JPS603720B2 - charge-coupled memory - Google Patents

charge-coupled memory

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JPS603720B2
JPS603720B2 JP8886076A JP8886076A JPS603720B2 JP S603720 B2 JPS603720 B2 JP S603720B2 JP 8886076 A JP8886076 A JP 8886076A JP 8886076 A JP8886076 A JP 8886076A JP S603720 B2 JPS603720 B2 JP S603720B2
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JP
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charge
data
signal
register
floating gate
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JP8886076A
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弘夫 若海
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NEC Corp
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Nippon Electric Co Ltd
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    • GPHYSICS
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    • G11CSTATIC STORES
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    • G11C19/28Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements
    • G11C19/282Digital stores in which the information is moved stepwise, e.g. shift registers using semiconductor elements with charge storage in a depletion layer, i.e. charge coupled devices [CCD]
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
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    • G11C19/285Peripheral circuits, e.g. for writing into the first stage; for reading-out of the last stage

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電荷結合素子を用いた電荷結合形メモリに関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a charge-coupled memory using a charge-coupled device.

電荷結合形メモリ(以下、CCDメモリと託す)は、一
般に入力部においてサンプリングによりディジタル情報
として注入された信号電荷が半導体基板表面に空乏層の
拡がりとして形成される鰭位の井戸に蓄えられ、非熱平
衡状態の間に半導体表面のかかる電位の井戸に沿って、
順次一方向へ転送される電荷結合素子形レジスタ(以下
、CCDレジスタと記す)から構成される。
In a charge-coupled memory (hereinafter referred to as a CCD memory), signal charges are generally injected as digital information through sampling at the input section, and are stored in wells at the fin level formed as an expanding depletion layer on the surface of a semiconductor substrate. Along the potential well of the semiconductor surface during thermal equilibrium,
It is composed of a charge-coupled device type register (hereinafter referred to as a CCD register) that sequentially transfers data in one direction.

従来のCCDメモリは、多数の列に配遣された電荷結合
形レジスタから成り、記憶された情報が、レジスタの一
端に設けられる再生増幅器で再生されて、そのまま鈴出
されるかあるいは再び同一レジスタ又は他の列のレジス
タに再書込みされるような構成であった。このような構
成では、メモリ素子内の情報を謙出すためには、最悪の
場合1列のレジス夕を全て転送するに要する時間が消費
される。即ち、議出し命令を送出してから、情報を検出
しうるまでの平均アクセスタイムが長いというシリァル
転送のCDメモリ特有の欠点があった。本発明は、かか
る欠点を軽減するために、出力手段をCCDレジスタの
中央部と終端部2ケ所に設けた構造から成るCCDメモ
リを提供するものである。本発明によれば、一定の転送
方向のレジスタに対し、平均のアクセスタイムを1/2
に野滅するために、レジスタの中央部と終端部に出力手
段を設ける。これらの出力手段は、信号電荷を検出する
ための電位の井戸を形成するために、蟹梅検出ゲートに
隣醸して、半導体基板内に電位障壁領域を設けて成る。
これら鰭荷検出ゲート下と電位障壁領域の表面電位は、
その上に絶縁膜を介して設けた共通のバイアス電極の直
流電圧によって決まるため、簡単に電位の井戸を形成で
きる。このような構造により、CCDレジスタの入力手
段から中央部の間に記憶された信号亀荷は「中央部の出
力手段により、又、CCDレジスタの中央部より終端部
の間に記憶された信号電荷は、終端部に設けられる出力
手段から検出されるため、1列のレジスタの終端部にの
み出力手段を有する構造の同一ビット数のメモリよりも
、アクセスタイムが短縮される。さらに、出力手段を1
つしか有しないCCDレジスタ構成で、1/2のビット
数を有するメモリに比較して、入力手段が減少するため
、高密度で大容量のCCDメモリを構成できる。以下、
図面を参照して本発明を詳細に説明する。
A conventional CCD memory consists of charge-coupled registers arranged in a number of columns, and the stored information is regenerated by a regenerative amplifier provided at one end of the register and then output directly or transferred to the same register or again. The configuration was such that it was rewritten to registers in other columns. In such a configuration, in the worst case, the time required to transfer an entire column of registers is consumed in order to retrieve the information in the memory element. That is, there is a drawback peculiar to the serial transfer CD memory that the average access time from the sending of the issue command to the time when information can be detected is long. In order to alleviate this drawback, the present invention provides a CCD memory having a structure in which output means are provided at two locations, one in the center and one at the end of the CCD register. According to the present invention, the average access time for registers in a fixed transfer direction can be reduced by half.
Output means are provided at the center and end portions of the register in order to make the output more accurate. These output means are formed by providing a potential barrier region in the semiconductor substrate adjacent to the crab plum detection gate to form a potential well for detecting signal charges.
The surface potential under these fin load detection gates and the potential barrier region is
Since it is determined by the DC voltage of a common bias electrode provided on top of the bias electrode via an insulating film, a potential well can be easily formed. With this structure, the signal charges stored between the input means and the central part of the CCD register are transferred by the output means of the central part, and the signal charges stored between the central part and the terminal part of the CCD register are Since this is detected from the output means provided at the end of the register, the access time is shorter than that of a memory with the same number of bits that has an output means only at the end of one column of registers. 1
With a CCD register configuration having only one CCD register, the number of input means is reduced compared to a memory having 1/2 the number of bits, so a high-density and large-capacity CCD memory can be constructed. below,
The present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

第1図は、本発明の実施例を示すCCDメモリの概略図
である。3段並列にCCDレジスタ貴1が配列され、各
レジスタ11は、入力線1・,12, 13、を綾たデ
ータを入力手段より書込み、転送を行う。
FIG. 1 is a schematic diagram of a CCD memory showing an embodiment of the present invention. CCD registers 1 are arranged in three stages in parallel, and each register 11 writes and transfers data transmitted through input lines 1, 12, and 13 from the input means.

再生信号線亀0を経た情報は、非破壊に再度入力手段に
て書込まれる。以後、繰り返し循環し続ける。論出しが
可能になると、CCDレジスタの中央部より入力手段側
(以下、A面と記す)の情報A,.,Aa、あるいはA
,2,ん2あるいはA,3,ん3は、それぞれ出力線D
2,D4,D6より謙出され、ディジタル信号を送出す
る。このとき、同時にCCDレジスタの中央部より終端
に近い側(以下、B面と託す)の情報B,.,&,ある
いはB,2,&2あるいはB,3,B沙もそれぞれ出力
線D,,D3,広から謙出される。情報の転送はシリア
ルに行なわれるため、A面のレジスタ内の情報は、時系
列に順次、A.,,A.2、あるいはA財,A22,あ
るいはA,3,A23の順序で謙出される。同様に、B
面の情報も、順次、B.・,B12,あるいはB,2,
B礎あるいはB3,B23の順序にて読出される。これ
らの情報は、非破壊に謙出される。情報の書込み/謙出
し‘こおいては、1つのCCDレジス夕のみより行なわ
れてもよいし、複数個のCCDレジスタをその動作にせ
しめることも可能である。また「誉込み/議出しの信号
処理データは、単一のどット情報のみであってもよし、
それらの集りであるブロック単位のデータであっても差
しつかえない。譲出いこ際しては、A面かB面のいずれ
かの情報のみを用いるともできるし、両方同時にデータ
信号として用いることも可能である。本実施例では、3
段のCCDレジスタからなる事例を述べているが、それ
以上の池段の構成をしても内容の趣旨を損なわない。第
2図は、実施例の具体的な構成を示した図である。
The information that has passed through the reproduction signal line 0 is non-destructively written again by the input means. After that, it continues to circulate repeatedly. When it becomes possible to issue a question, information A, . , Aa, or A
,2,n2 or A,3,n3 are the output lines D, respectively.
2, D4, and D6, and sends out a digital signal. At this time, information B, . , &, or B, 2, & 2 or B, 3, and Bsha are also output from the output lines D, , D3, and wide, respectively. Since information is transferred serially, the information in the registers on side A is transferred in chronological order to A. ,,A. 2, or goods A, A22, or goods A, 3, and A23. Similarly, B
B.・,B12, or B,2,
It is read out in the order of B base or B3 and B23. This information is revealed non-destructively. Writing/reading of information may be performed using only one CCD register, or a plurality of CCD registers may be used for this operation. In addition, "the signal processing data for honoring/proposing may be only a single dot information,"
It may be data in block units, which is a collection of such data. When transferring, it is possible to use only the information on either side A or B, or it is possible to use both information simultaneously as a data signal. In this example, 3
Although an example is described in which the CCD register is configured in tiers, the purpose of the content will not be lost even if the structure is configured in more tiers. FIG. 2 is a diagram showing a specific configuration of the embodiment.

第1図の構成のうち、2段のCCDレジスタを抜き出し
て示した。“1”又‘0”のディジタル信号として入力
線1,又は12に供給されたデータは、ゲート回路15
において、書込み命令信号WEとの論理積をとり、信号
線26に送られる。即ちWEがハイレベル(TTLレベ
ルで、2.4V以上)にあとき、1,又は12に送られ
たデータがゲート回路15を通過する。信号線26のい
ずかのデータは、デコードされたアドレス信号A,又は
A2との論理積により、ゲート回路16において選択さ
れる。説明を容易にするため、入力線1,のデータが選
択されたとしよう。アドレス信号により選択された信号
線27における時系列のデータは、ORゲート17にお
いて、後述する信号線25のデータとの論理和がとられ
、CCDレジスター 1の入力手段12のィンタフェィ
スとして設けられたバッファ増幅器18で反転、かつレ
ベル変換される。レベル変換されたデータは入力データ
線D1,に送られ、逆バイアスされたPN接合ダィオ−
ド12のカソード側の表面電位を振らせることによって
、CCDレジスタ11へ信号電荷を注入する。入力デー
タ線D1,のデータがディジット”1”の場合は電荷が
注入されず、ディジツト“0”の情報に変換されてCC
Dレジスター1内に記憶される。逆に、ディジット“0
”の場合は、鰭荷が注入され、ディジット”1”の情報
としてCCDレジス夕1 1に記憶される。以上のよう
に、入力手段12において、ディジタル信号は反転され
る。注入された電荷は、外部から供給される転送クロッ
クパルスによって、出力手段13a又は13bに向けて
CCDレジスター1を構成するP形半導体基板表面を転
送される。CCDレジスタ11の内を転送されてきた情
報は、後述する浮遊ゲー増幅器13a又は13bにおい
て反転した信号として検出され、夫々出力信号線D02
,D○,へ送出される。浮遊ゲート増幅器は、CCDレ
ジスタ11の中央部に13aとして、終機部に13bと
して設けられ、CCDレジスタ11の情報を非破壊に検
出する。従って浮遊ゲート増幅器13aで信号を出力信
号線D02に検出してもCCDレジスタ11の情報は失
なわれず、引き続き、出力手段13bへ向けて転送され
ていく。浮遊ゲー増幅器13b,13aにて同時に検出
された出力信号線○○,,D02の信号は、バッファ増
幅器19によりTTLレベルに変換されて、信号線22
に送られる。信号線22のデータは遅延ゲート40にて
1/2ビット遅延され、信号線28へ送られる。信号線
28は第1図のループ10に対応する。書込み命令信号
WEがロウレベル(TTLレベルで0.4V以下)のと
き、入力線1,のデー外ま、信号線27に送られない。
このとき、ィンバータ20によるWEの反転出力24が
/・ィレベルになるため、信号線28の再生遅延情報D
F,は、NANDゲート21により反転されて信号線2
5に送られれる。信号線25の再生データは、ORゲー
ト17を経て、バィフア増幅器18により反転され、レ
ベル変換がなされる。この場合、信号線27には、デー
タが送られてこないので、信号線28の再生データと入
力線1,の入力ータとが完全に分離される。レベル変換
された入力データ線D1,の再生データは、再び入力手
段12を介してCCDレジスタ11へ書込まれる。書込
み命令信号WEが活性化(ノ・ィレベル)されない限り
、CCDレジスタ11内の情報は、循環され続ける。C
CDレジスタ11内のデータは、浮遊ゲート増幅器13
bにて検出された後、逆バイアスされたシンクダィオー
ド14に吸収される。
Of the configuration shown in FIG. 1, two stages of CCD registers are extracted and shown. The data supplied to the input line 1 or 12 as a digital signal of “1” or “0” is sent to the gate circuit 15.
, it is ANDed with the write command signal WE and sent to the signal line 26. That is, when WE is at a high level (TTL level, 2.4V or more), the data sent to 1 or 12 passes through the gate circuit 15. Data on one of the signal lines 26 is selected in the gate circuit 16 by ANDing it with the decoded address signal A or A2. For ease of explanation, assume that data on input line 1 is selected. The time-series data on the signal line 27 selected by the address signal is logically summed with the data on the signal line 25 (described later) in the OR gate 17, and the data is logically summed with the data on the signal line 25, which will be described later, and the data is logically summed with the data on the signal line 25, which will be described later. The amplifier 18 inverts and converts the level. The level-converted data is sent to the input data line D1, and is connected to a reverse biased PN junction diode.
Signal charges are injected into the CCD register 11 by varying the surface potential on the cathode side of the gate 12. If the data on the input data line D1 is the digit "1", no charge is injected, and it is converted to the information of the digit "0" and sent to the CC.
Stored in D register 1. Conversely, digit “0”
In the case of ``, the fin charge is injected and stored in the CCD register 11 as information of digit ``1''.As described above, the digital signal is inverted in the input means 12.The injected charge is , the surface of the P-type semiconductor substrate constituting the CCD register 1 is transferred toward the output means 13a or 13b by a transfer clock pulse supplied from the outside.The information transferred in the CCD register 11 will be described later. It is detected as an inverted signal in floating game amplifier 13a or 13b, and output signal line D02, respectively.
,D○,. A floating gate amplifier is provided as 13a at the center of the CCD register 11 and as 13b at the end of the CCD register 11, and detects information in the CCD register 11 non-destructively. Therefore, even if the floating gate amplifier 13a detects a signal on the output signal line D02, the information in the CCD register 11 is not lost and continues to be transferred to the output means 13b. The signals on the output signal lines ○○, D02 detected simultaneously by the floating game amplifiers 13b and 13a are converted to TTL level by the buffer amplifier 19, and then sent to the signal line 22.
sent to. The data on signal line 22 is delayed by 1/2 bit by delay gate 40 and sent to signal line 28. Signal line 28 corresponds to loop 10 in FIG. When the write command signal WE is at a low level (0.4 V or less at TTL level), data other than data on the input line 1 is not sent to the signal line 27.
At this time, since the inverted output 24 of the WE by the inverter 20 is at /. level, the reproduction delay information D of the signal line 28 is
F, is inverted by the NAND gate 21 and connected to the signal line 2.
Sent to 5. The reproduced data on the signal line 25 passes through the OR gate 17, is inverted by the buffer amplifier 18, and undergoes level conversion. In this case, since no data is sent to the signal line 27, the reproduced data on the signal line 28 and the input data on the input line 1 are completely separated. The level-converted reproduced data on the input data line D1 is again written to the CCD register 11 via the input means 12. As long as the write command signal WE is not activated (no level), the information in the CCD register 11 continues to be circulated. C
The data in the CD register 11 is transferred to the floating gate amplifier 13.
After being detected at point b, it is absorbed by the reverse biased sink diode 14.

このシンクダィオードは、PN接合ダイオードから成り
、カソード側に送られてきた多数キャリア電子をカソー
ドにオーミックコンタクトをとった電源ラインへ吸収す
る。CCDレジスタ11のデータの議出しを行う場合に
は、読出し命令信号REから活性化(/・ィレベルの状
態)されたパルス信号が送られる。
This sink diode is composed of a PN junction diode, and absorbs majority carrier electrons sent to the cathode side into a power supply line that is in ohmic contact with the cathode. When data is to be read from the CCD register 11, a pulse signal activated (in a state of /-level) is sent from the read command signal RE.

すると、再生された信号線28のデータDF,は、ィン
バータ3川こより反転され、ゲート回路29aを経て、
出力線D,に藷出される。D,への議出しが非破壊のた
め、出力信号線○○,のデー外ま、読出しと同時に再生
データとしてCCDレジスタ11へ書込まれる。出力線
D,ヘデータの議出しが行なわれている時には、出力信
号線○02のデータも同時にゲート回路26bを経て出
力線D2へ読出される。即ち、CCDレジスタ11のA
面、B面の情報は、それぞれ論出し命令後順次D2,D
,から読出される。これまで、入力線1,から書込まれ
た情報の処理過程について述べたが、アドレス信号A2
により入力線12のデータが選択された場合も同様な過
程により信号処理が行なわれる。
Then, the reproduced data DF of the signal line 28 is inverted by the inverter 3, passes through the gate circuit 29a,
It is output to the output line D. Since the input to D is non-destructive, the data outside the output signal line ○○ is written to the CCD register 11 as reproduced data at the same time as it is read. When data is being sent to the output line D, the data on the output signal line 02 is simultaneously read out to the output line D2 via the gate circuit 26b. That is, A of the CCD register 11
The information on side and B side is sequentially D2 and D after the issue command, respectively.
, is read from. So far, we have described the processing process of information written from input line 1, but address signal A2
When the data on the input line 12 is selected, signal processing is performed in a similar process.

CCDレジスタ11へのデータ苔込みは、入力データ線
D12から供給される。データの講出し時には、出力信
号線D03,D04のデータが1/2ビット遅延されて
生じる遅延信号DF3,DF4が、それぞれ同時に出力
線○3,D4へ謙出される。浮遊ゲート増幅器13a又
は13bは、CCDレジスタ11の上にオンチツプ化さ
れ、ゲート回路15,16,17,21,29a,29
b、遅延ゲート40、インバータ20,30、バッファ
増幅器18,19も全てCCDレジスタ11を含めてI
C化することができる。
Data input to the CCD register 11 is supplied from an input data line D12. When data is output, delayed signals DF3 and DF4 generated by delaying the data on output signal lines D03 and D04 by 1/2 bit are simultaneously outputted to output lines ○3 and D4, respectively. The floating gate amplifier 13a or 13b is on-chip on the CCD register 11, and has gate circuits 15, 16, 17, 21, 29a, 29
b, delay gate 40, inverters 20, 30, buffer amplifiers 18, 19, including CCD register 11.
It can be converted into C.

これらゲート回路、遅延ゲート、インバータ、バッファ
増幅器は、通常のMOS構造の回路素子として実現でき
で〕。次にCCDレジスタを構成するCCDの構造と、
浮遊ゲート増幅器の構造を明らかにすることによって、
信号電荷がレジスタ内を転送される状況を説明しよう。
These gate circuits, delay gates, inverters, and buffer amplifiers can be realized as ordinary MOS circuit elements. Next, the structure of the CCD that constitutes the CCD register,
By revealing the structure of a floating gate amplifier,
Let us explain the situation in which signal charges are transferred within a register.

第3図に、1段CCDレジスタと入出力手段の構造を示
す。
FIG. 3 shows the structure of the one-stage CCD register and the input/output means.

この図は、第2図の一点鎖線23の部分を表わしている
。本明細書においては、P形導蟹性のシリコン基板に塞
いて構成例を説明するが、本発明は、N形導電圧の物質
を用いても実施可能である。また、本発明は、シリコン
に限定されず、電荷結合デバイスを作りうる物質ならば
どのような物質を用いても実施できる。本明細書におけ
るCCDでは、P形半導体基板31の上に、絶縁膜32
を介して、直流ゲートVB及び転送ゲートぐの導電電極
が形成かれ、転送に方向性を与えるため、各ゲート電極
下に、高濃度の不純物P十領域35が周期的に設けられ
る。
This figure represents the portion indicated by the dashed-dotted line 23 in FIG. In this specification, a configuration example will be explained using a P-type conductive silicon substrate, but the present invention can also be implemented using an N-type conductive material. Furthermore, the present invention is not limited to silicon, but can be implemented using any material that can form a charge-coupled device. In the CCD in this specification, an insulating film 32 is formed on a P-type semiconductor substrate 31.
Conductive electrodes for the DC gate VB and the transfer gate are formed through the gate electrodes, and in order to give directionality to the transfer, high concentration impurity P regions 35 are periodically provided under each gate electrode.

このような構造では、濃度の高いご領域35の表面電位
が、P領域31の表面電位に比して浅くなる。即ち、各
電極下の電位分布に段差が生まれ、後述する手段により
電荷の転送が可能になる。第3図に示したCCDは、1
相駆動用としてゲート電極を配置しているが、直流VB
を転送パルスぐと1800位相がずれたパルスとするこ
とにより2相駆動も可能でる。CCDレジスタへの信号
電荷の注入(書込み)は、P形半導体基板31の表面に
設けられたN+領域の表面電位を入力データ線DIのデ
ィジタル信号に応じて振らせることにより達成される。
ここで、入力データ線DIは、第2図に示した入力デー
タ線D1i(iご1,2)に対応する。そのデータの書
込み過程を動作波形を示した第4図により説明する。第
4図は、アドレス信号A,が期間Toにおいて活性化さ
れた場合を示している。書込み命令信号WEが活性化さ
れると、入力線1,に供給されたデータ群“1011”
力汀,の期間だけ書込み可能になる。データ群“101
rは1例として示したものである。時刻t,において、
スタートデータ”1”は入力データ線DIに反転、かつ
レベル変換されて供給される。即ち、入力手段を形成す
るN+領域34aの表面電位は浅く、36aの電位に設
定される。第3図の36は、時刻りこおける各ゲート電
極下、N十領域及び有効チャネルCCD領域の周囲の半
導体表面を覆うr十領域39の表面電位分布を表わす。
M十十領域39は、P十領域35よりも高濃度の不純物
領域であるため、その表面電位が最も浅いQ転送パルス
?の電極下には、◇=OVのとき、浅い37の電位分布
、0=VPのとき、深に.36cの電位分布が形成かれ
る。また、直流VBの電極には、その表面電位が転送パ
ルス0の電極下の表面電位が最大・最小を成す電位分布
のほぼ中間に位置する分布36dを成すような電圧VB
が供給される。入力データ線DIには、直流VBの電極
33a下の表面電位を間にはさんで、その情報“0”,
“1”に応じて、夫々36a,36bの電位分布が形成
されるような電圧レベルを供V給する。かようなしベル
の電圧は、第2図に示したバッファ増幅器18にて生成
される。以上のようにして形成された電位分布36にお
いては、直流バイアス電極33aを間にはさんで、N+
領域34aに最も近い転送パルス?の電極下は、電位の
弁戸36eを形成する。従って、N十領域34a下の多
数キャリア鰭子38aは、“1”の情報をもつ信号電荷
として、電位の井戸36eへ移される。時刻t2へ推移
すると、各ゲート電極下、N十領域等の表面電位は37
に示す分布に変わる。従って、36eの電位の井戸に蓄
えられていた“1”の信号電荷は、直流ゲートV8の電
極下の電位の井戸37bへ転送される。このとき、N+
領域34aにデータが供繋笹されても、転送パルスゲー
ト&の電極下に形成される電位障壁によりCCDレジス
タ内へ信号電荷は供給されない。時刻ら‘こなると、N
+領域34aの表面電位は、36bの分布を形成する。
従って電荷の注入は起こらない。即ち、情報“0”がC
CDレジスタへ転送されたことを意味する。以後同用に
して、全データ群“1011”がCCDレスタ内へ書込
まれる。データの書込みが終了しても、シンクダィオー
ドを形成するW領域34bへ向けて電荷の転送が続けら
れる。穣終的にN十領域34bの表面へ転送される。例
えば、新しいデータの書込時、即ち時刻t,において、
直流電極330に隣接する転送電極下の鰭位の井戸に蓄
えられていた信号電荷38d(旧データ)は、時刻t2
において、電極33b下表面を通過して、N+領域34
bの表面へ移される。P領域31とN+領域34bから
成るダイオードは正電源Voにより逆バイアスされてい
るので、電源Voの供給線に電荷を全て吸い取る。N十
領域34bの表面は常時37cの電位を形成する。最終
的に電荷の消滅が行なわれても、本発明のCCDメモリ
は再生機能を有する。
In such a structure, the surface potential of the high concentration region 35 is shallower than the surface potential of the P region 31. That is, a step is created in the potential distribution under each electrode, and charges can be transferred by the means described later. The CCD shown in Figure 3 is 1
Although the gate electrode is arranged for phase drive, DC VB
Two-phase driving is also possible by setting the transfer pulse to a pulse whose phase is shifted by 1800 degrees. Injection (writing) of signal charges into the CCD register is achieved by varying the surface potential of the N+ region provided on the surface of the P-type semiconductor substrate 31 in accordance with the digital signal of the input data line DI.
Here, the input data line DI corresponds to the input data line D1i (i 1, 2) shown in FIG. The data writing process will be explained with reference to FIG. 4 showing operating waveforms. FIG. 4 shows the case where address signal A is activated during period To. When the write command signal WE is activated, the data group “1011” supplied to the input line 1
It becomes writable only during the power period. Data group “101”
r is shown as an example. At time t,
The start data "1" is inverted and level-converted and supplied to the input data line DI. That is, the surface potential of the N+ region 34a forming the input means is shallow and is set to the potential of 36a. Reference numeral 36 in FIG. 3 represents the surface potential distribution of the r+ region 39 covering the semiconductor surface under each gate electrode, around the N+ region and the effective channel CCD region.
Since the M10 region 39 is an impurity region with a higher concentration than the P10 region 35, its surface potential is the shallowest Q transfer pulse? Under the electrode, when ◇=OV, there is a shallow potential distribution of 37, and when 0=VP, it is deep. A potential distribution of 36c is formed. Further, the voltage VB is applied to the DC VB electrode so that its surface potential forms a distribution 36d located approximately in the middle of the potential distribution where the surface potential under the electrode of transfer pulse 0 forms the maximum and minimum.
is supplied. The input data line DI is connected to the surface potential under the DC VB electrode 33a, and the information "0",
In response to "1", a voltage level is supplied such that the potential distributions of 36a and 36b are formed, respectively. The voltage of such a bell is generated by a buffer amplifier 18 shown in FIG. In the potential distribution 36 formed as described above, N+
Transfer pulse closest to region 34a? A potential valve door 36e is formed below the electrode. Therefore, the majority carrier fin 38a under the N+ region 34a is transferred to the potential well 36e as a signal charge having information of "1". As time progresses to time t2, the surface potential under each gate electrode, such as the N0 region, becomes 37.
The distribution changes to the one shown in . Therefore, the "1" signal charge stored in the potential well 36e is transferred to the potential well 37b below the electrode of the DC gate V8. At this time, N+
Even if data is supplied to the region 34a, no signal charge is supplied into the CCD register due to the potential barrier formed under the transfer pulse gate & electrode. When the time comes, N
The surface potential of the + region 34a forms a distribution 36b.
Therefore, no charge injection occurs. That is, information “0” is C
This means that it has been transferred to the CD register. Thereafter, in the same manner, the entire data group "1011" is written into the CCD register. Even after data writing is completed, charge continues to be transferred to the W region 34b forming the sink diode. Eventually, it is transferred to the surface of the N0 area 34b. For example, when writing new data, that is, at time t,
The signal charge 38d (old data) stored in the well at the fin level under the transfer electrode adjacent to the DC electrode 330 is stored at time t2.
, passing through the lower surface of the electrode 33b and forming the N+ region 34.
transferred to the surface of b. Since the diode made up of the P region 31 and the N+ region 34b is reverse biased by the positive power source Vo, it absorbs all the charge to the supply line of the power source Vo. The surface of the N+ region 34b always forms a potential of 37c. Even if the charge is finally eliminated, the CCD memory of the present invention has a reproducing function.

即ち、公知の例として知られる浮遊ゲート電極33cに
て、そのゲート下における信号電荷の有無を検出する。
本発明では、信号電荷を検出するための電位の井戸を形
成する目的で、浮遊ゲート33c上に絶縁膜32を介し
て設けたバイアス電極33dをその直下に浮遊ゲート3
3cの無い絶縁膜32の領域まで拡げ、このゲート33
cの無い絶縁膜32と基板31との界面に、P十領域3
5aを設けた。電極33dには、直流電極33と共通の
電源電圧VBが供給される。また、P+領域35aの不
純物濃度は、P+領域35と同じであってよいので、製
造プロセスが簡単になる。P+領域35aの表面電位は
、ゲート33c下の基板31の表面電位よりも浅くなる
ので、電極33dの下の半導体表面には、電位の段差が
できる。従来浮遊ゲート増幅器では、2つの電極に別々
の電圧を印加する方法で、この電位の段菱を形成してい
たが、本発明によれば、単−電極のみで電極33cの下
の基板31表面に電位の井戸を生成できる。したも、バ
イアス電極には電荷転送時の電位分布を形成する直流電
極の電源VBと共通のものが使用できるため、メモリシ
ステムへ供給する外部源数が減少する。前述した浮遊ゲ
ート、バイアス電極及びP+領域を電荷検出手段とする
浮遊ゲート増幅器の平面構造図を第5図に示す。
That is, the presence or absence of signal charges under the floating gate electrode 33c, which is a well-known example, is detected.
In the present invention, in order to form a potential well for detecting signal charges, a bias electrode 33d provided on the floating gate 33c via an insulating film 32 is placed directly below the floating gate 33c.
This gate 33 is expanded to the region of the insulating film 32 where there is no gate 3c.
A P region 3 is formed at the interface between the insulating film 32 and the substrate 31 without c.
5a was provided. A power supply voltage VB common to the DC electrode 33 is supplied to the electrode 33d. Further, since the impurity concentration of P+ region 35a may be the same as that of P+ region 35, the manufacturing process is simplified. Since the surface potential of P+ region 35a is shallower than the surface potential of substrate 31 under gate 33c, a step in potential is created on the semiconductor surface under electrode 33d. In a conventional floating gate amplifier, a step diamond of this potential was formed by applying separate voltages to two electrodes, but according to the present invention, the surface of the substrate 31 under the electrode 33c is formed using only a single electrode. can generate a potential well. However, since the bias electrode can be shared with the power source VB of the DC electrode that forms the potential distribution during charge transfer, the number of external sources to be supplied to the memory system is reduced. FIG. 5 shows a planar structural diagram of a floating gate amplifier using the aforementioned floating gate, bias electrode, and P+ region as charge detection means.

第6図は、第5図の×−X′で切断したときの断面図も
表わす。第5図及び第6図において、各番号は第3図に
示すものと同一構成要素を意味する。また、増幅器の出
力端子00は、第2図の出力信号線Di(i=1…4)
に対応する。今、第3図に示すように、時刻t,におい
て、浮遊ゲート増幅器に隣接する転送ゲートJの電極下
に信号電荷38cが蓄えられているとしよう。この時、
浮遊ゲート33c下の表面は、電位36fに固定されて
いる。時刻t2になると、浮遊ゲートの電極下に生じる
電位の井戸36fへ移され、転送パルスJが/・ィレベ
ル(VP)を維持する間、信号電荷はこの電位の井戸に
蓄えられる。すると、電極33c下の表面電位は、蓄え
られる電荷量に対応して浅くなる。時刻ら‘こおいて電
極33c下に△Qの信号電荷が蓄えられると、浮遊ゲー
ト33cの電極の基板に対する電位変動△Vは、次式与
えられる。ここに、c,は、信号電荷Qと浮遊ゲー33
c間のキャパシタ、c2は、浮遊ゲート33cとバイア
ス電極33d間のキャパシタ、c3は信号電荷△Qと基
板31(接地0に接続されている)間のキャバソタ、c
4は、浮遊33cとP++領域39間のキャパンタ、c
5は、34cをドレイン、34dをソースとするMOS
トランジスタの入力ゲート容量を表わす。
FIG. 6 also shows a sectional view taken along the line x-X' in FIG. In FIGS. 5 and 6, each number means the same component as shown in FIG. 3. In addition, the output terminal 00 of the amplifier is connected to the output signal line Di (i=1...4) in FIG.
corresponds to Assume now that, as shown in FIG. 3, at time t, signal charges 38c are stored under the electrode of the transfer gate J adjacent to the floating gate amplifier. At this time,
The surface below floating gate 33c is fixed at potential 36f. At time t2, the signal charge is transferred to the potential well 36f generated under the electrode of the floating gate, and is stored in this potential well while the transfer pulse J maintains the level (VP). Then, the surface potential under the electrode 33c becomes shallower in accordance with the amount of stored charge. When a signal charge of ΔQ is stored under the electrode 33c at a certain time, the potential fluctuation ΔV of the electrode of the floating gate 33c with respect to the substrate is given by the following equation. Here, c, is the signal charge Q and the floating gate 33
c2 is a capacitor between floating gate 33c and bias electrode 33d, c3 is a capacitor between signal charge ΔQ and substrate 31 (connected to ground 0), c
4 is a capantor between floating 33c and P++ region 39, c
5 is a MOS whose drain is 34c and source is 34d.
Represents the input gate capacitance of a transistor.

‘11式は1974王12自発行のァィ・ィ・ィ・イジ
ヤーナル オブ ソリツドステートサーキツト(IE3
JomM1 of Solid一StaにCircu
iG)の410ページ以降に掲載された「デザイン ア
ンドオベレーシヨン オブ ア フローテイング ゲー
トアンブリフアイア(Desi籾andOperati
onof a FloatingGaにAmplihe
r)」なる論文に記述かれている。
'11 type is the original of Solid State Circuits (IE3) published by King 12 in 1974.
JomM1 of Solid - Sta to Circu
"Design and Observation of a Floating Gate Amblyire (Desi Rice and Operati)" published on page 410 and later of iG)
Amplihe onof a FloatingGa
r)” is described in the paper.

ゲート33cの電圧変化△Vは、第5図に示したソース
ホロワ型増幅器にて、増幅されて出力端子DOに生じる
。ソースホロワ型増幅器は、ゲートを33cとして正電
源VPPに接続されたるN十領域34c出力端子DOに
接続されたN十領域34d、出力端子DOと接地端子0
間に設けた抵抗Rから成る。N+領域34c,34dの
不純物度は、第3図に示すN十領域34a,34bと同
一であってよい。抵抗Rは、数百Q/□の層抵抗を有す
る拡散層、又は外部に設ける受動素子であってもよい。
ゲート33c、ドレイン34c、ソース34dから成る
MOSトランジスタは、CCDと同一チップ上にIC化
される。ゲート33cの電圧変化が△Vのとき、出力端
子DOに発生する電圧変動△Voは、MOSトランジス
タの相互コンダクタンスをgmとする、△V。=△v,
隼麓R.‐.‘2,なる式で与えられる 電位36日こ信号電荷が無に場合のソースホロワ型浮遊
ゲート増幅器の出力DOの電圧をVsBとすると、ディ
ジタル信号“1”に相当する電荷△Qが位36fに供V
給された時には、ゲート33cの鰭位が△Vだけがる。
The voltage change ΔV at the gate 33c is amplified by the source follower type amplifier shown in FIG. 5 and is generated at the output terminal DO. The source follower type amplifier has a gate 33c, an N0 region 34c connected to the positive power supply VPP, an N0 region 34d connected to the output terminal DO, an output terminal DO and a ground terminal 0.
It consists of a resistor R provided in between. The impurity degree of the N+ regions 34c and 34d may be the same as that of the N+ regions 34a and 34b shown in FIG. The resistance R may be a diffusion layer having a layer resistance of several hundred Q/□ or a passive element provided externally.
A MOS transistor consisting of a gate 33c, a drain 34c, and a source 34d is integrated into an IC on the same chip as the CCD. When the voltage change at the gate 33c is ΔV, the voltage variation ΔVo generated at the output terminal DO is ΔV, where gm is the mutual conductance of the MOS transistor. =△v,
Hayabusa R. -. If the voltage of the output DO of the source follower type floating gate amplifier when there is no signal charge is VsB, then the charge △Q corresponding to the digital signal "1" is supplied to the potential 36f given by the equation: '2. V
When fed, the fin level of the gate 33c increases by △V.

従って出力端子DOの電位も△Voだけ下がり、Vsの
電位に設定される。即ち、CCDレジスタ内の検出され
る。転送パルスぐの電圧が0になっても電荷が電位36
fに移送されなければ、出力端子DOの電位変動は起こ
らず、VsBの電位に維持される。この場合には、CC
Dレジスタ内の情報“0”がディジツト“1”として検
出される。第4図には、期間T,において、CCDレジ
スタのシンクダィオード近傍に設けた浮遊ゲ−−ト増幅
器から、出力信号D○,に信号電極38d,38cが続
いて検出される例示す。また、同時に、CCDレジスタ
の中央部に設けた他の1つの浮遊ゲート増幅器から、出
力信号線○02に信号電荷38bが検出される例も示す
。出力信号線DO.又はD02の情報は、Jのオフの期
間で有効である。かようにして、連続する転送過程にお
いて、浮遊ゲート下に転送されてきた信号電荷は、クロ
ツクパルスJに同期して、絶えず出力信号D0,又はD
02へ再生検出される。前述したように、出力信号線○
○,に再生された情報は、書込み命令信号のオフの期間
において入力手段からCCDレジスタへ再警込みされて
、繰返し循環し続ける。即ち、第4図の期間T2がデー
タの準環期間に相当する。第3図には、1つの転送ゲー
トとその隣りの1つの直流ゲートから成る単位を1ビッ
トとして、信号電荷検出用のバイアスゲートを含めて、
6ビットの素子t,の素子から成るCCDレジスタが示
されている。
Therefore, the potential of the output terminal DO also decreases by ΔVo, and is set to the potential of Vs. That is, it is detected in the CCD register. Even if the voltage of the transfer pulse becomes 0, the charge remains at a potential of 36
If it is not transferred to f, the potential of the output terminal DO will not fluctuate and will be maintained at the potential of VsB. In this case, CC
Information "0" in the D register is detected as a digit "1". FIG. 4 shows an example in which the signal electrodes 38d and 38c are successively detected in the output signal D◯ from the floating gate amplifier provided near the sink diode of the CCD register during the period T. At the same time, an example is also shown in which a signal charge 38b is detected on the output signal line ○02 from another floating gate amplifier provided in the center of the CCD register. Output signal line DO. Alternatively, the information of D02 is valid during the off period of J. In this way, in the continuous transfer process, the signal charges transferred under the floating gate are constantly output to the output signal D0 or D in synchronization with the clock pulse J.
02 is detected. As mentioned above, the output signal line○
The information reproduced in ○, is re-alerted from the input means to the CCD register during the off period of the write command signal, and continues to be circulated repeatedly. That is, the period T2 in FIG. 4 corresponds to the quasi-cyclic period of data. In Figure 3, a unit consisting of one transfer gate and one DC gate next to it is taken as one bit, and a bias gate for signal charge detection is included.
A CCD register consisting of 6-bit elements t, is shown.

時刻ら以後順次書込まれた入力線1,のデータ群“10
11”は、出力信号線D02にはCCDレジスタ内を入
力部12から教えて3ビット転送後、第4図に示すよう
に「時刻t4以後時系列に反転されて“0100’1の
情報として検出される。時刻1以後は、書込みデータが
無いので、‘11”の情報の連続になる。他方、出力信
号線D○,には、時刻t4以後さらに3ビット転送後、
時刻t5以後時系列に”010ぴの情報が検出される。
時刻ら以後は、書込みデータが無いので、“1”ろ情報
の連続になる。この世力信号線○○,の情報は、1/2
ビット遅延され、期間T2において第2図に示す信号線
22,28,25を経て入力データ線D1,へ送られる
。そして再び反転され、CCDレジスタ内に“1011
”の情報そして書込まれる。1/2ビットの遅延ート4
川ま、転送パルスJに同期したゲートパルス◇,のハイ
レベルの期間だけ導通し、出力信号線○○,の情報を第
4図のDF,に示す時系列信号として、信号線28へ送
る。
Data group “10” of input line 1 written sequentially after time etc.
11" is sent to the output signal line D02 from the input section 12, and after 3 bits are transferred, the data is inverted in chronological order after time t4 and detected as information of "0100'1" as shown in FIG. be done. After time 1, there is no write data, so the information is '11' continuously.On the other hand, after time t4, after 3 more bits are transferred to the output signal line D○,
Information of "010pi" is detected in chronological order after time t5.
After the time, since there is no write data, "1" information continues. The information on this world power signal line ○○ is 1/2
The signal is bit delayed and sent to the input data line D1 through the signal lines 22, 28, and 25 shown in FIG. 2 during the period T2. Then, it is inverted again and “1011” is written in the CCD register.
” information and written. 1/2 bit delay root 4
Kawama is conductive only during the high level period of the gate pulse ◇, which is synchronized with the transfer pulse J, and sends the information on the output signal line ○○ to the signal line 28 as a time-series signal shown in DF in FIG.

同様に、出力信号線○02の情報を1/2ビット遅延さ
れて、第4図DF2の信号として信号線28に送られる
。議出し命令信号REがLの期間活性化されると再生遅
延信号DF,及びDF2は、反転され、それぞれ出力線
D,,D2へデータ群“1011”及び“100びの情
報として読出かれる。
Similarly, the information on the output signal line ○02 is delayed by 1/2 bit and sent to the signal line 28 as the signal DF2 in FIG. When the output command signal RE is activated during the L period, the reproduction delay signals DF and DF2 are inverted and read out as data groups "1011" and "100" information to the output lines D, D2, respectively.

出力線D3,D4へのデータ読出しも同様に行なわれる
。1つのCDレジス夕かぁ2つの出力データのいずれを
選択して信号処理を行うかは、データを受ける外部装置
の機能により決まる。
Data reading to output lines D3 and D4 is performed in the same manner. Which of the one CD register data or the two output data is selected for signal processing is determined by the function of the external device receiving the data.

CCDレジスタのA面の情報を出力線D,よりもんへ謙
出す方がアクセスタイムが短い。しかも、出力線D,の
み、あるおはD2のみの情報を外部装置にて選択できる
。また、A面,B面の情報を同時にアクセスして信号処
理することも可能である。さらに、複数個のCCDレジ
スタを同時に讐込み/議出しすることもできる。単一の
CCDレジスタのみをアクセスすることも可能である。
以上、1列として6ビットのCCDレジスタを有するC
CDメモリの信号処理過程について記述したが、一般に
nビットのCCDレジスタに拡張しても本発明の論旨を
損なわない。
The access time is shorter if the information on the A side of the CCD register is output to the output line D. Moreover, information on only the output line D, or only on the output line D2 can be selected by an external device. Further, it is also possible to simultaneously access information on sides A and B and perform signal processing. Furthermore, multiple CCD registers can be accessed/addressed simultaneously. It is also possible to access only a single CCD register.
As mentioned above, CCD register having 6 bits as one column
Although the signal processing process of the CD memory has been described, the gist of the present invention can generally be extended to n-bit CCD registers without detracting from the spirit of the present invention.

nビットのCCDレジスタ構成の場合、平均アクセスタ
イムtaはn/4ビット転送時間に等しくなる。本発明
によれば、シリアル転送を行うレジスタの一端のみに再
生・議出し機能を有するnビットのCCDジス(SR)
構成のメモリに比して、taが1ノ2短縮される。さら
に、n/2ビットの上記PRを2列並列に配置するCC
Dメモリよりも入力手段が1つ少いため、集積密度を向
上でき、大容塁〆モリ化が可能である。また、各CCD
レジスタの転送は1相駆動で行なわれるため、CCDレ
ジスタへ供給するクロックパルスを簡単に発生できる。
クロッパクパルス発生器をCCDメモリと同一チップ上
にIC化することも容易になる。また、再生用の浮遊ゲ
ート増幅器に供V給すべき電源がCCDレジスタの直流
ゲートと共通に使用可能なため、電源数の少し、CCD
メモリが実現できる。さらに、本発明のCCDメモリは
、再生機能を有するため、一度書込んだ情報を非破壊に
講出しうる特徴がある。更には、m列の各CCDレジス
タに同時にデータの書込み/読出し(1/0)動作する
こと、毎分割に1/0動作することもでき、m列のCC
Dレジスタのうち、1つのみあるいはいくつかのみを1
/0動作させることも可能である。また、各CCDレジ
スタの中央部を境に、両面の記憶情報を同時に講出しう
る特徴もある。本発明の実施例から、nビットの各CC
Dレジスタを複数個に分割した個所に本明細書に述べた
出力手段を設けることにより、さらに高速にアクセスす
ることができることは、明白である。
In the case of an n-bit CCD register configuration, the average access time ta is equal to n/4 bit transfer time. According to the present invention, an n-bit CCD register (SR) having a playback/output function only at one end of the register for serial transfer is provided.
Compared to the configuration memory, ta is shortened by 1 to 2. Furthermore, a CC in which the above PRs of n/2 bits are arranged in two columns in parallel.
Since there is one less input means than the D memory, the integration density can be improved and a large-capacity memory can be realized. In addition, each CCD
Since register transfer is performed by one-phase drive, clock pulses to be supplied to the CCD register can be easily generated.
It also becomes easy to integrate the crop pulse generator and the CCD memory on the same chip. In addition, since the power supply to be supplied to the floating gate amplifier for reproduction can be used in common with the DC gate of the CCD register, the number of power supplies is small, and the CCD
Memory can be realized. Furthermore, since the CCD memory of the present invention has a playback function, it has the feature that once written information can be read out non-destructively. Furthermore, it is possible to write/read data (1/0) simultaneously to each CCD register in m columns, and to perform 1/0 operation every division.
Only one or some of the D registers can be set to 1.
/0 operation is also possible. Another feature is that information stored on both sides of the CCD register can be displayed at the same time, with the central portion of each CCD register serving as a boundary. From an embodiment of the invention, each CC of n bits
It is obvious that even faster access can be achieved by providing the output means described in this specification at locations where the D register is divided into a plurality of parts.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の1実施例による電荷結合形メモリ構成
の概略図、第2図は本発明の電荷結合形メモリを構成す
る2つの電荷結合形レジスタとその周辺回路を示す図、
第3図は1つの電荷結合形レジスタの断面図、第4図は
第2図、第3図に示した実施例のメモリの動作波形を示
す図、第5図は電荷結合形メモリの出力手段の平面図、
第6図は第5図に示す出力手段の断面図である。 図において、10・・・再生信号線、11・・・CCD
レジスタ、1,〜13・・・入力線、D,〜A6…出力
線、12・・・PN接合ダイオード、13a,13b…
浮遊ゲート増幅器、14・・・シンクダィオード、15
,16,17,21,29・・・ゲート回路、18,1
9…バッファ増幅器、20,30…インバータ、40・
・・遅延ゲート、31…P形半導体基板、32・・・絶
縁膜、33・・・電極Y 34・・・N十領域、35・
・・P‐領域。 紫′図 多2図 柊づ図 図 〜 球 図 ※ ※4図
FIG. 1 is a schematic diagram of a charge-coupled memory configuration according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing two charge-coupled registers and their peripheral circuits constituting the charge-coupled memory of the present invention.
FIG. 3 is a sectional view of one charge-coupled resistor, FIG. 4 is a diagram showing operating waveforms of the memory of the embodiment shown in FIGS. 2 and 3, and FIG. 5 is an output means of the charge-coupled memory. plan view of
FIG. 6 is a sectional view of the output means shown in FIG. 5. In the figure, 10... Reproduction signal line, 11... CCD
Register, 1, ~13... Input line, D, ~A6... Output line, 12... PN junction diode, 13a, 13b...
Floating gate amplifier, 14... sink diode, 15
, 16, 17, 21, 29... gate circuit, 18, 1
9... Buffer amplifier, 20, 30... Inverter, 40.
... Delay gate, 31... P-type semiconductor substrate, 32... Insulating film, 33... Electrode Y 34... N+ region, 35...
...P-region. Murasaki'zu 2 Hiiragizu zu ~ Sphere ※ *4 fig.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 データ信号電荷を入力する入力手段を備えた電荷結
合レジスタの中央部及び終端部のそれぞれにデータ信号
電荷検出増幅手段を備え、かつ外部から供給されるアド
レス信号により選択された電荷結合レジスタへ書込み命
令信号を活性化してデータをシフトする制御回路と、前
記電荷結合レジスタの終端部に設けたデータ信号電荷検
出増幅手段より再生したデータを1/2ビツト遅延させ
、該遅延されたデータを前記書込み命令信号の不活性時
の再度前記電荷結合レジスタ内へ前記入力手段を介して
シフトする制御回路と、読出し命令信号を活性化したと
き前記電荷結合レジスタの中央部および終端部に設けた
データ信号電荷検出増幅手段からの再生遅延データを同
時にアクセスする制御回路とを備えていること特徴とす
る電荷結合形メモリ。 2 データ信号電荷検出増幅手段が半導体基板上の絶縁
膜を介して設けられたバイアス電極と、該バイアス下の
前記絶縁膜中に埋め込まれた浮遊ゲート電極と、該浮遊
ゲート電極下の前記半導体基板表面部に設けられた前記
半導体基板より高濃度を持つ不純物領域とによって構成
される信号電荷検出部と該信号電荷検出部に隣接して設
けられた制御手段により供給された電荷が変換されて生
ずる前記浮遊ゲート電極の電位変化分を前記浮遊ゲート
電極をゲートとしてなるMOSトランジスタのソースに
接続せる抵抗と接地間に電圧変化として発生せしめる増
幅回路とで構成されることを特徴とする前記特許請求の
範囲第1項記載の電荷結合形メモリ。
[Claims] 1. A charge-coupled register having an input means for inputting a data signal charge is provided with data signal charge detection and amplification means in each of the central part and the terminal part, and is selected by an address signal supplied from the outside. A control circuit that activates a write command signal to shift data to the charge-coupled register, and a data signal charge detection amplification means provided at the terminal end of the charge-coupled register delays the data reproduced by 1/2 bit, and a control circuit for shifting the data into the charge-coupled register via the input means when the write command signal is inactive; and a central portion and a terminal portion of the charge-coupled register when the read command signal is activated. A charge-coupled memory comprising: a control circuit for simultaneously accessing reproduction delayed data from a data signal charge detection and amplification means provided in a charge-coupled memory. 2. A bias electrode in which data signal charge detection and amplification means is provided via an insulating film on a semiconductor substrate, a floating gate electrode embedded in the insulating film under the bias, and the semiconductor substrate under the floating gate electrode. The charge is generated by converting the charge supplied by a signal charge detection section formed of an impurity region having a higher concentration than the semiconductor substrate provided on the surface portion and a control means provided adjacent to the signal charge detection section. The invention is characterized in that it is constituted by an amplifier circuit that generates a potential change of the floating gate electrode as a voltage change between a resistor connected to the source of a MOS transistor using the floating gate electrode as a gate, and ground. A charge-coupled memory according to scope 1.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0542157Y2 (en) * 1988-04-12 1993-10-25

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JPH0542157Y2 (en) * 1988-04-12 1993-10-25

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