JPS6049301A - Manufacture of light guide - Google Patents

Manufacture of light guide

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JPS6049301A
JPS6049301A JP15637583A JP15637583A JPS6049301A JP S6049301 A JPS6049301 A JP S6049301A JP 15637583 A JP15637583 A JP 15637583A JP 15637583 A JP15637583 A JP 15637583A JP S6049301 A JPS6049301 A JP S6049301A
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JP
Japan
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molded product
optical waveguide
gel
gel molded
manufacturing
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JP15637583A
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Japanese (ja)
Inventor
Masayoshi Ono
大野 正善
Takeshi Yamada
武 山田
Takashi Kurokawa
隆志 黒川
Akiyuki Tate
彰之 館
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To form a light guide in a simple step with high productivity by diffusing an organometallic compd. into a gel formation, locally irradiating it with UV rays or far UV rays to cause the difference between the refractive indices of the irradiated parts and the nonirradiated parts. CONSTITUTION:A gel formation 21 is prepared from a soln. composed essentially of at least one kind of metal alcoholate, water, and an org. solvent, it is immersed in a soln. 22 contg. an organo-Ge compd. for a prescribed time or more to diffuse said organo-Ge compd. into the gel formation 21. A proper part of the gel formation 21 to be converted into a light guide is irradiated with UV rays or far UV rays 23 by using a low pressure mercury arc lamp or excimer laser or the like to decompose said org. Ge compd. Then, the organo-Ge compd. remaining in the gel formation 21 is removed by heat drying the gel 21. As a result, a light guide having a refractive index distribution is prepared in such a step.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、ガラス成形品表面における光導波路の製造方
法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a method for manufacturing an optical waveguide on the surface of a glass molded article.

〔従来技術〕[Prior art]

従来における三次元パターンあるいは屈折率パターンを
有する光導波路の作製方法としては次のようなものがあ
る。まず、基板上にCVD法あるいはVAD法を利用し
てガラス薄膜を形成し、レジストを用いたりソゲラフイ
エ程を経た後に反応性スパッタエツチングなどの工程に
より、第1四回に示すように基板//に三次元ノくター
ンを有する導波路/2を形成する。あるいは、同じ(リ
ングラフィ工程により適当なマスクを付着させた後、高
温でドーパントをガラス中ヘドープすることにより、第
1図β)に示すように基板//に屈折率分布パターンを
有する導波路/3を形成する。
Conventional methods for manufacturing an optical waveguide having a three-dimensional pattern or a refractive index pattern include the following. First, a glass thin film is formed on a substrate using the CVD method or VAD method, and then it is coated on the substrate by using a resist or by reactive sputter etching after passing through a soger coating process, as shown in Part 14. A waveguide /2 having three-dimensional turns is formed. Alternatively, by doping the glass with a dopant at high temperature after depositing a suitable mask by a phosphorography process, a waveguide having a refractive index distribution pattern on a substrate can be formed as shown in FIG. form 3.

しかしながら、これらの方法は数種類の原料ガスの流量
制御や温度コントロールなど、多数の条件の精密な制御
が必要である。そのために、製造装置が複雑高価となり
、膜形成速度に限界があった。更には、工程が極めて多
いために、量産性および経済性に欠けるという問題点が
あった。また、ドーピング等の工程においては、高温処
理が必要なために、化合物半導体などの耐熱性の悪い材
料とのハイブリッド化を行いにくいという欠点があった
However, these methods require precise control of many conditions, such as flow rate control and temperature control of several types of raw material gases. For this reason, the manufacturing equipment became complicated and expensive, and there was a limit to the film formation speed. Furthermore, since there are an extremely large number of steps, there is a problem that mass productivity and economic efficiency are lacking. Furthermore, since high-temperature treatment is required in processes such as doping, it is difficult to hybridize with materials with poor heat resistance such as compound semiconductors.

そこで、上述のような気相反応を利用せずに。Therefore, without using the gas phase reaction as described above.

シリコンアルキシド等を原料とし、これと水との加水分
解反応によるガラス形成方法を利用して、基板上にガラ
ス膜導波路を形成することが考えられた。この方法は、
例えばテトラエトキシシラン。
It has been considered to form a glass film waveguide on a substrate using a glass forming method using silicon alkoxide or the like as a raw material and a hydrolysis reaction between this and water. This method is
For example, tetraethoxysilane.

アルコール、水からなる溶液を基板上に塗布し、その溶
液を徐々に乾燥加熱して、ゲル化およびガラス化させて
基板上にガラス膜を形成するという極めて簡単な工程か
らなる。従って、高価な装置や材料を使わずに済む利点
がある。しかし、加熱乾燥時に、浴液が%〜%程度収縮
するために、形成されたガラス膜が基板上からは(離し
、またそこに細かいひび割れなどが生じてしまう。その
結果、せいぜい7μm以下の厚さの薄膜しか形成できず
、実用に供する光導波路を製作することは困難であった
It consists of an extremely simple process in which a solution consisting of alcohol and water is applied onto a substrate, and the solution is gradually dried and heated to gel and vitrify to form a glass film on the substrate. Therefore, there is an advantage that expensive equipment and materials are not required. However, during heating and drying, the bath solution shrinks by about % to %, which causes the formed glass film to separate from the substrate and cause fine cracks to form there. It was difficult to fabricate optical waveguides for practical use because only thin films could be formed.

〔目 的〕〔the purpose〕

本発明の目的は、上述した従来技術の欠点を解消し、簡
単な工程により生産住良(光導波路を形成し得る光導波
路の製造方法を提案することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to propose a method for manufacturing an optical waveguide that can be produced by a simple process.

〔発明の構成〕 そのために本発明では、金属アルコレ−トド水とを含む
溶液のゲル化反応を利用して光導波路を形成する方法に
おいて、ゲル中において紫外光あるいは真空紫外光を照
射されて光分解してドルバントを生じるゲルマニウム、
スズあるいは鉛等の有機金属化合物を混入させ、局部的
に紫外光あるいは真空紫外光を照射することにより未照
射部との間に屈折率差を形成するようになし、低温でリ
ングラフィ工程と同様の工程で容易に光導波路パターン
を形成できるようにする。
[Structure of the Invention] To achieve this, the present invention provides a method for forming an optical waveguide using a gelation reaction of a solution containing a metal alcoholate and water, in which ultraviolet light or vacuum ultraviolet light is irradiated in the gel. germanium, which decomposes to form dolbant;
By mixing an organometallic compound such as tin or lead and locally irradiating it with ultraviolet light or vacuum ultraviolet light, a refractive index difference is created between the unirradiated area and the process is similar to the phosphorography process at a low temperature. To easily form an optical waveguide pattern in the process of

〔実施例〕〔Example〕

以下に1図面を参照して本発明の詳細な説明する。 The invention will now be described in detail with reference to one drawing.

第2図は1本発明の原理プロセスを示す。FIG. 2 shows the principle process of the present invention.

図において、プロセス(I)では、少な(とも1種の金
属アルコレート、水および有機溶媒を主成分とし、有機
金属化合物が混入したゲル成形物を作製する。このプロ
セスにおいては、まず、少な(とも1種の金属アルコレ
ート、水および有機溶媒を主成分とする溶液からゲル成
形物21を作製しくプロセス(I −D) 、その後、
このゲル成形物2/をゲルマニウムの有機金属化合物を
含む溶液22に一定時間以上浸漬しくプロセスCI −
TIE’) 。
In the figure, in process (I), a gel molded product containing a small amount of metal alcoholate, water, and an organic solvent as main components and an organometallic compound mixed therein is prepared. A gel molding 21 is prepared from a solution containing one kind of metal alcoholate, water and an organic solvent as main components (I-D), and then,
Process CI-
TIE').

これによって、有機ゲルマニウム化合物をゲル中に拡散
させる。または、かかる工程に代えて、有機ゲルマニウ
ム化合物をゲル中に混入させる他の方法として、金属ア
ルコレート、水および有機溶媒を主成分とする溶液に有
機ゲルマニウム化合物を混入させ、ゲル化することによ
って、有機ゲルマニウム化合物を含んだゲル成形物2/
を作製する方法(プロセス(I−III))を採用する
ことも可能である。
This causes the organic germanium compound to diffuse into the gel. Alternatively, instead of such a step, another method of mixing the organic germanium compound into the gel is to mix the organic germanium compound into a solution containing metal alcoholate, water and an organic solvent as main components and gel it. Gel molded product containing organic germanium compound 2/
It is also possible to employ a method for producing (process (I-III)).

次に、プロセス(II)では、導波路としたいゲル成形
物21の適当な部分に、低圧水鍋焼あるいはエキシマレ
ーザ等を用いて紫外光あるいは真空紫外光23を照射し
、その光照射部2弘の有機ゲルマニウム化合物を光分解
させる。
Next, in process (II), ultraviolet light or vacuum ultraviolet light 23 is irradiated onto a suitable portion of the gel molded product 21 to be used as a waveguide using low-pressure water pot baking or an excimer laser. photodecomposes organic germanium compounds.

この後、プロセス(ホ)では、ゲル成形物、2/に残留
している有機ゲルマニウム化合物を除去する。
Thereafter, in process (e), the organic germanium compound remaining on the gel molded product 2/ is removed.

そのために、このプロセスにおいては、ゲル成形物を加
熱乾燥させる(プロセス(m−x))。または、かかる
方法に代えて、四塩化炭素などの有機溶媒、2J−にゲ
ル成形物、2/を一定時間以上浸漬しくプロセス(nI
−n))、その後加熱乾燥させるようにしても良い。こ
の方法は特に、揮発性でない有機ゲルマニウム化合物を
用いる場合に有効である。以上の工程により、屈折率分
布を有する光導波路を製造することができる。
For this purpose, in this process, the gel molded product is heated and dried (process (m-x)). Alternatively, instead of such a method, a process (nI
-n)), and then heating and drying may be performed. This method is particularly effective when using non-volatile organogermanium compounds. Through the above steps, an optical waveguide having a refractive index distribution can be manufactured.

ここで、上述の説明においては、紫外光あるいは真空紫
外光を照射されて光分解してドーパントを生じる有機金
属化合物として有機ゲルマニウム化合物を例にあげて述
べてきた。この有様ゲルマニウム化合物としては、テト
ラメチルゲルマニウム、テトラエチルゲルマニウムなど
のアルキルゲルマニウム化合物、およびそれらのビニル
基置換体や、アリールゲルマニウム化合物などがあげら
れる。しかし、本発明はこれらに限定されるものではな
く、有機ゲルマニウム化合物の代りに、有機スズ化合物
、あるいは有機鉛化合物などの有機金属化合物を用いる
ことも可能である。このうち特に、有機ゲルマニウム化
合物、有機スズ化合物および有機鉛化合物等の弘属の金
属を含む有機金属化合物は、安定性、取扱性が良く好適
である。
Here, in the above description, an organic germanium compound has been cited as an example of an organic metal compound that photodecomposes to produce a dopant when irradiated with ultraviolet light or vacuum ultraviolet light. Examples of the modified germanium compounds include alkylgermanium compounds such as tetramethylgermanium and tetraethylgermanium, vinyl group-substituted products thereof, and arylgermanium compounds. However, the present invention is not limited thereto, and instead of the organic germanium compound, it is also possible to use an organic metal compound such as an organic tin compound or an organic lead compound. Among these, organometallic compounds containing metals of the genus, such as organogermanium compounds, organotin compounds, and organolead compounds, are particularly suitable because of their good stability and ease of handling.

なお、上述の説明における紫外光および真空紫外光の区
別は、一般に波長200 nmを境に、それよりも短い
波長を有するものを真空紫外光と称している。これらの
うちいずれを用いるかは、使用する有機金属化合物の分
解に必要なエネルギを有すか否かによる。
The distinction between ultraviolet light and vacuum ultraviolet light in the above explanation is that light having a wavelength shorter than 200 nm is generally referred to as vacuum ultraviolet light. Which of these is used depends on whether or not it has the energy necessary to decompose the organometallic compound used.

次に、前述のプロセス(■)〜(財)を経た後に、更に
ゲル成形物21を酸素中で500℃以上の温度まで加熱
処理を加えるプロセス(■)(第一図参照)を実行する
。これにより、プロセス(■)の光分解により有機金属
化合物が分解されて生じたゲル中に固定されている有機
成分が、酸化分解されて除去される。また、多孔質な状
態にあったゲル成形物2/が、溶融してガラス化される
。この結果、多孔質のために大気中の湿気を吸収し、あ
るいは残留有機成分が大気中の酸素と反応してゲル成形
物の安定性が損われてしまう等の弊害が発生せず、長期
使用に際しての信頼性や安定性が向上した光導波路を得
ることができる。
Next, after passing through the above-mentioned processes (■) to (1), a process (■) (see FIG. 1) of heating the gel molded product 21 in oxygen to a temperature of 500 DEG C. or higher is performed. As a result, the organic components fixed in the gel produced by the decomposition of the organometallic compound by photolysis in process (■) are oxidatively decomposed and removed. Moreover, the gel molded article 2/, which was in a porous state, is melted and vitrified. As a result, it can be used for a long period of time without causing problems such as absorbing moisture from the atmosphere due to its porous nature, or reducing the stability of the gel molded product due to residual organic components reacting with oxygen in the atmosphere. An optical waveguide with improved reliability and stability can be obtained.

以下に、本発明の具体的な実施例について述べる。Below, specific examples of the present invention will be described.

〔実施例/〕〔Example/〕

テトラメトキシシラン、水およびメチルアルコールをモ
ル比で/:10:10に混合した溶液を、型を用いてゲ
ル化させて厚さ3社のゲル基板を作製した(プロセス(
I−I))。その基板ヲ、十分乾燥させた後、テトラメ
チルゲルマニウムのlj係メチルエーテル岩液に浸し、
ゲル中にテトラメチルゲルマニウムを拡散させた(プロ
セス(I−n))。その後、基板表面における幅20μ
mの線状の部分に、ArF エギシマレーザを用いて/
り3社mの真空紫外光を照射した(プロセス(■))後
、徐々に加熱乾燥させた(プロセス(■−I )入この
結果、光照射部では、未照射部より屈折率が0.00g
大きくなり、第3図に示すよ′うに基板3/には光導波
路3.2が形成された。
A solution of tetramethoxysilane, water, and methyl alcohol mixed in a molar ratio of 10:10 was gelled using a mold to produce gel substrates with three thicknesses (process (
I-I)). After thoroughly drying the substrate, immerse it in tetramethylgermanium lj methyl ether rock solution,
Tetramethylgermanium was diffused into the gel (process (I-n)). After that, a width of 20μ on the substrate surface
Using an ArF excimer laser on the linear part of m/
After irradiating with vacuum ultraviolet light from 3 companies (Process (■)), the area was gradually heated and dried (Process (■-I)).As a result, the refractive index of the light-irradiated area was 0.5% higher than that of the non-irradiated area. 00g
The optical waveguide 3.2 was formed on the substrate 3/ as shown in FIG.

〔実施例コ〕[Example]

テトラエトキシシラン、水、エチルアルコールおよび塩
酸をモル比で/:10:10:0.02になるように混
合した溶液をゲル化させ、厚さλnのゲル゛基板を作製
した(プロセス(I−1)’)。
A solution of tetraethoxysilane, water, ethyl alcohol, and hydrochloric acid mixed in a molar ratio of /:10:10:0.02 was gelled to produce a gel substrate with a thickness of λn (Process (I- 1)').

これを、テトラエチルゲルマニウムの209!+エチル
アルコール溶液に浸した後(プロセス(I−II))、
幅100μn10曲線状の溝状穴を有するマスクを付着
さ、せ、低圧水銀燈を用いて/glA、りnmの真空紫
外光を照射した(プロセス<II) )。次に、ゲル基
板な四塩化炭素中に浸して徐々に加熱し、四塩化炭素を
沸騰させてゲル中に残留するテトライソプロヒルゲルマ
ニウムを除去しくプロセス(m−u)、その後ゆっ(り
加熱乾燥させた(プロセス(m−I))。この結果、光
照射部では未照射部より屈折率がQ007太き(なり、
第≠図に示すように基板グ/には曲り導波路t2が形成
された。
This is 209 of tetraethylgermanium! + After soaking in ethyl alcohol solution (process (I-II)),
A mask having a groove-shaped hole with a width of 100 μm and 10 curves was attached and irradiated with vacuum ultraviolet light of /glA, 2 nm using a low-pressure mercury lamp (Process <II)). Next, the gel substrate is immersed in carbon tetrachloride and gradually heated, and the carbon tetrachloride is boiled to remove tetraisoprohilgermanium remaining in the gel (mu), followed by slow heating and drying. (Process (m-I)).As a result, the refractive index of the light-irradiated area is Q007 thicker than that of the unirradiated area.
As shown in the figure, a curved waveguide t2 was formed on the substrate.

〔実施例3〕 テトラメトキシシラン、水、メチルアルコールおよびテ
トラフェニルゲルマニウムヲモル比テ/:10:lO:
QO8′の割合で混合した溶液をゲル化させ、厚さ一1
mmのゲル基板を作製した(プロセスCI−m))。こ
の基板表面にArFエキクマレーザを用いて分岐パター
ンを描画した後(プロセス(Il) )、沸騰四基化炭
素中において残留するテトラフェニルゲルマニウムを除
去しくプロセス(m−n))、徐々に加熱乾燥させた(
プロセス(III−I))。この結果、光照射部では未
照射部よりも屈折率がQθθ2大きくなり、第オ図に示
すように基板夕/には光分岐導波路夕2が形成された。
[Example 3] Tetramethoxysilane, water, methyl alcohol and tetraphenylgermanium molar ratio: 10:1O:
A solution mixed at a ratio of QO8' is gelled to a thickness of -11
A gel substrate of mm was prepared (process CI-m)). After drawing a branch pattern on the surface of this substrate using an ArF excimer laser (process (Il)), the remaining tetraphenylgermanium was removed in boiling carbon tetracarbon (m-n)), and then gradually heated and dried. Ta(
Process (III-I)). As a result, the refractive index of the light irradiated part was larger than that of the unirradiated part by Qθθ2, and an optical branching waveguide 2 was formed on the substrate 2 as shown in FIG.

〔実施例≠〕[Example≠]

テトラメトキシシラン、テトラインプロポキシチタン、
水、メチルアルコールおよびトリエチルビニルゲルマニ
ウムをモル比−C−/ : 0.2 : /(1;l:
/ 0 : 0./になるように混合しり溶液をゲル化
させ、厚さグ朋のゲル基板を作製した(プロセス(I−
m))。この基板に、乾燥後、幅、20μmの溝状の穴
を有するアルミニウムマスクを付着させ、低圧水銀燈を
用いて/g≠;7nrnの真空紫外光を照射した(プロ
セス(■))。この後、徐々に加熱この結果、光照射部
では未照射部よりも屈折率が0ρ/大きくなり、第4図
に示すように基板2/には光導波路12が形成されたり 〔効 果〕 以上説明し1こように、本発明Vこよjlば、成形法で
作製したゲルに紫外光あるいは真空紫外光を用いて直接
にパターンを描画することにより、導波路構造を形成で
きるので、従来法に比較して、生産性よく導波路を作製
できろという利点を有する。また本発明は、紫外光ある
いは真空紫外光を用いることにより従来法よりも低温プ
ロセスにより導波路を作製でき、しかもエツチング等の
プロセスを用いないので、基板の損傷という問題を回避
できるという利点を有する。さらに、本発明はゾルゲル
法を応用しているので、溶液の組成を制御することによ
り、屈折率、膨張係数などの光学部品として重要な特性
を容易に制御することが可能であるという利点を有する
Tetramethoxysilane, Tetrainpropoxytitanium,
The molar ratio of water, methyl alcohol and triethylvinyl germanium is -C-/: 0.2:/(1;l:
/ 0 : 0. The mixed solution was gelatinized so as to have a thickness of
m)). After drying, an aluminum mask having groove-shaped holes with a width of 20 μm was attached to this substrate, and vacuum ultraviolet light of /g≠;7nrn was irradiated using a low-pressure mercury lamp (process (■)). Thereafter, it is gradually heated. As a result, the refractive index of the light irradiated part becomes 0ρ/ larger than that of the unirradiated part, and an optical waveguide 12 is formed in the substrate 2/ as shown in FIG. 4. [Effect] As explained above, according to the present invention, a waveguide structure can be formed by directly drawing a pattern on a gel produced by a molding method using ultraviolet light or vacuum ultraviolet light, which is different from conventional methods. In comparison, it has the advantage that waveguides can be manufactured with high productivity. Furthermore, the present invention has the advantage that by using ultraviolet light or vacuum ultraviolet light, a waveguide can be fabricated by a lower temperature process than conventional methods, and since it does not use processes such as etching, the problem of damage to the substrate can be avoided. . Furthermore, since the present invention applies the sol-gel method, it has the advantage that by controlling the composition of the solution, it is possible to easily control properties important for optical components such as refractive index and expansion coefficient. .

更に、本発明によれば、光導波路が形成されたゲル成形
物を加熱処理するようにしたので、長期使用に際して、
信頼性および安定性の高い光導波路を得ることができる
Furthermore, according to the present invention, since the gel molded product in which the optical waveguide is formed is heat-treated, it can be used for a long period of time.
An optical waveguide with high reliability and stability can be obtained.

【図面の簡単な説明】 第1回置および(Blはそれぞれ基板上に形成された光
導波路の構造を示す斜視図、 第2図は本発明の原理プロセスを示す線図、第3図、第
弘図、第タ図および第6図はそれぞれ本発明の実施例に
より形成された光導波路を示す斜視図である。 //・・・基板1 、/3 /2・・・導波路、 2/・・・ゲル成形物(ゲル基板)、 2ノ・・・有機ゲルマニ’)ム+f[,23・・・紫外
光(真空紫外光)、 24!・・・光照射部、 2夕・−・有機溶媒、 3/、弘i、si、ti・−・基板、 32、弘2.3242・・・導波路。 特許出願人 日本電信電話公社 I E □\ ″’ :’Ir゛1 代理人弁理士 谷 義 −if、:・−・第5図 32 1 第6図 2
[BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS] The first circuit and (Bl) are perspective views showing the structure of the optical waveguide formed on the substrate, respectively; FIG. 2 is a diagram showing the principle process of the present invention; Figures 1, 2 and 6 are perspective views showing optical waveguides formed according to embodiments of the present invention. //... Substrate 1, /3 /2... Waveguide, 2/ ...Gel molded product (gel substrate), 2 no..organic germanium')um+f[,23...ultraviolet light (vacuum ultraviolet light), 24! ...Light irradiation part, 2.--Organic solvent, 3/, Hiroi, si, ti...Substrate, 32, Hiro 2.3242... Waveguide. Patent Applicant Nippon Telegraph and Telephone Public Corporation IE□\ ″':'Ir゛1 Representative Patent Attorney Yoshi Tani -if, :... Figure 5 32 1 Figure 6 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)少なくとも7種の金属アルコレート、水および有機
溶媒を主成分とし、有機金属化合物が混入したゲル成形
物を作製する第1工程と。 前記ゲル成形物の一部に形成すべき光導波路に対応して
前記有機金属化合物を光分解させるエネルギをもつ放射
線を照射して、前記ゲル成形物のうち前記光導波路に対
応する部分と残余の部分との間に屈折率差を形成させる
第2工程と、 前記ゲル成形物のうち前記残余の部分に残留する有機金
属化合物を除去する第3工程とを具えることを特徴とす
る光導波路の製造方法0 2)少なくとも7種の金属アルコレート、水および有機
溶媒を主成分とし、有機金属化合物が混入したゲル成形
物を作製する第1工程と。 前記ゲル成形物の一部に形成すべき、光導波路に対応し
て前記有機金属化合物を光分解させるエネルギをもつ放
射線を照射して、前記ゲル成形物のうち前記光導波路に
対応する部分と残余の部分との間に屈折率差を形成させ
る第2工程と、 前記ゲル成形物のうち前記残余の部分に残留する有機金
属化合物を除去する第3工程と、前記ゲル成形物を酸素
中で加熱処理して、前記ゲル成形物に含まれる有機成分
を除去し、前記ゲル成形物をガラス化する第V工程とを
具えることを特徴とする光導波路の製造方法。 3)特許請求の範囲M1項または第2項に記載の製造方
法において、前記第1工程は少なくとも7種の金属アル
コレート、水、有機溶媒を主成分とする浴液なゲル化さ
せた後に、前記有機金属化合物を混入させて前記ゲル成
形物を作製することを特徴とする光導波路の製造方法。 4)特許請求の範囲第1項または第2項に記載の製造方
法において、前記第1工程は少な(とも7種の金属アル
コレート、水、有機浴媒を主成分とする溶液に前記有機
金属化合物を混入した後、当該浴液をゲル化させて前記
ゲル成形物を作製することを特徴とする光導波路の製造
方法。 5)%許請求の範囲第1項ないし第9項のいずれかの項
に記載の製造方法において、前記第3工程は前記ゲル成
形物を加熱乾燥させることを特徴とする光導波路の製造
方法。 6)特許請求の範囲第1項ないし第j項のいずれかの項
に記載の製造方法において、前記第3工程は前記ゲル成
形物を有機m媒に所定時間浸漬させた後に加熱乾燥させ
ることを特徴とする光導波路の製造方法。 7)特許請求の範囲第1項ないし第6項のいずれかの項
に記載の製造方法において、前記放射線は紫外線である
ことを特徴とする光導波路の製造方法。 8)特許請求の範囲第1項ないし第6項のいずれかの項
に記載の製造方法において、前記放射線は、真空紫外線
であることを特徴とする光導波路の製造方法。 9)特許請求の範囲第1項ないし第に項のいずれかの項
に記載の製造方法において、前記有機金属化合物は4を
属の金属を含む有機金属化合物で3bることを%徴とす
る光導波路σ)製造方法。 (以下余白)
[Scope of Claims] 1) A first step of producing a gel molded product containing at least seven kinds of metal alcoholates, water, and an organic solvent as main components and mixed with an organometallic compound. A portion of the gel molded product corresponding to the optical waveguide to be formed is irradiated with radiation having energy to photodecompose the organometallic compound, thereby separating the portion of the gel molded product corresponding to the optical waveguide and the remaining portion. an optical waveguide comprising: a second step of forming a refractive index difference between the remaining portions; and a third step of removing an organometallic compound remaining in the remaining portion of the gel molded product. Production method 0 2) A first step of producing a gel molded product containing at least seven kinds of metal alcoholates, water and an organic solvent as main components and mixed with an organometallic compound. A portion of the gel molded product corresponding to the optical waveguide is irradiated with radiation having energy to photodecompose the organometallic compound corresponding to the optical waveguide to be formed on a portion of the gel molded product, and the remaining part of the gel molded product is separated from the part corresponding to the optical waveguide. a second step of forming a refractive index difference between the remaining portions of the gel molding, a third step of removing the organometallic compound remaining in the remaining portion of the gel molding, and heating the gel molding in oxygen. A method for manufacturing an optical waveguide, comprising a step V of treating the gel molded product to remove organic components contained in the gel molded product and vitrifying the gel molded product. 3) In the manufacturing method according to claim M1 or 2, the first step includes gelling a bath solution containing at least seven types of metal alcoholates, water, and an organic solvent as main components, and then A method for producing an optical waveguide, characterized in that the gel molded product is produced by mixing the organometallic compound. 4) In the manufacturing method according to claim 1 or 2, in the first step, a small amount of the organic metal A method for producing an optical waveguide, which comprises mixing a compound and then gelling the bath solution to produce the gel molded product. 3. The method for manufacturing an optical waveguide according to item 1, wherein the third step includes heating and drying the gel molded product. 6) In the manufacturing method according to any one of claims 1 to j, the third step includes immersing the gel molded product in an organic medium for a predetermined time and then heating and drying it. A method for manufacturing a featured optical waveguide. 7) A method of manufacturing an optical waveguide according to any one of claims 1 to 6, wherein the radiation is ultraviolet rays. 8) A method for manufacturing an optical waveguide according to any one of claims 1 to 6, wherein the radiation is vacuum ultraviolet rays. 9) In the manufacturing method according to any one of claims 1 to 1, the organometallic compound is an organometallic compound containing a metal of the group 4 and has a % character of 3b. Wave path σ) Manufacturing method. (Margin below)
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