JPS6041659B2 - Manufacturing method of ethylidene diacetate - Google Patents

Manufacturing method of ethylidene diacetate

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JPS6041659B2
JPS6041659B2 JP5261180A JP5261180A JPS6041659B2 JP S6041659 B2 JPS6041659 B2 JP S6041659B2 JP 5261180 A JP5261180 A JP 5261180A JP 5261180 A JP5261180 A JP 5261180A JP S6041659 B2 JPS6041659 B2 JP S6041659B2
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JP
Japan
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reaction
methyl
ruthenium
ethylidene diacetate
hydrogen
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JP5261180A
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富彌 一色
安彦 喜嶋
晃 伊藤
哲志 渡辺
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は酢酸メチルまたはジメチルエーテル、一酸化
炭素、および水素とをハイドロカルボニル化反応させる
ことを特徴とするエチリデンジアセテートの製造法に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing ethylidene diacetate, which is characterized by subjecting methyl acetate or dimethyl ether, carbon monoxide, and hydrogen to a hydrocarbonylation reaction.

従来、エチリデンジアセテートの合成方法としてアセ
チレンと酢酸を原料とする方法やアセトアルデヒドと無
水酢酸とを反応させることによつて合成する方法が一般
に知られている。
Conventionally, methods for synthesizing ethylidene diacetate include a method using acetylene and acetic acid as raw materials and a method of synthesizing ethylidene diacetate by reacting acetaldehyde and acetic anhydride.

これに対し、近年、酢酸メチルあるいはジメチルエーテ
ルを原料として一酸化炭素および水素を触媒の存在。下
、反応してエチリデンジアセテートを合成する方法が特
開昭51−115409として提案された。また本発明
者らは特願昭54−117660を出願している。特開
昭51−115409の明細書は、ハイドロカルボニ、
ILれ1L++ 11一ーー ^J−^ 3L−一
Arml p11C1l4)およびハロゲン化物を両必
須構成成分として開示し、さらに「助触媒を併用するこ
とによつて増進される」と述べ、反応助触媒について詳
述し(p11c416〜p13C4l4)ている。又、
明細書の実施例1〜29はいずれもロジウムあるいはパ
ラジウムという限定された特定の貴金属を主触媒として
使用しており、しかも有機あるいは無機の助触媒の不存
在下ではエチリデンジアセテートを全く生成していない
(同実施例58)。J 以上要約すれば特開昭51−1
154四号公報は、ハロゲン化物の存在下、ロジウムま
たはパラジウムを主触媒とし、そして特定の有機あるい
は無機化合物を助触媒とする触媒系によつて酢酸メチル
あるいはジメチルエーテルからエチリデンジアセテート
を合成するものである。
In contrast, in recent years, methyl acetate or dimethyl ether is used as a raw material and carbon monoxide and hydrogen are used as catalysts. A method of synthesizing ethylidene diacetate through the reaction was proposed in JP-A-51-115409. The present inventors have also filed Japanese Patent Application No. 117660/1984. The specification of JP-A-51-115409 describes hydrocarboni,
IL 1L++ 11-1 ^J-^ 3L-1
Arml p11C114) and halides are disclosed as both essential components, and further states that the reaction is "promoted by the combined use of a co-catalyst" and details the reaction co-catalyst (p11c416-p13C414). or,
Examples 1 to 29 of the specification all use a limited specific noble metal such as rhodium or palladium as the main catalyst, and furthermore, in the absence of an organic or inorganic co-catalyst, no ethylidene diacetate was produced. No (Example 58). J In summary, JP-A-51-1
No. 1544 discloses the synthesis of ethylidene diacetate from methyl acetate or dimethyl ether in the presence of a halide using a catalyst system using rhodium or palladium as a main catalyst and a specific organic or inorganic compound as a co-catalyst. be.

しかしながら、これらの金属は高価であり〔Hydro
carbonProcess、54、June83(1
975)〕、工業的実施に際してはロジウム錯体などが
、還元的雰囲気中において金属に還元されるのを防ぎ、
〔化学と工業、29(5)、376頁(1975)〕あ
るいは生成物の蒸留分離操作などにより、反応系から揮
発して散逸しやりするのを防止する(特開昭53−90
204)等特別の工夫が必要とされるなどの煩雑さにお
いてエチリデンジアセテートの工業的製造への大きな障
害のひとつとなつていた。以上の点に鑑み、本発明者ら
は前記方法の欠点を解消し、安価な触媒を用いたエチリ
デンジアセテートの合理的な製造方法を鋭意研究した。
However, these metals are expensive [Hydro
carbonProcess, 54, June 83 (1
975)], to prevent rhodium complexes and the like from being reduced to metals in a reducing atmosphere during industrial implementation,
[Kagaku to Kogyo, 29 (5), p. 376 (1975)] or by distillation separation of the product to prevent it from volatilizing and dissipating from the reaction system.
The complexity of the process, such as the need for special measures such as 204), has been one of the major obstacles to the industrial production of ethylidene diacetate. In view of the above points, the present inventors have conducted extensive research into a rational method for producing ethylidene diacetate using an inexpensive catalyst, eliminating the drawbacks of the above methods.

その結果、ニッケルおよびルテニウムを用いる新規な触
媒系を見い出し、本発明を完成した。すなわち、本発明
は沃化物または臭化物であるハロゲン化物の少なくとも
一種、並びにニッケルおよびルテニウムを含有し、ニッ
ケルに対しルテニウムを1〜1/30(モル比)存在さ
せてなる触媒の存在下、実質的に無水の状態で酢酸メチ
ルまたはジメチルエーテルと、一酸化炭素および水素と
を反応させることを特徴とするエチリデンジアセテート
の製造法である。本発明による酢酸メチルまたはジメチ
ルエーテルのハイドロカルボニル化反応は詳細な反応操
作は明確ではないが、総合反応として次の化学反応式に
よつて表わすことができる。
As a result, a new catalyst system using nickel and ruthenium was discovered, and the present invention was completed. That is, in the present invention, substantially all of This is a method for producing ethylidene diacetate, which is characterized by reacting methyl acetate or dimethyl ether with carbon monoxide and hydrogen in an anhydrous state. Although the detailed reaction operation of the hydrocarbonylation reaction of methyl acetate or dimethyl ether according to the present invention is not clear, the overall reaction can be represented by the following chemical reaction formula.

(1)酢酸メチルを原料として場合 (2)ジメチルエーテルを原料として場合本発明の触媒
はニッケルおよびルテニウムを主触媒とし、こらに沃化
物または臭化物てあるハロゲン化物を助触媒として使用
する。
(1) When methyl acetate is used as a raw material (2) When dimethyl ether is used as a raw material The catalyst of the present invention uses nickel and ruthenium as main catalysts, and uses a halide such as iodide or bromide as a promoter.

主触媒として使用するニッケルまたはルテニウム化合物
成分、並びにルテニウムまたはルテニウム化合物成分と
しては有機、無機のニッケル並びにルテニウム化合物が
利用出来る。
Organic and inorganic nickel and ruthenium compounds can be used as the nickel or ruthenium compound component and the ruthenium or ruthenium compound component used as the main catalyst.

たとえば、二.ツケル粉末、酢酸ニッケル、ハロゲン化
ニッケル、ニッケルアセチルアセトン、ニッケルテトラ
カルボニル、ニツケルジカルボニル、ニツケルジカルボ
ニルビストリフエニルホスフイン、テトラメチルアンモ
ニウムノ和ゲン化ニッケル等種々の−ニッケル化合物、
並びにルテニウム金属、ハロゲン化ルテニウム、水酸化
ルテニウム、酸化ルテニウム、硝酸ルテニウム、ルテニ
ウムアセチルアセトン、酢酸ルテニウム、ルテニウムカ
ルボニルヨウダイド、ルテニウムカルボニル、硫酸ルテ
ニウム、硫化ルテニウムリン酸ルテニウム、ジクロロト
リス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム、等種々の
ルテニウム化合物が使用される。前記ニッケル化合物ま
たはルテニウム化合物は各々単独で使用しても主触媒と
して有効であるが活性は低く、両金属または金属化合物
を併用し混合使用するときわめて高活性となる。本発明
の方法はニッケルおよびルテニウム触媒とともにハロゲ
ン化物の存在を必要とするが好適なハロゲン化物は臭化
物または沃化物またはその混合物であり、好ましくは沃
化物である。
For example, 2. Various -nickel compounds such as nickel powder, nickel acetate, nickel halide, nickel acetylacetone, nickel tetracarbonyl, nickel dicarbonyl, nickel dicarbonyl bistriphenylphosphine, tetramethylammonium nickel genide,
and ruthenium metal, ruthenium halide, ruthenium hydroxide, ruthenium oxide, ruthenium nitrate, ruthenium acetylacetone, ruthenium acetate, ruthenium carbonyl iodide, ruthenium carbonyl, ruthenium sulfate, ruthenium sulfide ruthenium phosphate, dichlorotris(triphenylphosphine)ruthenium, Various ruthenium compounds are used. The nickel compound or ruthenium compound is effective as a main catalyst even when used alone, but the activity is low, and when both metals or metal compounds are used in combination, the activity becomes extremely high. Although the process of the invention requires the presence of a halide along with nickel and ruthenium catalysts, the preferred halide is bromide or iodide or a mixture thereof, preferably iodide.

通常ハロゲン化物は大部分がハロゲン化メテル、ハロゲ
ン化アセチル、ハロゲン化水素またはそれらの任・意の
混合物の形、好ましくは沃化メチル、沃化アセチル、沃
化水素またはそれらの任意意の混合物の形で反応形に導
入してもよい。しかしながら、これらのハロゲン化物す
なわちハロゲン化メチル、ハロゲン化アセチルまたはハ
ロゲン化水素好ましくは沃化メチル、沃化アセチまたは
沃化水素の任意の一種類以上が反応系で生成するような
化合物を導入してもよい。反応系で他の成分と反応して
ハロゲン化メチル、ハロゲン化アセチル、ハロゲン化水
素を生成する化合物には無機ハロゲン化物、例えばリチ
ウム、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属塩お
よびマグネシウム、カルシウムのようなアルカリ土類金
属あるいはアルミニウム、亜鉛、銅、ランタン又はセリ
ウムなどのような金属塩ならびに沃素および臭素がある
。本発明においては以上の主触媒及ひ助触媒を組み合せ
て好適に反応を進めることができるが、更に反応速度を
速めるために、促進剤を使用することができる。促進剤
としては窒素族化合物を使用することかできる。
Usually the halides are mostly in the form of mether halides, acetyl halides, hydrogen halides or any mixtures thereof, preferably methyl iodide, acetyl iodide, hydrogen iodide or any mixtures thereof. may be introduced into the reaction form. However, if any one or more of these halides, ie, methyl halide, acetyl halide, or hydrogen halide, preferably methyl iodide, acetyl iodide, or hydrogen iodide, is introduced, a compound is produced in the reaction system. Good too. Compounds that react with other components in the reaction system to produce methyl halides, acetyl halides, and hydrogen halides include inorganic halides, such as alkali metal salts such as lithium, sodium, and potassium, and salts of alkali metals such as magnesium and calcium. There are alkaline earth metals or metal salts such as aluminium, zinc, copper, lanthanum or cerium, and iodine and bromine. In the present invention, the reaction can be suitably carried out by combining the above-mentioned main catalyst and co-catalyst, but in order to further speed up the reaction rate, a promoter can be used. Nitrogen compounds can be used as promoters.

好適な窒素族化合物としては窒素、リン、アンチモンま
たは砒素を含有する有機化合物またはアンモニアが挙げ
られる。促進剤として効果的な化合物を群に分類して限
定的でなく例示する。
Suitable nitrogen group compounds include organic compounds containing nitrogen, phosphorus, antimony or arsenic, or ammonia. Non-limiting examples of compounds effective as accelerators are grouped into groups.

(1)三価の窒素族化合物 (A) 一般式M<?: て表示される窒素族化合物(
但し、MはN,P,Sb,Asを表わす。
(1) Trivalent nitrogen group compound (A) General formula M<? : Nitrogen group compounds (
However, M represents N, P, Sb, and As.

)(a)Rl,R2,R3が水素あるいは炭素数1〜1
0の飽和アルキル基、シクロアルキル基またはアリール
基を表わし、夫々お互に同一ても異つてもよい化合物M
=N アンモニア、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリーn−プ
ロピルアミン、トリーIsO−プロピルアミン、トリー
n−ブチルアミン、トリーTertージチルアミン、ア
ニリン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ジメテ
ルベンジルアミン、トルイジン、トリフェニルアミン、
シクロヘキシルアミン等のアミン類M=Pトリーn−プ
ロピルホスフィン、トリー1s0−プロピルホスフィン
、トーn−ブチルホスフィン、トリーTert−ブチル
ホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、トリ−
フェニルホスフィン等のホスフィン類M=Sb トリー1s0−プロピルスチピン、エチルージーIsO
−プロピルスチピン、トリーフエニルスチピン、トリー
(0−トリル)スチピン、フエニルージーアミルスチピ
ン等のスチピン類M=M トリーメチルアルシン、トリメチルアルシン、トリシク
ロヘキシルアルシン、フェニルージーIsO−プロピル
アルシン、ジフエニルアルシン等のアルシン類(b)R
1が水素あるいは炭素数1〜10の飽和アルキル基、シ
クロアルキル基またはアリール基を表わし、R2,R3
が炭素数1〜5のポリメチレン基で結ばれた化合物 ピ
ロリジン、N−メチルピロリジン、ピペリジン、N−フ
ェニルピペリジン等の環状化合物(c)Rl,R2が水
素あるいは炭素数1〜10の飽和アルキル基、シクロア
ルキル基、またはアリール基を表わし、夫々同一でもお
互に異つてもよい。
) (a) Rl, R2, R3 are hydrogen or have 1 to 1 carbon atoms
0 saturated alkyl group, cycloalkyl group or aryl group, which may be the same or different from each other
=N Ammonia, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, dimethylethylamine, tri-n-propylamine, tri-IsO-propylamine, tri-n-butylamine, tri-tert-ditylamine, aniline, dimethylaniline, diethylaniline , dimethylbenzylamine, toluidine, triphenylamine,
Amines such as cyclohexylamine M=P tri-n-propylphosphine, tri-1s0-propylphosphine, tri-n-butylphosphine, tri-tert-butylphosphine, tri-cyclohexylphosphine, tri-
Phosphine such as phenylphosphine M=Sb tri-1s0-propylstipine, ethyl-zi IsO
- Stipines such as propylstipine, triphenylstipine, tri(0-tolyl)stipine, phenyludiamylstipine, etc. M=M trimethylarsine, trimethylarsine, tricyclohexylarsine, phenyludi IsO-propylarsine, Arsines (b) R such as diphenylarsine
1 represents hydrogen or a saturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group or an aryl group, R2, R3
are connected by a polymethylene group having 1 to 5 carbon atoms; cyclic compounds such as pyrrolidine, N-methylpyrrolidine, piperidine, and N-phenylpiperidine; (c) Rl and R2 are hydrogen or a saturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; It represents a cycloalkyl group or an aryl group, and may be the same or different.

R3は炭素数1〜10の飽和脂肪族アシル基を表わす化
合物及びR1が水素あるいは炭素数1〜10の飽和アル
キル基、シクロアルキル基、またはアリール基でR2,
R3がカルボキシポリメチレン基で結ばれたラクタム化
合物 アセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
アセトアリニド、N−メチルーN−フェニルアセトアミ
ド等のカルボン酸アミド類及びN−メチルーピロジノン
等のラクタム類(d)Rl,R2,R3の中の少なくと
も一つがカルボキシメチル基で、残りが水素あるいは炭
素数1〜10の飽和アルキル基、シクロアルキル基また
はアリール基を表わし、同一でも異つてもよい化合物N
,N−ジメチルグリシン、N,Nージーエチルグリシン
、イミノジ酢酸、Nーメチルジイミノ酢酸、ニトリロト
リ酢酸等のカルボン酸誘導体(e)R1が炭素数1〜1
0の飽和アルキル基、シクロアルキル基、アリール基を
表わし、R2,R3はMと結合したニトリル類 M=N アセトニトリル、プロビオニトリル、ベンゾニトリル等
のニトリル類(B) 一般式 一〉M1−R5−M2〈
一で表わされる有機窒素族化合物(但し、Ml,M2は
N,P,Sb,Asであり、同一でも異つていてもよい
R3 is a compound representing a saturated aliphatic acyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R1 is hydrogen or a saturated alkyl group, cycloalkyl group, or aryl group having 1 to 10 carbon atoms, and R2,
Lactam compound in which R3 is linked with a carboxypolymethylene group: acetamide, N,N-dimethylacetamide,
Carboxylic acid amides such as acetalinide, N-methyl-N-phenylacetamide, and lactams such as N-methyl-pyrodinone (d) At least one of Rl, R2, and R3 is a carboxymethyl group, and the rest are hydrogen or carbon Compounds N representing 1 to 10 saturated alkyl groups, cycloalkyl groups, or aryl groups, which may be the same or different
, N-dimethylglycine, N,N-diethylglycine, iminodiacetic acid, N-methyldiiminoacetic acid, nitrilotriacetic acid, etc. (e) R1 has 1 to 1 carbon atoms
0 saturated alkyl group, cycloalkyl group, or aryl group, R2 and R3 are nitriles bonded to M=N Nitriles such as acetonitrile, probionitrile, benzonitrile (B) General formula 1〉M1-R5- M2〈
An organic nitrogen group compound represented by 1 (where M1 and M2 are N, P, Sb, and As, and may be the same or different).

)(a)Rl,R2,R3.R4は、水素あるいは炭素
数1〜10の飽和アルキル基、シクロアルキル基アリー
ル基を表わし、R5は炭素数1〜10のポリメチレン基
、フェニレン基、あるいはカルボニル基を表わす化合物
エチレンビス(ジフェニルホスフィン)、フェニレンビ
ス(ジメチルホスフィン)、ビス(ジフエニルアルシノ
)エタン、ビス(ジー1s0ープロピルアシノ)ヘキサ
ン、ビス(ジエチルスチビノ)ペンタン、N,N,N″
,N″−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N″
,N″ーテトラエチルエチレンジアミン、N,N,N″
,N″−テトラーn−プロピルエチレンジアミン、N,
N,N″,N″−テトラメチルメチレンジアミン、N,
N,N″,N″−テトラメチル尿素、N−メチルー2ー
ピロジノン、トリエチレンジアミン等の化合物(b)R
l,R3が水素又は炭素数1〜10の飽和アルキル基、
シクロアルキル基、あるいはアリール基で、R2,R4
が炭素数1〜5のポリメチレン基で結ばれ且つR5が炭
素数1〜5のポリルキルメチレン基の化合物 ピペラジ
ン、N−メチルーピペラジン、Nーエチルーピペラジン
、2−メチルーN,N″−ジメチルピペラジン等の環状
化合物(C)その他の化合物 トリス(ジエチルアミノメチル)スチピン、2,5−ジ
カルボキシピペラジン、シクロヘキサンー1,2−ジア
ミンーN,N,N″,N!−テトラ酢酸、及び塩並びに
テトラメチルエステル、エチレンジアミンテトラ酢酸及
び塩並びにテトラメチルエステル、1,4−アザビシク
ロ〔2,2,2〕オクタン、メチル置換1,4ージアザ
シクロ〔2,2,2〕オクタンアジポニトリル、N−メ
チルホルモリン等の化合物(■) 複素環化合物 ピリジンおよびアルキルピリジン類;ピリジン、α−ピ
コリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、2−エチルピリ
ジン、3−エチルピリジン、4−エチルピリジン2−プ
ロピルピリジン、4−プロピルピリジン、4−ブチルピ
リジン、4−イソブチルピリジン、4−tブチルピリジ
ン、2,6−ルチジン、2,4−ルチジン2,5−ルチ
ジン、3,4−ルチジン、3,5−ルチジン2,4,6
−コリジン、2−メチルー4−エチルピリジン、2−メ
チルー5−エチ,ルピリジン、3−メチルー4−エチル
ピリジン、3−エチルー4−メチルピリジン、3,4−
ジエチルピリジン、3,5−ジエチルピリジン、4−ペ
ンチルピリジン、4−(5−ノニル)−ピリジン、2,
6−ジプロピルピリジン、2−メチルー3−エチルー6
−プロピルピリジン、2,6−ジエチルピリジン、2,
6−ジプロピルピリジン、2,6−ジブチルピリジン、
2,6−ジーt−ブチルピリジン、官能基を含むピリジ
類;2−シアノピリジン、3−シ5アノピリジン、4−
シアノピリジン2,6ージシアノピリジン3,5ージシ
アノピリジン、2−シアノー6−メチルーピリジン、3
−シアノー5−メチルーピリジン、ピコリン酸アミド、
ニコチン酸アミド、イソニコチン酸アミド、ピ4コリン
酸、ニコチン酸、イソニコチン酸、ジピコリン酸、ジニ
コチン酸、シンコメトロニツク酸、5−ブチルーピコリ
ン酸、ニコチン酸アルキルエステル、2−アミノーピリ
ジン、3−アミノピリジン、4−アミノピリジン、2,
3−ジアミノピリジン、2,5−ジアミノピリジン、2
,6−ジアミノピリジン、2,3,6ートリアミノピリ
ジン、2−アミノー3−メチルピリジン、2−アミノー
4−メチルピリジン、2−アミノー5−メチルピリジン
、2−アミノー6−メチルピリジン、2−アミノー4−
プロピルピリジン、2−アミノー4−プロピルピリジン
2−アミノー4(5−ノニル)−ピリジン、4−アミノ
ー4,6−ジメチルピリジン、2,6−ジアミノー4メ
チルピリジン、2,2−ジピリジルアミン、4−ジメチ
ルアミノピリジン、2−ヒドロキシピリジン、3−ヒド
ロキシピリジン、4−ヒドロキシピリジン、2,6ーヒ
ドロキシピリジン、3−ヒドロキシー6−メチルピリジ
ン、2−クロロピリジン、2,6ージクロロピリジン、
4−クロロピリジン、2ーアミノー5−クロロピリジン
、2−アミノー3,5−ジクロロピリジン、2−メチル
ー3,5−ジクロロー6−メチルピリジン、2−アミノ
ー5−クロロー3−メチルピリジン、2−アミノ3,5
−ジクロロー4−メチルピリジン、2−アミノー3,5
−ジクロロー4,6−ジメチルピリジン4−アミノー3
,5−ジクロロピリジン、ピリジンーN−オキシド、α
−ピコリンーN−オキシド、β−ピコリンーN−オキシ
ド、β−ピコリンーN−オキシド、γ−ピコリンーN−
オキシ、2,6−ルチジンーN−オキシド、3,5−ル
チジンーN−オキシド、4−フェニルプロピルピリジン
ーN−オキシド、1,3−ジー(4−ピリジン)ープロ
パンジーN−オキシド、4−(5−ノニル)−ピリジン
ーN−オキシド、2−クロロピリジンーN−オキシド、
4−シアノピリジンーN−オキシド、2−ピリジンメタ
ノール、3−ピリジンメタノール、4−ピリジンメタノ
ール、2,6−ピリジンメタノール、2ピリジンメタノ
ール、4−ピリジンメタノール、3−ピコリルアミン、
4−ピコリルアミン、2−メチルアミノエチルピリジン
、4−アルキルアミノエチルピリジン、4−ピペリジノ
エチルピリジン、4−(4−ビペコリノエチル)−ピリ
ジン、4−モルホリノエチルピリジン、環状化合物を含
むピリジン類;2−フェニルピリジン、4−フエニルピ
リジン、2−ベンジルピリジン、4−ベンジルピリジン
、4−フェニルプロピルピリジン、4,4″ージピリジ
ル、4,4″−ジメチルー2,2″ージピリジル、1,
3−ジー(4−ピリジル)プロパン、1,2−ジー(4
−ピリジル)一エタン、1,2−ジー(4−ピリジル)
一エチレン、1,2,3−トリー(4−ピリジル)プロ
パン、2,4,6−トリー(4−ピリジル)−S−トリ
アジン、2,4−ジー(4−ピリジル)−6−メチルー
S−トリアジン、2,5−ジー(4−ピリジル)−S−
テトラジン、アルケニルピリジンと高分子量ピリジン類
;2−ビニルピリジン、4−ビニルピリジン、2−ビニ
ルー6−メチルーピリジン、2−ビニルー5−エチルピ
リジン、4−ブテニルピリジン、4ービニルピリジンホ
モポリマー、2−ビニルピリジンホモポリマー、2−ビ
ニルピリジンコポリマー、4−ビニルピリジンーアクリ
ロニトリルーコポリマー、4−ビニルピリジンースチレ
ンーコポリマー、4−ビニルピリジンージビニルベンゼ
ンーコポリマー、2−ビニルピリジンージピニルベンゼ
ンコポリマー、4−ビニルピリジンホモポリマーーN−
オキシド、;ピロール類:ピロリン類;ピリミジン類;
ピラジン類;ピラゾール類;ピラゾリン類;ピリダジン
類;イミダゾール類;1,10−フエナントロリン及び
その誘動体;1,10−フエナントロリン、4−クロル
ー1,10−フエナントロリン、5−(チアベンゼル)
−1,10−フエナントロリン;キノリン及びその誘動
体、キノリン、2一(ジメチルアミノ)−6−メトキシ
キノリン、8−ヒドロキシキノリン、2−カルボキシキ
ノリン(■) 五価の窒素族化合物 酢酸アンモニウム、プロピオン酸アンモニウム、トリフ
エニルホスフインイミニウムクロリド以上の化合物群の
うち窒素またはリンを含有する有機化合物は好適である
) (a) Rl, R2, R3. R4 represents hydrogen or a saturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group, or an aryl group, and R5 represents a polymethylene group, phenylene group, or carbonyl group having 1 to 10 carbon atoms; a compound ethylenebis(diphenylphosphine); Phenylenebis(dimethylphosphine), bis(diphenylarsino)ethane, bis(di-1s0-propylacino)hexane, bis(diethylstivino)pentane, N,N,N″
,N″-tetramethylethylenediamine, N,N,N″
,N″-tetraethylethylenediamine, N,N,N″
,N″-tetra n-propylethylenediamine, N,
N,N'',N''-tetramethylmethylenediamine, N,
Compounds (b) R such as N,N″,N″-tetramethylurea, N-methyl-2-pyrodinone, triethylenediamine, etc.
l, R3 is hydrogen or a saturated alkyl group having 1 to 10 carbon atoms,
Cycloalkyl group or aryl group, R2, R4
are connected by a polymethylene group having 1 to 5 carbon atoms, and R5 is a polykylmethylene group having 1 to 5 carbon atoms. Piperazine, N-methyl-piperazine, N-ethyl-piperazine, 2-methyl-N,N''-dimethyl Cyclic compounds such as piperazine (C) Other compounds tris(diethylaminomethyl)stipine, 2,5-dicarboxypiperazine, cyclohexane-1,2-diamine-N,N,N″,N! -tetraacetic acid and salts and tetramethyl ester, ethylenediaminetetraacetic acid and salts and tetramethyl ester, 1,4-azabicyclo[2,2,2]octane, methyl-substituted 1,4-diazacyclo[2,2,2]octaneazide Compounds such as ponitrile and N-methylformoline (■) Heterocyclic compounds pyridine and alkylpyridines; pyridine, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethyl Pyridine 2-propylpyridine, 4-propylpyridine, 4-butylpyridine, 4-isobutylpyridine, 4-t-butylpyridine, 2,6-lutidine, 2,4-lutidine 2,5-lutidine, 3,4-lutidine, 3,5-lutidine 2,4,6
-collidine, 2-methyl-4-ethylpyridine, 2-methyl-5-ethyl, lupyridine, 3-methyl-4-ethylpyridine, 3-ethyl-4-methylpyridine, 3,4-
Diethylpyridine, 3,5-diethylpyridine, 4-pentylpyridine, 4-(5-nonyl)-pyridine, 2,
6-dipropylpyridine, 2-methyl-3-ethyl-6
-propylpyridine, 2,6-diethylpyridine, 2,
6-dipropylpyridine, 2,6-dibutylpyridine,
2,6-di-t-butylpyridine, pyridines containing functional groups; 2-cyanopyridine, 3-cyanopyridine, 4-cyanopyridine
Cyanopyridine 2,6-dicyanopyridine 3,5-dicyanopyridine, 2-cyano6-methyl-pyridine, 3
-cyano-5-methyl-pyridine, picolinic acid amide,
Nicotinic acid amide, isonicotinic acid amide, pi-4-cholinic acid, nicotinic acid, isonicotinic acid, dipicolinic acid, dinicotinic acid, cinchometronic acid, 5-butyl-picolinic acid, nicotinic acid alkyl ester, 2-aminopyridine, 3-aminopyridine, 4-aminopyridine, 2,
3-diaminopyridine, 2,5-diaminopyridine, 2
, 6-diaminopyridine, 2,3,6-triaminopyridine, 2-amino-3-methylpyridine, 2-amino-4-methylpyridine, 2-amino-5-methylpyridine, 2-amino-6-methylpyridine, 2- Amino 4-
Propylpyridine, 2-amino-4-propylpyridine 2-amino-4(5-nonyl)-pyridine, 4-amino-4,6-dimethylpyridine, 2,6-diamino-4methylpyridine, 2,2-dipyridylamine, 4- Dimethylaminopyridine, 2-hydroxypyridine, 3-hydroxypyridine, 4-hydroxypyridine, 2,6-hydroxypyridine, 3-hydroxy-6-methylpyridine, 2-chloropyridine, 2,6-dichloropyridine,
4-chloropyridine, 2-amino-5-chloropyridine, 2-amino-3,5-dichloropyridine, 2-methyl-3,5-dichloro-6-methylpyridine, 2-amino-5-chloro-3-methylpyridine, 2-amino-3 ,5
-dichloro-4-methylpyridine, 2-amino-3,5
-dichloro4,6-dimethylpyridine4-amino3
,5-dichloropyridine, pyridine-N-oxide, α
-Picoline-N-oxide, β-picoline-N-oxide, β-picoline-N-oxide, γ-picoline-N-
Oxy, 2,6-lutidine-N-oxide, 3,5-lutidine-N-oxide, 4-phenylpropylpyridine-N-oxide, 1,3-di(4-pyridine)-propane di-N-oxide, 4-(5- nonyl)-pyridine-N-oxide, 2-chloropyridine-N-oxide,
4-cyanopyridine-N-oxide, 2-pyridinemethanol, 3-pyridinemethanol, 4-pyridinemethanol, 2,6-pyridinemethanol, 2pyridinemethanol, 4-pyridinemethanol, 3-picolylamine,
4-picolylamine, 2-methylaminoethylpyridine, 4-alkylaminoethylpyridine, 4-piperidinoethylpyridine, 4-(4-bipecorinoethyl)-pyridine, 4-morpholinoethylpyridine, pyridines including cyclic compounds; 2-phenylpyridine, 4-phenylpyridine, 2-benzylpyridine, 4-benzylpyridine, 4-phenylpropylpyridine, 4,4″-dipyridyl, 4,4″-dimethyl-2,2″-dipyridyl, 1,
3-di(4-pyridyl)propane, 1,2-di(4
-pyridyl) monoethane, 1,2-di(4-pyridyl)
monoethylene, 1,2,3-tri(4-pyridyl)propane, 2,4,6-tri(4-pyridyl)-S-triazine, 2,4-di(4-pyridyl)-6-methyl-S- Triazine, 2,5-di(4-pyridyl)-S-
Tetrazine, alkenylpyridine and high molecular weight pyridines; 2-vinylpyridine, 4-vinylpyridine, 2-vinyl-6-methyl-pyridine, 2-vinyl-5-ethylpyridine, 4-butenylpyridine, 4-vinylpyridine homopolymer, 2-vinylpyridine vinylpyridine homopolymer, 2-vinylpyridine copolymer, 4-vinylpyridine-acrylonitrile copolymer, 4-vinylpyridine-styrene-copolymer, 4-vinylpyridine-divinylbenzene-copolymer, 2-vinylpyridine-dipinylbenzene copolymer, 4-vinylpyridine homopolymer N-
Oxides; Pyrroles: Pyrrolines; Pyrimidines;
Pyrazines; pyrazoles; pyrazolines; pyridazines; imidazoles; 1,10-phenanthroline and its derivatives; 1,10-phenanthroline, 4-chloro-1,10-phenanthroline, 5-(thiabenzel) )
-1,10-phenanthroline; quinoline and its derivatives, quinoline, 2-(dimethylamino)-6-methoxyquinoline, 8-hydroxyquinoline, 2-carboxyquinoline (■), pentavalent nitrogen group compound ammonium acetate, Of the above compound groups such as ammonium propionate and triphenylphosphineiminium chloride, organic compounds containing nitrogen or phosphorus are preferred.

とりわけ三価のリンを含有するホスフィン類、三価の窒
素を含有するアミン類またはピリジンに代表される複素
環化合物は特に有効てある。またこれらの化合物を混合
使用することもできる。本発明において主触媒として使
用するニッケルおよびルテニウムの使用量はそれぞれ反
応液の全容量を基準にして1′当り10−6〜5モル、
好ましくは10−4モル、さらに好ましくは10−3〜
2モル、最も好ましくは5×10−3〜1.0モルの範
囲が一般に選択される。
Particularly effective are phosphines containing trivalent phosphorus, amines containing trivalent nitrogen, or heterocyclic compounds typified by pyridine. Moreover, these compounds can also be used in combination. In the present invention, the amounts of nickel and ruthenium used as main catalysts are 10-6 to 5 mol per 1' based on the total volume of the reaction solution, respectively.
Preferably 10-4 mol, more preferably 10-3 to
A range of 2 mol, most preferably 5 x 10-3 to 1.0 mol is generally selected.

ニッケルとルテニウムの比率はモル比で30:1〜1:
1の範囲である。又、助触媒として使用するハロゲン化
物の使用量はハロゲン原子基準で反応液の全容量を基準
にして1′当り10−6〜20モル、好ましくは10−
4〜10モルの範囲で用いられる。更に促進剤の使用量
は反応系中の主触媒金属の量に関係するが、通常その量
は反応液の全容量を基準にして1e当り10−6〜10
モル、好ましくは10−4〜5モルの範囲が選ばれる。
本発明の方法を実施するためには反応温度が例えば20
〜500℃、好まきうくは80〜350′C1さらに好
ましくは100℃から300℃の範囲が適当である。反
応全圧は反応液を液相に保ち、一酸化炭素および水素を
適当な分圧に保つのに十分であればよい。一酸化炭素お
よび水素の好適な分圧は0.5〜7叩気圧、最適の分圧
は1〜6(4)気圧、さらに最適な分圧は3〜5叩気圧
であるがこれより広い0.05〜100呟圧の範囲の分
圧でもさしつかえない。前述のエチリデンジアセテート
の生成反応式における原料のガスの化学量論量は酢酸メ
チル、あるいはジメチルエーテルを原料として使用する
かあるいは混合物を使用するかによつて一酸化炭素対水
素のモル比が2:1〜4:1の間て変化する。しかしな
がら実際上は一酸化炭素対水素のモル比ははるかに広い
範囲、1:100〜100:1、好ノまLくは1:50
〜50:1、さらに好ましくは1:10〜10:1を使
用できる。一酸化炭素対水素の化学量論比に近い混合ガ
スの時、最良の結果が得られるので一酸化炭素対水素の
モル比を0.5:1〜5:1の範囲にすることは特に好
ましい。又、本7発明で使用される一酸化炭素及び水素
は各々単独で反応帯へ圧入してよく、又、一酸化炭素及
び水素混合のいわゆる゜゜合成ガスの形態で導入しても
良い。又、これらの原料ガスは必ずそも純度の高いもの
でなくとも良く、二酸化炭素、メタン、フ窒素、希ガス
を含有していても良い。しかし極端に低い純度の原料ガ
スは反応系の圧力を増加するので好ましくない。本発明
の方法においては原料酢酸メチルおよびジメチルエーテ
ルまた生成物であるエチリデンジアセテート自体が反応
溶媒を兼ねるので、溶媒は必ずしも用いなくても良いが
、反応環境で原料および生成物と相溶性と有機溶媒およ
び希触剤を使用することも可能である。
The molar ratio of nickel and ruthenium is 30:1 to 1:
The range is 1. The amount of the halide used as a cocatalyst is 10-6 to 20 mol per 1', preferably 10-6 to 20 mol per 1' based on the total volume of the reaction solution based on the halogen atom.
It is used in a range of 4 to 10 moles. Further, the amount of promoter used is related to the amount of main catalyst metal in the reaction system, but the amount is usually 10-6 to 10 per 1e based on the total volume of the reaction solution.
mol, preferably in the range of 10-4 to 5 mol.
For carrying out the method of the invention, the reaction temperature is, for example, 20
A suitable temperature range is 500°C to 500°C, preferably 80 to 350°C, and more preferably 100°C to 300°C. The total reaction pressure may be sufficient to maintain the reaction solution in a liquid phase and to maintain carbon monoxide and hydrogen at appropriate partial pressures. The preferred partial pressure for carbon monoxide and hydrogen is 0.5 to 7 atm, the optimum partial pressure is 1 to 6 (4) atm, and the optimal partial pressure is 3 to 5 atm, but wider than 0. Partial pressures in the range of .05 to 100 msec are also acceptable. The stoichiometric amount of the raw material gas in the above reaction formula for producing ethylidene diacetate is the molar ratio of carbon monoxide to hydrogen of 2: depending on whether methyl acetate, dimethyl ether, or a mixture is used as the raw material. It varies between 1 and 4:1. However, in practice the molar ratio of carbon monoxide to hydrogen ranges much wider, from 1:100 to 100:1, preferably 1:50.
~50:1, more preferably 1:10 to 10:1 can be used. A molar ratio of carbon monoxide to hydrogen in the range 0.5:1 to 5:1 is particularly preferred since the best results are obtained when the gas mixture is close to the stoichiometric ratio of carbon monoxide to hydrogen. . Furthermore, the carbon monoxide and hydrogen used in the seventh invention may be individually pressurized into the reaction zone, or may be introduced in the form of a mixture of carbon monoxide and hydrogen, so-called ゜゜synthesis gas. Furthermore, these raw material gases do not necessarily have to be of high purity to begin with, and may contain carbon dioxide, methane, nitrogen, and rare gases. However, raw material gas of extremely low purity is undesirable because it increases the pressure of the reaction system. In the method of the present invention, the raw materials methyl acetate and dimethyl ether and the product ethylidene diacetate themselves also serve as reaction solvents, so a solvent does not necessarily need to be used. It is also possible to use dilute catalysts.

一般に使用し得る溶媒としては酢酸、プロピオン酸、酪
酸、オクタン酸、フタル酸、安息香酸等の有機酸類、酢
酸メチル、酢酸エチル、エチレングリコールジアセテー
ト、プロピレングリコールジアセテート、アジピン酸ジ
メチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、フタル酸ジ
メチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジオクチル酢酸フ
ェニル、酢酸トリル等の有機酸エステル類、ドデカン、
ヘキサデカン、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニル等の
炭化水素類、トリフェニルホスフェート、トリクレジル
ホスフエート、ジブチルフェニルホスフェート、テトラ
メチルオルトシリケート、テトラブチルシリケート等の
無機酸エステル類、ジフェニルエーテル等の芳香族エー
テル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾ
フェノン等のケトン類が挙げられる。反応生成物である
エチリデンジアセテートの類縁化合物である酢酸、無水
酢酸を溶媒として用いることは好ましい実施態様である
。本発明の反応はエチリデンジアセテートの製造を意図
するものであるが、特にエチリデンジアセテートは水に
よつて分解が助長される性質を有するから、特に水が混
在してきやすい溶媒及び原料エステル又はエーテルを無
水状態にして反応系に供給し、反応系それ自体を実質的
に無水の状態に.することが肝要てある。
Commonly used solvents include organic acids such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, octanoic acid, phthalic acid, and benzoic acid, methyl acetate, ethyl acetate, ethylene glycol diacetate, propylene glycol diacetate, dimethyl adipate, and methyl benzoate. , organic acid esters such as ethyl benzoate, dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dioctyl phthalate, phenyl acetate, tolyl acetate, dodecane,
Hydrocarbons such as hexadecane, benzene, naphthalene, and biphenyl; inorganic acid esters such as triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, dibutylphenyl phosphate, tetramethyl orthosilicate, and tetrabutyl silicate; aromatic ethers such as diphenyl ether; Examples include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, dibutyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetophenone, and benzophenone. A preferred embodiment is to use acetic acid or acetic anhydride, which are analogs of the reaction product ethylidene diacetate, as the solvent. The reaction of the present invention is intended to produce ethylidene diacetate, but since ethylidene diacetate has the property of promoting decomposition by water, it is particularly important to avoid using solvents and raw material esters or ethers that are likely to contain water. It is supplied to the reaction system in an anhydrous state, and the reaction system itself is brought into a substantially anhydrous state. It is essential to do so.

反応原料中に水が混在することは一般に生じうる現象で
あるが、市販の合成ガス並びに酢酸メチル又はジメチル
エーテルに含まれている程度の少量の水の混在は許容し
て問題は生じない。
The presence of water in the reaction raw materials is a common phenomenon, but the presence of a small amount of water, such as that contained in commercially available synthesis gas and methyl acetate or dimethyl ether, is acceptable and does not cause any problems.

しかし.ながら、通常任意の一種以上の反応原料に10
モル%以上の水が混在することは避けるべきであつて、
反応系への大過剰の水の誘導は生成物の分解を招来し易
い。この点において5モル%、さらに好ましくは3モル
%以下の含水量であることが望・ましい。水は反応生成
物ではないので液相反応媒体内を無水に近い条件に保つ
ことは、反応帯に導入される必要な反応剤ならびに反応
液を適正な乾燥状態に維持することによつて簡単に達成
される。本発明の方法は好ましくは反応帯に封入された
液相反応媒体中で行なわれるが、方法そのものは回分式
、半連続式または連続式に行なうことができる。
but. However, usually one or more reaction materials contain 10
Mixing more than mol% of water should be avoided,
Introducing a large excess of water into the reaction system tends to lead to product decomposition. In this respect, it is desirable that the water content be 5 mol% or less, more preferably 3 mol% or less. Since water is not a reaction product, maintaining near-anhydrous conditions in the liquid phase reaction medium is easily achieved by maintaining the necessary reactants introduced into the reaction zone as well as the reaction liquid in a suitably dry state. achieved. Although the process of the invention is preferably carried out in a liquid phase reaction medium enclosed in a reaction zone, the process itself can be carried out batchwise, semi-continuously or continuously.

連続操業においては好ましくは反応原料および触媒は適
当な反応帯に供給され、反応混合物は連続的に蒸留され
て揮発性の有機成分の所定量を分離し、そして触媒を含
有する蒸留残液は再循環して使用することもてきる。又
、別の好ましいノ方法は反応体から連続的に流出するエ
チリデンジアセテートを含む反応混合物を適当な別の反
応体に供給して酢酸ビニルを酢酸に変換し、これらの反
応混合物を蒸留して酢酸メチル、酢酸および酢酸ビニル
を分離、回収し、そして触媒を含有する蒸留残液を再循
環してさらに反応を行うこともできる。以上、詳細に説
明した本発明の方法は安価な触媒によりエチリデンジア
セテートをハイドロカルボニル化反応により製造するも
のであり、工業的意義はきわめて高いものである。
In continuous operation, the reactants and catalyst are preferably fed to a suitable reaction zone, the reaction mixture is continuously distilled to separate a predetermined amount of volatile organic components, and the distillation bottoms containing the catalyst are recycled. It can also be used in circulation. Another preferred method is to convert the vinyl acetate to acetic acid by feeding the reaction mixture containing ethylidene diacetate continuously flowing from the reactants to another suitable reactant and distilling these reaction mixtures. Methyl acetate, acetic acid and vinyl acetate can be separated and recovered, and the distillation bottoms containing catalyst can be recycled for further reaction. The method of the present invention described in detail above produces ethylidene diacetate through a hydrocarbonylation reaction using an inexpensive catalyst, and has extremely high industrial significance.

以下、実施例によりさらに具体的に説明する。Hereinafter, this will be explained in more detail with reference to Examples.

実施例1耐圧反応器に酢酸メチル20g、酢酸15g、
沃化メチル13g1ニッケル粉末0.5g1塩化ルテニ
ウム0.25g1およびトリフェニルホスフィン5.6
1gを入れ、一酸化炭素と水素の混合ガス(容積比2:
1)を180k9/dまで圧入した。加熱して175:
Cとし、この温度て4時間撹拌を続けた。冷却後の液中
にはエチリデンジアセテート2.32g1無水酢酸5.
26gが含まれていた。実施例2塩化ルテニウムのかわ
りにドデカカルボニル三ルテニウム(RU3(CO)1
2)0.254gを用いた以外は実施例1と同様の操作
を行なつた。
Example 1 In a pressure reactor, 20 g of methyl acetate, 15 g of acetic acid,
Methyl iodide 13g 1 Nickel powder 0.5g 1 Ruthenium chloride 0.25g 1 and triphenylphosphine 5.6
Add 1g of carbon monoxide and hydrogen mixed gas (volume ratio 2:
1) was press-fitted to 180k9/d. Heat to 175:
C and continued stirring at this temperature for 4 hours. After cooling, the liquid contained 2.32 g of ethylidene diacetate, 1 acetic anhydride, and 5.
It contained 26g. Example 2 Dodecacarbonyltriruthenium (RU3(CO)1) was used instead of ruthenium chloride.
2) The same operation as in Example 1 was performed except that 0.254 g was used.

反応後の液中にはエチリデンジアセテート2.27g1
無水酢酸5.26gが含まれていた。実施例3 反応器に酢酸メチル20g1酢酸15g1沃化メチル1
3g1ニッケル粉末0.5g1塩基性酢酸ルテニウム0
.280g1およびトリフェニルホスフィン7.65g
を入れ、実施例1と同様に反応を行なつた。
After the reaction, 2.27 g of ethylidene diacetate was found in the solution.
It contained 5.26 g of acetic anhydride. Example 3 20 g of methyl acetate 1 15 g of acetic acid 1 1 methyl iodide in a reactor
3g1 nickel powder 0.5g1 basic ruthenium acetate 0
.. 280g1 and triphenylphosphine 7.65g
was added, and the reaction was carried out in the same manner as in Example 1.

反応後の液中にはエチリデンジアセテート2.58g、
無水酢酸13.9gが含まれていた。実施例4反応器に
酢酸メチル20g、酢酸15g、沃化メチル13g1ニ
ッケル粉末0.25g1および塩化ルテニウム0.5g
を入れ、実施例1を同様に反応を行なつた。
After the reaction, the solution contained 2.58 g of ethylidene diacetate,
It contained 13.9 g of acetic anhydride. Example 4 In a reactor, 20 g of methyl acetate, 15 g of acetic acid, 13 g of methyl iodide, 0.25 g of nickel powder, and 0.5 g of ruthenium chloride were added.
was added, and the reaction was carried out in the same manner as in Example 1.

反応後の液中にはエチリデンジアセテート0.39g無
水酢酸1.23g/)く含まれていた。実施例5反応器
に酢酸メチル20g1酢酸15g1沃化メチル13g1
ニッケル粉末0.5g1塩化ルテニウム0.5g1およ
びトリフェニルホスフィン6.0gを入れ、実施例1と
同様に反応を行なつた。
The solution after the reaction contained 0.39 g of ethylidene diacetate and 1.23 g of acetic anhydride. Example 5 20 g of methyl acetate, 15 g of acetic acid, 13 g of methyl iodide in a reactor.
0.5 g of nickel powder, 0.5 g of ruthenium chloride, and 6.0 g of triphenylphosphine were added, and a reaction was carried out in the same manner as in Example 1.

反応後の液中にはエチリデンジアセテート3.76g1
無水酢酸1.68gが含まれていた。
After the reaction, 3.76 g of ethylidene diacetate was found in the solution.
It contained 1.68 g of acetic anhydride.

実施例6反応器に酢酸メチル20g1酢酸15g1沃化
メチル13g1ニッケル粉末0.5g1ドデカカルボニ
ル三ルテニウム(RU3(CO)12)0.256gお
よび2,6−ルチジン4.17gを入れ、実施例1と同
様にして8時間反応を行なつた。
Example 6 20 g of methyl acetate, 15 g of acetic acid, 13 g of methyl iodide, 0.5 g of nickel powder, 0.256 g of dodecacarbonyl triruthenium (RU3(CO)12) and 4.17 g of 2,6-lutidine were placed in a reactor, and the same reaction mixture as that of Example 1 was added. The reaction was carried out in the same manner for 8 hours.

反応後の液中にはエチリデンジアセテート0.56gが
含まれていた。実施例7 反応器に酢酸メチル20g1酢酸15g1沃化メチル1
0g.,Ni(P(C6H5)3)2(CO)20.5
gおよび塩化ルテニウム0.25gを入れ、実施例1と
同様に反応を行なつた。
The solution after the reaction contained 0.56 g of ethylidene diacetate. Example 7 20 g of methyl acetate 1 15 g of acetic acid 1 1 methyl iodide in a reactor
0g. , Ni(P(C6H5)3)2(CO)20.5
g and 0.25 g of ruthenium chloride were added, and the reaction was carried out in the same manner as in Example 1.

反応後の液中にはエチリデンジアセテート1.27gが
含まれていた。実施例8反応器に酢酸メチル20g1ア
セトフェノン15g、沃化メチル13g、ニッケル粉末
0.5g、塩化ルテニウム0.25g1およびトリーn
−ブチルアミン3.86gを入れ、一酸化炭素と水素の
混合ガス(容積比1゛1)を180k9/Cltまで圧
入した後、175比Cで4時間反応を行なつた。
The solution after the reaction contained 1.27 g of ethylidene diacetate. Example 8 In a reactor, 20 g of methyl acetate, 15 g of acetophenone, 13 g of methyl iodide, 0.5 g of nickel powder, 0.25 g of ruthenium chloride, and trinium
After 3.86 g of -butylamine was introduced and a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (volume ratio 1.1) was introduced under pressure to 180 k9/Clt, a reaction was carried out at a ratio of 175 C for 4 hours.

反応後の液中にはエチリデンジアセテート0.63gが
含まれていた。実施例9 反応器に酢酸メチル35g1沃化メチル13g1ニッケ
ルアセチルアセトン0.5g1塩化ルテニウム0.25
g1およびトリーn−ブチルホスフィン4.20gを入
れ、実施例1と同様に反応を行なつた。
The solution after the reaction contained 0.63 g of ethylidene diacetate. Example 9 Into the reactor, 35g of methyl acetate1 13g of methyl iodide1 0.5g of nickel acetylacetone1 0.25g of ruthenium chloride
g1 and 4.20 g of tri-n-butylphosphine were added, and the reaction was carried out in the same manner as in Example 1.

反応後の液中にはエチリデンジアセテート2.21g/
)く含まれていた。実施例10 反応器に酢酸メチル20g1酢酸15g1沃化カルシウ
ム10g1沃化ニッケル0.5g1塩化ルテニウム0.
25g1およびトリフェニルフィン1.47gを入れ、
一酸化炭素を水素の混合ガス(容積比3:1)を180
k9/Cltまで圧入し、185たCで8時間反応を行
なつた。
After the reaction, the solution contained 2.21 g of ethylidene diacetate/
) were included. Example 10 In a reactor, 20 g of methyl acetate, 15 g of acetic acid, 10 g of calcium iodide, 0.5 g of nickel iodide, 0.5 g of ruthenium chloride.
Add 25g1 and 1.47g of triphenylphine,
Mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (volume ratio 3:1) at 180%
The mixture was pressurized to k9/Clt and the reaction was carried out at 185 C for 8 hours.

反応後の液中にはエチリデンジアセテート1.33gが
含まれていた。実施例11反応器に酢酸20g、沃化メ
チル13g、ニッケル粉末0.5g、塩化ルテニウム0
.25g、およびトリフェニルホスフィン5.61gを
入れ、ジメチルエーテル20gを導入した。
The solution after the reaction contained 1.33 g of ethylidene diacetate. Example 11 In a reactor, 20 g of acetic acid, 13 g of methyl iodide, 0.5 g of nickel powder, and 0 g of ruthenium chloride were added.
.. 25 g and 5.61 g of triphenylphosphine were added, and 20 g of dimethyl ether was introduced.

一酸化炭素と水素の混合ガス(容積比4:1)を180
k9/Cllまで圧入した。加熱して1751Cとし、
この温度で8時間撹拌を続けた。冷却後の液中にはエチ
リデンジアセテート1.22gが含まれていた。比較例
1 反応器に酢酸メチル20g1酢酸16g..沃化メチル
13g1ニッケル粉末0.58g1沃化リチウム0.6
7g1およびトリーn−ブチルホスフィン4.5gを入
れ、一酸化炭素と水素の混合ガス(容積比1:1)を2
00kg/CILまで圧入した。
Mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (volume ratio 4:1)
It was press-fitted to k9/Cll. Heat to 1751C,
Stirring was continued at this temperature for 8 hours. The cooled liquid contained 1.22 g of ethylidene diacetate. Comparative Example 1 20g of methyl acetate 16g of acetic acid in a reactor. .. Methyl iodide 13g 1 nickel powder 0.58g 1 lithium iodide 0.6
7g1 and tri-n-butylphosphine 4.5g, and mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (volume ratio 1:1) were added.
It was press-fitted to 00 kg/CIL.

加熱して2000Cとし、この温度で所定の時間反応を
行なつた。冷却後の液中には無水酢酸4.96gととも
にエチリデンジアセテートが検出された。比較例2反応
器に酢酸メチル20g、酢酸15g、沃化メチル13g
1塩化ルテニウム0.25g1およびトリフェニルホス
フィン5.61gを入れ、実施例1と同様に反応を行な
つた。
The mixture was heated to 2000C, and the reaction was carried out at this temperature for a predetermined period of time. After cooling, ethylidene diacetate was detected along with 4.96 g of acetic anhydride. Comparative Example 2 20g of methyl acetate, 15g of acetic acid, 13g of methyl iodide in a reactor
0.25 g of ruthenium monochloride and 5.61 g of triphenylphosphine were added, and a reaction was carried out in the same manner as in Example 1.

反応後の液中にはエチロノデンジアセテート9.5m9
、無水酢酸3.7mgが含まれていた。比較例3 ニッケル粉末0.5gの代りにクロム粉末0.5gを用
いた以外は実施例1と同様の反応を行なつた。
After the reaction, there was 9.5 m9 of ethylonodene diacetate in the solution.
, 3.7 mg of acetic anhydride were contained. Comparative Example 3 The same reaction as in Example 1 was carried out except that 0.5 g of chromium powder was used instead of 0.5 g of nickel powder.

・(すなわち、この例は比較例2にクロム粉末0.5g
を添加した例に相当する。)゛反応後の液中にはエチリ
デンジアセテート9.2即、無水酢酸4.1m9が含ま
れていた。
・(In other words, in this example, 0.5g of chromium powder was added to Comparative Example 2.
This corresponds to an example in which . ) The solution after the reaction contained 9.2 m of ethylidene diacetate and 4.1 m9 of acetic anhydride.

比較例4 ノ ニッケル粉末0.5gの代わりにクロムカルボニル
粉末0.5gを用いた以外は実施例1と同様の反応を同
なつた。
Comparative Example 4 The same reaction as in Example 1 was carried out except that 0.5 g of chromium carbonyl powder was used instead of 0.5 g of nickel powder.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 沃化物または臭化物であるハロゲン化物の少なくと
も一種、並びにニッケルおよびルテニウムを含有し、ニ
ッケルに対しルテニウムを1〜1/30(モル比)存在
させてなる触媒の存在下、実質的に無水の状態で、酢酸
メチルまたはジメチルエーテルと、一酸化炭素および水
素とを反応させることを特徴とする、エチリデンジアセ
テートの製造法。
1 Substantially anhydrous state in the presence of a catalyst containing at least one halide, which is an iodide or a bromide, and nickel and ruthenium, in which ruthenium is present in a molar ratio of 1 to 1/30 to nickel. A method for producing ethylidene diacetate, which comprises reacting methyl acetate or dimethyl ether with carbon monoxide and hydrogen.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0536733Y2 (en) * 1986-03-04 1993-09-17

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