JPS6049626U - 赤外線加熱装置 - Google Patents

赤外線加熱装置

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JPS6049626U
JPS6049626U JP14302383U JP14302383U JPS6049626U JP S6049626 U JPS6049626 U JP S6049626U JP 14302383 U JP14302383 U JP 14302383U JP 14302383 U JP14302383 U JP 14302383U JP S6049626 U JPS6049626 U JP S6049626U
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JP
Japan
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heating device
infrared heating
lamp
filament
infrared
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Pending
Application number
JP14302383U
Other languages
English (en)
Inventor
博 西村
牧野　繁蔵
Original Assignee
ニチデン機械株式会社
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の前提となる赤外線加熱装置の概略断面
図と被加熱物上の熱分布特性曲線図、第２図は第１図装
置のＴ１−Ｔｉ線にて切断した断面図と被加熱物上の熱
分布特性曲線図、葛３図は本考案の一実施例を示す概略
断面図と被加熱物上の熱分布特性曲線図、第４図は第３
図装置のＴ２−Ｔ２線にて切断した断面図と被加熱物上
の熱分布特性曲線図、第５図と第６図は夫々本考案の他
の実施例を示す概略断面図、第７図は第３図装置の反射
鏡を変更した例を示す横断面図である。 ６．６′・・・反射鏡、７・・・赤外線ランプ、８，８
′、８′・・・フィラメント。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 横断面略放物線形の樋状反射鏡の焦点位置に、ランプ軸
    方向の少なくとも中央部分のフィラメント密度を粗にし
    た内蔵フィラメントを有する直線状の赤外線ランプを配
    置したことを特徴とする赤外線加熱装置。
JP14302383U 1983-09-13 1983-09-13 赤外線加熱装置 Pending JPS6049626U (ja)

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JP14302383U JPS6049626U (ja) 1983-09-13 1983-09-13 赤外線加熱装置

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JPS6049626U true JPS6049626U (ja) 1985-04-08

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JP14302383U Pending JPS6049626U (ja) 1983-09-13 1983-09-13 赤外線加熱装置

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5824786A (ja) * 1981-08-05 1983-02-14 ウシオ電機株式会社 照射加熱炉
JPS5846618A (ja) * 1981-09-16 1983-03-18 ウシオ電機株式会社 ウエハ−上のアモルファスシリコンもしくは多結晶シリコンをエピタキシアル成長させる方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5824786A (ja) * 1981-08-05 1983-02-14 ウシオ電機株式会社 照射加熱炉
JPS5846618A (ja) * 1981-09-16 1983-03-18 ウシオ電機株式会社 ウエハ−上のアモルファスシリコンもしくは多結晶シリコンをエピタキシアル成長させる方法

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