubstituted aromatic group such as (al), or Alkyl, allyl or halogen having 1 to 6 carbon atoms, and R7゜ is -〇-1-S-1)l -a-1-SO□-1-so-1 having 1 to 6 carbon atoms R68 is a divalent group selected from the group consisting of alkyline having 1 to 6 carbon atoms, alkylidene having 1 to 6 carbon atoms, or cycloalkylizo having 4 to 8 carbon atoms; Aromatic hydrocarbon groups and their halogenated derivatives, or their alkyl substituents (where the alkyl group contains 1 to 6 carbon atoms), alkylene groups or cycloalkylene groups having 2 to 20 carbon atoms, and carbon It is selected from an alkylene group having 2 to 8 atoms and terminated with a polydiorganosiloxane, or a divalent group having the general formula (wherein R69 and R7o are the same as defined above).

前記ポリエーテルイミドはまた次の一般式のものを含み
うる。
The polyetherimide may also include those of the following general formula.

(ここでR7□は別個にハロゲン、低級アルキル又は低
級アルコキシ基である) (ここで酸素は環に直接、及び、ゴミ1カルボニル基の
納会のうちの1つに関してオルソ位又はパ(う位に、納
会しうる)から選ばれた吃のであシ、R67及びR2O
は上記定義したものと同じものである。
(wherein R7□ is separately a halogen, lower alkyl or lower alkoxy group) (wherein oxygen is directly attached to the ring and in the ortho or per position with respect to one of the abutments of the carbonyl group) , R67 and R2O selected from
is the same as defined above.

これらのポリエーテルイミドは、この分野において周知
の方法例えば米国特許第3,833,544考量3,8
87,588号、同4,017,511号及び同4.0
24,110号明細書に記載の方法によって製造される
These polyetherimides can be prepared by methods well known in the art, such as U.S. Pat. No. 3,833,544.
No. 87,588, No. 4,017,511 and No. 4.0
No. 24,110.

好ましいポリエーテルイミド9には次の構造式の繰シ返
し単位を有するものが含まれる。
Preferred polyetherimides 9 include those having repeating units of the following structural formula.

E ポリエステル 本発明において使用するのに適したポリエステルは、2
〜10個の炭素原子を含む脂肪族ジオール又は脂環式ジ
オール又はそれらの混合物と少なくとも1種の芳香族ジ
カルボン酸とから誘導されたものである。脂肪族ジオー
ルと芳香族ジカルボン酸とから誘導されるポリエステル
は次の一般式の繰り返し単位を有する。
E Polyester Polyesters suitable for use in the present invention include 2
Derived from aliphatic diols or cycloaliphatic diols containing ~10 carbon atoms or mixtures thereof and at least one aromatic dicarboxylic acid. Polyesters derived from aliphatic diols and aromatic dicarboxylic acids have repeating units of the following general formula.

(ここでルは2〜10の整数である。)好ましいポリエ
ステルはポリ(エチレンテレフタレート)である。
(wherein is an integer from 2 to 10). A preferred polyester is poly(ethylene terephthalate).

本発明においては、脂肪族酸及び/又は脂肪族ポリオー
ルから誘導される繰シ返し単位を少量例えば約0.5〜
2パーセントを使用してコーポリエステルを形成するこ
ともできる。脂肪族ポリオールには5例えばポリエチレ
ングリコールのようなグリコール類が含まれる。これら
は、例えば米国特許第2,465,319号及び米国特
許第3,047,539号明細書に開示されている方法
によシ作ることができる。
In the present invention, repeating units derived from aliphatic acids and/or aliphatic polyols are added in small amounts, for example from about 0.5 to
2 percent can also be used to form a copolyester. Aliphatic polyols include glycols such as polyethylene glycol. These can be made, for example, by the methods disclosed in US Pat. No. 2,465,319 and US Pat. No. 3,047,539.

脂環式ジオールと芳香族ジカルボン酸とから誘導される
ポリエステルは、シス−及びトランス−脂環式ジオール
異性体の何れか(又はそれらの混合物)例えば1.4−
シクロヘキサ/ジメタツールと、芳香族ジカルボン酸と
を、次の一般式の繰シ返し単位を有するポリエステルを
作るように縮合することによって製造される。
Polyesters derived from cycloaliphatic diols and aromatic dicarboxylic acids may be either cis- or trans-cycloaliphatic diol isomers (or mixtures thereof), e.g.
It is prepared by condensing cyclohexa/dimetatool and an aromatic dicarboxylic acid to form a polyester having repeating units of the general formula:

(9II この式において、シクロヘキサン環は;それらのシス異
性体及びトランス異性体から選ばれたものであC1R7
□は、芳香族ジカルボン酸から誘導された脱カルボキシ
化後の残基としての、炭素原子6〜20個を含むアリル
基を表わす。
(9II In this formula, the cyclohexane ring is selected from their cis and trans isomers; C1R7
□ represents an allyl group containing 6 to 20 carbon atoms as a decarboxylated residue derived from an aromatic dicarboxylic acid.

好ましいポリエステルは、1.4−シクロヘキサンジメ
タツールのシス異性体又はトランス異性体(又はそれら
の混合物)とイソフタル酸及びテレフタル酸及びテレフ
タル酸の混合物との反応から誘導される。これらポリエ
ステルは次の構造式の繰シ返し単位を有する。
Preferred polyesters are derived from the reaction of the cis or trans isomer (or mixtures thereof) of 1,4-cyclohexane dimetatool with isophthalic acid and a mixture of terephthalic acid and terephthalic acid. These polyesters have repeating units of the following structural formula.

好ましいコーポリエステルは、1.4−シクロヘキサン
ジメタツールのシス異性体又はトランス異。
Preferred copolyesters are the cis or trans isomer of 1,4-cyclohexane dimetatool.

柱体(又はそれらの混合物)及びエチレングリコールと
テレフタール酸との、1:2:30モル比での反応から
誘導される。これらコーポリエステルは次の一般式の繰
シ返し単位を有する。
It is derived from the reaction of the columns (or mixtures thereof) and ethylene glycol and terephthalic acid in a 1:2:30 molar ratio. These copolyesters have repeating units of the general formula:

この式においてんは10−10,000であシ、ブロッ
ク共重合体又はランダム共重合体であシうる。
In this formula, the number may be 10-10,000, and may be a block copolymer or a random copolymer.

本明細書で記述しているポリエステルは商品として市場
から購入でき又は、例えば米国特許第2,901.4 
fi 6号明細書に記載されているような従来周知の方
法により製造できる。
The polyesters described herein can be purchased commercially or, for example, in U.S. Pat. No. 2,901.4
It can be produced by conventionally known methods such as those described in FI 6.

本発明において用いられるポリエステルは。The polyester used in the present invention is:

23〜30℃においてフェノール/テトラクロロエタン
の60:40の混合物又は同様な溶媒中で測定した揚台
に約0.4〜約2.0delI10本質粘度を有する。
It has an intrinsic viscosity of about 0.4 to about 2.0 del I10 on the platform, measured in a 60:40 mixture of phenol/tetrachloroethane or similar solvent at 23-30°C.

F 芳香族ポリカーボネート 本発明で用いられる熱可塑性芳香族ポリカーボネートは
、ホモポリマー及びコーポリマー及びそれらの混合物で
あシ、25℃においてメチレンクロライビ中で測定した
揚台に約0.4〜1、Oの本質粘度を有する。このポリ
カーボネートは二基基性フェノールとカーボネート先駆
体との反応によって得られる。使用しうる二基基性フェ
ノールの典形例としては、ビスフェノールA1 ビス(
4−ヒドロキシフェニル)メタン、2.2−ビス(4−
ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロノξン、4.4
−ビス(4−ヒト90キシフエニル)ペンタン、2−2
− (3,5,3’、 5’−テトラブロモ−4,4′
−ジヒ10キシジフェニル)メタン、及びその他が挙げ
られる。ビスフェノール型の他の二基基性フェノールは
例えば米国特許2,999,835号明細書、同3,0
28,365号明細書及び同3,334,154号明細
書に記載されている。異なる種類の二基基フェノールの
2種又はそれ以上、又は、二基基性フェノールとグリセ
ロールとの、又は水酸基を末端に有するか又は酸基を末
端に有するポリエステルとの共重合体、を用いることが
勿論可能である。
F Aromatic Polycarbonate The thermoplastic aromatic polycarbonate used in the present invention is a homopolymer and a copolymer and mixtures thereof, and has a temperature of about 0.4 to 1 O, measured in methylene chloride at 25°C. It has an intrinsic viscosity of This polycarbonate is obtained by reacting a dibasic phenol with a carbonate precursor. Typical examples of dibasic phenols that can be used include bisphenol A1 bis(
4-hydroxyphenyl)methane, 2,2-bis(4-
hydroxy-3-methylphenyl)pronoξ, 4.4
-bis(4-human90xyphenyl)pentane, 2-2
- (3,5,3', 5'-tetrabromo-4,4'
-dihy-10oxydiphenyl)methane, and others. Other dibasic phenols of the bisphenol type are described, for example, in U.S. Pat. No. 2,999,835;
No. 28,365 and No. 3,334,154. Using two or more different types of dibasic phenols, or copolymers of dibasic phenols and glycerol or with hydroxyl-terminated or acid-terminated polyesters. is of course possible.

前記カーボネート先駆体はカルボニルハライド、カーボ
ネートエステル又はハロホルメートのいずれであっても
よい。本発明で用いることができるカルボニルハライ1
はカルボニルブロマイド″、カルボニルクロライド及び
それらの混合物である。
The carbonate precursor may be a carbonyl halide, carbonate ester or haloformate. Carbonyl halide 1 that can be used in the present invention
are carbonyl bromide, carbonyl chloride and mixtures thereof.

本発明で用いうる典形的なカーボネートエステルtiシ
アーcニルカ−ホ4−ト、9−(ハロフェニル)カーホ
ネ−) 例エバ’) −(ブロモフェニル)カーボネー
ト又はジー(クロロフェニル)カーボネート等、ジ(ト
リル)カーボネート、ジ(ナフチル)カーボネート%:
)(クロロナフチル)カーボネート等のジー(アルキル
フェニル)カーボ4−)類。
Typical carbonate esters that can be used in the present invention include di(tolyl) carbonate, 9-(halophenyl)carbonate, di(chlorophenyl)carbonate, di(chlorophenyl)carbonate, etc. ) Carbonate, di(naphthyl)carbonate%:
) (chloronaphthyl) carbonate and other di(alkylphenyl)carbo-4-).

又はそれらの混合物である。本発明において用いるのに
適したハロホルメートには二基基性フェノールのビス−
ハロホルメート例えばビスフェノールAのビスクロロホ
ルメート、ハイピロキノンのビスクロロホルメート等、
又は、グリコール類例エバーr−fレンクリコールのビ
スハロホルメ−1−、ネオインチルグリコール、ポリエ
チレングリコール等、が含まれる。他のカーボネート先
駆体はこの分野の当業者に明らかであろうが、従来ホス
ゲンとして公知のカルボニルクロライド1は好ましい。
or a mixture thereof. Haloformates suitable for use in the present invention include dibasic phenolic bis-
Haloformates such as bischloroformate of bisphenol A, bischloroformate of hyperiquinone, etc.
Also included are glycols such as Everrf Ren glycol, bishaloforme-1-, neointyl glycol, and polyethylene glycol. Although other carbonate precursors will be apparent to those skilled in the art, carbonyl chloride 1, conventionally known as phosgene, is preferred.

芳香族ポリカーボネート重合体は、分子量調整剤、酸受
容体及び触媒を用いて、ホスゲン又はハロホルメートを
使用してこの分野で周知の方法によって製造することが
できる。
Aromatic polycarbonate polymers can be made by methods well known in the art using phosgene or haloformates with molecular weight modifiers, acid acceptors and catalysts.

芳香族ポリエステルカーボネート類も用いることができ
る。これらは例えば米国特許 第3,169,121号明細書中に記載されている。
Aromatic polyester carbonates can also be used. These are described, for example, in US Pat. No. 3,169,121.

好ましいポリエステルカーボネートは、ホスゲン、テレ
フタノイルクロライl−4、イソフタノイルクロライド
9とビスフェノールA及び小量の/ぐう第三メチルフェ
ノールとの縮合から得られる。
Preferred polyester carbonates are obtained from the condensation of phosgene, terephthanoyl chloride 1-4, isophthanoyl chloride 9 with bisphenol A and small amounts of tertiary methylphenol.

G スチレン系樹脂 本発明において用いるのに適したスチレン樹脂には、A
BS型の重合体が含まれ、その分子は化学的に縮合され
る異なる組成物の2つ又はそれ以上の部分を包含する。
G Styrenic Resins Styrenic resins suitable for use in the present invention include A
BS type polymers are included, the molecules of which include two or more moieties of different compositions that are chemically condensed.

この樹脂は好ましくは、ツタジエンのような共役ジエン
の重合又は共役ジエンとスチレンのような重合性骨格を
提供する共重合しうるモノマーとの重合によシ製造され
る。骨格の形成後に少なくとも1種好ましくは2種のグ
ラフトモノマーを該予備重合した骨格の存在下で重合し
てグラフト重合体をつくる。このような樹脂はこの分野
で周知の方法によ如製造される。
The resin is preferably produced by polymerization of a conjugated diene, such as tutadiene, or a conjugated diene and a copolymerizable monomer that provides a polymerizable backbone, such as styrene. After the skeleton is formed, at least one, preferably two, graft monomers are polymerized in the presence of the prepolymerized skeleton to form a graft polymer. Such resins are manufactured by methods well known in the art.

上記のような骨格ポリマーは好ましくはポリツタジエン
、ポリインプレンのような共役ジエン重合体、又はブタ
ジェン−スチレン、ブタジェン−アクリロニトリル等の
共重合体である。
The backbone polymer as described above is preferably a conjugated diene polymer such as polytutadiene, polyimprene, or a copolymer such as butadiene-styrene, butadiene-acrylonitrile, etc.

グラフト重合体の骨格・をつくるのに通常用いられる特
定な共役ジエン単量体は一般式に次の一般式によって示
される。
The specific conjugated diene monomers commonly used to create the backbone of graft polymers are represented by the following general formula.

(この式においてA′は水素、炭素原子1〜5個を有す
るアルキル基、塩素又は臭素からなる群から選ばれたも
のである。)使用しうるジエン類の例としては、ブタジ
ェン、イソプレン、1.3−ヘフタシエン、メチル−1
,3−ペンタジェン、2.3−ジメチル−1,3−ブタ
ジェン、2−エチル−1゜3−−4:yタジエン、1.
3−及び2.4−へキサジエン、塩素置換又は臭素置換
されたツタジエン例えばジクロロブタジェン、ブロモブ
タジェン、ジブロモツタジエン、それらの混合物等が挙
げられる。
(In this formula A' is selected from the group consisting of hydrogen, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, chlorine or bromine.) Examples of dienes that can be used are butadiene, isoprene, 1 .3-heftashiene, methyl-1
, 3-pentadiene, 2.3-dimethyl-1,3-butadiene, 2-ethyl-1°3--4:ytadiene, 1.
Examples include 3- and 2,4-hexadiene, chlorine-substituted or bromine-substituted tutadiene, such as dichlorobutadiene, bromobutadiene, dibromotutadiene, mixtures thereof, and the like.

好ましい共役ジエンはツタジエンである。A preferred conjugated diene is tutadiene.

予備重合17た骨格の存在下に重合しうる単量体又は単
量体の群は、モノビニル芳香族炭化水素である。好まし
いモノビニル芳香族炭化水素はスチレン及ヒ/又はW−
メチルスチレンでアル。
The monomer or group of monomers that can be polymerized in the presence of the prepolymerized backbone are monovinyl aromatic hydrocarbons. Preferred monovinyl aromatic hydrocarbons are styrene and/or W-
Al with methylstyrene.

予備重合した骨格の存在下に重合しうる第2の単量体の
群は、アクリロニトリル、置換アクリロニトリル及び/
又はアクリル酸エステル、例えばアクリロニトリル及び
エチルアクリレート及びメチルメタクリレートのような
アルキルアクリレート、のようなアクリル系単量体であ
る。
The second group of monomers that can be polymerized in the presence of the prepolymerized backbone includes acrylonitrile, substituted acrylonitriles and/or
or acrylic monomers such as acrylic esters, such as acrylonitrile and alkyl acrylates such as ethyl acrylate and methyl methacrylate.

グラフト重合体の調製において、共役ジオレフィン重合
体又は共重合体と1−では、全グラフト重合体組成の約
50重t%からなる1、3−ツタジエン重合体又は共重
合体が例示される。スチレン及びアクリロニトリルによ
り例示される。骨格の存在下で重合させられる単量体は
、全グラフト重合体組成物の約40乃至95重量%であ
る。
In the preparation of the graft polymer, the conjugated diolefin polymer or copolymer and 1- are exemplified by a 1,3-tutadiene polymer or copolymer comprising about 50% by weight of the total graft polymer composition. Illustrated by styrene and acrylonitrile. The monomers polymerized in the presence of the backbone are about 40 to 95% by weight of the total graft polymer composition.

グラ重台重台体組成物のうちでアクリロニトリル、エチ
ルアクリレート又はメチルメタクリレートで例示される
第2の群のグラフト単量体は好ましくは、全グラフト共
重合体組成物の約10〜40重量%からなる。スチレン
で例示されるモノビニル芳香族炭化水素は、全グラフト
重合体組成物の約30〜70重量%からなる。
The second group of graft monomers, exemplified by acrylonitrile, ethyl acrylate or methyl methacrylate, in the grafting platform composition preferably comprises from about 10 to 40% by weight of the total graft copolymer composition. Become. Monovinyl aromatic hydrocarbons, exemplified by styrene, comprise about 30-70% by weight of the total graft polymer composition.

重合体の製造においては、骨格上に互いにグラフト化1
−て結砂する重合モノマーの割分と、遊離の共重合体を
生じる重合モノマーの割分とは一定の範囲の百分率を示
すことが一般的である。もしスチレンが1方のグラフト
化モノマーとして用いられるアクリロニトリルが第2の
グラフト化モノマーとして用いられるならば、組成物の
うちの或る部分は遊離のスチレン−アクリロニトリル共
重合体と1−で共電するであろう。ルーズチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、2−エチルへキシルアクリ
レート等に基く骨格のように、任童に、弾性質骨格はア
クリレートラバーでありうる。付随的に、アクリレート
ラバー骨格中に最少量のジエンを共重合させてマトリッ
クス化した重合体による改善グラフト化物をうることか
できる。
In the production of polymers, grafting 1 to each other on the backbone
The proportion of polymerized monomers that form sand and the proportion of polymerized monomers that form free copolymers generally fall within a certain range of percentages. If styrene is used as one grafting monomer and acrylonitrile is used as the second grafting monomer, some portion of the composition is co-charged with the free styrene-acrylonitrile copolymer. Will. Typically, the elastic skeleton can be an acrylate rubber, such as a skeleton based on loose tyl acrylate, ethyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, etc. Concomitantly, an improved grafting product can be obtained by copolymerizing a minimal amount of diene into the acrylate rubber backbone to form a matrix polymer.

これらの樹脂はこの分野で周知であり多くのものは市販
品として購入できる。
These resins are well known in the art and many are commercially available.

本発明において用いることのできるポリ(アルキルアク
リレート)樹脂には、メチルメタクリレートのホモポリ
マー(すなわちポリメタクリレート)、又はメチルメタ
クリレートとビニル単量体(例えばアクリロニトリル、
N−アリルマレイミV、塩化ビニル又はN−ビニルマレ
イミド)、又は炭素原子1〜8個のアルキル基のアルキ
ルアクリレート又は炭素原子1〜8個のアルキル基のア
ルキルメタクリレート例えばメチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、エチルメタクリ
レート及びメチルメタクリレートとのコーポリマーが含
まれる。メチルメタクリレートの量はとの共重合体樹脂
の約70重量%より多い。
Poly(alkyl acrylate) resins that can be used in the present invention include homopolymers of methyl methacrylate (i.e., polymethacrylate) or methyl methacrylate and vinyl monomers (e.g., acrylonitrile,
N-allylmaleimide V, vinyl chloride or N-vinylmaleimide), or alkyl acrylates of alkyl groups of 1 to 8 carbon atoms or alkyl methacrylates of alkyl groups of 1 to 8 carbon atoms, such as methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, Includes copolymers with ethyl methacrylate and methyl methacrylate. The amount of methyl methacrylate is greater than about 70% by weight of the copolymer resin.

ポリブタジェン、ポリイソプレン、及び/又はブタジェ
ン又はイソプレン共重合体のような不飽和の弾性質骨格
上にアルキルアクリレート樹脂をグラフト化しつる。グ
ラフト共重合体の場合、アルキルアクリレート樹脂はグ
ラフト共重合体の約50重量%より多い量からなる。
Alkyl acrylate resins are grafted onto unsaturated elastic backbones such as polybutadiene, polyisoprene, and/or butadiene or isoprene copolymers. For graft copolymers, the alkyl acrylate resin comprises greater than about 50% by weight of the graft copolymer.

これらの樹脂はこの分野において周知であシ市販されて
いる。
These resins are well known in the art and are commercially available.

メチルメタクリレート樹脂は、1パーセントのクロロホ
ルム溶液で25°Cにおいて約1.0〜2.0dl/1
1の減少した粘度を有する。
Methyl methacrylate resin is approximately 1.0-2.0 dl/1 at 25°C in a 1 percent chloroform solution.
It has a reduced viscosity of 1.

■ ポリ上10キシエーテル 本発明において用りることのできる熱可塑性ポリヒドロ
キシエーテルは次の一般式を有する。
(2) Poly-10xyether The thermoplastic polyhydroxyether that can be used in the present invention has the following general formula.

(−FOFIO−)j/ この式において、Fは二基基フェノールの残基であり、
F′は1個乃至2個のヒドロキシ基を含む、モノエポキ
サイド又はジエポキサイト9から選ばれたエポキサイド
の残基であり、そしてノ°は重合度を表わす整数であっ
て少なくとも約30で好ましくは約82以上である。
(-FOFIO-)j/ In this formula, F is the residue of a digroup phenol,
F' is the residue of an epoxide selected from monoepoxides or diepoxides containing one to two hydroxy groups, and No° is an integer representing the degree of polymerization, at least about 30 and preferably about 82. That's all.

一般に、熱可塑性ポリヒト90キシエーテルは、二基基
性フェノールと1個乃至2個のエポキシ基を含むエポキ
サイドとを当該分野で周知の方法によって実質的に当モ
ルを重合条件下で接触することにより製造される。
Generally, thermoplastic polyhuman 90-oxyethers are prepared by contacting a dibasic phenol and an epoxide containing one to two epoxy groups in substantially equimolar amounts under polymerization conditions by methods well known in the art. be done.

何れの二基基性フェノールもポリ上10キシエーテル生
成に用いることができる。二基基性ジフェノールの例と
してはハイド90キノン、レゾルシノール等及び多核フ
ェノール類を挙げることができる。特に好ましいのは次
の一般式を有する二基基性の多核フェノール類である。
Any dibasic phenol can be used to form poly-10-oxyethers. Examples of dibasic diphenols include hyde-90 quinone, resorcinol, etc. and polynuclear phenols. Particularly preferred are dibasic polynuclear phenols having the following general formula.

(101) この式において、G及びkは前に定義されたものを表わ
し、そしてR75はアルキレン又はアルキリデン基、好
ましくは炭素原子1〜3個を有するアルキレン又はアル
キリデン基、炭素原子6〜12個を有するシクロアルキ
レン又はシクロアルキリデン基である。
(101) In this formula, G and k represent as previously defined and R75 is an alkylene or alkylidene group, preferably an alkylene or alkylidene group having 1 to 3 carbon atoms, having 6 to 12 carbon atoms. cycloalkylene or cycloalkylidene group.

ポリヒト90キシエーテルの製造に有用なジエボキサイ
ドは、次の一般式を有する繰υ返し単位によって表わす
ことができる。
Dieboxides useful in the preparation of polyhuman 90xyethers can be represented by repeating units having the general formula:

この式において、R76は隣接する2つの炭素原子間の
結合を表わすか、又は、2価の有機の基例えば諸原子の
脂肪族配列、芳香族配列、脂環族配列、複素環配列又は
アクリル系配列のような2価の有機の基を表わす。
In this formula, R76 represents a bond between two adjacent carbon atoms, or a divalent organic group such as an aliphatic arrangement, an aromatic arrangement, an alicyclic arrangement, a heterocyclic arrangement, or an acrylic arrangement of atoms. Represents a divalent organic group such as an array.

他の使用しうるジエボキザイト1とj〜では、2つのオ
キシラン基が芳香族エーテルを介17て連結したジエボ
キサイド、すなわち、次の一般式を有する化合物が含ま
れる。
Other usable dieboxides 1 and j~ include dieboxides in which two oxirane groups are linked via an aromatic ether, ie, compounds having the following general formula.

(+02) この式において、R7□は2価の有機基であり、Jは二
基基性フェノールの2価の芳香族残基、例えば先に二基
基性フェノールの箇所に挙げたものの残基であシ、そし
て、mは零を含む0−1の整数である。
(+02) In this formula, R7□ is a divalent organic group, and J is a divalent aromatic residue of a dibasic phenol, such as the residue listed above for dibasic phenol. and m is an integer from 0 to 1 including zero.

これらポリヒドロキシエーテルは1例えば米国特許第3
,238,087号、同3,305,528号、同3,
924,747号及び同2,777.051号に示され
るような当該分野で周知の方法により製造される。
These polyhydroxy ethers are described in US Pat.
, No. 238,087, No. 3,305,528, No. 3,
924,747 and 2,777.051 by methods well known in the art.

本発明において用いることができるポリアミド9重合体
は当該分野で周知のものである。ポリアミド重合体には
ホモポリマー及びコーポリマーが含まれる。これら重合
体はジアミンと三塩基性酸との縮合、及び付随的な重合
によって、2官能性単量体の縮合として慣用の方法によ
り製造することができる。
Polyamide 9 polymers that can be used in the present invention are well known in the art. Polyamide polymers include homopolymers and copolymers. These polymers can be prepared by condensation of diamines with tribasic acids and concomitant polymerization in a conventional manner as condensation of difunctional monomers.

ジアミンと三塩基性酸の双方とも芳香族である芳香族ポ
リアミドも本発明において用いられる。
Aromatic polyamides in which both the diamine and the tribasic acid are aromatic are also used in the present invention.

三塩基性酸にはテレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸
等が含まれ、芳香族ジアミンにはオルソフェニレンジア
ミン、2.4−ジアミノトルエン、4゜4′−メチレン
ジアニリン等が含まれる。
Tribasic acids include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, etc., and aromatic diamines include orthophenylene diamine, 2,4-diaminotoluene, 4°4'-methylene dianiline, etc.

ポリアミド重合体は、水分除去を伴なうアミノ基とカル
ボキシルの反応である直接アミド9化、ジアミンとジ酸
クロリドの低温のポリ縮合、活性な二重結合へのアミン
の添加を伴なう開環重合、イソシアネートの重合、及び
、ホルムアルデヒド゛とジニトリルの反応、のような当
該分野で周知の方法によって製造される。
Polyamide polymers can be produced by direct amidation, which is the reaction of amino groups and carboxyls with water removal, by low-temperature polycondensation of diamines and diacid chlorides, and by opening, which involves the addition of amines to active double bonds. They are prepared by methods well known in the art such as ring polymerization, polymerization of isocyanates, and reaction of formaldehyde with dinitrile.

ポリアミド重合体には、 ポリへキサメチレ/−アジパミド、すなわちナイロン6
.6 ポリ(ε−カプロラクタム)、すなわちナイロン−6、 ポリプロピオラクタム、すなわちナイロン−3、ポリピ
ロ・す“ジン−2−オン、すなワチナイロ7−4、 ポリ(ω−エナンサミト9)、すなわちナイロン−7、 ポリカプリルラクタム、すなわちナイロン−8゜ポリ(
ω−ペラルゴンアミド)、すなわちナイロン−9、 ポリ(11−アミドデカン酸)、すなわちナイロン−1
0、 ポリ(ω−ウンテカンアミl−″′)、すなわちナイロ
ン−11゜ ポリへキサメチレンテレフタルアミド9、すなわちナイ
ロン−6、T ナイロン−6,10等、が含まれる。
Polyamide polymers include polyhexamethylene/-adipamide, i.e. nylon 6
.. 6 poly(ε-caprolactam), i.e., nylon-6, polypropiolactam, i.e., nylon-3, polypyro-sin-2-one, i.e., vachinairo 7-4, poly(ω-enansamito 9), i.e., nylon-3. 7. Polycapryllactam, i.e. nylon-8° poly(
ω-pelargonamide), i.e., nylon-9, poly(11-amidodecanoic acid), i.e., nylon-1
0, poly(ω-untecanamyl-″′), ie, nylon-11°, polyhexamethylene terephthalamide 9, ie, nylon-6, T nylon-6,10, and the like.

K、+Nす(アリレンスルフィト9) 本発明で用いるのに適したポリ(アリレンスルフィト9
)は固形であって、少なくとも約150’Fの融点を有
し、普通の溶剤に不溶のものである。
K, +N (arylene sulfite 9) Poly(arylene sulfite 9) suitable for use in the present invention
) is a solid, has a melting point of at least about 150'F, and is insoluble in common solvents.

このような樹脂は2例えば米国特許第3,354,12
9号明細書中に記載されている方法によって慣例の方法
で製造することができる。つまシこの製法は、(105
) 適当な極性有機化合物の存在下における、アルカリ全域
スルフィト9とポリハロ環置換芳香族化合物との反応、
例えば、N−メチル−2−ピロリジンの存在下における
ポリ(フェニレンスルフィP)形成のためのソジウムス
ルフイビとジクロロ梗ンゼンとの反応、を含んでいる。
Such resins are described in US Pat. No. 3,354,12, for example.
It can be produced in a customary manner by the method described in No. 9. This manufacturing method is (105
) reaction of an alkaline pan-sulfite 9 with a polyhalo ring-substituted aromatic compound in the presence of a suitable polar organic compound;
Examples include the reaction of sodium sulfide and dichlorobenzene to form poly(phenylene sulfide P) in the presence of N-methyl-2-pyrrolidine.

好11−いポリ(アリレンスルフィド)ハ、パラ置換さ
れたインゼン環と硫黄原子を含む繰シ返し単位を有する
結晶ポリマーであって1次の一般式ヲ有スるポリ(フェ
ニレンスルフィド)である。
Preferred poly(arylene sulfide) is poly(phenylene sulfide), which is a crystalline polymer having a repeating unit containing a para-substituted inzene ring and a sulfur atom, and has the following general formula: .

(ここで、Pは少なくとも約50の値を有する。)適当
なポリ(フェニレンスルフィト4)はフィリップスRト
ロリアムカンパニーからリドン(Rytorb)の商品
名で市販さ、れている。好ましくはこのポリ(フェニレ
ンスルフィトゞ)成分は、5kgの重りと標準オリフィ
スを用いて600’Fで測定して約10〜7000 d
ll、7分の溶融流動係数を有する。
(wherein P has a value of at least about 50). Suitable poly(phenylene sulfite 4)s are commercially available from Phillips R Trollium Company under the trade name Rytorb. Preferably, the poly(phenylene sulfide) component has a particle diameter of about 10 to 7000 d measured at 600'F using a 5 kg weight and a standard orifice.
ll, with a melt flow coefficient of 7 minutes.

(106) ポリ(アリレンスルフィド)という語句はホモポリマー
だけでなく、アリレンスルフィピコ−ポリマー、ターポ
リマーなどをも意味する。
(106) The term poly(arylene sulfide) refers not only to homopolymers, but also to arylene sulfipico-polymers, terpolymers, and the like.

液晶ポリエステル 本発明で用いられる液晶ポリエステルは当該分野で周知
のものである。これら液晶ポリエステルは、例えば米国
特許第3,804,805号、同第3.637,595
号、同第3,845,099号、同第3,318,84
2号、同第4,076,852号、同第4,130,5
45号、同第4,161,470号、同第4,230,
817号及び同第4,265,802号明細書に記載さ
れているものである。好ましくは、液晶ポリエステルは
次のうちの1つ又はそれ以上から誘導される。パラヒド
ロキシ安息香酸、メタヒト90キシ安息香酸、テレフタ
ル酸、ソフタリン酸、ビスフェノールA、2.6−ナフ
タレンジオール、2.6−ナフタレンジカルボン酸%6
−ヒドロキシ−2−ナフタレン酸及び2,6−ジヒトゞ
ロキシアンスラキノン。市販されている液晶共重合体(
Qarhorundom Gorp、社から入手できる
)の2つは、パラヒドロキシ安息香酸のホモポリマーで
あるEkkanol、及び、パラヒト90キシ安息香酸
とテレフタル酸とイソフタル酸と4.4′−ビフェノー
ルとの共重合であるEkkcalである。他の有益な液
晶ポリエステルには、ノぞラヒト90キシ安息香酸と6
−ヒドロキシ−2−ナフタレン酸の75/25のモル比
のコーポリエステル、及び、ポリエチレンテレフタレー
トのマトリックス中にバラアセトキシ安息香酸を重合す
ることによって得られるコーポリエステルが含まれる。
Liquid Crystal Polyester The liquid crystal polyester used in the present invention is well known in the art. These liquid crystal polyesters are disclosed in, for example, U.S. Pat. No. 3,804,805 and U.S. Pat.
No. 3,845,099, No. 3,318,84
No. 2, No. 4,076,852, No. 4,130,5
No. 45, No. 4,161,470, No. 4,230,
No. 817 and No. 4,265,802. Preferably, the liquid crystalline polyester is derived from one or more of the following: Parahydroxybenzoic acid, meta-hydroxybenzoic acid, terephthalic acid, sophthalic acid, bisphenol A, 2.6-naphthalenediol, 2.6-naphthalenedicarboxylic acid%6
-Hydroxy-2-naphthalic acid and 2,6-dihydroxyanthraquinone. Commercially available liquid crystal copolymers (
Ekkanol, a homopolymer of para-hydroxybenzoic acid, and a copolymer of para-hydroxybenzoic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, and 4,4'-biphenol (available from Qarhorundom Corp.) It is Ekkcal. Other useful liquid crystalline polyesters include Nozorahito-90xybenzoic acid and 6-hydroxybenzoic acid.
Copolyesters with a molar ratio of 75/25 of -hydroxy-2-naphthalic acid and copolyesters obtained by polymerizing paraacetoxybenzoic acid in a matrix of polyethylene terephthalate.

特に、蒸気相をはんだ付けさせるためには低い水分吸収
性の基板が望ま17い。液状ロウ付の場合に23℃で2
4時間の水分吸収(ASTM D570の試験)を行っ
たとe O,1〜0.2重量%の増加を示す基板は満足
裡に本発明において用いられるが、好ましくは基質は2
3℃において24時間、蒸気相はんだ付けを行った場合
約0.05パ一セント重量増加を越える水分吸収性を持
たな込。したがって、ある場合には蒸気相はんだ付は又
は液状はんだ付けの何れかを施こすに先立って基質を乾
燥することか望ましい。
In particular, substrates with low moisture absorption are desirable for vapor phase soldering. 2 at 23℃ in case of liquid brazing
Substrates exhibiting an increase of 1 to 0.2 wt.
Must have moisture absorption capacity exceeding approximately 0.05% weight increase when vapor phase soldering is performed at 3°C for 24 hours. Therefore, in some cases it may be desirable to dry the substrate prior to applying either vapor phase soldering or liquid soldering.

接着剤 接着剤成分は前記熱硬化性樹脂の1種又はそれ以上の何
れであってもよく、またそのような樹脂と1回路要素被
膜の結合剤部に充分反応性を有する見掛上の熱可塑性樹
脂及び/又は結合剤(誘電性表面)と他の結合剤(回路
要素の被膜)の間に硬化した熱硬化界面結合層を形成す
るように混合l−うる他の反応性樹脂との組合せであっ
てもよい。
Adhesive The adhesive component may be any one or more of the thermosetting resins described above, and may have an apparent thermal resistance sufficient to react with such resin and the bonding agent portion of the single circuit element coating. Plastic resins and/or combinations with other reactive resins that can be mixed to form a cured thermoset interfacial bonding layer between the binder (dielectric surface) and other binders (coating of circuit elements) It may be.

接着現象を支える理論はよく発達してbる。(例えばS
kigit、田andhook of Adhagiv
gzJ第2版、19’17.7)71111−16゜N
ostrandRginhold Qompany社、
New ’fork、米国ニュー米国ニューヨーク全1
発行) 本発明を実施する場合に非常に広範の種々の接
着材料を用いることができる。本発明を制限する意図を
持たずに記述すれば、好ま17い接着剤の組合せは、 
F3kiastの同上の書の第507〜527頁に記載
されているように、アセタール樹脂の混合物すなわちポ
リビニルアセタールとエポキシ樹脂である。ポリビニ(
109) ルプチラール又はポリビニルアセタールと後程記載する
ようなエポキシ置換されたノボラックとの混合物から特
に良好な結果が得られる。他の望ま1、い接着剤には、
架橋結合がビューレット及び/又はアロファネート結合
によって果たされる、多官能封塞されたインシアネート
により架橋された熱可、塑性ポリエステルポリウレタン
が含まれる。
The theory supporting the adhesion phenomenon is well developed. (For example, S
kigit, andhook of Adhagiv
gzJ 2nd edition, 19'17.7) 71111-16°N
ostrand Rginhold Qcompany,
New 'fork, USA New York all 1
Publication) A very wide variety of adhesive materials can be used in practicing the present invention. Without intending to limit the invention, preferred adhesive combinations include:
As described in F3kiast, supra, pages 507-527, it is a mixture of acetal resins, namely polyvinyl acetal and epoxy resin. polyviny (
109) Particularly good results are obtained from mixtures of lupetiral or polyvinyl acetals with epoxy-substituted novolaks as described below. Another desirable adhesive is:
Included are thermoplastic, plastic polyester polyurethanes crosslinked with polyfunctionally encapsulated incyanates, where the crosslinking is accomplished by biuret and/or allophanate linkages.

直鎖エポキシ系としては、ポリカプロラクト/ポリオー
ルのようなポリオールと混合された脂環式エボキサイ1
のようなものが望ましい。内部反応が接触反応により行
なわれる場合には触媒が供給される。多くの樹脂系は加
熱のみにより硬化状態まで架橋される。誘電性表面が予
備含浸されたものである場@−には、次に、誘電性表面
の最終会成物を形成する丸めの樹脂を、接着層又は界面
材料として用いることができる。多くの熱硬化性樹脂は
誘電性表面(合成の形成物)を結合することのみのため
でなく、回路要素被膜又は他の接着剤の層との間に接着
を確立するのに用いることができる。L7’cがって接
着剤についての選択肢は多く変(110) 化に富んでいる。成る接着剤組成物中に多くの接着剤を
混入することができ、そして、それらは抜根の゛添加剤
”の項において記載される。
Linear epoxy systems include cycloaliphatic epoxies mixed with polyols such as polycaprolact/polyols.
Something like is desirable. A catalyst is supplied if the internal reaction is carried out by catalytic reaction. Many resin systems are crosslinked to a cured state by heating alone. If the dielectric surface is pre-impregnated, then the rounded resin that forms the final composition of the dielectric surface can be used as an adhesive layer or interfacial material. Many thermosetting resins can be used not only to bond dielectric surfaces (synthetic formations), but also to establish bonds between circuit element coatings or other adhesive layers. . L7'c There are many options for adhesives, and there are many variations (110). A number of adhesives can be incorporated into the adhesive composition, and these are described in the ``Additives'' section.

添加剤 誘電性基質例えば印刷回路板をつくるだめの熱可塑性及
び/又は熱硬化性樹脂に用いうる添加剤には強化性及び
/又は非強化性充填剤例えばウォラストライト、アスベ
スク、メルク、アルミナ、クレー、マイカ、ガラスピー
ズ、煙霧シリカ、石こう等が含まれる。強化性充填剤と
してはアラミツト9、ホウ素、炭素、グラファイト、及
びガラスが挙げられる。ガラス繊維は切断されたストラ
ンド(紐)、リボン、ヤーン、フィラメント、又は織布
の形で最も広く用いられる。ガラス繊維とメルク又はウ
オラストライトとの混合物のような、強化性充填剤と非
強化性充填剤との混合物を用いることができる。これら
の強化性充填剤は約10−80重量%の量を用いること
ができ、一方、非強化性充填剤は最高50重量%までの
量を用いることができる。他の添加剤には安定剤、顔料
、耐燃焼剤、可塑剤、離型剤、処理助剤、カップリング
剤、潤滑剤等が含まれる。これらの各添加剤はそれらが
所望の結果をもたらすような量で用いられる。
Additives Additives that can be used in thermoplastic and/or thermosetting resins for making dielectric substrates, such as printed circuit boards, include reinforcing and/or non-reinforcing fillers such as wollastrite, asvesk, melk, alumina, Includes clay, mica, glass peas, fumed silica, gypsum, etc. Reinforcing fillers include aramit 9, boron, carbon, graphite, and glass. Glass fibers are most commonly used in the form of cut strands, ribbons, yarns, filaments, or woven fabrics. Mixtures of reinforcing and non-reinforcing fillers can be used, such as mixtures of glass fibers and Merck or Wolastrite. These reinforcing fillers can be used in amounts of about 10-80% by weight, while non-reinforcing fillers can be used in amounts up to 50% by weight. Other additives include stabilizers, pigments, flame retardants, plasticizers, mold release agents, processing aids, coupling agents, lubricants, and the like. Each of these additives is used in amounts such that they produce the desired results.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図及び2図において、誘電性基質は10で示され、
硬化した接着剤は11で示されまた導電性径路(電気回
路要素)は122で示される。この図においては、3つ
の径路12が示され、印刷回路板の導電性パターン(回
路、eターン)として知られそれに他の要素が給仕され
る形が示されている。第1図及び2図において、径路に
ははんだ付フィルム表面13が設けられまだ該表面13
と径路12との間にメッキ付けされた金属層14が設け
られて径路の連結及び修理を可能にしている。 金属メッキの厚さは典形的には約O,25ミルー1ミル
であシ、そして、径路の厚さは典形的には約0.1−1
0ミル、好ま1−<は約0.5ミルと約3ミルの間であ
る。最も好ましくは、金属メッキ物はスクリーン印刷、
転写ローラ又はパッドのような慣用技術によ)転写シー
ト上に印刷されており印刷の厚さは最大1ミルである。 第3図には好ましくない具体例が示されており。 この図において、導電性径路12の結合剤の引締め及び
硬化前の径路12は誘導性材料10の上に配置されてい
る。径路12は、金属粒子(及び印刷を補助するための
揮発性溶剤)を含む樹脂結合剤を含んだ印刷(オフセッ
ト印刷、シルクスクリーン印刷)又は書き込みインキ(
スラリー)によ多形成しうる。該径路は他の慣用の方法
で刷毛塗シ又は供給することができる。接着剤、最も好
ましくは硬化しうる熱硬化性接着剤11は基質10と径
1812の間に設けられる。その後溶剤を蒸発させ、径
路を含む基質10をオーダン中に入れ、例えば165℃
(330’F″)で10分間で結合剤と接着剤を部分的
に硬化させる。その後この板を第4図における加熱され
たプレス部品13α及び13hの間で、加圧例えば33
0°F′で20分間1s o psiの圧力を供給1−
該金属粒子と接着剤を保持する樹脂結合剤の硬化が完了
する間に少なく(113) とも約25%、径路の引締めを行なう。部品13αの接
触面は5ミルのシリコンゴム(伝熱性)を含みまた65
の硬度を有するものであることが最も望ましい。基質1
0は剛性又は柔軟性であ如うることが理解される。 第5図は、厚さが約25〜40%減少しており、好まし
くは熱によって部分的に接着剤中に流入している、引締
められた径路を示す。金属粒子例えば銀、パラジウム、
金及び白金のような貴金属粒子の金属スラリーは好まし
くは他の金属例えばニッケル及び錫のような他の金属の
粒子と組会せで混合される。それらと揮発性溶剤及び小
量の硬化性プラスチック結合剤とが混合される。全固形
分に対する金属含量は非常圧高く、例えば約93重量%
以上好ましくは94−98重量%である。その後肢スラ
リーをシルクスクリーン又は例えば噴霧のような適当な
他の手段によって供給して、剥離可能層19の上に最適
には形成される回路パターンの径路の形で第6図におけ
るスラリーのライン20を形成する。該層】9は好ま1
−<は剥が1−(114) 去ることができるような剥離型のものである。黒紙とし
て知られ市販されその表面に剥離剤を含むものが適当な
ものとして存在する。入手しうる適当な剥離層の例は、
Warfns TRANSKOTEELT106 DU
PLEX UNOTO5IDE FR−1として市販さ
れているものである。 第7図には、溶剤を沸騰蒸発させる加熱例えば3306
Fで105)間加熱が示されている。好ましくは基質1
0の上に配置された剥離層19が示されている。 その後、330°Fで5分間プレスによって150PS
iを供給して、ライン20中の金属粒子を引締め導電性
を増大させることができる。代りに接着剤21例えば硬
化しうる接着剤を最初にライン20の上及び剥離層19
の上に供給し次に部品22−1及び22−2からなるプ
レスによって引締め、例えば350’Fで150 ps
iにより、ライン20中の粒子の引締め作用を行なうこ
とができる。好ましくは、シリコンゴム(伝熱性)で6
5の硬度のシート及びテフロンシートを、第8図及び第
9図に示されるように1紙19と接着剤21に接触させ
られているライン材料の両側に配置する。その後、ライ
ン20と接着剤21を支持する剥離層を、ヒーター24
−1を有する部品24Aと部品24Bを含む加熱された
プレス中に配置する。接着剤と結合剤を硬化させるのに
充分で接着剤と基板例えばプラスチックス(誘電層)1
0の積層を生じる温度例えば330’Fで5分間プレス
処理して第10図及び第11図に示される回路を形成す
る。さらにプレス処理を150 pJ?iで行ってライ
ン(導電性径路)20中の金属粒子を引締める。第11
図においては熱可塑性プラスチック基質が加熱下で軟化
され圧力が加えられた場合、部分的にその中に埋設させ
られた新規形成の回路ライン20が示されている。回路
ライン又は径路20は1−ばしば埋設しないで誘電性基
質の表面上に直接配置される。段階4の後、層19は第
10図及び第11図に示されるように、引き剥が1−に
よって回路から除去される。本方法を実施する場合、部
品の接触面は60ミルのシリコンゴム層(伝熱性)を含
みかつ硬度65のものであることが最も望ましい。また
、基板10は剛性又は可撓性のものでよいことが理解さ
れる。 誘電性表面の形成 上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂は慣用技術を用いて
基質及び誘電性表面の形成に用いることができる。例え
ば熱可塑性樹脂は射出成形フィルム、シート又は板状物
に押出成形することができる。樹脂の選択は部分的に所
望の機械的及び電気的性質に依存する。印刷線組立ての
ためしばしば重要である基質材料の機械的性質は水分吸
収性、熱膨張係数、曲げ強度、衝撃強度、引張強度、切
断強度及び軟度である。1〜たがって、基板材料の諸性
質を比較することは設計者にとって成る使途のための最
適な基板選びを助けることになる。 基板は特定の処理例えば膨潤処理及び腐食処理を受けう
る。この技術においては、表面の膨潤は溶剤系を用いる
ことKよって生じる。次には基板は、クロム酸と硫酸の
混合物のような強い酸化媒体により腐食処理されうる。 この技術は当該分野(117) でよく知られている。 導電性材料を含有する組成物の製造及び剥離面剥離面を
設けそ1.て次に、導電性金属粒子の区。 分の少なくとも54容11%を含む熱硬化性樹脂組成物
を少なくと吃1つの電気回路要素の配列中の固体剥離面
に供給する。 本発明において用いつる剥離面は、少なくとも1つの電
気回路要素の配列中に供給される導電性金属粒子のフィ
ルムを受容するのに適したものである。固体剥離表面は
、剥離紙、剥離面を与える上記プラスチックからつくら
れたフィルム、又は。 剛性プラスチック又は金属剥離面であってよい。 好ましい剥離面は剥離紙であり、この中にはStrip
kotg ER及びEHRCIS、Transkotg
ER及びEHROIS、のようなビニル被覆によシつく
られたもの、Ruhbarlgaf OZC28(米国
メイン州、 T/imztbrookのS、 D、Wa
rran Qo、 社から入手できる)のようにゴム分
離のものが含まれる。 (118) 剥離面上の回路要素覆膜(径路)を印刷又は塗布するた
め用いられるインキ及びその供給方法に望ましい粘度に
応じ溶剤を使用しまたは使用することなしに金属粒子と
納会剤(熱硬化性樹脂)を混合する。慣用の有機印刷イ
ンキ用溶剤を用いることができる。インキの粘度はスク
リーン印刷に適17た粘度例えば25℃において約35
,000乃至45,000センチボイスのノルツクフィ
ールド9粘度範囲のも・のが好まj−い。溶剤を除去す
ることによって被膜を乾燥し、この被膜をA段階からB
段階に進める。 要素を充分に接着剤で被覆することがしばしば望ましく
、実際、剥離紙上に導電性金属粒子の膜をより確実に保
持するため、剥離紙の全面を接着剤で被覆することもあ
るが、しかしこれは本発明にとって限定的な事項ではな
い。したがって、ある場合には、単に導電性金属粒子の
被膜のみが接着剤で被覆される。接着剤は、フェノール
ホルムアルデヒド樹脂例えばレゾール又はノボラック樹
脂、前記レゾルシノール−ホルムアルデヒド樹脂。 尿素又はメラミン−ホルムアルデヒド9樹脂のようなア
ミノ−ホルムアルデヒド樹脂、前記のエポキシ樹脂特に
ビスフェノールAとエビクロヒト9りンとエポキシノボ
ラック樹脂例えばエビクロヒドリンとノボラック樹脂か
ら誘導されたもののようなエポキシ樹脂、ポリウレタン
ベースの接着剤特にトルエンジイソシアネート、ジフェ
ニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、ポリメチレ
ンポリフェニルイソシアネート、と種々のポリエステル
及びポリエーテルグリコールとが含まれるイソシアネー
トから誘導されたポリウレタンベースの接着剤。 エポキシ樹脂とアルデヒド及びポリビニルアルコールか
ら誘導されたポリビニルアセタールとの混合物、であっ
てよい。 導電性金属は好ましくは金属粒子の形をしており、その
うちの少なくとも1部は貴金属である。 貴金属には少なくとも銀、金、白金、・ξラジウム、ロ
ジウム及びルテニウムのうちの181が含まれる。 広義には金属粒子は1元素の周期律表の5h族、6b族
、7b族、8族、16族、2h族及び3b族からの金属
の少なくとも1つが含まれる。金属の粒径は、全ての粒
子が100メツシユのサイズの篩を通過しまた350メ
ツシユのサイズの篩上に残るような範囲にある。導電性
金属粒子は、銀及び/又は金のような貴金属のみであっ
てもよい。 一部は銀、金及び白金のような貴金属と残部の粒子は他
の金属又は固体例えばニッケル、銅、亜鉛。 アルミニウム、ガリウム、ガラス、金属酸化物及び非金
属酸化物の固体(例えばシリカ、コイ力等)のような粒
子の混合物を含むことができる。本発明の好ましい実施
においては、熱硬化性樹脂組成物中に含まれる貴金属粒
子の量は少なくとも15%から最高で100重量%の量
である。より好ましい具体例においては、貴金属の量は
組成物中の粒子の少なくとも約20%から最高100重
量%の量である。貴金属と他の材料との組会せは必ずし
も単純な特定の混合物のものばか9である必要はない。 例えばニッケル、銅の上に被覆された貴金属、又は貴金
属(例えば銀)で被覆された中空ガラス水球を用いるこ
とができる。しかしながら。 (121) 本発明の好ましい実施にお−ては、用いられる貴金属は
銀であり、これは接着剤富有の誘導性表面上の熱硬化性
樹脂層中で最大限の接触を可能にするフレーク、又は板
状又は棒状の形で用いられる。 他の粒子要素の形は、樹脂層の銀と銀の適当な接触を可
能にしそれによって本発明について本明細書に記載され
ているしはルの導電性を得ることが可能である限り、狭
く臨界的なものではない。ある場合には導電性粒子は全
体が貴金属粒子であることができる。 好ましい導電性金属は銀フレークである。しかl−なが
らコスト低減のため、銀のフレークはニッケル又は錫の
ような金属の粒子(粉ともいわれる)と−緒に用いるこ
とができる。特に望ましい組合せは粒子含量のみに基い
て25−50重量%の銀粒子と75−50重t%のニッ
ケル粒子とからなる。 導電性金属は結合剤と一緒に使用されそしてこの組合せ
は導電性径路(ライン)を形成するために用いられる。 結合剤は硬化しうる熱硬化性樹脂(+22) である。適当な熱硬化性樹脂は先に充分に記載されてい
る。特に好ましい結合剤にはノボラックエポキシド9単
独又はビニルアセタール例えばポリビニルブチラール又
はポリビニルホルマール樹脂ト混合されたノボラックエ
ポキサイドと反応させた。 フェノール封塞されたイソシアネートが含まれる。 所望によし、封塞されたイソシアネートは、該熱硬化性
樹脂から除かれる。 導電性金属と結合剤を高沸点溶剤中で混合してスラリー
(インキ)を製造する。適当な溶剤には、セロソルブア
セテート、ルーズチルカルピトール。 ルーメチル−2−ピロリジン、 N、N−ジメチルホル
ムアミド9.ジメチルスルホキサイド、エチレングリコ
ール、アニソール、デカリン、ジメチルグリコールジエ
チルエーテル、アニリン、ジエチレングリコールジブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
グリセロール、テトラリン、キシレン、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、クロロベンゼン、ジエチルカ
ーボネート、ブチルアセテート、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、トルエン等が含まれる。インキ中の
又はト9ライベースの樹脂の量は約2乃至約10重量%
、好ましくは約2−6重量%である。 導電性金属はスラリー中で少なくと本釣90%の量、好
ましくは約94重量%から100重量%未溝0量存在す
る。最も好ましくけ固形物ベース100%のうち約94
−98重量%の量である。 最も好ましいレベルの導電性を達成するため、例えば0
.1−0.005オーム/sq、ノ表面抵抗ヲ達成する
ためには、導電性金属の含量は径路中の全金属合音の約
94−98%の間であり、又は別の表現をすれば、イン
キの乾燥被膜に基いて約68乃至約87%の容量区分で
ある。導電性金属で被覆した誘電性核粒子が用いられる
場合には金属の重量%は導電性を決定せず容量区分が決
定するので1粒子含量の制限を記述するためには約68
乃至約87容i%という特徴付けはより価値ある基礎で
ある。17かしながら、最高のロウ付は値、メッキ能の
値及び導電性の値が要求されない場合には1本発明のい
くつかの利点は、54容t%以下の金属粒子の容量区分
によって達成される。 接着剤層を基板の全面に供給することができ、これは、
径路に直接配置されている接着剤層が剥離面上に持ち去
られた場合にそれに加えて又はそれに代って導電性金属
を支持する。接着剤は完全に全面に供給してよく、これ
は導電性径路又は導電性径路の下のみを支持する。接着
剤はその中に官能性の活性基を含み、これは熱硬化性樹
脂結合剤組成物及び誘電性基質と反応して結合する能力
を有する。接着剤は熱硬化性樹脂組成物と内部反応して
その中で部分的に又は完全に硬化して緊縮した構造を形
成する。好ましくは接着剤はエポキサイド及びポリウレ
タン及びその中に封塞されたイソシアネートを含むエポ
キサイドとポリウレタンを包含する。 剥離面と誘電性表面は、電気回路が誘電性表面に直面し
かつそこから接着剤樹脂によ)5)離されるように接触
させられる。充分な熱と圧力が供給されて緊縮構造を形
成し、そこで熱硬化性樹脂が本質的に充分硬化されかつ
接着剤が本質的に充分(125) に内部反応し、そこに電気回路が剥離面から転写されて
誘電性表面に結合するようになる。ある場合には必要な
単に部分的な硬化及び/又は反応が得られる。剥離面を
次に%I縮槽構造ら分離し、少なくとも0.1オーム/
zq、の表面抵抗を有する電気回路を提供することが好
ましい。 剥離面と誘電性表面は、約120℃−180℃好ましく
は約130℃−170℃の温度及び約100 psi−
約2000 psi好ましくは約is。 psi −500P”でしかし各要素を破壊する程に高
くない温度及び圧力下で接触させられる。 前記プロセスにおいては、剥離面と接触して電気回路と
して沈着する熱硬化性組成物の部分における金属の含有
濃度は、要素用組成物の他の部分よりも高い。 剥離面は非可撓性又は半可撓性の固体表面例えばドラム
表面の一部のような固体表面であることができ、該ドラ
ム表面にシルクスクリーン、印刷、静電転写のような各
種の手法のうちの1つにより回路配列を沈着し、次にド
2ムを次段階に回転させそこで架(126) 橋反応の第1段階を行なうのに充分な熱すなわちA一段
階樹脂からB段階樹脂に移行させるのに充分な熱を供給
することが理解されよう。ドラム上の該段階は、樹脂/
金属粒子組成物を部分的に硬化して緊縮するだめの加熱
ローラーの使用を包含17ている。次に、ト9ラムを他
の段階に進めてそこで接着剤の被覆物又は接着剤の固形
被膜を部分的に硬化した樹脂/金属粒子組成物に供給す
る。この段階は誘電性表面を一緒に供給する工程を含む
ことができ、次に、隣設する加圧用カレンダーローラー
との間の空隙に組立体を通過させてドラムを加熱又は伝
熱し、それによシ全緊縮を遂行し熱硬化性樹脂を最終的
に硬化させるすなわちB一段階からC一段階に進める。 多層電気回路は本発明の範囲に包含される。これら多層
電気回路の製造において、熱硬化性樹脂と前記導電性金
属粒子とをその上に沈着した剥離面を、電気回路の露出
した接触点を残した誘電性マスキング層で処理する。前
記露出した接触点はマスキング層上の他の回路要素と電
気的に内部連結しうるものである。このマスキング層は
顔料(すなわちTiO2,TiO2と5tO3の組会せ
等)であってよく、剥離面又はマスキング層上の電気回
路の少なくとも1部分上に供給される熱硬化性樹脂は誘
電性のロウ付は剤又は例えば例3中で述べた形のロウ付
は剤であってよい。次に導電性インクがマスクパターン
に整合してスクリーンに印刷される。次に他のマスクが
導電性インキパターンに整合1−でスクリーン印刷され
る。導電性インキの他の層が次にインキの他の層とマス
クの層に整合してスクリーン印刷される。接着剤がこの
層の全面に供給される。これらの各層は所望に応じてつ
くることができる。この組立体を次に、接着剤被覆され
ている誘電体基質に転写するか又は誘電性基質上に設け
る。この組立体は次に、導電性インキ層と接着剤層と誘
電性基質との接着が開始する圧力下で加熱する。剥離面
の支持体を組立体から剥がし去る。しかし前の段階で既
にそれが剥がし去られている揚台にはこの操作は省除す
る。 第12図は上記のような1本発明により形成された多層
電気回路を示す。第12図において、誘電性基板又は回
路板10は接着層21を有1〜、その上に導電性回路要
素又は径路2oが嵌込まれている。接着層21と径路2
0の上張りは誘電性インキから形成された誘電性マスク
100である。 層100は径路20の領域又は選択された領域を除いて
全面を被覆しており、径路2oは、第1の径路20の平
面に平行な第2のセットの径路20Aと電気的に連結し
ている。したがって誘電性層100け径路20の選択さ
れた領域を除いて全ての領域に横たわる。径路2OAは
好ましくは組成の点で径路20と同じであり、上記のよ
うなインキによシ積み重ね様に形成された部B103を
介して電気的に連結されている。径路20Aの上張りは
慣用のロウ肘用マスク101でありこれは回路要素又は
所望の他の径路に電気的に連結するだめの径路20の選
択された領域を残していることができる。誘電性基板の
固体支持体lo上に嵌込まれた。第12図における印刷
された回路装置は所望によシ異なる平面に横たわる多数
の径路の層r129) を持ち得ることが理解される。それぞれの場合に。 時にけ多層回路を基板上に直接設けることが可能である
Kl−でも、径路の各層は好ましくは、前の項で記載し
たように転写シート上に設けることによ多形成される。 例えば、径路の単一平面層を有する転写シートを、第1
2図に示されるように。 最初の径路の層を形成するために用いることができる。 次に誘電性インキマスク100を基質上の径路に直接供
給1−、そして、予備突出1〜た電気連結部分を持った
径路2OAを有する予じめ形成された第2の転写シート
を、第12図に示されるような第2の径路を形成するた
め用いる。転写シート上に複数の層を形成する方法は実
際の使用のために好ましい。第12図中で用いられる径
路、接着剤、誘電性基質は、同じ番号の要素に関して先
に記載されたものと同じものである。第12図に示され
る。多層印刷回路104の中の径路20は加圧及び加熱
後の緊縮型のものであり、他の代表的な断面を示す第5
図の12の数字で示されるものである。 rlaO) 第12図の左側端部は、高い金属粒子含有インキから本
発明によって形成された径路20Bを示しておシ、また
互いに異なる平面に一定角度で2つの平面部f+20G
−20Dで広がっていることが理解される。効果的な導
電性径路20Bが基質又は印刷回路板10の頂部面から
その縁端及びその側面上に広がっている。かくして、3
次元回路が縁端部から互いに異なる方向に広がって設け
られている。これは、基質に導電性回路を接着させるた
めの圧力及び熱を供給した場合に1本発明の転写シート
を用いてそれを印刷板の端縁部を覆って単に折シ曲げる
ことにより行うことができる。 したがって1本発明の転写シートは種々の形で3次元構
造の印刷板を形成する方法を提供する。 上記の各種の多層電気回路は本発明に包含される。マス
キング層は部分的に硬化し次に組立体を加圧下で加熱す
る場合に完全に硬化する。さらに、3次元の多層電気回
路は本発明に包含される。回路が印刷される誘電性表面
は可撓性であるので。 硬化された緊縮済み装置の配列物の影に存在すべき広範
な中間層を供給することができる。この印刷板はその後
、上部の露出している回路との接触廓を残してマスクす
ることができる。そして本発明の技術によって、他の回
路装置を印刷板の上に積み重ねることができ、それによ
ってより複雑な積層印刷回路をつくることができる。 はんだ付標準試験 との試験は、印刷回路素子のはんだ付性を決定する3つ
の規準を定めるものである。該試験Fi(A1回路素子
のはんだぬれ性の決定、(B)回路素子の引張強さくす
なわち、誘電表面に対する接着量)および回路素子の電
気伝導率を包含している。印刷回路物品は、もしそれが
それぞれ次のA、B、Cに記載されたぬれ性、引張強さ
、伝導率値を満足するならば、ここに述べたようKはん
だ付標準試験を満足するものである。 A、はんだ付けぬれ性に関しては、これはメニスコグラ
フ(Mgnizcograph) %デルA20134
4゜又はその同等物(Hollis Engingar
ing、 l 5CJharran Avenue、 
Na5hua、 ニューハ:/プシーr−州、米国)に
基づいて決定されうる。 メニスコグラフは試験片とはんだ間に作用する正味の力
を測定することによって始めから終シまで、はんだ対回
路のぬれのプロセス(volder −to −cir
cuit wetting procgzz)をモニタ
ーするものである。時間の関数と1−て記録したとき。 それはぬれ始める時期、ぬれの割合、平衡に達する時間
、およびぬれの最大範囲を示す。 試験片を一部分溶融1〜たはんだに浸漬したとき、試験
片の表面がぬれないままの状態である間、該試験片表面
に抗して下方へのメニスカスが形成される。この段階で
試験片は静水押上げ又は置換えられたはんだの量に相当
する減量をこうむる。これは最大浮力点である。ぬれが
生じると、接触角が減少し、はんだが徐々に下方に増大
する力を生じる試験片の・側に移動する。試験片の重量
が連続的にモニターされると、力の変化、従ってぬれの
進行が観察されうる。メニスコグラフにおいて、このこ
とは試験片をロート9セルから吊し、試験の開始時に読
むゼロの正味の力(重量)を得るようr1a3) に該システムを調整1−1試験片が予め決めた深さに浸
漬されるまではんだ浴を上げることによって達成される
。押上げ力及びぬれ力はロードセルによって電気信号に
変えられ、チャート記録器又はオシロスコープのいずれ
かに対する時間の関数と1−で記録するために送り出さ
れる。 メニスコグラフから読み取った信号は試験片に作用する
力の変化によって生じるロードセル機構中の片持ばね系
のたわみの結果と1−て生じるものである。各試験の開
始時に、試験片の重量はゼロ調整によって取消され、従
って必要と考えられる唯一の力は試験片に作用する溶融
17たはんだの表面張力による力及び浸漬と同時に試験
片によって置換えられたはんだの重量による押上げであ
る。 ぬれが始まるまで1表面張力は下方へのメニスカスを生
じさせ、そのため見掛けの押上げ信号を増加させる。ぬ
れが進行するにつれて1表面張力が作用する方向は接触
角の変化に伴って変化する。 結局、上方へのメニスカスについては試験片上の力は下
方に作用する。すなわち押上げ信号に対しr1a4) て符号が反対である。平衡ぬれ条件が達成されると、試
験片−はんだ界面マキシマムの単位長さに作用する表面
張力の垂直成分はτ幅θ である。 ただし、τは表面張力、θは接触角である。浸漬の深さ
は浴のリフト機構によってセットされるので、押上げ力
は試験片の外形及び溶融したけんだの密度から計算され
うる。メニスコグラフの目盛定めは、通常1.9の作用
荷重力に対して50 jllVの信号を生じさせるよう
にセットされる。すなわち、Eミリボルトの信号はE1
5019重量の作用力(すなわち、E150gダイン、
但1;IIrJ重力の定数である。)を示している。こ
の測定された力は1分解した表面張力τから置換えられ
たはんだの重量を減じた力と等しい。すなわち、E15
0.9−τ匪θ1−Vp(式中、lは試験片とはんだ間
の界面の長さ、■ははんだに浸漬された試験片の容積、
Pは試験温度でのはんだの密度である。) τおよび接触角を除いて、これらのすべてのファクター
は公知であるか、又は測定することができる。したがっ
て、他方を引出すために一方を仮定することが必要であ
る。 好適なはんだ付けぬれ性、すなわちAを満足するぬれ性
を有する製品はメニスコグラフを使用したときに正の勾
配を有すること、すなわち増加する時間に伴って力が増
大すること、正またはゼロを続けるプロットの最下点(
最大浮力点)で出発すること、すなわち試験の完了まで
、本発明のために望ましくは215℃の試験に対しては
8秒間、そして260℃の試験に対1−では5秒間とい
う増加する時間に亘る一定の力を示している。該勾配の
符号の決定はプロットの線上の各0.5秒間秒間用発点
及び終末点に基づいている。本発明の実施においては1
曲線(正の力と仮定する。)の最下点とピークとの間の
絶対値は最小0.8.Fである。 ぬれ性試験に用いられる試験片は次の寸法を有するプラ
スチック基板を使用すべきである。 幅0.750”+0.010” 厚さOJ2’+0.003’r回路素子を除く)高さ1
.80 ’ +〇、I O” 該プラスチックの2つの面はその上に完全に被覆された
回路素子を含有すべきである。 試験片の挿入の深さは3酊、温度は215℃C気相はん
だぬれ性のシミュレーション)または260℃(波動は
んだぬれ性のシミュレーション)。 はんだけE3n60/ph’40である。 この方法は、その上に適当なフラックスCすなわち、 
Kgstgr 1429など)を有する試験片を用意I
−2それを力変換器ホルダ上に取シ付けることを包含す
る。Y軸に関1〜て200rn9/インチ。 及びX軸に関して1秒/インチの感度にX−Y記録器の
目盛を決める。タイマーを10秒にセットし、試験片を
行う。全部のぬれ(及び脱ぬれ)の結果を記録しなけれ
ばならない、ぬれは正の勾配。 すなわち曲線上で時間が増加するにつれて力が増大する
こととして定義される。脱ぬれは負の勾配。 すなわち曲線上で時間が増加するにつれて力が減少する
こととして定義される。 はんだのぬれに関してさらに論じるために次の文献を引
用する。すなわち、すγintgd C1rcμ1ts
(1a7) Handhook’第2版、1979.14−5〜14
−8頁、19〜24頁及び19〜25頁、 McCrr
aw−Hill Book Go、にューヨーク)発行
。 B0回路素子の引張強さに関しては、それはくの試験の
ために引張強さの要件を満たすためにメッキ1−だ回路
素子に対して700 p、、?。ζ (平方インチ当り
のポンド)の最小引張値であるべきである。これに関1
−で、その試験はビール強さ試験ではな((0oorx
bs、上記、19〜23頁参照)。 それに類似した試験である。この方法は無電解Ni メ
ッキした回路素子(「メッキ能」の項に記載されている
。)の結合の引張強さを測定し、かつ最終的には複合物
の接着不足又は粘着不足のいずれかを測定するものであ
る。 試験片は厚さ0.06インチ以上、長さ0.75インチ
以上1幅0.75インチ以上の寸法を有するプラスチッ
ク基板層(切取り試片)から成シ、該基板層上に所定の
厚さで直径0.3インチ又はそれ以上の接着層が設けら
れている。次いで所定の厚さで直径0.250±0.0
05のインク層が適用されr1a8) る。該インクは次いで所定の厚さに無電解Niメッキさ
れる。長さ2インチで169α、C直i 0.05 )
の裸銅線がQQL−8−571に適合するSル60又は
S+sはんだタイプS又はフラックス有心(corgd
) タイプK又はRMAを用いて上部層に対して垂直に
はんだ付けされる。ここで、QQL−8−571はそれ
をNi プレートに納会すべき中央に設けられたワイヤ
のまわりに円錐状の外形で適用される。 試験片は平らなベースプレート(17f3”rrrin
、鋼又は憂” man。アルミニウム)上に取付けられ
る。直径0.3〜0.5インチの穴を有し、試験片を圧
縮してつかむことができ、かつワイヤ/はんだを穴の中
心に位置させるトップカッζ−プレート(%”raiル
、鋼又は/4”mLnaアルミニウム)を試験片上に固
定する。引張試験機を取付け、かつ該試験機の先端部(
グリップ)に適合しうる試験片のワイヤを取付ける。該
試験機(Inztronmodglr 1130. I
n5tron Corpm 、 Canton。 MA、によシ製造)は1インチ/分±2%引張力の一定
の速度能力および実物大の±1%の力感度を有する。1
00dFンビ実物大、および10ポンド9実物大の力能
力を有する。同様の感度を有するチャート記録器はデー
タを取るために使用される。 試験片は、ワイヤに関1−で垂直に、かつ試験機の引張
軸に関して整列しては−スとカバープレートの間に安全
に取付けられる。ワイヤを試験機のグリップに取付け、
それによってワイヤ上に力が残らないよりにする。記録
器をゼロに目盛状めし。 次いで1インチ/分で引張りを開始する。破損時の力を
記録する。 C0回路素子(メッキされていない又は無電解Ni メ
ッキしたもの)の電気伝導率に関j〜では。 最大表面抵抗率として測定される。この試験を満たすた
めに、メッキされていない回路素子は0.1オーム/平
方以下の表面抵抗率値を有しなければならず、またメッ
キされた回路素子は50ミリオーム/平方以下の表面抵
抗率値を有しなければならない。しかしながら、0.5
オーム/平方までの。 好ま1−<は0.1〜0.01オーム/平方の最大表面
抵抗率を有する。有用なメッキされていない回路を本発
明によシ製造することができる。この後に続く方法は以
下に記載されておシ、表面抵抗率はFED−8TD−4
06の方法4041によシ決定される。 試験片は2つの0.25直径末端(andpaint)
及び165平方”単一線1幅0.07”X長さ4.55
 ” )の回路外形を包含するのに適した表面区域を有
する。他の点では受容できるすべての誘電性プラスチッ
ク基板を包含している。回路末端は引張試験のところで
記載した方法ではんだ付けされたワイヤを有している。 2つの回路末端は板の表面から0.2インチ離れたワイ
ヤ上で綿密に調べられ、その大きさが記録される。 メッキ能標準試験 この試験は、印刷回路への無電解ニッケルメッキの適用
、接着および接着維持の可能性を決定する規準を定める
ものである。 (注:これは収率値に関連1−だ質、量およびプロセス
制御を定めるメッキ標準試験ではない。)r141) メッキ能標準試験において、それぞれ別個に物理的かつ
電気的に互いに分離された付加的な線を有するプラスチ
ック板の基板がF、nthoルg Ni418rEルt
hoルー、IルC0,ウェスト・ノ1−トフオート9.
コネティカット州、米国によシ製造)を90℃で455
)間使用する無電解メッキプロセスのために用意される
。該板は4×4インチの寸法であ如、かつ2系列の11
2本の線、長さ0.5 cIrL。 一方の系列がo、oosインチ幅で他方の系列が0.0
25インチ幅の、eターンで本発明の印刷回路線を有し
ている。 メッキ能標準試験を満足する値は次の事項を含めて定め
られる。 1、 メッキを受容するすべての異なる線の100%適
用範囲。(10倍率の肉眼検査によって決定される。) 2、線の80%以上がメッキを受容しなければならない
。 との検査値に分桁することに加えて、本発明の最も好ま
しい製品は次の%徴を有している。 (142) 1、 メッキを受容する実質的にすべての線はプリスタ
およびクラック10倍率の肉眼検査によって決定される
。)を有していない。 2、 メッキを受け入れる実質的にすべての線は1、P
、q 試験法マニュアル方法第2.4.1.号による接
着ビール試験によって決定されるメッキを接着し、かつ
それを維持し、その際メッキが印刷回路の界面から分離
することがない。この試験はASTM B−117によ
る塩噴霧環境(95°Fで72時間の5%中性塩噴霧)
に従う前および後の両方で行われる。 例 次の例は本発明の特定の例を説明するためのものであっ
て、いかなる意味においても本発明の範囲を限定するこ
とを意図したものではない。 例1 次の成分を室温で配合した。 (01100〜1700センチポイズ(52℃)の範囲
の粘度を有する1分子当)平均3.6オキシラン基を有
するエポキシノボラック樹脂3重t%。 そのエポキシ当1は172〜179の範囲であった。く
り返し単位の平均値は0.2 (D、 E、 N。 431 、Dow OhgmicaL Co、、ミツト
9ラント。 ミシガン州により製造)であった。 (川 分子量10.01)0〜15,000及び溶液粘
度100〜200センチボイズ(二基基エステル(注)
 :N−メチルピロリジン−4:1の溶液中。 25℃で15重#%として測定)を有するポリ(ビニル
ホルマール)樹脂zit%。Formυαr5159は
bAonzanto Plastic & RgJli
az Go、。 セントルイス、ミズリー州によl造されている。 (注)コハク酸ジメチル 23重量%、グルタル酸ジメ
チル56重量%及びアジピン酸ジメチル21重量%のエ
ステル混什物 (114〜6.5のPHを有するトリフルオルメタン−
スルホン酸0.0005重量% この混合物に次の成分を添加した。 +1) 粒子寸法2〜12ミクロン、見掛は密度21.
5〜23.511/l113. タップ(tap) ’
a度1.5〜2.5ti7ir&3および10006F
での減曾約1%を有する銀25重量% (… 平均粒子寸法12ミクロン及び見掛は密度56.
8Ii/iル3を有する、約100%球形のニッケル粉
末70.0.重量% この混合物を完全に均質化するまで室温で攪拌11次い
で4〜6ミルでのパックローラ及び1〜3ミルでのフロ
ントローラを有する3つのロールミルに2回通過させた
。 この導電性インクを慣用技術によ、9 VH8Supg
rmat剥離紙(S、D、Warran Go、、 V
hzt−hraok、メイン州によシ製造)上に乾燥後
約1ミルの厚さにスクリーン印刷した(米国篩寸法25
0)。 印刷された紙を対流型空気オーブン中、330下で5分
間乾燥した。 基板は1次式: rP−3703,ユニオン・カーフζイド社製。 25℃で0.2.9/100−のクロロホルム中で測r
145) 定したとき0.51の還元粘度を有する)で示されるポ
リスルホン26.4重量%、25℃でN−メチル−ピロ
リジノンrO,2Ji’/100m/)中で測定したと
き0.61 CLI/11 の還元粘度を有する、次の
単位: を含有するポリマー401jLi1′%、0.5インチ
に細かく切ったガラス繊維(197B、0wgn5Qo
rni41社製)15重量%、および約10ミクロンの
粒子寸法を有するウオラストナイト(N’/”d 12
50. Nyco社製)16.6重量%を含有する組成
物から成形された。 基板組成物をaoo℃で4X4XO,20インチのキャ
ビティ金型中で液圧プレスを用いて圧縮成形し、その寸
法のシートを形成した。 (146) 基板シートをジメチルホルムアミド溶媒の50%水溶液
に25℃で59+間浸漬した。次いで基板を25℃の水
中ですすいだ。基板は次いで、次の成分C数値は重量部
である): 脱イオン水 3〇 三酸化クロム 3.0 85〜87%リン酸 10.0 96%硫酸 55.9 を含有するクロム酸溶液に80℃で5分間浸漬した。 次いで基板を25℃の水中ですすぎ、さらに100℃で
10分間乾燥した。 別々に、次の成分を含有する2つの部外の接着剤を調製
した。 部分A (I) エピクロルヒドリンとビスフェノールA(Ep
on 1009 F、シェル・ケミカル社製)から得ら
れるエポキシ樹脂11.41重量部、tn+ 平均当量
重量260.水酸基含量6.5%。 最大酸価4.0.25℃における概算比11.12を有
する飽和ポリエステル(Dg!rnophtn 110
0゜Mobay GhgrnicaL Corp、、ピ
ッツバーグ%ハンシルノzニア州により製造40.88
重量部。 (Ill 液状のフッ素化アルキルエステルである非イ
オン界面活性剤rFo−4ao、 3M GorP−製
)0.068重1部 部%B 6〜7%の遊離モノマーを含有するポリトルエン ジイ
ソシアネー) (OB −60,MohayChemi
cal Go、製)47.67重量部次いで、部分A及
びBを混合した。インゾロパノール及びメチルエチルケ
トン(3:2の比)を含有する溶媒を添加して25℃で
18秒ZAαルカツプ番号2の粘度を得た。 製造1〜た接着剤を処理済み基板シート上に噴霧1−た
。次いで接着吸を被覆した基板を、該接着剤被膜が乾燥
するけれども完全に硬化してしまわない程度に149℃
で5分間対流型オープン中に置いた。上記のようにして
形成した印刷された剥離紙は接着剤を被Ffl−だ基板
と接触させ、その際印刷された表面が基板シートの接着
剤表面に接触し。 次いで200711JPiの圧力で166℃、30分間
積層されるように1−だ。次いでその紙をアセンブリー
から引きはがした。次に基板を対流型オーブン中で16
6℃で30分間加熱して最終的な硬化を確実にした。 印刷された基板を次いで6%硫酸溶液で65℃。 5分間予熱17た。基板を水ですすぎ、さらにホウ水素
化ナトリウムと水酸化ナトリウム(1:1の割合)の2
%溶液で40℃、30秒間処理した。 印刷された基板はニッケルメッキを被覆させるために無
電解メッキタンク(Ni −418゜Ethong )
 中88℃で、PH4,8〜5.2を用いて、かつ60
分のメッキ時間で、ii出したインクの表面にニッケル
メッキした。 例2 接着剤が次の成分を含有する1部分系(Oルーpart
 system) であった以外は例1の方法をくシ返
した。 (1)前記二基基エステル/路−メチル−2−ピr14
9) ロリド9ンの4/1溶液中のポリビニルホルマール樹脂
(Formvat’ 5 / 95 E、 MorLs
anto plastics& Razinz Qo、
製)56.17重量部架橋剤 (α)酢酸セロンソルプ中のフェノールでブロックした
トルエンジイソシアネート(Monctur S。 Mobay Chemical Co、製)33.7重
量部(旬 へキサメチロール メラミンのへキサメチル
エーテル(OymaL 303. 100%固体、アメ
リカン・シアナミド9社製)4.21重量部(C) フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂のアリルエーテ/l/
 (MathyLon 75 ] 08.100%固体
。 ゼネラル・エレクトリック社製)5.6重量部(dl 
ジメチルシリコーン油rDc−11,ダウ・ケミカル社
$1り0.28重量部 上上記外のすべてを室温で混合した。前記二基基エステ
ル/n−メチル−2−ピロリド9ンの4/1溶液を含有
する溶媒を、2ルαn Cup、 42及び25℃で3
8秒の粘度を得るために使用した。 次いで接着剤を剥離紙上にオープンスクリーンr150
) Cスクリーンメツシュ)印刷し、対流型オープン中で2
00’Fで2分間乾燥した。剥離紙を次いで例1に記載
したとおりに基板上に積層し、さらに対流型オープン中
で350下で305+間加熱した。 基板を予熱し1例IK記載した方法によってメッキした
。 接着層は誘電表面上に配置されるように記載したが、所
望ならばそれは、インクが剥離表面上にあるときに、む
しろインクの外側または解放(インクと接触していない
)表面に適用することができる。次いで剥離表面に、誘
電表面への転移のために導電性パターン及び接着層を載
せる。好ましくはここで使用される接着剤は1成分から
成る熱硬化性接着剤である。 例3 この例は2層回路板の製造を記載したものである。 2例1記載の方法によシ製造1〜だ基板及び接着剤を使
用した。 次のはんだマスクを製造l−た。 部分A 1、 分子当シ平均3.6オキシラン基、エポキシ当t
(172〜179)及びW −0,2を有するエポキシ
ノボラック樹脂26.88重量部2、変性剤としてのエ
チルアクリレート及び2−エチルヘキシルアクリレート
 コポリマ−3、フタノール中に60%の固体を含有す
る。 ブチル化尿素−ホルムアルデヒド樹脂(Bgetla樹
脂、アメリカン・シアナミド9社、スタッフォービ、コ
ネティカット州により製造)5.566重層4、高純度
の二酸化チタン顔料(TitarLoxl 070 L
 W、E、 1.Dwpont daNgmourz、
ウィルミントン、プラウエア州によシ製造)46.07
重量部 部分B 1、 アミン値345を有するポリアミド9(2量化ト
ール油脂肪(T、 QF、 )酸とエチレンジアミンと
の反応生成物)1例えばVarrvamitt 125
 (ヘンケル・オノ・アメリカ、ニューヨーク、ニュー
ヨーク州により製造)5.56重量部 2.4:1の前記二基基エステル:N−2−メチルピロ
リド9ン溶媒12.96重量部部部分とBを室温で混合
した。 誘電性はんだマスクを剥離担体上に覆い、対流型オープ
ン中で166℃で1分間乾燥した。例1のインクを誘電
性はんだマスクパターンで覆い。 対流型オープン中で166℃で2分間乾燥1−た。 誘電性はんだマスクをインク・ノぞターンで覆い。 対流型オープン中で166℃で1分間乾燥した。 この工程をくり返し、誘電性はんだマスクの2重層を得
た。部分的に完成したサブ−アセンブリーを21’Cで
30秒間、1000P、pLの圧縮圧力で圧縮した。 例1のインクを他方のインク層及び誘電性はんだマスク
層で覆い、アセンブリーを対流型オープン中で166℃
で3分間乾燥してサプーア七ンノリーを完成させた。 次りでサブ−アセンブリーを剥離担体から接着剤を被覆
した基板に166℃の温度および500PSLの圧縮圧
力で30秒間転移させることによつrtsa) て、インク、接着剤及び基板間の接着を開始させた。剥
離担体は次論でアセンブリーから引きはがし、対流型オ
ープン中で166℃で30分間あと硬化させた。 同様の結果は、接着剤を基板上に配置するよりはむしろ
サブアセンノリーを覆う接着剤を剥離担体上に配置する
ことによって達成することができる。 例4 電気的に伝導性の径路を作るだめのスラリーを下記成分
(重量部)から次のようにして調製する。 項目 材 料 1、ポリビニルホルマール樹脂(商標名FOI’(MV
AR,415/95 E )N−メチル−2−ピロリド
9ンCモンサンド社製)中13.75% 正味型1114.38;乾燥重量1.972、エボキシ
ノ、ボラックC100%)DEN431 ダウ・ケミカ
ル社、湿潤及び乾燥型f3,0 (154) 3、E3iLtLakg l 35−湿潤及び乾燥型l
・254. ニッケル粉末;湿潤及び乾燥重量605、
 Tin266;湿潤及び乾燥重量106、 ジアセト
ンアルコール;湿潤及び乾燥重量0 工程l: 項目1.4.5及び項目6の3つの部分を混合攪拌し、
均質な混合物をつくる3つのロールミルを通して2つの
径路を作る。 工程■: その後項目2.3及び1.5部の項目6を混合攪拌し、
得られる材料を3つのロールミルに2回通して均質な混
合物を作る。 工程■: 工程l及び■からの混合物を、均質な混合物が形成され
るまで3つのp−ルミル中で納会させる。 工程■: 接着剤の頂部の基板上にスクリーニング又はブラッシン
グするために、項目605.5部を工程■の製品に添加
する。接着剤及び径路上に覆われたものは共にオーノン
中で170℃で45分間硬化される。 例5 導電性インクが次の成分を含有した以外は例1の方法を
くり返した。 A、ヒト10キシ末端ポリテトラメチレンアジペートオ
リゴマー、1.4−メタンジオール及び4.4−ジイン
シアネートジフェニルメタンの反応から得られる、熱可
塑性ポリエステルをベースとしたポリウレタy (Ex
tant 5715 、B、F、Crood−ri c
h社製)4.137重量%(20,55容量%)゛B、
セロソルブ溶媒中のフェノールでブロックしたトルエン
ジイソシアネート(MorLrlur S。 Mabay ChamiaaL 社製)0.085重量
%(4,85容量%) C0上記FC−4300,05重′j1%rO,30容
量%) D、エタノールr’0.05重量%)中のヒト90キシ
エチルセルロース16i1f量% これらの成分を混合し、との混合物に次の成分を添加し
た。 E1粒子寸法2〜15μIN(平均12μm)、見掛は
密度21.5〜23.511/iル3、タップ密度1.
5〜2.51//iル3および1000下における減量
1%を有する銀(E3iL(Lake、 Handy 
etndHarmon Chemical Produ
cts Ogntgr製)、22重量%(13,22容
量%) F00粒子法2〜5fl及び比重7.2877 / c
cを有する錫粉末(Tin 266. At1anti
c Equip−mmnt Frnginggrinl
、)t−ゲンフイールt、−T、 ニューシャーシー州
)73重t% 紙上に覆った後にインクを60℃で10分間乾燥したC
下記IS参照)以外は例1の方法をくり返した。さらに
、印刷された剥離紙を200 psiの圧力で121℃
で3分間基板に積層しく下記のIp参照)、次いで20
0 psiの圧力で149℃で4分間転移した。 例6〜10 銀の量を第1表に示した処方において変化させた以外は
例5の方法を正確にくり返した。すべてr157) の処方において充填材の量は95重量%(73,98容
量%)に保った。この表は、もし本発明の転移方法が用
いられない場合には、同じような表面抵抗率を得るため
により多い量の銀を使用しなければならないことを示し
ている。 rxs8) (159) 4、図面の簡単な説明 第1図は本発明を例示する回路板の上面図、第2図は第
1図の2−2線に沿った断面図、第3図は回路板を形成
する熱硬化性樹脂の径路を支持している基板の上面図、
第4図は好ま1−い態様において径路の圧縮を達成する
加熱されたプレス内の第3図の回路板の断面図、第5図
は例えば25〜40%の圧縮後の径路の高さく厚さ)の
減少を示す第4図と同様の図、第6図は転移(例えばピ
ール−オフ)担体層上にインクスラリーとしての回路線
(径路)を示す倒立面図、第7図はシートが支持体上に
ある間にインク中の溶媒を揮発させるために加熱してい
る状態を示す図、第8図は径路を圧縮するためにプレス
によって加圧処理する間、接着剤を転移層上に保持する
ために経路の全面に亘ってそれを塗布している状態を示
す図、第9図は径路を圧縮するために加熱及び加圧処理
する間、誘電板に対して電気的径路を積層している状態
を示す図、第10図は転移層を除去した後の板(ボート
9)及び回路径路を示す図、第11図は第10r160
) 図の11−11線に沿った拡大断面図(fCだI7、こ
の図ではボートゞの平面内にわずかに湾入した径路が示
されているが、該径路はボートゞの上面と同じ高さであ
ってもよく、かつほとんどのuA 7.mボート9平面
内に湾入していない。)、第12図は本発明の転移シー
トが導電性回路の積層された層を形成するために使用さ
れるマルチ−電気回路経路デバイスの拡大横断面図であ
る。 符号の説明 10・・・誘電性基板、11・・・接着剤、12・・・
導電性径路・ 13゛°°はんだ付は被膜、1B’Z、
13h・・・プレス部品、14・・・メッキ金属層、1
9・・・剥離可能層、20・・・金属粉ライン、20α
、20h、20c・・・電気径路、21・・・接着剤、
22−1.22−2・・・プレス部品、24−1.・・
ヒーター、24A、24B・・・プレス部品、100・
・・導電性インキマスク、101・・・上張り層、10
3・・・電気的連結部代理人 弁理士r8107) 佐
々木 清 隆(ほか3名) (161) FIG、5 ++1++ FIG、7 FIG、8 FIG、II IGIO FIG、12 第1頁の続き 優先権主張 619847月25日[相]米国(U S
 )@516677■198群6月5日[相]米国(U
 S )@616239手続補正書 昭和59年 8月 /ダ日 昭和59年特許願第129032 号 2、発明の名称 印刷回路 3、補正をする者 事件との関係:特許出願人 名 称 コメリツクス・インコーホレイテッド霞が関ビ
ル内郵便局 私書箱第49号 栄光特許事務所 電話(581)−9601(代表)7
、補正の対象
In FIGS. 1 and 2, the dielectric substrate is indicated at 10;
The cured adhesive is indicated at 11 and the conductive path (electrical circuitry) is indicated at 122. In this figure, three paths 12 are shown, illustrating the form known as the conductive pattern (circuit, e-turn) of a printed circuit board, into which other elements are fed. 1 and 2, the path is provided with a soldering film surface 13 and still has a solder film surface 13.
A plated metal layer 14 is provided between the path 12 and the path 12 to allow connection and repair of the path. The thickness of the metal plating is typically about 0.25 to 1 mil, and the thickness of the path is typically about 0.1-1.
0 mil, preferably 1-< is between about 0.5 mil and about 3 mil. Most preferably, the metal plating is screen printed,
(by conventional techniques such as transfer rollers or pads) and the print thickness is up to 1 mil. FIG. 3 shows an undesirable specific example. In this figure, the conductive path 12 is placed on top of the conductive material 10 before the binder tightens and hardens. Path 12 is used for printing (offset printing, silk screen printing) or writing ink (
slurry). The channels can be brushed or fed in other conventional ways. An adhesive, most preferably a curable thermosetting adhesive 11, is provided between the substrate 10 and the diameter 1812. Thereafter, the solvent is evaporated and the substrate 10 containing the channels is placed in an oven, for example at 165°C.
(330'F'') for 10 minutes. The board is then pressed between heated press parts 13α and 13h in FIG.
Apply 1s o psi pressure for 20 minutes at 0°F'1-
The pathway is tightened by at least about 25% (113) while the resin binder holding the metal particles and adhesive is completely cured. The contact surface of part 13α contains 5 mil silicone rubber (thermal conductive) and 65
It is most desirable to have a hardness of . Substrate 1
It is understood that 0 can be rigid or flexible. FIG. 5 shows a tightened pathway that has been reduced in thickness by about 25-40% and has partially flowed into the adhesive, preferably by heat. Metal particles such as silver, palladium,
A metal slurry of noble metal particles such as gold and platinum is preferably mixed in combination with particles of other metals such as nickel and tin. They are mixed with a volatile solvent and a small amount of curable plastic binder. The metal content relative to the total solids is very high, e.g. about 93% by weight.
The above content is preferably 94-98% by weight. The lines of slurry 20 in FIG. 6 are applied by silk-screening or other suitable means, such as spraying, in the form of circuit pattern paths which are optimally formed on the peelable layer 19. form. Layer】9 is preferably 1
-< is a peel-off type that can be peeled off (1-(114)). Suitable examples include black paper, which is commercially available and contains a release agent on its surface. Examples of suitable release layers available include:
Warfns TRANSKOTEELT106 DU
It is commercially available as PLEX UNOTO5IDE FR-1. FIG. 7 shows heating for boiling and evaporating the solvent,
Heating for 105) at F is shown. Preferably substrate 1
A release layer 19 is shown disposed over the 0. Then press 150PS for 5 minutes at 330°F.
i can be supplied to tighten the metal particles in line 20 and increase conductivity. Alternatively, adhesive 21, for example a curable adhesive, is first applied over line 20 and release layer 19.
and then tightened by a press consisting of parts 22-1 and 22-2, e.g. 150 ps at 350'F.
i makes it possible to perform a tightening action on the particles in line 20. Preferably, silicone rubber (heat conductive) is used.
5 hardness sheet and a Teflon sheet are placed on either side of the line material in contact with one paper 19 and adhesive 21 as shown in FIGS. After that, the release layer supporting the line 20 and adhesive 21 is attached to the heater 24.
Place in a heated press containing parts 24A and 24B with -1. Sufficient to cure the adhesive and bonding agent and the adhesive and substrate e.g. plastic (dielectric layer) 1
The circuits shown in FIGS. 10 and 11 are formed by pressing for 5 minutes at a temperature such as 330' F. to produce a 0.0 lamination. Further press treatment at 150 pJ? i to tighten the metal particles in the line (conductive path) 20. 11th
The figure shows newly formed circuit lines 20 partially embedded within the thermoplastic matrix when it is softened under heat and pressure is applied. The circuit lines or paths 20 are 1- often placed directly on the surface of the dielectric substrate without being buried. After step 4, layer 19 is removed from the circuit by peeling 1-, as shown in FIGS. 10 and 11. When practicing this method, the contact surfaces of the parts most preferably include a 60 mil silicone rubber layer (thermal conductive) and have a hardness of 65. It is also understood that substrate 10 may be rigid or flexible. Formation of Dielectric Surfaces The thermoplastic and thermoset resins described above can be used to form substrates and dielectric surfaces using conventional techniques. For example, thermoplastic resins can be extruded into injection molded films, sheets or plates. The choice of resin depends in part on the desired mechanical and electrical properties. Mechanical properties of substrate materials that are often important for printed line assembly are water absorption, coefficient of thermal expansion, flexural strength, impact strength, tensile strength, cutting strength and softness. Therefore, comparing the properties of substrate materials can assist designers in selecting the optimal substrate for a given application. The substrate can be subjected to certain treatments, such as swelling treatments and corrosion treatments. In this technique, surface swelling is produced by using a solvent system. The substrate can then be etched with a strongly oxidizing medium such as a mixture of chromic acid and sulfuric acid. This technique is well known in the art (117). Manufacturing a composition containing a conductive material and providing a release surface 1. Next, consider the conductive metal particles. A thermosetting resin composition containing at least 54 vol. 11% of the composition is applied to a solid release surface in an array of at least one electrical circuit element. The vine release surface used in the present invention is suitable for receiving a film of conductive metal particles provided in an array of at least one electrical circuit element. The solid release surface may be a release paper, a film made from the plastics described above that provides a release surface, or a release surface. It may be a rigid plastic or metal release surface. A preferred release surface is release paper, in which the Strip
kotg ER and EHRCIS, Transkotg
ER and EHROIS, Ruhbarlgaf OZC28 (S, D, Wa, T/imztbrook, Maine, USA)
Includes rubber-separated products such as RRAN Qo (available from Co., Ltd.). (118) Metal particles and a bonding agent (heat-cured (resin). Conventional organic printing ink solvents can be used. The viscosity of the ink is suitable for screen printing.For example, the viscosity is about 35 at 25°C.
A Nordsk Field 9 viscosity range of 1,000 to 45,000 centivoices is preferred. The coating is dried by removing the solvent and the coating is transferred from stage A to stage B.
Proceed to step. It is often desirable to fully coat the element with adhesive, and indeed, to better retain the film of conductive metal particles on the release paper, the entire surface of the release paper may be coated with adhesive; is not a limiting matter for the present invention. Thus, in some cases only a coating of conductive metal particles is coated with adhesive. Adhesives are phenol-formaldehyde resins such as resol or novolac resins, the resorcinol-formaldehyde resins mentioned above. Amino-formaldehyde resins such as urea or melamine-formaldehyde 9 resins, epoxy resins such as those derived from the abovementioned epoxy resins, especially bisphenol A and ebichlorohydrin, and epoxy novolak resins, such as those derived from ebichlorohydrin and novolak resins, polyurethane-based adhesives. Polyurethane-based adhesives derived from isocyanates, particularly toluene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, polymethylene polyphenylisocyanate, and various polyester and polyether glycols. It may be a mixture of an epoxy resin and a polyvinyl acetal derived from an aldehyde and polyvinyl alcohol. The conductive metal is preferably in the form of metal particles, at least a portion of which is noble metal. Precious metals include at least 181 of silver, gold, platinum, .xi.radium, rhodium, and ruthenium. In a broad sense, the metal particles include at least one metal from groups 5h, 6b, 7b, 8, 16, 2h, and 3b of the periodic table of elements. The particle size of the metal is in a range such that all particles pass through a 100 mesh size sieve and remain on a 350 mesh size sieve. The conductive metal particles may be only noble metals such as silver and/or gold. Some of the particles are precious metals such as silver, gold and platinum and the rest of the particles are other metals or solids such as nickel, copper and zinc. Mixtures of particles such as aluminum, gallium, glass, metal oxides and non-metal oxide solids (eg silica, coir, etc.) can be included. In a preferred practice of the invention, the amount of noble metal particles included in the thermosetting resin composition is from at least 15% to up to 100% by weight. In more preferred embodiments, the amount of noble metal is from at least about 20% to up to 100% by weight of the particles in the composition. The combination of precious metals and other materials does not necessarily have to be a simple specific mixture. For example, a hollow glass water sphere coated with nickel, a noble metal coated on copper, or a noble metal (for example silver) can be used. however. (121) In a preferred practice of the present invention, the noble metal used is silver, which allows for maximum contact in the thermosetting resin layer on the adhesive-rich conductive surface, with flakes, Or used in the form of a plate or rod. The shape of the other particle elements can be as narrow as possible to allow suitable silver-to-silver contact of the resin layer and thereby obtain the electrical conductivity described herein for the present invention. It's not critical. In some cases, the conductive particles can be entirely noble metal particles. A preferred conductive metal is silver flake. However, to reduce costs, silver flakes can be used in conjunction with particles (also called powder) of metals such as nickel or tin. A particularly desirable combination consists of 25-50% by weight silver particles and 75-50% by weight nickel particles based on particle content alone. The conductive metal is used in conjunction with a binder and this combination is used to form a conductive path (line). The binder is a curable thermosetting resin (+22). Suitable thermosetting resins are fully described above. Particularly preferred binders include novolac epoxide 9 alone or reacted with novolac epoxide mixed with vinyl acetals such as polyvinyl butyral or polyvinyl formal resins. Contains phenol-blocked isocyanates. Optionally, the capped isocyanate is removed from the thermoset. The conductive metal and binder are mixed in a high boiling point solvent to produce a slurry (ink). Suitable solvents include cellosolve acetate and loose tylcarpitol. Rumethyl-2-pyrrolidine, N,N-dimethylformamide9. Dimethyl sulfoxide, ethylene glycol, anisole, decalin, dimethyl glycol diethyl ether, aniline, diethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether,
These include glycerol, tetralin, xylene, ethylene glycol monoethyl ether, chlorobenzene, diethyl carbonate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether, toluene, and the like. The amount of tri-based resin in the ink is from about 2 to about 10% by weight.
, preferably about 2-6% by weight. The conductive metal is present in the slurry in an amount of at least 90% by weight, preferably from about 94% to 100% by weight. Most preferably about 94% of the 100% solids base
-98% by weight. To achieve the most favorable level of conductivity, e.g.
.. To achieve a surface resistance of 1-0.005 ohms/sq, the content of conductive metal should be between about 94-98% of the total metal composite in the path, or expressed differently. , from about 68 to about 87%, based on the dry film of ink. When dielectric core particles coated with a conductive metal are used, the weight percent of the metal does not determine the conductivity but the capacity classification, so to describe the limit on the content of one particle, approximately 68
The characterization of 87 to about 87 volume i% is a more valuable basis. 17 However, if the highest brazing values, plating ability values, and conductivity values are not required, some of the advantages of the present invention may be achieved by volume fractions of metal particles of 54 volume t% or less. be done. An adhesive layer can be applied to the entire surface of the substrate, which
Additionally or alternatively, the adhesive layer disposed directly in the path supports the conductive metal when removed onto the release surface. The adhesive may be applied completely over the entire surface, supporting only the conductive paths or below the conductive paths. The adhesive contains functional active groups therein that have the ability to react and bond with the thermosetting resin binder composition and the dielectric substrate. The adhesive internally reacts with the thermosetting resin composition and partially or completely cures therein to form a compacted structure. Preferably the adhesive includes epoxides and polyurethanes and epoxides and polyurethanes with isocyanates encapsulated therein. The release surface and the dielectric surface are brought into contact such that the electrical circuit faces the dielectric surface and is separated therefrom by the adhesive resin. Sufficient heat and pressure is applied to form a tightened structure in which the thermoset resin is essentially sufficiently cured and the adhesive is essentially sufficiently internally reacted (125) to which the electrical circuitry is attached to the release surface. and become attached to the dielectric surface. In some cases only the partial curing and/or reaction required is obtained. The release surface is then separated from the %I condensation tank structure and at least 0.1 ohm/
It is preferred to provide an electrical circuit having a surface resistance of zq. The release surface and dielectric surface are heated at a temperature of about 120°C to 180°C, preferably about 130°C to 170°C, and about 100 psi.
About 2000 psi preferably about is. psi -500P'' but under temperatures and pressures not so high as to destroy each element. In the process, the metal in the portion of the thermoset composition is deposited as an electrical circuit in contact with the release surface. The concentration is higher than other parts of the composition for the element.The release surface can be a non-flexible or semi-flexible solid surface, such as part of a drum surface, and The circuit array is deposited on the surface by one of a variety of techniques such as silk-screening, printing, electrostatic transfer, and then the dome is rotated to the next stage where it is bridged (126). The first stage of the bridge reaction. It will be appreciated that sufficient heat is provided to effect the transition from the A one-stage resin to the B-stage resin.
17 includes the use of heated rollers to partially cure and tighten the metal particle composition. The ram is then advanced to another stage in which a coating of adhesive or a solid film of adhesive is applied to the partially cured resin/metal particle composition. This step can include providing the dielectric surfaces together and then passing the assembly through a gap between adjacent pressure calendar rollers to heat or transfer heat to the drum, thereby Complete tightening is performed to finally cure the thermosetting resin, ie, proceed from stage B to stage C. Multilayer electrical circuits are within the scope of this invention. In the manufacture of these multilayer electrical circuits, the release surface on which the thermoset resin and the conductive metal particles have been deposited is treated with a dielectric masking layer leaving exposed contact points of the electrical circuit. The exposed contact points can be electrically interconnected with other circuit elements on the masking layer. The masking layer may be pigmented (i.e. TiO2, a combination of TiO2 and 5tO3, etc.) and the thermosetting resin applied on the release surface or on at least a portion of the electrical circuitry on the masking layer is a dielectric wax. The adhesive may be a brazing agent or a brazing agent, for example of the type described in Example 3. Conductive ink is then printed onto the screen in registration with the mask pattern. Another mask is then screen printed with alignment 1- to the conductive ink pattern. Another layer of conductive ink is then screen printed in register with the other layer of ink and the layer of the mask. Adhesive is applied over the entire surface of this layer. Each of these layers can be created as desired. This assembly is then transferred to or mounted on an adhesive coated dielectric substrate. The assembly is then heated under pressure to initiate adhesion of the conductive ink layer, adhesive layer, and dielectric substrate. Peel the release surface support away from the assembly. However, this operation is omitted for lifting platforms that have already been stripped off in the previous step. FIG. 12 shows a multilayer electrical circuit formed in accordance with one of the inventions as described above. In FIG. 12, a dielectric substrate or circuit board 10 has an adhesive layer 21 on which conductive circuit elements or paths 2o are fitted. Adhesive layer 21 and path 2
The overlay of 0 is a dielectric mask 100 formed from dielectric ink. The layer 100 covers the entire surface except in the area or selected areas of the passages 20, and the passages 2o are electrically coupled to a second set of passages 20A parallel to the plane of the first passages 20. There is. The dielectric layer 100 thus overlies all but selected areas of the path 20. Pathway 2OA is preferably the same as path 20 in terms of composition and is electrically connected via a section B103 formed in a stacked manner by the ink as described above. The overlay of the path 20A can be a conventional low elbow mask 101, which leaves selected areas of the path 20 electrically connected to circuitry or other desired paths. A dielectric substrate was fitted onto a solid support lo. It will be appreciated that the printed circuit arrangement in FIG. 12 may have multiple path layers lying in different planes as desired. In each case. Even though it is sometimes possible to provide multilayer circuitry directly on the substrate, each layer of the path is preferably multilayered by being provided on a transfer sheet as described in the previous section. For example, a transfer sheet having a single planar layer of paths may be
As shown in Figure 2. It can be used to form the first path layer. A dielectric ink mask 100 is then applied directly to the path 1- on the substrate, and a preformed second transfer sheet having a path 2OA with electrical connections 1-1 is applied to the 12th It is used to form a second path as shown in the figure. The method of forming multiple layers on a transfer sheet is preferred for practical use. The pathways, adhesives, and dielectric substrates used in FIG. 12 are the same as described above for like numbered elements. It is shown in FIG. The path 20 in the multilayer printed circuit 104 is of the austere type after being pressurized and heated;
This is indicated by the number 12 in the figure. rlaO) The left end of FIG. 12 shows a path 20B formed according to the invention from an ink containing high metal particles, and also shows two plane parts f+20G in different planes at a constant angle.
It is understood that it spreads at -20D. Effective conductive paths 20B extend from the top surface of the substrate or printed circuit board 10 over its edges and sides. Thus, 3
Dimensional circuits are provided extending from the edge in different directions. This can be done by simply folding the transfer sheet of the invention over the edge of the printing plate when applying pressure and heat to adhere the conductive circuit to the substrate. can. Accordingly, the transfer sheet of the present invention provides a method for forming printing plates with three-dimensional structures in a variety of forms. The various multilayer electrical circuits described above are encompassed by the present invention. The masking layer is partially cured and then fully cured when the assembly is heated under pressure. Additionally, three-dimensional, multilayer electrical circuits are encompassed by the present invention. Since the dielectric surface on which the circuit is printed is flexible. It is possible to provide an extensive intermediate layer to be present in the shadow of the array of cured crimped devices. The printing plate can then be masked leaving contact areas with exposed circuitry on top. The technique of the present invention then allows other circuit devices to be stacked on top of the printing board, thereby creating more complex laminated printed circuits. The test with the Soldering Standard Test establishes three criteria that determine the solderability of printed circuit devices. The tests include determination of the solderability of the A1 circuit element, (B) the tensile strength of the circuit element, ie the amount of adhesion to the dielectric surface, and the electrical conductivity of the circuit element. A printed circuit article shall satisfy the K soldering standard test as described herein if it satisfies the wettability, tensile strength, and conductivity values listed in A, B, and C below, respectively. It is. A. Regarding solder wettability, this is Mgnizcograph % Del A20134
4° or its equivalent (Hollis Engineering
ing, l 5C Jharran Avenue,
Na5hua, New York State, USA). The meniscograph traces the solder-to-circuit wetting process from start to finish by measuring the net force acting between the specimen and the solder.
Cuit wetting procgzz). When recorded as a function of time. It indicates when wetting begins, the rate of wetting, the time to reach equilibrium, and the maximum extent of wetting. When a test piece is immersed in partially molten solder, a downward meniscus forms against the surface of the test piece while the surface of the test piece remains unwetted. At this stage the specimen undergoes hydrostatic uplift or weight loss corresponding to the amount of solder displaced. This is the point of maximum buoyancy. As wetting occurs, the contact angle decreases and the solder gradually moves to the side of the specimen creating a downwardly increasing force. As the weight of the specimen is continuously monitored, the change in force and therefore the progress of wetting can be observed. In a meniscograph, this means suspending the specimen from the funnel 9 cell and adjusting the system to obtain a zero net force (weight) read at the beginning of the test. This is achieved by raising the solder bath until it is immersed in the solder. The push-up and wetting forces are converted into electrical signals by a load cell and sent for recording as a function of time to either a chart recorder or an oscilloscope. The signal read from the meniscograph is a result of the deflection of the cantilever spring system in the load cell mechanism caused by the change in force acting on the test specimen. At the beginning of each test, the weight of the specimen was canceled by zeroing and the only force considered necessary was therefore due to the surface tension of the molten solder acting on the specimen and was replaced by the specimen at the same time as immersion. This is due to the weight of the solder. One surface tension causes a downward meniscus until wetting begins, thus increasing the apparent push-up signal. As wetting progresses, the direction in which surface tension acts changes as the contact angle changes. Ultimately, for an upward meniscus, the force on the specimen acts downward. That is, the sign is opposite to the push-up signal r1a4). When equilibrium wetting conditions are achieved, the normal component of surface tension acting on a unit length of the specimen-solder interface maximum is τ width θ. Here, τ is surface tension and θ is contact angle. Since the depth of immersion is set by the lift mechanism of the bath, the uplift force can be calculated from the specimen geometry and the density of the molten slag. The calibration of the meniscograph is normally set to produce a signal of 50 jllV for an applied load force of 1.9. That is, a signal of E millivolts is E1
5019 weight acting force (i.e. E150g dyne,
However, 1; IIrJ is the constant of gravity. ) is shown. This measured force is equal to the surface tension τ resolved by 1 minus the weight of the solder displaced. That is, E15
0.9-τ匪θ1-Vp (where l is the length of the interface between the test piece and the solder, ■ is the volume of the test piece immersed in the solder,
P is the density of the solder at the test temperature. ) All of these factors, except τ and contact angle, are known or can be measured. Therefore, it is necessary to assume one in order to derive the other. Products with suitable soldering wettability, i.e. wettability that satisfies A, have a positive slope when using a meniscograph, i.e. force increases with increasing time, a plot that continues to be positive or zero. The lowest point of (
starting at the point of maximum buoyancy), i.e. for increasing times of 8 seconds for tests at 215°C and 5 seconds for tests at 260°C, preferably until the completion of the test. It shows a certain amount of power. Determination of the sign of the slope is based on the starting and ending points for each 0.5 second period on the line of the plot. In carrying out the present invention, 1
The absolute value between the lowest point and the peak of the curve (assuming positive force) is at least 0.8. It is F. The specimen used for the wettability test should be a plastic substrate with the following dimensions: Width 0.750" + 0.010" Thickness OJ2' + 0.003'r (excluding circuit elements) Height 1
.. 80' + 〇, IO'' The two sides of the plastic should contain fully coated circuit elements on it. The depth of insertion of the test piece is 3mm, the temperature is 215 °C gas phase. (solderability simulation) or 260°C (wave solderability simulation).Solder E3n60/ph'40.This method uses a suitable flux C, that is,
Prepare a test piece with Kgstgr 1429 etc.
-2 including mounting it on the force transducer holder. 1 to 200rn9/inch on the Y axis. and calibrate the X-Y recorder to a sensitivity of 1 second/inch with respect to the X-axis. Set the timer for 10 seconds and run the test strip. All wetting (and dewetting) results must be recorded; wetting is a positive slope. That is, it is defined as the increase in force as time increases on the curve. Dewetting has a negative slope. That is, it is defined as the decrease in force as time increases on the curve. The following references are cited for further discussion regarding solder wetting. That is, Sγintgd C1rcμ1ts
(1a7) Handhook' 2nd edition, 1979.14-5-14
- pages 8, 19-24 and 19-25, McCrr
Published by aw-Hill Book Go, New York). Regarding the tensile strength of B0 circuit elements, it is 700p for plated circuit elements to meet the tensile strength requirements for testing. . The minimum tensile value should be ζ (pounds per square inch). Regarding this 1
-, and the test is not a beer strength test ((0oorx
bs, supra, pp. 19-23). This is a similar test. This method measures the tensile strength of the bond between electroless Ni-plated circuit elements (described in the ``Plating Capacity'' section) and ultimately determines whether the composite has either insufficient adhesion or insufficient adhesion. It is used to measure. The test piece consists of a plastic substrate layer (cut specimen) having dimensions of 0.06 inches or more in thickness, 0.75 inches or more in length, and 0.75 inches or more in width, and a predetermined thickness on the substrate layer. The adhesive layer is 0.3 inches or more in diameter. Then, the diameter is 0.250±0.0 at the predetermined thickness.
05 ink layer is applied r1a8). The ink is then electrolessly plated with Ni to a predetermined thickness. Length 2 inches, 169α, C straight i 0.05)
Bare copper wire of S60 or S+s solder type S or flux cored (corgd
) soldered vertically to the top layer using type K or RMA. Here, QQL-8-571 is applied in a conical profile around a centrally mounted wire to which it is deposited onto the Ni plate. The specimen was a flat base plate (17f3”rrrin
, steel or aluminum) with a 0.3 to 0.5 inch diameter hole that allows the specimen to be compressed and gripped, and the wire/solder to be centered in the hole. A top cup ζ-plate (%”rail, steel or /4” mLna aluminum) is fixed onto the specimen.A tensile tester is attached and the tip of the tester (
Attach a wire of a test piece that can fit the grip. The test machine (Inztronmodglr 1130.I
n5tron Corpm, Canton. MA, Yoshi Manufacturing) has a constant speed capability of 1 inch/min ± 2% pull force and a force sensitivity of ± 1% of full scale. 1
It has a force capacity of 00 dF 9 mm, and 10 lbs 9 mm. A chart recorder with similar sensitivity is used to take the data. The test specimen is securely mounted between the base and the cover plate, vertically with respect to the wire and aligned with respect to the tensile axis of the tester. Attach the wire to the grip of the testing machine,
This ensures that no force remains on the wire. Scale the recorder to zero. Then begin pulling at 1 inch/minute. Record the force at failure. Concerning the electrical conductivity of C0 circuit elements (unplated or electroless Ni plated). Measured as maximum surface resistivity. To meet this test, unplated circuit elements must have a surface resistivity value of 0.1 ohms/square or less, and plated circuit elements must have a surface resistivity value of 50 milliohms/square or less. Must have a value. However, 0.5
Up to ohms/sq. Preferably 1-< has a maximum surface resistivity of 0.1 to 0.01 ohm/square. Useful unplated circuits can be manufactured in accordance with the present invention. The method that follows is described below, and the surface resistivity is FED-8TD-4.
06 method 4041. The specimen has two 0.25 diameter ends (andpaint)
and 165 square" single line 1 width 0.07" x length 4.55
” ) with a surface area suitable to encompass the circuit contours of any otherwise acceptable dielectric plastic substrate. The circuit terminations were soldered in the manner described under Tensile Testing. The two circuit ends are probed on the wire 0.2 inch from the surface of the board and their size is recorded. Plating Capacity Standard Test This test It establishes criteria to determine the potential for application, adhesion and maintenance of adhesion of electroless nickel plating. (Note: This is not a plating standard test that determines the quality, quantity and process control associated with yield values ) R141) In a plating capacity standard test, a plastic plate substrate with additional wires, each separately physically and electrically isolated from each other, was tested.
HOLU, ILE C0, WEST NORTHERN 1-TOFT 9.
(Manufactured in New York, Connecticut, USA) at 90°C
) is prepared for use during the electroless plating process. The board measures 4 x 4 inches and has two series of 11
Two lines, length 0.5 cIrL. One series is o, oos inches wide and the other series is 0.0
It has a 25 inch wide, e-turn printed circuit line of the present invention. The value that satisfies the plating ability standard test is determined by including the following items. 1. 100% coverage of all different lines accepting plating. (Determined by visual inspection at 10x magnification.) 2. More than 80% of the lines must accept plating. In addition to the test values of 100%, the most preferred products of the present invention have the following percentage characteristics: (142) 1. Substantially all lines accepting plating are determined by visual inspection at 10x magnification for pristors and cracks. ) does not have. 2. Virtually all lines that accept plating are 1, P
,q Test Method Manual Method 2.4.1. The plating adheres and remains as determined by the Adhesive Beer Test according to No. 1, without separation of the plating from the interface of the printed circuit. This test was performed in a salt spray environment (5% neutral salt spray for 72 hours at 95°F) per ASTM B-117.
It is done both before and after following. EXAMPLES The following examples are intended to illustrate specific examples of the invention and are not intended to limit the scope of the invention in any way. Example 1 The following ingredients were blended at room temperature. 3 weight % epoxy novolac resin having an average of 3.6 oxirane groups (per molecule with a viscosity in the range of 0.1100 to 1700 centipoise (52°C)). The epoxy weight ranged from 172 to 179. The average value of repeat units was 0.2 (manufactured by D, E, N. 431, Dow Ohgmica L Co., Michigan, USA). (River molecular weight 10.01) 0 to 15,000 and solution viscosity 100 to 200 centiboise (dibasic ester (note)
:N-methylpyrrolidine-in a 4:1 solution. Poly(vinyl formal) resin zit% (measured as 15 wt. #% at 25° C.). Formυαr5159 is bAonzanto Plastic & RgJli
az Go. It is built in St. Louis, Missouri. (Note) Ester mixture of 23% by weight dimethyl succinate, 56% by weight dimethyl glutarate and 21% by weight dimethyl adipate (trifluoromethane with a pH of 114-6.5).
Sulfonic acid 0.0005% by weight The following ingredients were added to this mixture. +1) Particle size 2-12 microns, apparent density 21.
5-23.511/l113. tap '
a degree 1.5~2.5ti7ir&3 and 10006F
25% by weight silver with a reduction of approximately 1% (...average grain size 12 microns and apparent density 56.
Approximately 100% spherical nickel powder 70.0. Weight % This mixture was stirred at room temperature until completely homogenized 11 then passed twice through a three roll mill with pack rollers at 4-6 mils and front rollers at 1-3 mils. This conductive ink was prepared using conventional techniques.9 VH8Supg
rmat release paper (S, D, Warran Go, V
HZT-HRAOK, manufactured by Yoshi, Maine) to a thickness of approximately 1 mil after drying (U.S. sieve size 25).
0). The printed paper was dried in a convection air oven under 330°C for 5 minutes. The substrate is a linear type: rP-3703, manufactured by Union Calf Zeta. Measured in chloroform of 0.2.9/100 at 25°C.
145) 26.4 wt. Polymer 401jLi1'% containing the following units, having a reduced viscosity of 11%, 0.5 inch chopped glass fiber (197B,
wollastonite (N'/"d 12
50. (manufactured by Nyco) was molded from a composition containing 16.6% by weight. The substrate composition was compression molded at aoooC in a 4X4XO, 20 inch cavity mold using a hydraulic press to form a sheet of that size. (146) The substrate sheet was immersed in a 50% aqueous solution of dimethylformamide solvent at 25 °C for 59+ minutes. The substrate was then rinsed in water at 25°C. The substrate is then soaked in a chromic acid solution containing the following ingredients (C numbers are parts by weight): deionized water 30 chromium trioxide 3.0 85-87% phosphoric acid 10.0 96% sulfuric acid 55.9 ℃ for 5 minutes. The substrate was then rinsed in water at 25°C and further dried at 100°C for 10 minutes. Separately, two external adhesives were prepared containing the following ingredients: Part A (I) Epichlorohydrin and Bisphenol A (Ep
on 1009 F, manufactured by Shell Chemical Co.) 11.41 parts by weight of epoxy resin, tn+ average equivalent weight 260. Hydroxyl group content 6.5%. Maximum acid number 4. Saturated polyester (Dg!rnophtn 110
0° Manufactured by Mobay GhgrnicaL Corp, Pittsburgh% Hansilnoznia 40.88
Weight part. (Nonionic surfactant rFo-4ao, which is a liquid fluorinated alkyl ester, manufactured by 3M GorP-) 0.068 weight 1 part %B Polytoluene diisocyanate containing 6-7% free monomer) (OB- 60, Mohay Chemi
Parts A and B were then mixed. A solvent containing inzolopanol and methyl ethyl ketone (3:2 ratio) was added to obtain a viscosity of 18 seconds ZAα cup number 2 at 25°C. The prepared adhesive was sprayed onto the treated substrate sheet. The adhesive coated substrate is then heated to 149° C. to such an extent that the adhesive coating is dry but not completely cured.
and placed in an open convection mold for 5 minutes. The printed release paper formed as described above brings the adhesive into contact with the substrate to be Ffl-ed, with the printed surface contacting the adhesive surface of the substrate sheet. Then, 1- was laminated at 166° C. for 30 minutes at a pressure of 200,711 JPi. The paper was then peeled away from the assembly. The substrate is then placed in a convection oven for 16
Heating at 6°C for 30 minutes ensured final curing. The printed substrate was then treated with a 6% sulfuric acid solution at 65°C. Preheat to 17°C for 5 minutes. Rinse the substrate with water and add 2 parts of sodium borohydride and sodium hydroxide (1:1 ratio).
% solution at 40°C for 30 seconds. The printed board was placed in an electroless plating tank (Ni-418°Ethong) to coat it with nickel plating.
medium, at 88°C, using pH 4,8-5.2, and 60
The surface of the ink released in ii was plated with nickel in a plating time of 2 min. Example 2 One part system (O part) where the adhesive contains the following components:
The method of Example 1 was repeated except that: (1) Said dibasic ester/ro-methyl-2-pyr14
9) Polyvinyl formal resin (Formvat' 5/95 E, MorLs) in a 4/1 solution of Loride 9
anto plastics & Razinz Qo,
(manufactured by Mobay Chemical Co.) 56.17 parts by weight Cross-linking agent (α) Phenol-blocked toluene diisocyanate (Monctur S., manufactured by Mobay Chemical Co.) 303. 100% solids, manufactured by American Cyanamid 9) 4.21 parts by weight (C) Allyl ether of phenol-formaldehyde resin/l/
(MathyLon 75] 08.100% solids. Manufactured by General Electric Company) 5.6 parts by weight (dl
Dimethyl silicone oil rDc-11, 0.28 parts by weight per Dow Chemical Co., Ltd. All of the above were mixed at room temperature. A solvent containing a 4/1 solution of the dibasic ester/n-methyl-2-pyrrolidone was heated in 2 αn Cups at 42 and 25°C.
It was used to obtain a viscosity of 8 seconds. Then apply the adhesive onto the release paper and open screen R150
) C screen mesh) print and open convection type 2
Dry for 2 minutes at 00'F. The release paper was then laminated onto the substrate as described in Example 1 and heated under 350 for 305+ in a convection open. The substrate was preheated and plated according to the method described in Example IK. Although the adhesive layer is described as being placed on the dielectric surface, if desired it can be applied to the outside of the ink or to the free (not in contact with the ink) surface, rather than when the ink is on the release surface. I can do it. The release surface is then loaded with a conductive pattern and an adhesive layer for transfer to the dielectric surface. Preferably, the adhesive used here is a one-component thermosetting adhesive. Example 3 This example describes the manufacture of a two-layer circuit board. Example 2 A substrate and an adhesive were used. The following solder mask was manufactured. Part A 1, average 3.6 oxirane groups per molecule, t per epoxy
(172-179) and 26.88 parts by weight of an epoxy novolak resin with W -0,2 2, ethyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate copolymer 3 as modifiers, 60% solids in phthanol. Butylated urea-formaldehyde resin (Bgetla resin, manufactured by American Cyanamid 9 Co., Stafford, CT) 5.566 layer 4, high purity titanium dioxide pigment (TitarLoxl 070 L)
W, E, 1. Dwpont daNgmourz,
Manufactured by Wilmington, Praue State) 46.07
Part B by weight 1 Polyamide 9 with amine value 345 (reaction product of dimerized tall oil fat (T, QF, ) acid with ethylenediamine) 1 e.g. Varrvamitt 125
(manufactured by Henkel Ono America, New York, NY) 5.56 parts by weight 2.4:1 of the aforementioned dibasic ester: 12.96 parts by weight of N-2-methylpyrrolidone solvent and B at room temperature. mixed with. The dielectric solder mask was covered on the release carrier and dried in a convection open for 1 minute at 166°C. Cover the ink of Example 1 with a dielectric solder mask pattern. Dry for 2 minutes at 166° C. in an open convection chamber. Cover the dielectric solder mask with ink nozzle turns. It was dried for 1 minute at 166° C. in an open convection chamber. This process was repeated to obtain two layers of dielectric solder mask. The partially completed sub-assembly was compressed at 21'C for 30 seconds at a compression pressure of 1000 P, pL. Cover the ink of Example 1 with another ink layer and a dielectric solder mask layer and heat the assembly at 166°C in a convection open.
I dried it for 3 minutes and completed Sapoor Seven Noli. The sub-assembly is then transferred from the release carrier to the adhesive coated substrate at a temperature of 166° C. and a compression pressure of 500 PSL for 30 seconds (RTSA) to initiate adhesion between the ink, adhesive and substrate. I let it happen. The release carrier was then peeled from the assembly and post-cured for 30 minutes at 166° C. in an open convection mold. A similar result can be achieved by placing the adhesive covering the subassembly on a release carrier rather than placing the adhesive on the substrate. Example 4 A slurry for forming electrically conductive paths is prepared from the following components (parts by weight) as follows. Item Material 1, polyvinyl formal resin (trade name FOI' (MV
AR, 415/95 E) 13.75% in N-methyl-2-pyrrolidone C (manufactured by Monsando Co.) Net type 1114.38; dry weight 1.972, Evoxino, Borac C 100%) DEN431 Dow Chemical Co., Wet and dry f3,0 (154) 3, E3iLtLakg l 35 - Wet and dry l
・254. Nickel powder; wet and dry weight 605,
Tin266; wet and dry weight 106, diacetone alcohol; wet and dry weight 0 Step 1: Mix and stir the three parts of item 1.4.5 and item 6,
Two passes are made through the three roll mill creating a homogeneous mixture. Step ■: Then, mix and stir item 2.3 and 1.5 parts of item 6,
The resulting material is passed twice through a three roll mill to create a homogeneous mixture. Step 2: Combine the mixtures from steps 1 and 2 in three p-lumers until a homogeneous mixture is formed. Step ■: Add 605.5 parts of item to the product of Step ■ to screen or brush onto the substrate on top of the adhesive. Both the adhesive and the over-the-path coating are cured for 45 minutes at 170°C in an Ohnon. Example 5 The method of Example 1 was repeated except that the conductive ink contained the following ingredients. A, polyurethane based on thermoplastic polyester obtained from the reaction of human 10-oxy-terminated polytetramethylene adipate oligomer, 1,4-methanediol and 4,4-diincyanate diphenylmethane (Ex
tant 5715, B, F, Crood-ric
h company) 4.137% by weight (20.55% by volume)゛B,
Phenol-blocked toluene diisocyanate (MorLrlur S. Mabay ChamiaaL Co., Ltd.) 0.085% by weight (4,85% by volume) C0 above FC-4300,05% by volume, 30% by volume) D, These ingredients were mixed and the following ingredients were added to the mixture: E1 particle size 2-15 μIN (average 12 μm), apparent density 21.5-23.511/il3, tap density 1.
Silver (E3iL (Lake, Handy
etndHarmon Chemical Produ
cts Ogntgr), 22% by weight (13,22% by volume) F00 particle method 2-5fl and specific gravity 7.2877/c
Tin powder (Tin 266. At1anti
c Equip-mmnt
,) t-Genfiel t, -T, New Chassis) 73 wt% After covering on paper, the ink was dried at 60°C for 10 minutes
The procedure of Example 1 was repeated, except that the procedure was as follows (see IS below). Additionally, the printed release paper was heated at 121°C at a pressure of 200 psi.
Laminate to the substrate for 3 minutes (see Ip below), then 20 minutes.
Transferred at 149° C. for 4 minutes at 0 psi pressure. Examples 6-10 The method of Example 5 was repeated exactly, except that the amount of silver was varied in the formulations shown in Table 1. The amount of filler was kept at 95% by weight (73.98% by volume) in all R157 formulations. This table shows that if the transfer method of the present invention is not used, a higher amount of silver must be used to obtain a similar surface resistivity. rxs8) (159) 4. Brief description of the drawings Figure 1 is a top view of a circuit board illustrating the present invention, Figure 2 is a sectional view taken along line 2-2 in Figure 1, and Figure 3 is a circuit diagram. a top view of the substrate supporting the thermoset resin paths forming the plate;
4 is a cross-sectional view of the circuit board of FIG. 3 in a heated press to achieve compression of the channels in a preferred embodiment; FIG. 5 shows the height and thickness of the channels after compression, e.g. Figure 6 is an inverted view showing circuit lines (paths) as ink slurry on a transfer (e.g. peel-off) carrier layer; Figure 7 is a view similar to Figure 4 showing the reduction in Figure 8 shows the adhesive being heated to evaporate the solvent in the ink while it is on the support; FIG. Figure 9 shows the electrical path being applied over the entire surface of the path to hold it in place. Figure 10 is a diagram showing the board (boat 9) and circuit path after the transition layer has been removed, Figure 11 is a diagram showing the 10r160
) An enlarged cross-sectional view taken along line 11-11 in the figure (fC and I7). This figure shows a slightly indented path in the plane of the boat, but the path is at the same height as the top surface of the boat. Figure 12 shows that the transfer sheet of the present invention can be used to form laminated layers of conductive circuits. 1 is an enlarged cross-sectional view of the multi-electrical circuit path device used; FIG. Explanation of symbols 10...Dielectric substrate, 11...Adhesive, 12...
Conductive path/13゛°° soldering is coated, 1B'Z,
13h...Pressed part, 14...Plated metal layer, 1
9... Peelable layer, 20... Metal powder line, 20α
, 20h, 20c... electrical path, 21... adhesive,
22-1.22-2...Pressed parts, 24-1.・・・
Heater, 24A, 24B...Pressed parts, 100.
...Conductive ink mask, 101...Top layer, 10
3...Electrical Connection Department Attorney Patent Attorney r8107) Kiyotaka Sasaki (3 others) (161) FIG, 5 ++1++ FIG, 7 FIG, 8 FIG, II IGIO FIG, 12 Continued priority claim from page 1 61984 July 25 [phase] United States (U.S.
) @ 516677 ■ 198 Group June 5 [phase] United States (U.S.
S ) @ 616239 Procedural Amendment August 1980 / Japan Patent Application No. 129032 of 1982 2 Name of the invention Printed circuit 3 Relationship with the case by the person making the amendment: Name of patent applicant Comerix Incorporated Kasumigaseki Building Post Office PO Box No. 49 Eikou Patent Office Telephone: (581)-9601 (Representative) 7
, subject to correction

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (I)(α)固体の剥離表面; (b) (11熱硬化性樹脂および(11)電気的に伝
導性の金属粒子を含有する剥離表面上に被覆された、少
なくとも電気回路素子の層であって、樹脂組成物中の金
属粒子の量が乾燥した層の容量に基づいて約54〜約8
7%の容量部分であるもの、および任意に tCl 熱硬化性樹脂組成物上に供給された反応性接着
剤の層 から成る、電気的に伝導性の回路物品を作るのに使用す
るための、かつ金属回路を誘電性の固体支持体表面に変
えるのに適した印刷転移物品。 (2)樹脂組成物中の金属粒子の1が乾燥したI−の容
量に基づいて約68〜約87%の容量部分である前項(
1)記載の物品。 (3)熱硬化性樹脂が架橋可能な樹脂と、該架橋可能な
樹脂中の反応性官能基と反応することのできる反応性官
能基を有する熱可塑性樹脂との混合樹脂組成物から成る
前項(1)記載の物品。 (4)架橋可能な樹脂がエポキシ樹脂であり、熱可塑性
樹脂が隣接したエポキシ基と反応することのできる反応
性官能基または隣接したエポキシの反応生成物を含む前
項(3)記載の物品。 (5)前記の反応性接着剤の層が供給され、かつ前記反
応性接着剤を利用する、転移後の電1気回路素子が目ん
だ付は標準試験を満たす前項(2)記載の物品。 (6)前記の金緘素子が(hlの約94〜98重量%で
存在し、かつ転移後の前記電気回路素子がメッキ能標準
試験を満たす前項(5)記載の物品。 (力 金属粒子が、固体剥離表面と接触している熱硬化
性樹脂組成物の層の部分に大部分年中している前項+1
1記賊の物品。 (8)接着剤が熱硬化性樹脂組成物の全面に亘って提供
され、かつポリスルホン制別に接着するように選択され
る前項(1)記載の物品。 (9)接着剤が、その中に熱硬化性樹脂組成物と反応し
且つ結合することになる可能性を有する反応性官能基を
含有する前項(8)記載の物品。 0α 接着剤が熱硬化性樹脂組成物と相互に作用してそ
れと硬化した状態になり、次いで複合構造を形成する前
項(6)記載の物品。 α1)付加的な接着剤層が複合構造の全面に亘って提供
される前項θ〔記載の物品。 03 接着剤がその中にブロックされたイソシアネート
基を含有する前項(8)又は(9)記載の物品。 (1(11約13〜約32%の容量部分の量の熱硬化性
樹脂と、(Ill乾燥し九インクの約68〜約87%の
容量部分に相当する電気的に伝導性の金属粒子量との混
合物から成る印刷インクであって、該インクが印刷する
のに適しており、かつはんだ付は標準試験を満たす電気
回路素子に圧縮成形し硬化するのに適している前記印刷
インク。 04)前記金属粒子が貴金属および非貴金属粒子から成
り、かつ前記インクが圧縮成形および硬化後にメッキ能
標準試験を満足させる前項0記載の印刷インク。 Ql(11剥離表面を提供するとと; (2)所望量の電気的に伝導性の金属粒子を含有する熱
硬化性樹脂組成物から成るインクを、少なくとも電気回
路素子の形の薄膜(すなわち径路)としての剥離表面に
適用するとと;(3)誘電性表面を提供するとと; (4)上記(2)の熱硬化性樹脂組成物および誘電性表
面と相互作用することのできる反応性接着界面を提供す
るとと; (5)電気回路素子の薄膜が誘電性>、Aに面しつつ、
かつそこから接着界面によって分離されるように剥離表
面と誘電性表面を台わせること;(6)十分な熱および
圧力を作用させて複合構造を形成させ、それによって熱
硬化性樹脂が硬化し、接着剤が相互に作用し什い、その
結果電気回路が剥離表面から移されて誘電性表面に効果
的に接合されることになること1次いで無電解メッキ技
術によって良好なメッキ能を有する電気回路を提供する
こと から成る印刷回路物品の製造方法。 (l(9剥離表面が複合構造から除去され、かつ前記樹
脂と接着剤が工程(6)で完全に硬化される前項09記
載の方法。 面 金属粒子の容量部分が約68〜87%であり、かつ
熱硬化性樹脂の容量部分が約13〜32%である前項0
!9記載の方法。 0槌 熱硬化性樹脂組成物中の金属粒子の量が該組成物
の約94〜98重量%である前項(151記載の方法。 ■ 得られる電気回路がメッキ能標準試験及びはんだ付
は標準試験を満足する前項0η記載の方法。 翰 金属含量が、前記組成物の他方の部分よりも剥離表
面と接触している熱硬化性組成物の部分に大部分集中し
ている前項a載Q6)、 <1?)の中のいずれか1項
記載の方法。 Ql)熱硬化性樹脂のマスキング層が複合構造の電気回
路の部分の全面に亘って適用される前項0啼記載の方法
。 翰 付加的な電気回路が工程(1)、(2)、 (41
、(5)、(6)、 (7)を適用することによってマ
スキング層の表面に供給され、その際マスキング層およ
びそれのマスクされていない部分が被覆目的のために誘
電性表面を構成する前項Q11記載の方法。 (ハ)前項Qlの方法による別のマスキング層が前項(
イ)記載の生成する処理済み複合物の全面に亘って適用
される前項(2′!J記載の方法。 04繭記の電気回路を電気的に伝導性の金属でメンキす
ることから成る前項On記載の方法。 @ 前記電気回路を導電性金属でメンキすることから成
る前項05記載の方法。 (イ)誘電性表面が1種以上のボリアリールエーテルス
ルホン、ポリ(アリールエーテル)、ポリアリ−レート
、ポリエーテルイミド、ポリエステル、芳香族ポリカー
ボネート、スチレン樹脂、ポリ(アリールアクリレート
)、ポリヒドロキシエーテル、ポリ(アリーレンスルフ
ィト9)、ポリアミド9.および充填材及び(又は)繊
維で強化したプラスチックから成る非導電性プラスチッ
クである前項0!19記載の方法。 @ (α) 表面を有する固体の誘電性支持体表面;お
よび (bl 前記表面上に設けられ、かつ少なくとも電気回
路素子の形の熱硬化性樹脂及び導電性金属粒子から成る
第1の層又は径路から成り、前記金属粒子が前記層の重
量に基づいて約68〜約87重量%の容量部分の量であ
り、かつ前記電気回路素子が無電解メッキ技術によって
良好なメッキ能を有している、印刷回路物品。 (ハ)前記物品がはんだ付は標準試験を満足する前項匈
記載の印刷回路物品。 翰 前記物品がメンキ能標準試験を満足する前項(ハ)
記載の印刷回路物品。 (至)前記回路素子が0.1〜0.01オーム/平方の
表面抵抗率を有し、かつ260’Fの温度に20秒間露
出されたときにその形を保持する前項(5)記載の印刷
回路物品。 01)金属含量がそれの上部表面に隣接している層(A
lの部分に大部分集中している前項(5)記載の印刷回
路物品。 031つの金属が銀であり、別の金属がニッケルである
前項61)配・載の印刷回路物品。 (至)層(Alがそれの熱硬化の間に圧縮される前項(
財)記載の印刷回路物品。 (財)第2の層が熱硬化性樹脂、および前記第1の層の
上に重なっている(blにおけると同様な導電性金属粒
子から成り、かつそこから防電性材料によって選択され
た範囲の所で分離されて多層の印刷回路物品を形成する
前項(5)記載の印刷回路物品。 c1ツ 前記の第1及び第2の層が別の選択された区域
の所で電気的に互いに納会されている前項(財)記載の
印刷回路物品。 (至)前記第1の層が、実質的に第1の平面内に位置し
ている部分、およびそれに対しである角度で非平面であ
る前記支持体表面の部分の全面に亘って広がっている部
分を有している前項罰記載の印刷回路物品。 c37)その上に被覆された径路を、電気回路または前
駆体(pracμrear)または転移されたときには
んだ付は標準試験を満足し且つ少なくとも電気回路又は
0.1オ一ム/平方未満の表面抵抗率を有する電気回路
の素子を与える導電性金属粒子を含む熱硬化性樹脂組成
物から形成される電気回路の素子の形で有する固体の剥
離表面から成る印刷転移組成物。 (至)熱硬化性樹脂がある程度の架橋剤によって増加す
る前項c37)記載の印刷転移組成物。 (31前記電気回路が、転移されたときにメンキ能標準
試験を満足する前記0η記載の印刷転移組成物。 (41(11誘電性基板; (2)径路の93〜98重奮%の金属粒子を含む導電性
径路および硬化したプラスチック;(3)前記径路を保
持する接着剤であって、該径路が260℃で20秒間、
その形をかなり変化させることなく持ちこたえることが
できるものから成る電気装置。 (AD 基板がプラスチック基板であり、径路が回路パ
ターンの形である前項f41記載の装置。 03 前記径路がはんだ付は標準試験及びメンキ能標準
試験を満足する前項一記載の装置。 (43誘電材料、それによって支持された複数の導電性
径路(この径路はその15%以上が銀である金属粒子9
3〜98%から成る。)、および前記誘電拐料の向かい
側に前記径路の表面の全面に亘るはんだの薄膜から成る
装置。 0(イ) メンキしたニッケル層が前記はんだと前記径
路間の前記径路上にある前項(43記載の装置。 (41a)気化しうる溶媒、金属粉末および少量の熱硬
化性結合剤から成るスラリーを除去しうる層に対して望
まれる回路・ぞターンの形で適用するとと; j)l媒を気化するとと; C)金属粉末及びバインダを接着剤層で覆うことによっ
て金属粉末及び担体を除去しうる層上の適所に保持する
とと; d)プラスチック基板を加圧および加熱によって積層成
形することによって前記粉末の圧縮を生じさせると共に
、前記接着剤層によって前記圧縮粉末の前記基板への接
合を生じさせること、ただし前記の加熱は前記接着剤、
基板および除去しうる層を破壊するには不十分なもので
あるとと;および Tgl 除去しうる層を分離すること の工程から成る、プラスチック基板上に回路パターンを
低温で形成する方法。 (ハ)該パターンが金属粉末およびバインダを接着剤で
覆う前または後に圧縮される前項(49記載の方法。 (47) 前記プラスチック基板がポリスルホンから成
る前項(4!9記載の方法。 (48回路パターンが金属粉末の約93〜約98重量%
以上から成り、かつ積層成形後の前記パターンが±5ミ
クロン以上には変化しない実質的に均一な厚さを有する
前項(4啼記載の方法。 CI 分離しうる層から成シ、前記の層がその表面上に
有機材料を実質的に含有しない金属粉末の回路パターン
を有し、且つ接着剤が前記回路パターン及び少なくとも
該層の一部分の上に重なっている回路転移装置。 団 金属粉末が圧縮される前項(4!l記載の装置。 511 誘電性基板と、径路の90〜98重量%の金属
粉末から成り月つ径路中に15〜50重量%の貴金属を
含有し、残りとして非貴金属及び(又は)不活性粒子お
よび有機、fインダを含有する圧縮された導電性径路と
から成り、前記の圧縮された径路の厚さが±5ミクロン
以上には変化せず且つ0.1オーム/平方以下の導電率
を有する電気装置。 153 径路が接着剤によって基板に接合される前項6
D記載の装置。 關 15〜50重量%の銀粒子を含有し、残シとしてニ
ッケル又は錫粒子を含有する有機ノZインダから成る圧
縮され良導電性径路を支持している誘電性基板から成り
、峡径路中のすべての粒子が90〜98%であり、かつ
該径路が、すべての銀粒子が使用されるときに達成しう
る実質的に同一の導電率を有する装置。 64)接着剤が径路を誘電性基板に接合させる前項63
1記載の装置。 651 誘電性基板と、径路の90〜98%粒子から成
9且つ径路中に15〜50重量%の貴金属を含有し、残
りとして非貴金属及び(又は)不活性粒子および有機ノ
Zインダを含有する圧縮された導電性径路とから成り、
前記の圧縮された径路の厚さが±5ミクロン以上には変
化せず且つ0.1オーム/平方以下の表面抵抗率を有す
る電気装置。 (至)内部表面、および有機接着剤層によって絶縁性支
持体表面に接着された導電性回路・ぞターンを有する外
部表面を有する前記回路パターンを担持している前記支
持体表面からな)、 前記有機接着剤層が熱硬化性有機接着剤であり、前記導
電性回路パターンが有機熱硬化性ノZインダを該パター
ンの約32〜約13容量%の量で有し。 前記接着剤およびバインダが少なくとも260℃の温度
で少なくとも20秒間安定であり、前記・ぞターンがさ
らに約68〜約87容量%の量の導電性金属粒子から成
り、 前記導電性回路・ぞターンが前記内部表面においてより
多くのバインダと向かい合って広がっているノ2インダ
の勾配を有し、 前記回路パターンが0.1〜0,01オーム/平方の表
面抵抗率を有し、 前記回路パターンが α)表面を活性化することなくニッケルで無電解メッキ
されることができ。 A)260℃の温度で20秒間くり返して再はんだ付け
されることができ、 C)高い接着強度を有し、かつ d)はんだでメンキし且つぬらすことができる、 印刷回路板。 5n 層+AJ上に、そしてもし存在するならば層(C
1の下に1層(b)に一致した、かつ層(A)から間隔
を置いて配置された、さらに多層の導電性回路物品を製
造するのに有用な別の電気回路素子として作用する少な
くとも1つの別の層を含む前項(1)記載の印刷転移物
品。 − 前記の別の層および最初に言及した層が選択された
区域で電気的に接触されている前項571記載の印刷転
移物品。 591 層+bJ上に、そしてもし存在するならば層(
C1の下に、層filに一致した。かつ層(hlから間
隔′fr置いて配置された、さらに多層の導電性回路物
品を製造するのに有用な別の電気回路素子として作用す
る少なくとも1つの別の層を含む前項(2)記載の印刷
転移物品。 −誘電層が前記の別の層と最初に言及した層とを選択さ
れた区域で隔てている前項−記載の印刷転移物品。 6υ 第2の回路素子の形の第2の径路が上に重なって
おシ、かつ少なくとも選択された部分で前記径路から電
気的に隔てられている前項c3D記載の印刷転移組成物
Scope of Claims: (I) (α) a solid release surface; (b) at least A layer of an electrical circuit element, wherein the amount of metal particles in the resin composition is from about 54 to about 8 based on the volume of the dry layer.
for use in making an electrically conductive circuit article, consisting of a layer of reactive adhesive applied in a volume fraction of 7% and optionally on a tCl thermosetting resin composition. and a printed transfer article suitable for converting metallic circuits into dielectric solid support surfaces. (2) The preceding paragraph, wherein 1 of the metal particles in the resin composition is about 68 to about 87% by volume based on the dry I- volume (
1) Articles mentioned. (3) The preceding item (1) consisting of a mixed resin composition of a thermosetting resin that can be crosslinked and a thermoplastic resin that has a reactive functional group that can react with a reactive functional group in the crosslinkable resin. 1) Articles mentioned. (4) The article according to item (3) above, wherein the crosslinkable resin is an epoxy resin, and the thermoplastic resin contains a reactive functional group capable of reacting with an adjacent epoxy group or a reaction product of the adjacent epoxy group. (5) The article according to the preceding paragraph (2), in which the layer of the reactive adhesive is supplied, and the electrical circuit element after the transfer, which utilizes the reactive adhesive, satisfies the standard test. . (6) The article according to the preceding paragraph (5), in which the metal particles are present in an amount of about 94 to 98% by weight of (hl), and the electric circuit element after transfer satisfies the plating ability standard test. , the previous item +1, which is mostly applied throughout the year to the part of the layer of the thermosetting resin composition that is in contact with the solid release surface.
1. Items of a bandit. (8) The article according to item (1) above, wherein the adhesive is provided over the entire surface of the thermosetting resin composition and is selected to specifically adhere to polysulfone. (9) The article according to item (8) above, wherein the adhesive contains a reactive functional group therein that has the potential to react with and bond with the thermosetting resin composition. 0α The article according to item (6) above, wherein the adhesive interacts with the thermosetting resin composition to become cured with it, and then forms a composite structure. α1) Article according to the preceding clause θ, in which an additional adhesive layer is provided over the entire surface of the composite structure. 03 The article according to item (8) or (9) above, wherein the adhesive contains blocked isocyanate groups therein. (1) an amount of thermosetting resin in an amount of about 13 to about 32% by volume of (11) and an amount of electrically conductive metal particles corresponding to about 68 to about 87% by volume of (9) dry ink; 04) A printing ink consisting of a mixture of said printing ink, said printing ink being suitable for printing and compression molding and curing into electrical circuit elements which meet standard tests for soldering. The printing ink according to the preceding clause 0, wherein the metal particles consist of noble metal and non-noble metal particles, and the ink satisfies the plating ability standard test after compression molding and curing. (3) applying an ink comprising a thermosetting resin composition containing electrically conductive metal particles to a release surface as a thin film (i.e., a pathway) in the form of at least an electrical circuit element; (3) a dielectric surface; (4) providing a reactive adhesive interface capable of interacting with the thermosetting resin composition of (2) above and a dielectric surface; (5) providing a thin film of the electrical circuit element that is dielectric; >, while facing A,
and (6) applying sufficient heat and pressure to form a composite structure so that the thermoset resin cures. , the adhesive will interact with each other, so that the electrical circuit will be transferred from the peeling surface and effectively bonded to the dielectric surface. A method of manufacturing a printed circuit article comprising providing a circuit. The method of claim 09, wherein the release surface is removed from the composite structure and the resin and adhesive are completely cured in step (6). , and the volume portion of the thermosetting resin is about 13 to 32%.
! 9. The method described in 9. 0. The amount of metal particles in the thermosetting resin composition is about 94 to 98% by weight of the composition (method described in 151). The method according to the preceding paragraph 0η, which satisfies the following: Q6) in the preceding paragraph, wherein the metal content is concentrated in the part of the thermosetting composition that is in contact with the release surface more than in the other part of the composition; <1? ) The method described in any one of the following. Ql) The method of item 0 above, wherein the masking layer of thermosetting resin is applied over the entire surface of the electrical circuit portion of the composite structure.翰 Additional electric circuits are used in steps (1), (2), (41
, (5), (6), (7), wherein the masking layer and the unmasked parts of it constitute a dielectric surface for coating purposes. The method described in Q11. (c) Another masking layer according to the method of the previous section Ql is added to the previous section (
B) The method described in the preceding paragraph (2'!J) applied over the entire surface of the treated composite produced as described in 04. The method according to item 05, which comprises coating the electrical circuit with a conductive metal. Non-conductive materials consisting of polyetherimide, polyester, aromatic polycarbonate, styrenic resin, poly(aryl acrylate), polyhydroxyether, poly(arylene sulfite 9), polyamide 9. and plastics reinforced with fillers and/or fibers. 19. The method according to the preceding paragraph 0!19, wherein the solid dielectric support surface has a surface; a first layer or path of conductive metal particles, the metal particles being in a volume fraction amount of about 68 to about 87 percent by weight based on the weight of the layer, and the electrical circuit element being electrolessly plated; A printed circuit article that has good plating ability due to technology. (c) A printed circuit article as described in the preceding paragraph in which the article satisfies the standard test for soldering. (c)
The printed circuit article described. (To) The circuit element according to the preceding paragraph (5), wherein the circuit element has a surface resistivity of 0.1 to 0.01 ohm/square and retains its shape when exposed to a temperature of 260'F for 20 seconds. Printed circuit articles. 01) A layer (A
The printed circuit article according to the preceding item (5), in which the printed circuit article is mostly concentrated in the portion l. 03 The printed circuit article according to the preceding paragraph 61), wherein one metal is silver and the other metal is nickel. (to) the previous section in which the layer (Al is compressed during its thermal curing) (
Printed circuit articles listed in the above article. A second layer overlies the thermosetting resin and said first layer (consisting of electrically conductive metal particles similar to that in BL, and from which areas selected by the electrically conductive material) A printed circuit article according to clause (5), wherein said first and second layers are electrically joined together at another selected area to form a multilayer printed circuit article. The printed circuit article according to the preceding paragraph, wherein the first layer has a portion that lies substantially in a first plane, and a portion of the first layer that is non-planar at an angle thereto. A printed circuit article as described in the preceding paragraph, having a portion extending over the entire surface of the support. Sometimes the solder is formed from a thermosetting resin composition containing conductive metal particles that satisfies standard tests and provides at least an electrical circuit or an element of an electrical circuit with a surface resistivity of less than 0.1 ohm/sq. A printed transfer composition comprising a solid release surface in the form of an electrical circuit element. (To) The printing transfer composition according to the preceding item c37), wherein the thermosetting resin is increased by a certain amount of crosslinking agent. (31) The printed transfer composition according to the above 0η, wherein the electrical circuit satisfies the Menki performance standard test when transferred. (41 (11) dielectric substrate; (3) an adhesive holding said pathway, wherein said pathway is heated at 260° C. for 20 seconds;
An electrical device consisting of something that can last without appreciably changing its shape. (AD The device according to the preceding paragraph f41, in which the board is a plastic substrate and the path is in the form of a circuit pattern. 03 The device according to the preceding paragraph 1, in which the soldering path satisfies the standard test and the Menki performance standard test. (43 Dielectric material , a plurality of electrically conductive paths supported by metal particles 9 of which at least 15% are silver.
It consists of 3-98%. ), and a thin film of solder over the entire surface of the path opposite the dielectric material. 0 (a) The device according to the preceding paragraph (43), wherein a cracked nickel layer is on the path between the solder and the path. (41a) A slurry consisting of a vaporizable solvent, a metal powder, and a small amount of a thermosetting binder is applying the desired circuit pattern to the removable layer; j) vaporizing the medium; c) removing the metal powder and the carrier by covering the metal powder and binder with an adhesive layer; d) causing compaction of the powder by laminated molding of a plastic substrate by pressure and heat and bonding of the compacted powder to the substrate by the adhesive layer; provided that the heating is applied to the adhesive;
A method for forming a circuit pattern on a plastic substrate at low temperature, comprising the steps of: insufficient to destroy the substrate and the removable layer; and separating the Tgl removable layer. (c) The pattern is compressed before or after covering the metal powder and binder with an adhesive (method according to item 49). (47) The plastic substrate is made of polysulfone (method according to item 4!9. (48 circuit) The pattern is about 93% to about 98% by weight of the metal powder
The method described in the preceding paragraph (4), in which the pattern after laminated molding has a substantially uniform thickness that does not vary by more than ±5 microns. A circuit transfer device having a circuit pattern of metal powder substantially free of organic material on its surface, and an adhesive overlying the circuit pattern and at least a portion of the layer. The device described in the preceding paragraph (4!l). 511 The device consists of a dielectric substrate and 90 to 98% by weight of metal powder in the path, with 15 to 50% by weight of precious metal in the path, and the remainder non-noble metals and ( or) a compacted conductive path containing inert particles and an organic, f-inductor, the thickness of said compacted path not varying more than ±5 microns and not more than 0.1 ohm/sq. 153 An electrical device having a conductivity of 153, in which the path is bonded to the substrate by adhesive
The device described in D. It consists of a dielectric substrate supporting a compressed, highly conductive path consisting of an organic Z indica containing 15 to 50% by weight of silver particles, with nickel or tin particles as the balance; A device in which all particles are 90-98% and the paths have substantially the same conductivity that can be achieved when all silver particles are used. 64) Adhesive joins the path to the dielectric substrate (63)
1. The device according to 1. 651 A dielectric substrate, consisting of 90-98% of the particles in the path, and containing 15-50% by weight of noble metal in the path, with the remainder containing non-noble metals and/or inert particles and organic Z indica. consisting of a compressed conductive path,
An electrical device in which the compressed path thickness does not vary by more than ±5 microns and has a surface resistivity of less than 0.1 ohm/square. (from) said support surface carrying said circuit pattern having an inner surface and an outer surface having conductive circuit turns adhered to said insulating support surface by an organic adhesive layer; The organic adhesive layer is a thermosetting organic adhesive, and the conductive circuit pattern has an organic thermosetting adhesive in an amount of about 32% to about 13% by volume of the pattern. the adhesive and binder are stable at temperatures of at least 260° C. for at least 20 seconds, the conductive circuitry further comprises conductive metal particles in an amount of about 68 to about 87% by volume; the circuit pattern has a surface resistivity of 0.1 to 0.01 ohms/square, the circuit pattern has a ) Can be electrolessly plated with nickel without activating the surface. A printed circuit board that: A) can be resoldered repeatedly at a temperature of 260° C. for 20 seconds; C) has high adhesive strength; and d) can be soldered and wetted. 5n layer + AJ and if present layer (C
Coincident with layer (b) and spaced apart from layer (A), at least Printed transfer article according to the preceding clause (1), comprising one additional layer. - Printed transfer article according to clause 571, wherein said further layer and the first-mentioned layer are in electrical contact in selected areas. 591 on the layer + bJ, and if present on the layer (
Below C1 matched the layer fil. and at least one further layer disposed at a distance 'fr from the layer (hl) which acts as another electrical circuit element useful for producing a further multilayer electrically conductive circuit article. Printed transfer article. - Printed transfer article according to the preceding paragraph, wherein the dielectric layer separates said further layer and the first-mentioned layer in a selected area. 6υ A second path in the form of a second circuit element. The printing transfer composition of the preceding clause c3D, wherein the printing transfer composition is overlying and electrically separated from the path in at least selected portions.
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