JPS6047349B2 - Equipment for painting enamel onto metal objects - Google Patents
Equipment for painting enamel onto metal objectsInfo
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Classifications
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、琺瑯を金属対象物に付ける方法およびその
装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method and apparatus for applying enamel to a metal object.
現在、エナメル加工すべき対象物に、わすかな距離、
一般的には20(yrwt程度の距離から乾燥釉薬の粉
末の噴霧群(cloud)を投射することによつて、乾
燥粉末形態の琺瑯を付けている。Currently, there is a slight distance between the objects to be enameled,
Enameling in dry powder form is typically applied by projecting a cloud of dry glaze powder from a distance of about 20 yrwt.
なお、こ の対象物は、通常、鋼鉄シートから成る。
対象物上における沈積を改善するために、上記噴霧群内
に静電界を生じさせ、これによつて、粉末の粒子が静電
荷を搬送する。一般的に、粉末の粒子は、エナメル加工
すべき電導性対象物が接地されている間に、負静電荷を
受け取り、このようにして、相対正電位を有するように
なる。この結果、静電位を有するエナメル加工すべき電
導性物によつて、負にチャージされたエナメルの粒子の
牽引が生ずる。 投射自体に関しては、現在の技術にお
いては、1個又は数個の圧搾空気スプレー、ガンによつ
て確保される投射と共に一般的にこの粉末を空気にさら
すという種々の手段が用いられる。Note that this object usually consists of a steel sheet.
To improve deposition on the object, an electrostatic field is created within the spray group, whereby the powder particles carry an electrostatic charge. Generally, the powder particles receive a negative electrostatic charge while the electrically conductive object to be enameled is grounded, and thus come to have a relative positive potential. This results in a traction of the negatively charged enamel particles by the electrically conductive material to be enameled which has an electrostatic potential. As for the projection itself, in the current state of the art various means are used to aerate the powder, generally with the projection secured by one or several compressed air sprays, guns.
静電界は、連続的電流発生器によつて生する。 The electrostatic field is generated by a continuous current generator.
なお、この発生器は、電極を負にチャージし、静電界を
生じさせる。一般的に、60000ボルトおよび100
000ボルトの間に静電界を調整することが可能であり
、また、投射が生ずる場合、すなわち、J対象物から2
O0wunの場所に電極が配置される。さらに詳しくは
、粉末が圧搾空気スプレー・ガンから投射される場合に
は、電極はスプレー・ガンのノズルの中央に配置される
。上述したような、現在において一般的に使用されてい
る技術による琺瑯の塗装は、0.20Tnという平均の
厚さを有し、焼き付け後に0.1477W!の平均の厚
さを有する焼き付けエナメル層を与える乾燥エナメル層
を沈積させる。Note that this generator charges the electrode negatively and creates an electrostatic field. Typically 60,000 volts and 100
It is possible to adjust the electrostatic field between 000 volts and when a projection occurs, i.e. from J object to 2
An electrode is placed at the location O0wun. More particularly, when the powder is projected from a compressed air spray gun, the electrode is placed in the center of the nozzle of the spray gun. Enamel coating according to the technology commonly used at present, as described above, has an average thickness of 0.20Tn and after baking 0.1477W! A dry enamel layer is deposited giving a baked enamel layer with an average thickness of .
粉末化エナメルの粒子をエナメル加工すべき電導性対象
物に導びく静電界の適用にもかかわらず、該対象物に効
果的に到達するのは該粒子の噴霧群の一部だけてあるこ
とが観察されるであろう。Despite the application of an electrostatic field that directs the particles of powdered enamel to the electrically conductive object to be enameled, it is possible that only a part of the spray of particles effectively reaches the object. will be observed.
エナメルの沈積効率は、30乃至40%の範囲にある(
これは、対象物上に沈積されるエナメルの量と投射され
るエナメルの量との比である。)沈積されないエナメル
の部分(70乃至60%)は、主としてサイクロン・セ
パレーターおよびフィルターから成る種々の装置によつ
て回収され、回収された粉末は、再利用のために、スプ
レー・ガンの方へ循環させられる。この循環に因り、エ
ナメル粉末の損失がかなり制限されるが、サイクロンお
よびフィルターのような回収装置の効率が100%では
なく、さらに、回収された粉末が回収および循環の間に
いくふん汚染されるということは事実である。このよう
に、投射の効率を増加させることが有利てあろうし、ま
た、このことは、現在、種々の手段によつて行なわれて
いる。この手段は、特に、エナメル粉末を投射するため
の装置の−改良、エナメル粒子を静電的にチャージする
電極の配置および構造、および静電荷を受け取る能力を
増加させるためのエナメル粉末の改良である。これらの
全ての手段にもかかわらず、達成される効率は、40%
を越えることは殆んどない。エナメルを粉末形態て適用
するために現在使用される方法および装置に対する別の
欠点は、エナメルの粒子の電気抵抗から生ずるカウンタ
ーエミツシヨン(Cunter−EmjssiOn)と
いう現象がある。そして、この現象は、エナメル粒子の
電気抵!抗によつて生ずるものであり、静電界によりエ
ナメル粒子が被塗装体てある電導性対象物に沈積した後
、このエナメル粒子の電荷の夫々は、粒子のもつ電気抵
抗によつてただちに放出されにくい状態になりエナメル
粒子からなる被覆層にしばらくクの間保存される。この
電荷の保存は、粒子の対象物への付着力を増大させるも
のではあるが、電荷の放出が完全になされた時には該付
着力は失われる。電荷が被覆層に保存されている間、対
象物の表面上におけるエナメル粒子の堆積、すなわち被
覆層の厚さの増加は、電荷の沈積によつて負にチャージ
された層外表面部と対象物との間、すなわちコンデンサ
として機能する層外表面部と対象物との間の静電回を増
加せる。このコンデンサーと同様の働きをする層外表面
部と対象物との間の被覆層内の静電界が或る値に到達す
るときに、層全体にヒズミを生じさせる。このような層
全体にヒズミが生じる静電界は、粉末の電気抵抗にもよ
るノが、一般的に被附層の0。15乃至0.25悶の厚
さにおいて生じる。Enamel deposition efficiency ranges from 30 to 40% (
This is the ratio between the amount of enamel deposited on the object and the amount of enamel projected. ) The undeposited portion of the enamel (70-60%) is recovered by various devices consisting mainly of cyclone separators and filters, and the recovered powder is recycled towards the spray gun for reuse. I am made to do so. Although this circulation considerably limits the loss of enamel powder, the efficiency of collection devices such as cyclones and filters is not 100%, and furthermore, the collected powder becomes somewhat contaminated during collection and circulation. That is a fact. It would thus be advantageous to increase the efficiency of projection, and this is currently being done by various means. These measures are, inter alia, - improvements in the device for projecting the enamel powder, in the arrangement and structure of the electrodes for electrostatically charging the enamel particles, and in the enamel powder to increase its ability to receive an electrostatic charge. . Despite all these measures, the efficiency achieved is only 40%
It is almost impossible to exceed. Another drawback to the methods and equipment currently used for applying enamel in powder form is the phenomenon of counter-emission, which results from the electrical resistance of the enamel particles. This phenomenon is due to the electrical resistance of enamel particles. After enamel particles are deposited on a conductive object to be coated due to an electrostatic field, the electric charge of these enamel particles is difficult to be released immediately due to the electrical resistance of the particles. It is preserved for some time in a coating layer made of enamel particles. This preservation of charge increases the adhesion of the particles to the object, but this adhesion is lost when the charge is completely released. While the charge is stored in the covering layer, the deposition of enamel particles on the surface of the object, i.e. the increase in the thickness of the covering layer, causes the outer surface of the layer to become negatively charged and the object due to the deposition of charge. , that is, between the outer surface of the layer, which functions as a capacitor, and the object. When the electrostatic field within the covering layer between the outer surface of the layer and the object, which functions similarly to a capacitor, reaches a certain value, distortion occurs throughout the layer. Such an electrostatic field that causes distortion throughout the layer generally occurs at a thickness of 0.15 to 0.25 mm, depending on the electrical resistance of the powder.
これらのヒズミは、電導性対象物の表面上に被覆層の表
面に生ずるピンホールとして現われる。電極から対象物
の方向に向かう電気力線がこれ・らピンホールに集中し
、この電気力線が集中したピンホールは、電極から放射
される荷電エナメル粒子と反対の極性を有したイオンの
放出中心となる。These distortions appear as pinholes that occur in the surface of the coating layer on the surface of the conductive object. Electric lines of force directed from the electrode toward the object are concentrated in these pinholes, and the pinholes where these lines of electric force are concentrated cause the release of ions with the opposite polarity to the charged enamel particles emitted from the electrode. Become the center.
このことがカウンターエミツシヨンと呼ばれる。粉末の
不規則な沈積はそれから生じ、これらのピンホールの位
置での被覆の主な低下は、焼き付け後のエナメル表面に
おける低下として現われる。同様に、これらのピンホー
ルの周囲に生ずるカウンターエミツシヨンフイールドは
、エナメルの分布に影響し、フィルムの厚さに局部化さ
れた不規則性をもたらす。This is called counter emission. Irregular deposits of powder then result, and the main loss of coverage at the location of these pinholes appears as a loss in the enamel surface after baking. Similarly, counter-emission fields that occur around these pinholes affect the distribution of the enamel, leading to localized irregularities in the film thickness.
なお、このフィルムの厚さは、焼き付け後に、欠陥とし
て現われ、カウンターエミツシヨンデフエクト(Cun
ter−EmissjOndefect)と呼ばれる、
この手順のエナメル欠陥特性を生じさせる。局部化され
た欠陥のほかに、カウンターエミツシヨンの出現は静電
界を弱くするので、その結果として、新たに投射された
粉末が受け取る電荷(チャージ)が弱くなつてその付着
力が不十分となる。Note that the thickness of this film appears as a defect after printing, resulting in a counter-emission defect (Cun
ter-EmissjOndefect),
This procedure gives rise to enamel defect characteristics. Besides localized defects, the appearance of counter-emissions weakens the electrostatic field, resulting in the newly projected powder receiving a weaker charge and its adhesion being insufficient. Become.
沈積は連続しなくなり、最高で0.15乃至0.25?
の厚さになる。The deposition becomes discontinuous, with a maximum of 0.15 to 0.25?
thickness.
現在用いられている技術には、少なくとも三つの欠点、
すなわち、比較的低い投射効率(30乃至40%の範囲
)、優れた保護を確保するには不十分な層の最大の厚さ
(イ).15乃至0.25wun)、および欠陥を有す
る不規則なエナメル加工表面を呈するという欠点がみら
れる。The technology currently in use has at least three drawbacks:
namely, relatively low projection efficiency (in the range of 30-40%), maximum thickness of the layer insufficient to ensure good protection (b). 15 to 0.25 wun) and an irregular enamelled surface with defects.
本発明は、上述した諸欠点を減少させることを目的とす
る。The present invention aims to reduce the disadvantages mentioned above.
前記目的は、本発明によれば、金属対象物を支持するた
の支持手段と、前記金属対象物に釉薬を粉末状て投射す
るめ投射手段と、前記粉末を前記支持手段よりも高い電
位にチャージすべく前記投.射手段に連結された電圧発
生手段と、前記金属対象物を絶縁を確保すべく前記金属
対象物と前記支持手段との間に配置された少なくともひ
とつの絶縁部材と、チャージされた前記粉末を前記金属
対象物に導く強く補助的指向性静電界を放射すべく前記
投射手段に連結された少なくともひとつの静電フィール
ド・エミッタとからなる琺瑯を金属対象物に塗装する装
置により達成される。According to the invention, the object is to provide support means for supporting a metal object, projection means for projecting glaze in powder form onto the metal object, and charging the powder to a higher potential than the support means. The above pitch should be made. voltage generating means connected to the radiation means; at least one insulating member disposed between the metal object and the support means to ensure insulation of the metal object; This is achieved by means of an apparatus for coating a metal object with an enamel comprising at least one electrostatic field emitter coupled to said projection means for emitting a strong supplementary directional electrostatic field directed towards the metal object.
本発明は、対象物と電気的大地との間に設置された絶縁
機素を用いて、エナメル加工すべき対象物を大地から電
気的に絶縁することから成る。The invention consists in electrically insulating the object to be enameled from earth using an insulating element placed between the object and electrical earth.
このことは、電導性対象物上へのエナメルの沈積を説明
するために現在まて受け入れられている原理に基本的に
対立するものてあり、また、実際上も該原理に反してい
る。何故ならば、静電的方;法によつて琺瑯を乾燥粉末
形態で塗装することを目的とする全ての装置は、上記受
け入れられている原理を直接適用するものてあり、かつ
接地された上記対象物へ負のチャージされたエナメルを
沈積させるものてあるからてある。本発明の装置の実施
は、下記の利益を提供する:(1)カウンターエミツシ
ヨンの現象は、それから生する全てのものと共に、すな
わち、カウンターエミツシヨンに因る表面の欠陥および
厚さの.制限と共に、完全に抑圧される。This is fundamentally and in practice contrary to currently accepted principles for explaining the deposition of enamel on electrically conductive objects. This is because all equipment intended for coating enamel in dry powder form by electrostatic methods directly applies the above-mentioned accepted principles, and There are some that deposit negatively charged enamel onto objects. Implementation of the device of the invention provides the following benefits: (1) The phenomenon of counter-emissions is eliminated with all that results from it, i.e. surface defects and thickness reductions due to counter-emissions. .. Completely suppressed with limitations.
このとき、粉末層の重量に関して該層の牽引力に因り、
新たな最大層か現われる。At this time, due to the traction force of the powder layer with respect to the weight of the layer,
A new maximum layer appears.
しかし、この新たな最大層の厚さは、沈積させようとす
る層よりも大きく、如何なる問題をも起さない。すなわ
ち、本発明の装置によつて得ようとする層の厚さに十分
な最大層が得られる電界を任意設定し得るという利点を
有するものである。(2)沈積される粉末層は、通常の
方法から生するものと同様に、焼き付け前では少なくと
も付着力である。However, the thickness of this new maximum layer is greater than the layer to be deposited and does not cause any problems. In other words, the device of the present invention has the advantage of being able to arbitrarily set the electric field that will provide a maximum layer thickness sufficient for the desired layer thickness. (2) The powder layer deposited is at least adhesive before baking, similar to that resulting from conventional methods.
絶縁された場合に、対象物は静電荷を獲得する。実際、
これら絶縁された対象物は自己充電コンデンサーとして
作用することが経験から判るが、このようなことは、対
象物が陽極に接地されていた場合および電荷が永久に消
散することが確かな場合にはみられなかつた。焼き付け
炉のコンベアに接地された金属支持体上の絶縁支持体か
ら対象物が次ぎの段階へ移行するときに、この獲得され
た電荷を大量に放電する。粒子の電荷だけが残存し、そ
の際これらの電荷は、粉末の電気抵抗が作用する時間保
持される。すでに沈積した粉末の層は、この放電現象を
こうむることがなく、また変化することがない。エナメ
ルの焼き付けは、従来と同様に、エナメルの投射のとき
に対象物が接地された場合に行なわれる。When insulated, objects acquire an electrostatic charge. actual,
Experience has shown that these insulated objects act as self-charging capacitors, but this is not the case if the objects are anode grounded and if it is certain that the charge is permanently dissipated. I couldn't see it. This acquired charge is discharged in large quantities when the object passes from the insulating support on the grounded metal support to the conveyor of the baking oven to the next stage. Only the charges on the particles remain, and these charges are retained for as long as the electrical resistance of the powder acts. The layer of powder that has already been deposited does not undergo this discharge phenomenon and remains unchanged. Burning of the enamel takes place, as before, if the object is grounded during the projection of the enamel.
この結果、焼き付け後において均質なエナメル付着層と
なる。(3)投射される粉末に関する粉末の沈積効率は
、同一の装置で同じ粉末を、エナメル加工すべき対象物
が接地されていて放物面静電エミッタ(Emitter
)が配置されていない状態で処理する場合に比較して、
増加する。(4)本発明の装置においては、カウンター
エミツシヨン現象に抑圧されるので、粉末の形態の選択
および粉末の抵抗の選択がいつそう自由となり、したが
つて、効率を改善する可能性がさらに存在する。This results in a homogeneous enamel adhesion layer after baking. (3) The powder deposition efficiency with respect to the projected powder is the same as that of a parabolic electrostatic emitter when the object to be enameled is grounded and the same powder is
) is not placed,
To increase. (4) In the device of the present invention, since the counter-emission phenomenon is suppressed, the choice of powder morphology and the resistance of the powder are more free, and therefore there is a further possibility of improving the efficiency. exist.
本発明の装置は、エナメル加工すべき対象物と接地され
た支持体との間に設置された絶縁機素を用いて、エナメ
ル加工すべき対象物を大地から電気的に絶縁することか
ら成る。The device of the invention consists in electrically insulating the object to be enameled from the earth by means of an insulating element placed between the object to be enameled and a grounded support.
本発明の装置は、同日に出願された“接地された金属基
体に粉末を静電気的に沈積する方法および装置゛(Pr
OcessandApparatusfOrTheEl
ectrOstaticDepOsitiOnOfPO
wdErtOaGrOundedMetalllcSu
bstrate)という米国特許の装置と組合せれば有
利であろう。また、本発明の装置は、空気中のエナメル
懸濁粒子を対象物の方へ導びくことができる強い指向性
静電界によつて、粉末の投射のときに該粉末と直接接触
する場所に設置されて電極によつて生する静電界を補強
することか・ら成る。この強い指向性静電界は、放物面
反射器の焦点に設置された、それぞれテレビジョンセッ
トのアンテナの形態にあるフィールド・エミッタ(Fi
eldemitter)によつて主として生ずる。なお
、このフィールド・エミッタは、強い静電界を放射する
。これらのエミッタには、電極と同じ電位を与える。こ
のように、ラップ−アラウンド(Wrap−ArOun
d)と呼ばれる現像の非常に強い履行が達成される。The device of the present invention is similar to the “Method and Apparatus for Electrostatically Depositing Powder on a Grounded Metal Substrate” filed on the same day.
Occess and Apparatus of Or The El
ectrOstaticDepOsitiOnOfPO
wdErtOaGrOundedMetallcSu
It would be advantageous to combine it with the device of the US patent ``bstrate''. Additionally, the device of the invention can be placed in a location where it comes into direct contact with the powder during its projection by means of a strong directional electrostatic field capable of guiding the enamel suspended particles in the air towards the object. This consists of reinforcing the electrostatic field produced by the electrodes. This strong directional electrostatic field is generated by a field emitter (Field), each in the form of a television set antenna, placed at the focal point of a parabolic reflector.
eldemitter). Note that this field emitter emits a strong electrostatic field. These emitters are given the same potential as the electrodes. In this way, Wrap-ArOun
A very strong implementation of the development called d) is achieved.
この現象は、対象物の正面部の前面に直接到達しないエ
ナメル粒子を牽引して側面又は上方面又は下方面に沈積
させ、対象物の周囲に完全に行き渡らせ、或る場合には
、離れた側にも沈積させる。このラップ−アラウンド現
象は、エナメル粉末を金属対象物の全ての側部に沈積さ
せ、かつ、エナメル投射装置に直面する部分だけに沈積
させないために、非常に重要である。This phenomenon causes enamel particles that do not reach the front surface of the object directly to be pulled and deposited on the sides or upper or lower surfaces, completely distributing them around the object and, in some cases, at a distance. Also deposit on the sides. This wrap-around phenomenon is very important in order to deposit the enamel powder on all sides of the metal object and not only on the part facing the enamel projection device.
縁部を有する対象物にエナメルを付けるための簡単な自
動操作的装置の考案は、この現象の応用である。The invention of a simple self-operating device for enameling objects with edges is an application of this phenomenon.
何故ならば、以前においては、縁部の前面にエナメルを
直接投射するためには複雑な策動が可能な装置が必要で
あり、さもなければ、これらの部分のための自動操作を
やめなければならす、手て操作される投射装置の助けを
かりてエナメルを投射しなければならないからである。
適当に位置したフィールド・エミッタは、噴霧群の形勢
が対象物の方向に投射されることを保証し、その結果、
対象物への粒子の沈積の効率が一層大きくなり、かつ縁
部の被覆が一段と良好となる。すなわち、これらの効果
は、ラップ−アラウンド現象の改善による。さらに、こ
れらが電極と同じ電位にあるという事実は、釉薬の噴霧
群に関する妨害および攪乱現象を排除する。This is because in the past, in order to project the enamel directly on the front side of the edges, a device capable of complex maneuvers was required, otherwise automatic operation for these parts had to be abandoned. , the enamel must be projected with the aid of a hand-operated projection device.
A suitably positioned field emitter ensures that the spray swarm profile is projected in the direction of the object, so that
The efficiency of particle deposition on the object is greater and the edge coverage is better. That is, these effects are due to improvement of the wrap-around phenomenon. Furthermore, the fact that these are at the same potential as the electrodes eliminates interference and disturbance phenomena regarding the glaze spray group.
本発明は、下記の記述および添附図面から容易に理解さ
れるであろう。第1図は、上述した配列を有する装置を
備えた、琺瑯を金属対象物に付けるための装置を側面図
において描いたものである。The present invention will be readily understood from the following description and accompanying drawings. FIG. 1 depicts in side view a device for applying enamel to metal objects, comprising a device having the arrangement described above.
第2図は、同じ装置の上面図てある。FIG. 2 is a top view of the same device.
本発明によれば、さらに詳しくは、琺瑯を金属対象物に
付けるための装置を理解するために、例えは、好ましい
ものとして挙けられる具体例によれば、下記のように記
述される。In order to understand the device for applying enamel to metal objects according to the invention in more detail, an example will be described as follows, according to a preferred embodiment.
最初に、本発明の本質的特徴によれば、鋼鉄シートのよ
うな金属対象物1が接地2から電気的に絶縁されている
。First, according to an essential feature of the invention, a metal object 1, such as a steel sheet, is electrically insulated from ground 2.
対象物1は、例えは、電気的に接地されているケーブル
4の一部と対象物1との間に絶縁機素5の介入物を有す
るケーブル4によつて、上方レール3から支持されてい
る。金属対象物1は、プレートから構成されているばか
りでなく、如何なる形態および寸法を有する対象物であ
つてもよく、また、静電フィード・エミッタを有してい
るため、折り重なつた縁部1aを有するものさえも包含
する。The object 1 is supported from the upper rail 3 by a cable 4 with an intervention of an insulating element 5 between the part of the cable 4 that is electrically grounded and the object 1, for example. There is. The metal object 1 not only consists of a plate, but can also be an object of any shape and size, and has an electrostatic feed emitter, so that it has folded edges. Even those having 1a are included.
それは、鋼鉄から成るばかりでなく、鋳鉄および他の金
属、特にアルミニウムおよび銅から成ることが可能であ
る。ノ エナメル粉末は、中央に電極7を有する圧搾空
気スプレー・ガン6によつて空気にさらされたのちに対
象物1上に投射される。電極7には、高張力発電機8に
よつて、60000ボルトおよび100000ボルトの
間の高い電位、連続電流、負極性がもたらされる。この
種のスプレー●ガンはこの分野では周知である。エナメ
ル粉末に関しては、適当な無気琺瑯粉末の如何なるもの
から成つていてもよい。例えば、“乾燥セラミック粉末
の静電気的沈着2′(ElectrOstaticDe
pOsitiOnOfDryCeramjc″POwd
ers)という名称の米国特許第3928668号に記
載された種類の粉末、すなわち、オルガノポリシロキサ
ンを固形状態で被覆したセラミック粉末を用いることが
できる。下記の組成(重量部)を有するエナメルもまた
用いることができる。It can be made not only of steel, but also of cast iron and other metals, especially aluminum and copper. The enamel powder is projected onto the object 1 after being exposed to air by means of a compressed air spray gun 6 having an electrode 7 in the center. The electrode 7 is provided with a high potential between 60,000 and 100,000 volts, continuous current, negative polarity by a high tension generator 8. Spray guns of this type are well known in the art. As for the enamel powder, it may consist of any suitable aerated enamel powder. For example, "Electrostatic Deposition of Dry Ceramic Powders 2'"
pOsitiOnOfDryCeramjc″POwd
Powders of the type described in U.S. Pat. No. 3,928,668 entitled 1, 3,9,2, and 3,928,668, ie, ceramic powders coated in the solid state with organopolysiloxanes, can be used. Enamels having the following composition (parts by weight) can also be used.
本発明においては、これらの二つの形態のエナメルに決
して限定されるものではない。The present invention is in no way limited to these two forms of enamel.
プレート1に関してスプレー・ガン6を移行させる手段
は、もちろん、周知の方法において考えられる。The means for displacing the spray gun 6 with respect to the plate 1 are, of course, conceivable in a known manner.
このように、第1図においては、スプレー・ガン6の二
つの極端な位置(高さに関して)、すなわち、6aおよ
び6bの位置が破線および実線で夫々説明されている、
第2図において、6cは、空気中に懸濁しているエナメ
ル粉末の噴霧群を表わし、スプレー・ガン6によつて投
射される。上述したシステムは、絶縁機素5の存在のた
めに通常の装置とは相違し、また、エナメル加工すべき
対象物1と大地との間の電気的絶縁に影響を与える。Thus, in FIG. 1 the two extreme positions (with respect to height) of the spray gun 6, namely the positions 6a and 6b, are illustrated by dashed and solid lines, respectively.
In FIG. 2, 6c represents a spray group of enamel powder suspended in air and projected by spray gun 6. In FIG. The system described above differs from conventional devices due to the presence of the insulating element 5, which also affects the electrical insulation between the object 1 to be enameled and the earth.
この配列は、別のもの、すなわち、同日に出願された前
記特許出願に記載されるものと有利に組合せることが可
能であり、また、投射スプレー・ガン6の両側にある二
つの静電フィールド・エミッタ10から成つている。This arrangement can be advantageously combined with another one, namely that described in the said patent application filed on the same day, and also with two electrostatic fields on either side of the projection spray gun 6. - Consists of 10 emitters.
これら二つのエミッタは、放物面的であつて、対象物の
方へ向けられている。放物面反射器12の焦点に設置さ
れていて強い静電界を放射するテレビジョンセットアン
テナ11から各エミッタ10が構成されることは有利で
ある。These two emitters are parabolic and directed towards the object. Advantageously, each emitter 10 consists of a television set antenna 11 which is placed at the focal point of a parabolic reflector 12 and emits a strong electrostatic field.
導線13は、各エミッタ10(ロッド16によつて支え
られた絶縁棒15により支持体14に配置されている。
)にスプレー・ガン6の電極7と同じ電位をもたらす。
この結果、エミッタ10には、電極7と同様に、600
00ボルトおよび100000ボルトの間の電位、連続
電流、負極性がもたらされる。噴霧群6cに力を与えた
い方向により、特に対象物1か高い方および/又は低い
方に縁部を有する場合には、他のフィールド・エミッタ
を対象物1の下又は上に随意に置くことがてきる。A conductive wire 13 is arranged on a support 14 by means of each emitter 10 (an insulating bar 15 supported by a rod 16).
) is brought to the same potential as the electrode 7 of the spray gun 6.
As a result, the emitter 10 has 600
A potential between 00 and 100,000 volts, continuous current, negative polarity is provided. Optionally, other field emitters can be placed below or above the object 1, depending on the direction in which it is desired to force the spray group 6c, especially if the object 1 has edges higher and/or lower. It's coming.
本発明の方法および装置によれば、なかんすく、ポット
のような、琺瑯を有する家庭用品が製造できる。According to the method and apparatus of the present invention, enameled household items such as cans and pots can be manufactured.
また、本発明の方法および装置によれば、電子レンジ又
はガスオープン、洗たく機、および冷蔵庫のために、エ
ナメル加工される鉄シートのプレートを被覆できる。本
発明の方法および装置は、また建物の外観のために、エ
ナメル加工パネルを製造するのに用いることができる。
第1図および第2図において説明した特別の具体例、エ
ナメル加工すべき対象物の種類、エナメル粉末の考えら
れる適用は、単に説明のためのものてあつて、本発明の
本質から逸脱することなしに広範囲に亘つて変形しても
よい。さらに、対象物1が絶縁される場合には電極7お
よびエミッタ10には、高い負電位の代りに高い正電位
をもたらすことができる。テレビジョン●アンテナの一
部が補助的フィールド・エミッタ機素11を達成する便
利な手段を提供する場合には、機素11のデザインおよ
び寸法が種々の加工上の要求を調節するために広範囲に
亘つて変化してもよいことおよびどんな種類の枝岐れし
た又はまつすぐな棒状機素でも等しく良く役立つであろ
うことは明らかである。The method and device of the invention also make it possible to coat enamelled iron sheet plates for microwave ovens or gas stoves, washing machines, and refrigerators. The method and apparatus of the invention can also be used to produce enamelled panels for building exteriors.
The particular embodiments, types of objects to be enamelled, and possible applications of the enamel powder explained in FIGS. 1 and 2 are for illustration purposes only and do not depart from the essence of the invention. Variations may be made over a wide range without exception. Furthermore, if the object 1 is insulated, the electrode 7 and the emitter 10 can be provided with a high positive potential instead of a high negative potential. If part of the television antenna provides a convenient means of achieving an auxiliary field emitter element 11, the design and dimensions of the element 11 can be varied widely to accommodate various processing requirements. It is clear that variations may be made and that any kind of branched or straight bar elements would serve equally well.
上記例示した好ましい具体例は放物面反射器を開示して
いるが、この特別な形態は説明のためのものであつて一
定の被覆操作のパラメーターに依存するものであると理
解すべきである。Although the preferred embodiment illustrated above discloses a parabolic reflector, it should be understood that this particular configuration is illustrative and dependent on certain coating operation parameters. .
反射器は、一般的に凹面性であつて機素11から放射さ
れるフィールドを反射して導びくことができるかぎり、
如何なる種々の形態であつてもよい。このように、本発
明の琺瑯を金属対象物を塗装する装置においては、チャ
ージされた粉末を金属対象物に導く強に補助的指向性静
電界を放射すべく投射手段に連結された少なくともひと
つの静電フィールド・エミッタを有してなるため、絶縁
された金属対象物に設定される電界を常に一定の強さに
保ち得ると共に、電極より放射される電気力線に沿つた
粉末の流れのみによつては十分に達成し得ない複雑な形
状の対象物に対する塗装を、静電フィード・エミッタか
ら放射される補助的指向性静電界によつて補い、確実な
ものとなし得るものである。また、本発明の装置におい
ては、金属対象物が支持されている支持手段よりも高い
電位にエナメルの粉末をチャージするために投射手段は
電圧発生手段に連結されており、かつ金属対象物は支持
手段との間に配置されている少なくともひとつの絶縁手
段によつて完成に絶縁された状態に保持されているため
、金属対象物は設定される電界の強・さに応じた電位を
有し、その電位に応じた量の荷電粉末を得ることになる
。As long as the reflector is generally concave and capable of reflecting and directing the field emitted by the element 11,
It may take any of a variety of forms. Thus, in the apparatus for coating metal objects with enamel of the present invention, at least one at least one electric field connected to the projection means is used to emit a strongly auxiliary directional electrostatic field that guides the charged powder onto the metal object. Since it has an electrostatic field emitter, it is possible to keep the electric field set in the insulated metal object at a constant strength, and it also prevents the powder from flowing only along the lines of electric force emitted from the electrode. The coating of objects of complex shape, which otherwise could not be achieved satisfactorily, can be supplemented and ensured by the auxiliary directional electrostatic field emitted from the electrostatic feed emitter. Further, in the apparatus of the present invention, the projection means is connected to the voltage generating means in order to charge the enamel powder to a higher potential than the support means on which the metal object is supported, and the projection means is connected to the voltage generation means, and the metal object is Since the metal object is kept completely insulated by at least one insulating means disposed between the metal object and the metal object, the metal object has a potential corresponding to the strength of the electric field set. An amount of charged powder corresponding to the potential is obtained.
つまり、本発明の装置においては、被塗装体に必要とさ
れる被覆層の厚さが形成されるように金属対象物の電位
を電界の強さに応じて設定し得るよう構成されているも
の・であり、このような構成によつて、塗装材料のむだ
を除く高い効率の塗装を達成し得ると共に、希望する厚
さの被覆層を正確かつ容易に形成し得るものであり、本
発明の装置によつてはじめて、従来の装置における不都
合は解消され、また、従来ノの装置では得られない独特
の効果を達成し得るのである。以下に、本発明に含まれ
る実施の態様を列挙する。In other words, the apparatus of the present invention is configured so that the potential of the metal object can be set according to the strength of the electric field so that the required thickness of the coating layer is formed on the object to be painted. - With such a configuration, it is possible to achieve highly efficient coating by eliminating waste of coating material, and it is also possible to accurately and easily form a coating layer of a desired thickness. Only with this device can the disadvantages of conventional devices be overcome, and unique effects that cannot be obtained with conventional devices can be achieved. Below, embodiments included in the present invention are listed.
(1)高い静電電位にチャージされたエナメルを粉末形
態で金属対象物に投射するに際し該対象物を大地から電
気的に絶縁することを特徴とする、琺瑯を金属対象物に
塗装する方法。(1) A method for coating a metal object with enamel, which comprises electrically insulating the object from the ground when enamel charged to a high electrostatic potential is projected onto the metal object in powder form.
(2)金属対象物を支持するための手段と、釉薬を粉末
形態で投射するための手段と、および該粉末を高い電位
に静電的にチャージするための手段とから成り、少なく
とも1つの絶縁機素を該対象物と大地との間に配置して
成ることを特徴とする、琺瑯を金属対象物に塗装する装
置。(2) means for supporting a metal object, means for projecting a glaze in powder form, and means for electrostatically charging said powder to a high potential, comprising at least one insulating An apparatus for coating a metal object with enamel, characterized in that an element is placed between the object and the ground.
(3)高い静電電位にチャージされたエナメルを粉末形
態で金属対象物に投射するに際し、大地から電気的に絶
縁されたエナメル加工すべき対象物と、上記チャージさ
れた粉末を該対象物へ導く傾向がある、同時に生ずる強
い補助的指向性静電界との組合めを包含することを特徴
とする、琺瑯を金属対象物に塗装する方法。(4)金属
対象物を支持するための手段と、エナメルを粉末状態て
投射するための手段と、および該粉末を高い電位に静電
的にチャージするための手段とから成る琺瑯を金属対象
物に付ける装5置において、上記対象物の絶縁を確保す
るために該対象物と大地との間に少なくとも1つの絶縁
機素を配置し、上記チャージされた粉末を上記対象物へ
導く強い補助的指向性静電界を放射するための少なくと
も1つの静電フィールド・エミッタを設置したことを特
徴とする、琺瑯を金属対象物に塗装する装置。(3) When projecting enamel charged to a high electrostatic potential in the form of powder onto a metal object, the object to be enameled is electrically insulated from the ground, and the charged powder is applied to the object. 1. A method for coating metal objects with enamel, characterized in that it involves a combination with a simultaneously occurring strong auxiliary directional electrostatic field, which tends to guide. (4) Enamel comprising means for supporting the metal object, means for projecting the enamel in powder form, and means for electrostatically charging the powder to a high potential. 5, in which at least one insulating element is arranged between the object and the ground to ensure insulation of the object, and a strong auxiliary element is provided to guide the charged powder to the object. Device for painting metal objects with enamel, characterized in that it is equipped with at least one electrostatic field emitter for emitting a directional electrostatic field.
(5)金属対象物を支持するための手段と、エナメルを
該金属対象物の方に粉末形態で投射するための手段と上
記粉末を高い電位に静電的にチャージするための手段と
、上記対象物を大地に関して絶縁するために該対象物と
大地との間に配置した少なくとも1つの絶縁機素と、お
よび上記チャージされた粉末を上記対象物の方で導くた
めの強い指向性静電界を有する少なくとも1つの補助的
静電フィールド・エミッタから成り、かつ、該エミッタ
が金属放物面反射器の焦点に設置された棒機素から成る
ことを特徴とする、琺瑯を金属対象物に塗装する装置。(5) means for supporting a metal object; means for projecting enamel in powder form toward the metal object; and means for electrostatically charging said powder to a high potential; at least one insulating element disposed between the object and the earth for insulating the object with respect to earth, and a strong directional electrostatic field for directing the charged powder towards the object. coating a metal object with enamel, comprising at least one auxiliary electrostatic field emitter with Device.
図面の簡単な説明第1図は、琺瑯を金属対象物に付ける
ための本発明の装置の側面図であり、第2図は、上記装
置の上面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a side view of an apparatus according to the invention for applying enamel to metal objects, and FIG. 2 is a top view of said apparatus.
第1図中、1〜金属対象物、2〜接地、3〜レール、4
〜ケーブル、5〜絶縁機素。In Figure 1, 1 - metal object, 2 - ground, 3 - rail, 4
~ Cable, 5 ~ Insulating element.
Claims (1)
対象物に釉薬を粉末状で投射するための投射手段と、前
記粉末を前記支持手段よりも高い電位にチャージすべく
前記投射手段に連結された電圧発生手段と、前記金属対
象物の絶縁を確保すべく前記金属対象物と前記支持手段
との間に配置された少なくともひとつの絶縁部材と、チ
ャージされた前記粉末を前記金属対象物に導く強い補助
的指向性静電界を放射すべく前記投射手段に連結された
少なくともひとつの静電フィールド・エミッタとからな
る琺瑯を金属対象物に塗装する装置。 2 前記高い電位が負である特許請求の範囲第1項に記
載の琺瑯を金属対象物に塗装する装置。 3 前記高い電位が正である特許請求の範囲第1項に記
載の琺瑯を金属対象物に塗装する装置。[Scope of Claims] 1. Support means for supporting a metal object, projection means for projecting glaze in powder form onto the metal object, and charging means for charging the powder to a higher potential than the support means. at least one insulating member disposed between the metal object and the support means to ensure insulation of the metal object; and the charged powder. at least one electrostatic field emitter coupled to said projection means for emitting a strong auxiliary directional electrostatic field that directs an electrostatic field to said metal object. 2. The apparatus for coating a metal object with enamel according to claim 1, wherein the high potential is negative. 3. An apparatus for coating a metal object with enamel according to claim 1, wherein the high potential is positive.
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