JPS6049836B2 - 焼結炉の保護ガス中の酸化還元電位調整方法 - Google Patents
焼結炉の保護ガス中の酸化還元電位調整方法Info
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- JPS6049836B2 JPS6049836B2 JP52146005A JP14600577A JPS6049836B2 JP S6049836 B2 JPS6049836 B2 JP S6049836B2 JP 52146005 A JP52146005 A JP 52146005A JP 14600577 A JP14600577 A JP 14600577A JP S6049836 B2 JPS6049836 B2 JP S6049836B2
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D21/00—Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value
- G05D21/02—Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value characterised by the use of electric means
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D7/00—Forming, maintaining, or circulating atmospheres in heating chambers
- F27D7/06—Forming or maintaining special atmospheres or vacuum within heating chambers
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
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- Powder Metallurgy (AREA)
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、焼結炉例えば酸化物セラミックの焼結炉の
水素を含む保護ガス中の酸化還元電位を所望の値に調整
する方法を対象とする。
水素を含む保護ガス中の酸化還元電位を所望の値に調整
する方法を対象とする。
通常高温炉中で実施される多くの粉末冶金工程において
は、所望の品質の製品を得るため還元性のガス雰囲気が
使用される。この保護ガスは還元成分としてほとんど総
ての場合水素ガスを含む。水素の酸化還元電位は次の式
により水素分圧と水分圧の比に関係して与えられる。Δ
G02■RnnP02 ■2ΔGOT+択伊墜 ΔG:ギブス自由エネルギ゛− R:ガス定数 T:ケルビン温度 PO2、PH2。
は、所望の品質の製品を得るため還元性のガス雰囲気が
使用される。この保護ガスは還元成分としてほとんど総
ての場合水素ガスを含む。水素の酸化還元電位は次の式
により水素分圧と水分圧の比に関係して与えられる。Δ
G02■RnnP02 ■2ΔGOT+択伊墜 ΔG:ギブス自由エネルギ゛− R:ガス定数 T:ケルビン温度 PO2、PH2。
9PH2:O2、H2O9H2の分圧ΔG゜:標準状態
(1気圧、25℃)においてのO2の生成ギブス自由エ
ネルギーこれから水素を含むガスの還元能力は水を加え
ることによつて影響を受けることが分る。
(1気圧、25℃)においてのO2の生成ギブス自由エ
ネルギーこれから水素を含むガスの還元能力は水を加え
ることによつて影響を受けることが分る。
この効果は従来酸化還元電位を近似的に規定の値に調整
する場合にだけ利用されていた。最近粉末冶金技術の発
達に伴つて焼結時の保護ガスの酸化還元電位の正確な調
整が製品の高い品質の確保に対して大きな意味を持つこ
とが明らかとなつた。
する場合にだけ利用されていた。最近粉末冶金技術の発
達に伴つて焼結時の保護ガスの酸化還元電位の正確な調
整が製品の高い品質の確保に対して大きな意味を持つこ
とが明らかとなつた。
これに対応してこの発明は、焼結保護ガスの酸化還元電
位を自動的に設定し、処理物の通過量に関係して制御す
ることを目的とする。処理物の還元過程て水素が発生す
るため制御に際し・ては処理物の通過量を考える必要が
ある。酸化還元電位の調整制御は操作員に無関係に実施
され、またその確認と記録が可能でなければならない。
この目的を達成するためこの発明は、製品の品質にとつ
て重要な温度において保護ガスの酸化還元電位を測定し
、その測定値に関係して保護ガスの入口側で適当量の水
分を加えることにより予め与えられた規定値に保つこと
を提案する。このような調整制御により製品の品質はそ
の生産量に関係なく確保される。水分の添加には酸素と
水素の混合ガスを使用するのが有利である。このガスは
炉室内て再結合して水蒸気となり、装置に流れ込む保護
ガスの一部と共に装置に導かれる。酸素水素混合ガスの
添加量の調整は公知の計量装置を使用して実施すること
ができるが、この混合ガスを電解によつて発生させ、そ
の電解電流を酸化還元電位の測定値、特にその規定値よ
りの偏差に関係して制御すれは特に有利である。この発
明の方法を図面に示した核燃料タブレット焼結炉につい
て説明する。
位を自動的に設定し、処理物の通過量に関係して制御す
ることを目的とする。処理物の還元過程て水素が発生す
るため制御に際し・ては処理物の通過量を考える必要が
ある。酸化還元電位の調整制御は操作員に無関係に実施
され、またその確認と記録が可能でなければならない。
この目的を達成するためこの発明は、製品の品質にとつ
て重要な温度において保護ガスの酸化還元電位を測定し
、その測定値に関係して保護ガスの入口側で適当量の水
分を加えることにより予め与えられた規定値に保つこと
を提案する。このような調整制御により製品の品質はそ
の生産量に関係なく確保される。水分の添加には酸素と
水素の混合ガスを使用するのが有利である。このガスは
炉室内て再結合して水蒸気となり、装置に流れ込む保護
ガスの一部と共に装置に導かれる。酸素水素混合ガスの
添加量の調整は公知の計量装置を使用して実施すること
ができるが、この混合ガスを電解によつて発生させ、そ
の電解電流を酸化還元電位の測定値、特にその規定値よ
りの偏差に関係して制御すれは特に有利である。この発
明の方法を図面に示した核燃料タブレット焼結炉につい
て説明する。
焼結炉1は通常のトンネル炉であつて、その高温部は熱
絶縁16で包まれ、そこに加熱線15が埋め込まれてい
る。焼結処理物としての核燃料タブレットは輸送ボート
に入れ入口の炉蓋11を開けて炉に押し込み、炉を通過
した後に出口の蓋12を開けて炉から送り出す。この外
に蓋13と14により炉の両端部aとeが本体から隔離
され、外気が炉本体に侵入するのを阻止するようにする
。炉本体は予熱領域bと本来の焼結領域cを冷却領域d
に分かれ、還元性の保護ガスは導管17を通して冷却領
域dに導二入され、処理物の進行に対して逆向きに流れ
、予熱領域bから導管18を通して排出される。排出ガ
スはガス浄化装置に導かれるが、この装置はこの発明に
直接関係しないから図面に示されていない。導管17を
通して導入される保護ガスは貯蔵3容器31と32から
計量バルブ41と42を通して取り出す。この保護ガス
は例えは水素とアルゴンまたは窒素の混合ガスである。
この発明の方法を実施するため焼結炉の還元が行われる
部分、例えは700℃領域bにガス取出し3管19をと
りつけ、ポンプ20を通してガスを酸化還元電位測定セ
ル2に導く。
絶縁16で包まれ、そこに加熱線15が埋め込まれてい
る。焼結処理物としての核燃料タブレットは輸送ボート
に入れ入口の炉蓋11を開けて炉に押し込み、炉を通過
した後に出口の蓋12を開けて炉から送り出す。この外
に蓋13と14により炉の両端部aとeが本体から隔離
され、外気が炉本体に侵入するのを阻止するようにする
。炉本体は予熱領域bと本来の焼結領域cを冷却領域d
に分かれ、還元性の保護ガスは導管17を通して冷却領
域dに導二入され、処理物の進行に対して逆向きに流れ
、予熱領域bから導管18を通して排出される。排出ガ
スはガス浄化装置に導かれるが、この装置はこの発明に
直接関係しないから図面に示されていない。導管17を
通して導入される保護ガスは貯蔵3容器31と32から
計量バルブ41と42を通して取り出す。この保護ガス
は例えは水素とアルゴンまたは窒素の混合ガスである。
この発明の方法を実施するため焼結炉の還元が行われる
部分、例えは700℃領域bにガス取出し3管19をと
りつけ、ポンプ20を通してガスを酸化還元電位測定セ
ル2に導く。
このセルを通過したガスは導管21を通して排出導管1
8に戻される。図面に示されていない装置により測定セ
ル2中の測定が、炉のとり出し温度に等しい温度にあ4
る炉部分からとり出されたガスサンプルに対して行われ
るようにする。測定セルの出力信号は増幅器3と測定値
変換器4に導かれる。6aは記録計である。
8に戻される。図面に示されていない装置により測定セ
ル2中の測定が、炉のとり出し温度に等しい温度にあ4
る炉部分からとり出されたガスサンプルに対して行われ
るようにする。測定セルの出力信号は増幅器3と測定値
変換器4に導かれる。6aは記録計である。
変換器4は直流電源5に接続され、その内部には酸化還
元電位の規定値発信器が設けられている。この規定値と
増幅器3から送られた酸化還元電位測定値との差に関係
して直流電源5から供給される電解槽1の電解電流が調
整される。この電解電流は記録計6によつて連続的に記
録さフれ、炉内部の酸化還元電位の経過を示す。電解槽
7には硫酸を加えた水が入れられ、電解によつて発生し
た水素と酸素は通気性の膜を通して導管71に導かれ、
そこからガス乾燥器8に導かれる。ガス乾燥器8からポ
ンプ9を通して送り出された・酸素水素混合ガスには弁
43を通して保護ガスの一部が加えられ、導管10を通
して炉の冷却領域dに導かれる。この回路によつて測定
セル2の測定値が低下するにつれて炉に導入される酸化
水素混合ガスの量が増大する。炉に導入された酸素水素
混合ガスは再結合して微細な霧状の水滴となる。上記の
実施例はこの発明の方法の原理を説明するためのもので
、種々の変形が可能である。
元電位の規定値発信器が設けられている。この規定値と
増幅器3から送られた酸化還元電位測定値との差に関係
して直流電源5から供給される電解槽1の電解電流が調
整される。この電解電流は記録計6によつて連続的に記
録さフれ、炉内部の酸化還元電位の経過を示す。電解槽
7には硫酸を加えた水が入れられ、電解によつて発生し
た水素と酸素は通気性の膜を通して導管71に導かれ、
そこからガス乾燥器8に導かれる。ガス乾燥器8からポ
ンプ9を通して送り出された・酸素水素混合ガスには弁
43を通して保護ガスの一部が加えられ、導管10を通
して炉の冷却領域dに導かれる。この回路によつて測定
セル2の測定値が低下するにつれて炉に導入される酸化
水素混合ガスの量が増大する。炉に導入された酸素水素
混合ガスは再結合して微細な霧状の水滴となる。上記の
実施例はこの発明の方法の原理を説明するためのもので
、種々の変形が可能である。
特にガスとをり出し管19は常に保護ガス中の酸化還元
電位を測定する必要がある部分に設けなければならない
ものであるが、その取付位置は情況に応じて適当に選定
することも可能てある。この発明の方法によつて処理物
の装填量が一様でない場合にも保護ガスの作用を正確に
一定に保持することができる。従つて製品の品質が確保
されると共に、炉内の処理物の分布が一様であることも
また時間的に一定てあることももはや必要としないため
処理物の輸送が著しく簡単になる。
電位を測定する必要がある部分に設けなければならない
ものであるが、その取付位置は情況に応じて適当に選定
することも可能てある。この発明の方法によつて処理物
の装填量が一様でない場合にも保護ガスの作用を正確に
一定に保持することができる。従つて製品の品質が確保
されると共に、炉内の処理物の分布が一様であることも
また時間的に一定てあることももはや必要としないため
処理物の輸送が著しく簡単になる。
図面はこの発明の方法の対象となる核燃料タブレット焼
結装置を示すもので、1は焼結炉2・・・は酸化還元電
位測定セル、7は酸素水素混合ガス発生用の電解槽、1
7は保護ガス導入管、18はその排出管である。
結装置を示すもので、1は焼結炉2・・・は酸化還元電
位測定セル、7は酸素水素混合ガス発生用の電解槽、1
7は保護ガス導入管、18はその排出管である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 酸化物セラミックの焼結炉において炉雰囲気に水分
を適当に混合することにより焼結炉の水素を含む保護ガ
ス中の酸化還元電位を所望の値に調整する方法において
、水分を加えるため炉内で再結合される酸素と水素の混
合ガスを使用し、炉内に流れ込む保護ガスの一部と共に
炉内に導くことを特徴とする保護ガス中の酸化還元電位
を所望の値に調整する方法。 2 酸素と水素の混合ガスを電解によつて発生し、その
電解電流を酸化還元電位測定値に関連して制御すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2655206.7 | 1976-12-06 | ||
DE2655206A DE2655206C3 (de) | 1976-12-06 | 1976-12-06 | Verfahren zur Einstellung und Regelung gewünschter Redoxpotentiale in Gasen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5371608A JPS5371608A (en) | 1978-06-26 |
JPS6049836B2 true JPS6049836B2 (ja) | 1985-11-05 |
Family
ID=5994782
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52146005A Expired JPS6049836B2 (ja) | 1976-12-06 | 1977-12-05 | 焼結炉の保護ガス中の酸化還元電位調整方法 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4202690A (ja) |
JP (1) | JPS6049836B2 (ja) |
BE (1) | BE861492A (ja) |
BR (1) | BR7707369A (ja) |
CA (1) | CA1096612A (ja) |
DE (1) | DE2655206C3 (ja) |
ES (1) | ES464792A1 (ja) |
FR (1) | FR2373096B1 (ja) |
GB (1) | GB1560175A (ja) |
IT (1) | IT1088710B (ja) |
MX (1) | MX148851A (ja) |
SE (1) | SE429063B (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5155092A (en) * | 1988-12-28 | 1992-10-13 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Ceramic superconducting composition and process and apparatus for preparing thereof |
US5554836A (en) * | 1994-05-23 | 1996-09-10 | The Boc Group, Inc. | Induction heating in low oxygen-containing atmosphere |
DE19513547C2 (de) * | 1995-04-10 | 2003-04-10 | Siemens Ag | Verfahren zum Steuern des Wärmebehandlungsprozesses in einer Pelletieranlage |
US5993729A (en) * | 1997-02-06 | 1999-11-30 | National Research Council Of Canada | Treatment of iron powder compacts, especially for magnetic applications |
DE102014114096A1 (de) | 2014-09-29 | 2016-03-31 | Danfoss Silicon Power Gmbh | Sinterwerkzeug für den Unterstempel einer Sintervorrichtung |
DE102014114097B4 (de) | 2014-09-29 | 2017-06-01 | Danfoss Silicon Power Gmbh | Sinterwerkzeug und Verfahren zum Sintern einer elektronischen Baugruppe |
DE102014114093B4 (de) * | 2014-09-29 | 2017-03-23 | Danfoss Silicon Power Gmbh | Verfahren zum Niedertemperatur-Drucksintern |
CN109300560B (zh) * | 2018-11-01 | 2024-05-14 | 中国原子能科学研究院 | 一种混合氧化物芯块烧结气氛氧势控制装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2543708A (en) * | 1947-05-29 | 1951-02-27 | Comstock & Wescott | Heat-treating furnace |
-
1976
- 1976-12-06 DE DE2655206A patent/DE2655206C3/de not_active Expired
-
1977
- 1977-10-03 US US05/839,016 patent/US4202690A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-10-19 SE SE7711768A patent/SE429063B/sv not_active IP Right Cessation
- 1977-10-20 CA CA289,183A patent/CA1096612A/en not_active Expired
- 1977-11-03 BR BR7707369A patent/BR7707369A/pt unknown
- 1977-11-17 FR FR7734628A patent/FR2373096B1/fr not_active Expired
- 1977-11-24 MX MX171453A patent/MX148851A/es unknown
- 1977-12-01 IT IT30245/77A patent/IT1088710B/it active
- 1977-12-05 GB GB50618/77A patent/GB1560175A/en not_active Expired
- 1977-12-05 JP JP52146005A patent/JPS6049836B2/ja not_active Expired
- 1977-12-05 BE BE183159A patent/BE861492A/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-12-06 ES ES464792A patent/ES464792A1/es not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE429063B (sv) | 1983-08-08 |
CA1096612A (en) | 1981-03-03 |
DE2655206B2 (de) | 1979-12-06 |
FR2373096B1 (ja) | 1982-03-19 |
DE2655206A1 (de) | 1978-06-08 |
ES464792A1 (es) | 1978-09-01 |
US4202690A (en) | 1980-05-13 |
BE861492A (fr) | 1978-03-31 |
BR7707369A (pt) | 1978-07-18 |
MX148851A (es) | 1983-06-27 |
IT1088710B (it) | 1985-06-10 |
SE7711768L (sv) | 1978-06-07 |
DE2655206C3 (de) | 1980-08-21 |
FR2373096A1 (ja) | 1978-06-30 |
GB1560175A (en) | 1980-01-30 |
JPS5371608A (en) | 1978-06-26 |
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