JPS6036572B2 - Method for manufacturing alignment control film - Google Patents

Method for manufacturing alignment control film

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Publication number
JPS6036572B2
JPS6036572B2 JP53119217A JP11921778A JPS6036572B2 JP S6036572 B2 JPS6036572 B2 JP S6036572B2 JP 53119217 A JP53119217 A JP 53119217A JP 11921778 A JP11921778 A JP 11921778A JP S6036572 B2 JPS6036572 B2 JP S6036572B2
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JP
Japan
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group
liquid crystal
film
alignment control
control film
Prior art date
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JP53119217A
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Japanese (ja)
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JPS5546719A (en
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房次 庄子
中 横野
時男 磯貝
一成 竹元
豊一 植田
当治 神山
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液晶表示セルに関し、さらに詳しく視角、コ
ントラスト応答性、信頼性などの点を高めるための液晶
表示セルの配向制御膜の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a liquid crystal display cell, and more particularly to a method for manufacturing an alignment control film for a liquid crystal display cell for improving viewing angle, contrast response, reliability, and the like.

本発明はネマチック液晶を用いるねじれ効果型液晶表示
装置の節向制御膜に関する。
The present invention relates to a nodal control film for a twist effect type liquid crystal display device using nematic liquid crystal.

ネマチック液晶は、それに電界を印加したときに生ずる
光学的変化を利用して、電気光学的表示素子に応用され
てる。ネマチック液晶を用いた電気光学的表示素子は、
それに用いられるネマチック液晶の誘電異万性によって
二つに分類される。一つは分の長軸方向とほぼ直交する
方向に分子の双極子モーメントの方向を持ったネマチツ
ク液晶、つまり負の誘電異方性を有するネマチック液晶
(以下Nn−液晶と略称する)に電解を印加したときに
生ずるイオンと、Nn−液晶分子集団との衝突によって
起される光散乱現象いわゆる動的散乱モード(DSM)
を利用した表示素子である。もう一つは分子の長軸方向
とほぼ同一方向に分子の双極子モーメントの方向を持っ
たネマチツク液晶、つまり正の誘電異方性を有するネマ
チック液晶(以下Np−液晶と略称する)に電界を印加
したときに生ずるNp−液晶分子のねじれ又は傾きの変
化、いわゆる電界効果モード(FFM)を利用した表示
素子である。後者のFFM液晶表示素子の多くは電界効
果モードのひとつであるNp−液晶分子のねじれの変化
を利用した、おわゆるねじれ効果型表示素子(以下TN
型表示素子と略称する)であって、本発明はこのTN型
表示素子に関するものである。TN型表示素子はガラス
板などの支持体の一面に透明導電性被覆を施して電極面
とした一対の透明電極板をその電極面が対向するように
組立てセルとし、該セルNp−液晶を注入し充満させる
ことによって作成される。この場合電極面はあらかじめ
斜方蒸着法、ラピング法等によって一定の方向性を持っ
て処理され、電極板はその電極面処理方向がほぼ直交す
る状態で適当な間隔を保って重ね合わされる。このよう
にして得られたTN型表示素子において、Np液晶分子
は各電極面では分子長軸が電極面にほぼ平行にかつ電極
面処理方向と同一方向に配向しており、電極面間では連
続的にほぼ90oねじれた状態を示しながら配向してい
る。
Nematic liquid crystals are applied to electro-optic display devices by utilizing the optical changes that occur when an electric field is applied to them. Electro-optical display elements using nematic liquid crystals are
They are classified into two types depending on the dielectric anisotropy of the nematic liquid crystal used. One is to apply electrolysis to a nematic liquid crystal (hereinafter abbreviated as Nn-liquid crystal), which has a molecular dipole moment direction almost perpendicular to the long axis direction, that is, a nematic liquid crystal (hereinafter abbreviated as Nn-liquid crystal) that has negative dielectric anisotropy. Dynamic scattering mode (DSM) is a light scattering phenomenon caused by the collision between ions generated when the voltage is applied and a group of Nn-liquid crystal molecules.
This is a display element that utilizes. The other method is to apply an electric field to a nematic liquid crystal whose dipole moment direction is approximately in the same direction as the long axis of the molecules, that is, a nematic liquid crystal with positive dielectric anisotropy (hereinafter abbreviated as Np-liquid crystal). This is a display element that utilizes the so-called field effect mode (FFM), which is a change in the twist or tilt of Np-liquid crystal molecules that occurs when a voltage is applied. Many of the latter FFM liquid crystal display elements are so-called twist effect type display elements (hereinafter referred to as TN
(abbreviated as TN type display element), and the present invention relates to this TN type display element. A TN type display element is a cell in which a pair of transparent electrode plates are formed by applying a transparent conductive coating to one side of a support such as a glass plate and used as electrode surfaces so that the electrode surfaces face each other to form a cell, and Np-liquid crystal is injected into the cell. Created by filling. In this case, the electrode surfaces are processed in advance with a certain directionality by an oblique evaporation method, a wrapping method, etc., and the electrode plates are stacked at appropriate intervals with the electrode surface processing directions substantially perpendicular to each other. In the TN type display element obtained in this way, the long axis of the Np liquid crystal molecules is oriented on each electrode surface almost parallel to the electrode surface and in the same direction as the electrode surface processing direction, and the Np liquid crystal molecules are continuous between the electrode surfaces. It is oriented with a twist of approximately 90 degrees.

電極板に垂直に入射した直線偏光の偏光面はTN型表示
素子を通過する間にほぼ90o旋光される。したがって
、TN−型表示素子はその光振動面が互に平行となるよ
うに設置し2枚の偏光板間では光を遮開し、その光振動
面が直交するように設置した2枚の偏光板間で電は光を
透過する。このTN型表示素子に電圧を印加すると、N
p−液晶分子は印加圧に対応してその長軸が竜場方向に
懐き、ある電圧値以上においてはNp−液晶分子はその
最軸が蟹場方向とほぼ平行に配列する。電圧印加状態で
はTN−型表示素子は電圧無印加の場合とは全く逆に平
行偏光板間では光を透過し、直交偏光板間では光を遮閉
する。この様にTN−型表示素子は2枚の偏光坂間に挟
み込むことにより、印加電圧に対応して光遮開状態から
光透過状態へ、あるいは光透過状態から光遮開状態へと
変化し、この光変調が表示に利用される。
The polarization plane of the linearly polarized light that is perpendicularly incident on the electrode plate is rotated approximately 90 degrees while passing through the TN type display element. Therefore, a TN-type display element is installed so that its optical vibration planes are parallel to each other, and the light is blocked between two polarizing plates, and the two polarizing plates are installed so that their optical vibration planes are perpendicular to each other. Electricity and light pass between the plates. When a voltage is applied to this TN type display element, N
P- liquid crystal molecules have their long axes aligned in the direction of the curve in response to applied pressure, and above a certain voltage value, the Np-liquid crystal molecules have their longest axes aligned substantially parallel to the direction of the curve. When a voltage is applied, the TN-type display element transmits light between the parallel polarizing plates and blocks light between the orthogonal polarizing plates, completely opposite to when no voltage is applied. In this way, by sandwiching the TN-type display element between two polarization slopes, it changes from a light-blocking state to a light-transmitting state, or from a light-transmitting state to a light-blocking state, depending on the applied voltage. Light modulation is used for display.

2枚の偏光板によって秋持したTN−型表示素子と駆動
回路から構成されるTN−型表示装置は電子卓上計算機
、電子時計、電子計算機等種々の計測機器の表示に応用
される。
A TN-type display device consisting of a TN-type display element and a drive circuit supported by two polarizing plates is applied to displays in various measuring instruments such as electronic desktop calculators, electronic clocks, and electronic computers.

TN型表示装置に用いられる液晶配向制御膜としては従
来二酸化ケイ素膜やポリィミド等の熱硬化性樹脂膜およ
びポリビニルアルコール等の光硬化性樹脂膜が知られて
いる。
Conventionally known liquid crystal alignment control films used in TN display devices include silicon dioxide films, thermosetting resin films such as polyimide, and photocurable resin films such as polyvinyl alcohol.

二酸化ケイ素は斜方蒸着法などの複雑高価な薄膜製造工
程を必要とし、またァゾキシ系液晶など比較的低電圧で
動作する液晶に対しては液晶の配向性が劣る欠点があっ
た。一方、ポリィミド等の有機膜は樹脂を塗布後、高温
で長時間の加熱硬化過程を要したり、また通常基板に用
いられるガラスとの接着性が劣る等の欠点を有していた
。さらに、対向する透明導電膜のいくつかの部分で電気
的接続させる液晶表示装置固有の要求を満すために、プ
ラズマ処理あるいは化学的処理などによって配向制御膜
を部分的に剥離する工程が必要で、極めて煩雑な作業を
行なわなければならなかった。他方、ポリビニルアルコ
ール等の光硬化性樹脂膜は、上記した欠点がないが、ラ
ビング処理の耐熱性が低く、液晶表示セルを組し立てる
ための接着剤の硬化温度が限られていた。
Silicon dioxide requires a complex and expensive thin film production process such as an oblique evaporation method, and also has the disadvantage that the orientation of the liquid crystal is inferior to liquid crystals that operate at relatively low voltages such as azoxy liquid crystals. On the other hand, organic films such as polyimide have drawbacks such as requiring a long heat curing process at high temperatures after coating the resin, and poor adhesion to glass, which is commonly used for substrates. Furthermore, in order to meet the unique requirements of liquid crystal display devices in which electrical connections are made in some parts of the facing transparent conductive films, a process of partially peeling off the alignment control film by plasma treatment or chemical treatment is necessary. , had to perform extremely complicated work. On the other hand, although photocurable resin films such as polyvinyl alcohol do not have the above-mentioned drawbacks, they have low heat resistance during rubbing treatment, and the curing temperature of adhesives used to assemble liquid crystal display cells is limited.

このため接着力の優れたェポキシ樹脂で2枚の基板を接
着することが難しかった。本発明の目的は上記した従来
技術の欠点をなくし、製造がきわめて容易で安価かつ高
性能の配向制御膜の製造方法を提供するにある。
For this reason, it has been difficult to bond two substrates together using epoxy resin, which has excellent adhesive strength. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide a method for manufacturing an alignment control film that is extremely easy to manufacture, inexpensive, and has high performance.

このような目的を達成するために基板、電極上に光硬化
型の高分子膜を塗布し、半硬化してから、これの上で所
定のパターンを描いたマスクをとりつけ、次いで紫外線
又は可視光又は放射線を照射し、樹脂が十分に硬化した
後、未硬化(未露光)部分を溶剤で溶解による除去をし
光硬化膜を所定の方向にラピング処理を行なうか又は光
硬化膜を更に200℃以上の温度に加熱し、次いで熱硬
化膜を所定の方向にラピング処理を行なって配向制御膜
を製造する。
To achieve this purpose, a photocurable polymer film is coated on the substrate and electrodes, and after semi-curing, a mask with a predetermined pattern is attached to it, and then ultraviolet or visible light is applied. Alternatively, after the resin is sufficiently cured by irradiation with radiation, the uncured (unexposed) portion is removed by dissolving it with a solvent, and the photocured film is wrapped in a predetermined direction, or the photocured film is heated further to 200°C. After heating to the above temperature, the thermosetting film is then subjected to wrapping treatment in a predetermined direction to produce an orientation control film.

なお液晶表示セルは配向制御膜を有する一対基板を有機
又は無機シール剤によりシールし液晶を封入して製作す
る。本発明に用いられる光硬化高分子のベースレジンは
ポリイミド、ポリイミドーシリコン、ポリエステルイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリイミドーイソインドロキナ
ゾリンジオン、ポリイミドーイミダゾピロロンなどのポ
リィミド系樹脂、ポリィソィンドロキナゾリンジオン系
樹脂、ポリィソィンドロベンゾチアダィアジンジオキサ
イド系樹脂、ポリイミダゾピロロン系樹脂、ポリベンゾ
オキジノン系樹脂である。
Note that a liquid crystal display cell is manufactured by sealing a pair of substrates having an alignment control film with an organic or inorganic sealant and sealing liquid crystal therein. The base resin of the photocurable polymer used in the present invention is polyimide-based resin such as polyimide, polyimide silicone, polyester imide, polyamide-imide, polyimide-isoindroquinazolinedione, polyimide-imidazopyrrolone, and polyisoindroquinazolinedione-based resin. These are resins, polyisoindrobenzothiadiazine dioxide-based resins, polyimidazopyrrolone-based resins, and polybenzooxidinone-based resins.

具体的には光硬化高分子を次の順で配向制御膜に製作す
る。1 ポリイミド系樹脂 ロ ポリイソインドロキナゾリンジオン m ポリイソインドロベンゾチアジンジオキサイドW
ポリイミダゾピロロン V ポリベンゾオキサジノン (但し、式中R,は少なくとも2個の炭素原子を含有す
る2価の基であって、式中ジアミン成分の2個のアミノ
基はそれぞれ2価の基の離れた炭素原子に結合している
ものとする。
Specifically, the photocurable polymer is manufactured into an alignment control film in the following order. 1 Polyimide resin B Polyisoindoquinazolinedione M Polyisoindorobenzothiazine dioxide W
Polyimidazopyrrolone V Polybenzoxazinone (However, in the formula, R is a divalent group containing at least 2 carbon atoms, and in the formula, the two amino groups of the diamine component are each a divalent group. Assume that they are bonded to distant carbon atoms.

R2は少なくとも2個の炭素原子を含有する4価の基で
ある。R3,R4は少なくとも3個の炭素原子を有する
3価の基であり、3個のアミノ基はそれぞれ別個の炭素
原子に結合していると共に、そのうち2個のアミノ基は
隣接炭素原子に結合している。R5,R6,R7,R8
は少なくとも4個の炭素原子を有する4価の基であり、
その基の結合は互に隣穣炭素原子に結合する。R9はで
あり、 Zはアルキレン基、一〇−,一NHCO−,一S,一S
02−,一COO−,等の芳香族核同志をつなぎ得るも
のであればいずれもよい。
R2 is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms. R3, R4 are trivalent groups having at least 3 carbon atoms, each of the three amino groups is bonded to a separate carbon atom, and two of the amino groups are bonded to adjacent carbon atoms. ing. R5, R6, R7, R8
is a tetravalent group having at least 4 carbon atoms,
The bonds of the groups are mutually bonded to adjacent carbon atoms. R9 is, Z is an alkylene group, 10-, 1NHCO-, 1S, 1S
Any substance that can connect aromatic nuclei such as 02-, 1COO-, etc. may be used.

×はCO又はS02である。Yは水素、COR′であり
、R′はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、フェ
ノキシ基である。R″は感光性を持つ基で、で示される
× is CO or S02. Y is hydrogen or COR', and R' is an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or a phenoxy group. R″ is a photosensitive group and is represented by .

R″は−CH2CH2−,であり、R′′′は水素、メ
チル 基である。
R'' is -CH2CH2-, and R''' is hydrogen or a methyl group.

R肌は水素、アルキル基、炭素環式、複素嬢式、芳香族
残基である。
R-types are hydrogen, alkyl, carbocyclic, heterocyclic, and aromatic residues.

)本発明に用いるジアミン成分はメタフニレンジアミン
、/fラフエニレンジアミン、4,4ージアミノジフヱ
ニルプロ/ぐン4,4ージアミノジフエニルメタン、4
,4′ージアミノジフエニルスルフイド、ベンジジン、
4,4′ージアミノジフエニルスルホン、3,3ージア
ミノジフヱニルスルホン、4,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル、4,4ージ(メターアミノフエノキシ)ジ
フエニルスルホン、4,4′ージ(パラ一アミノフエノ
キシ)ジフエニルスルホソ、1,5ージアミノナフタリ
ン、3,3−ジメチル−4,4′ーピフヱニルジアミン
である。
) The diamine component used in the present invention is metaphenyl diamine, /f rough phenylene diamine, 4,4-diaminodiphenyl pro/gun 4,4-diaminodiphenylmethane, 4
, 4'-diaminodiphenyl sulfide, benzidine,
4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4-di(metaminophenoxy)diphenyl sulfone, 4,4' -di(para-aminophenoxy)diphenylsulfoso, 1,5-diaminonaphthalene, and 3,3-dimethyl-4,4'-pifhenyldiamine.

本発明に用いる前記ジアミノアミド化合物とは次の一般
式(式中01〜t41式において、XはS02又はCO
を示し、Z,は○,C(CH)2,S02,S,CO等
である。
The diaminoamide compound used in the present invention has the following general formula (in the formulas 01 to t41, X is S02 or CO
and Z is ○, C(CH)2, S02, S, CO, etc.

芳香族核に結合している1個のアミ/基とXNH2基と
は互いにオルト位に結合していればその位置は制限され
ない。また芳香族核に結合している水素原子は他の不活
性基例えばアルキル基、アリール基、ハロゲン原子ある
いはニトロ基などで置換されてもよい)。で示されるも
で具体的に例と挙れば、4,4′ージアミノジフェニル
エーテル−3ースルホンアミド、3,4′ージアミノジ
フエニルエーテル−4ースルホンアミド、3,4ージア
ミノジフヱニルエーテル一3′−スルホンアミド、3,
3′ージアミノジフエニルエーテル一4ースルホンアミ
ド、4,4′ージアミノジフエニルメタン一3ースルホ
ンアミド、3,4′−ジアミノジフエニルメタンー4−
スルホンアミド、3,4′ージアミノジフエニルメタン
ー3′ースルホンアミド、3,3′−ジアミノジフエニ
ルメタンー4−スルホンアミド、4,4′ージアミノジ
フエニルスルホン−3ースルホンアミド、3,4′ージ
アミノジフエニルスルホン−4ースルホンアミド、3,
4′ージアミノジフエニルスルホンー3′ースルホンア
ミド、3,3ージアミノジフヱニルスルホンー4−スル
ホンアミド、4,4′ージアミノジフエニルサルフアイ
ド−3ースルホンアミド、3,4′ージアミノジフエニ
ルサルフアイドー4ースルホンアミド、3,3′ージア
ミノジフヱニルサルフアイド−4ースルホンアミド、3
,4′ージアミノジフエニルサルフアイドー3′ースル
ホンアミド、1,4−ジアミノベンゼンー2ースルホン
アミド、4,4ージアミノジフエニルエーテル一3ーカ
ルボンアミド、3,4′ージアミノジフエニルエーテル
ー4−力ルボアミド、3,4′ージアミノジフエニルエ
ーテル−3−力ルポンアミド、3,3′ジアミノジフエ
ニルエーテル−4ーカルボンアミド、4,4′ージアミ
ノジフヱニルメタン−3−力ルポンアミド、3,4′ー
ジアミノジフエニルメタン−4ーカルボンアミド、3,
4′ージアミノジフエニルメタン一3−力ルボンアミド
、3,3′ージアミノジフエニルメタン一4ーカルボン
アミド、4,4′ージアミノジフエニルスルホン−3−
力ルボンアミド、3,4′−ジアミノジフエニルスルホ
ン−4−力ルボンアミド、、3,4′ージアミノジフエ
ニルスルホンー3′ーカルボンアミド、3,3−ジアミ
ノジフヱニルスルホンー4ーカルボンアミド、4,4′
ージアミ/ジフエニルサルフアイドー3ーカルボンアミ
ド、3,4−ジアミノジフエニルサルフアイド−4ーカ
ルボンアミド、3,3′ージアミノジフヱニルサルフア
イドー4−力ルボンアミド、3,4ージアミノジフヱニ
ルサルフアイド−3′ースルホンアミドあるいは1,4
ージアミノベンゼン−2ーカルボンアミドなどがある。
本発明に用いるトリアミン化合物とは一般式(式中、R
4は少なくとも3個の炭素原子を有する3価の基であり
、Yはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、フェノ
キシ基である。)で表われる化合物であるが、ここでR
4は芳香族、脂肪族、脂環族、ヘテロ環族であるかある
いはそれらの組み合わせ、またはこれらが酸素、窒素、
硫黄、ケイ素、リンなどで結合されたような3価の残基
であることが好ましく、そのうちでも特に芳香族性を示
す構造のものが好ましい。この場合、芳香族環に水酸基
、アルキル基、シクロアルキル基、アリル基、アルコキ
シ基、シクロアルコキシ基、アリルオキシ基、ハロゲン
等があってもよい。場合によってはこれら置換基は生成
ポリ(ィミダゾヒロロンーィミド)等の接着性の好まし
い性質を著しく向上させるからである。次にこれら好ま
しいトリアミンの構造は次に示す。(但し、式中、Z,
Zは1〜3個の炭素原子を有するアルキレン基、一〇−
,一S−,一S02,一CO−,一CONH−,である
The positions of one amine/group bonded to the aromatic nucleus and the XNH2 group are not limited as long as they are bonded to each other in the ortho position. Furthermore, the hydrogen atom bonded to the aromatic nucleus may be substituted with other inert groups such as an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, or a nitro group). Specific examples of those shown are 4,4'-diaminodiphenyl ether-3-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-4-sulfonamide, 3,4-diaminodiphenyl ether-3' -sulfonamide, 3,
3'-diaminodiphenyl ether-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylmethane-3-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-4-
Sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenylmethane-3'-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenylmethane-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenylsulfone-3-sulfonamide, 3,4'- Diaminodiphenylsulfone-4-sulfonamide, 3,
4'-diaminodiphenyl sulfone-3'-sulfonamide, 3,3-diaminodiphenyl sulfone-4-sulfonamide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide-3-sulfonamide, 3,4'-diaminodiphenyl sulfonide Aido-4-sulfonamide, 3,3'-diaminodiphenylsulfaido-4-sulfonamide, 3
, 4'-diaminodiphenyl sulfide 3'-sulfonamide, 1,4-diaminobenzene-2-sulfonamide, 4,4-diaminodiphenyl ether-3-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-3-powerponamide, 3,3'-diaminodiphenyl ether-4-carbonamide, 4,4'-diaminodiphenylmethane-3-powerponamide, 3,4'-diaminodiphenyl ether-3-powerponamide enylmethane-4-carbonamide, 3,
4'-diaminodiphenylmethane-3-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylmethane-4-carbonamide, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone-3-
carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-4-carbonamide, 3,4'-diaminodiphenylsulfone-3'-carbonamide, 3,3-diaminodiphenylsulfone-4-carbonamide, 4,4'
-diamin/diphenylsulfide-3-carbonamide, 3,4-diaminodiphenylsulfide-4-carbonamide, 3,3'-diaminodiphenylsulfide-4-carbonamide, 3,4-diaminodiphenylsulfide-3 '-sulfonamide or 1,4
-Diaminobenzene-2-carbonamide, etc.
The triamine compound used in the present invention has the general formula (wherein R
4 is a trivalent group having at least 3 carbon atoms, and Y is an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or a phenoxy group. ), where R
4 is aromatic, aliphatic, alicyclic, heterocyclic, or a combination thereof, or these are oxygen, nitrogen,
Trivalent residues such as those bonded with sulfur, silicon, phosphorus, etc. are preferred, and among these, those with a structure exhibiting aromaticity are particularly preferred. In this case, the aromatic ring may include a hydroxyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an allyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an allyloxy group, a halogen, or the like. This is because, in some cases, these substituents significantly improve the favorable adhesive properties of the resulting poly(imidazohyloronimide) and the like. The structures of these preferred triamines are shown below. (However, in the formula, Z,
Z is an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, 10-
, one S-, one S02, one CO-, one CONH-.

また、3個のアミノ基の内2個はお互いにオルト位に結
合していなければならない。
Furthermore, two of the three amino groups must be bonded to each other in ortho positions.

他の1個はいずれの位置にあつつてもよい。)反応を行
なうに適しているトリアミンを具体的化合物名をもって
示せば次のようなものである。3,4,4ートリアミノ
ージフェニエーテル、3,4,4′ートリアミノージフ
エニルメタン、3,4,4ートリアミノージフエニルプ
ロパン、1,2,4ートリアミ/ベンゼン、2,4,5
−トリアミノトルエン、3,4,4′ートリアミノージ
フエニルスルホン、3ーアミノ−ペンジジン、5−アミ
ノージアニシジン、3,3ージクロロ−5−アミノーペ
ンジジン、3,3ージメチル−5ーアミノベンジジン、
3,4,4ートリアミノージフエニルースルフイード、
3,4,3′ートリアミノージフエニルスルホン、3,
4,4−トリアミノジフエニルジエチルシラン、3,4
,4′ートリアミノベンズアニリド、1,3,4−トリ
アミノーミクロヘキサン、2,3,6−トリアミノピリ
ジン、1,2,5一トリアミノナフタリン、3,4,4
′−トリアミノジシクロヘキシルメタン等、これらのト
リアミンは適宜単独又は混合して用いることができる。
The other one may be placed in any position. ) Triamines suitable for carrying out the reaction are shown below with specific compound names. 3,4,4 triamino diphenyl ether, 3,4,4' triamino diphenylmethane, 3,4,4 triamino diphenylpropane, 1,2,4 triamino diphenyl, 2,4, 5
-Triaminotoluene, 3,4,4' triaminodiphenyl sulfone, 3-amino-penzidine, 5-aminodianisidine, 3,3-dichloro-5-aminopenzidine, 3,3-dimethyl-5-amino benzidine,
3,4,4-triaminodiphenylene sulfide,
3,4,3' triamino diphenyl sulfone, 3,
4,4-triaminodiphenyldiethylsilane, 3,4
, 4'-triaminobenzanilide, 1,3,4-triaminomicrohexane, 2,3,6-triaminopyridine, 1,2,5-triaminonaphthalene, 3,4,4
These triamines such as '-triaminodicyclohexylmethane can be used alone or in combination as appropriate.

本発明において用いられるアシルアミノジアミンは前記
一般式にて示される化合物であるが、好ましいアミルア
ミノジアミンの構造を例示すれば次の如くである。
The acylaminodiamine used in the present invention is a compound represented by the above general formula, and examples of preferred structures of amylaminodiamine are as follows.

(但し、式中、Z2,Z3は1〜3個の炭素原子を有す
るアルキレン基、一〇−,一S−,一SQ−,−CO−
,一CONH−,でありRはアルキル基、シクロアルキ
ル基、アリール基からなる1価の置換基である。
(However, in the formula, Z2 and Z3 are alkylene groups having 1 to 3 carbon atoms, 10-, 1S-, 1SQ-, -CO-
, -CONH-, and R is a monovalent substituent consisting of an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group.

また1個のァミノ基とアミルアミノ基は互いにオルト位
に結合していなければならない。他の1個のアミノ基は
いずれの位置にあってもよい。具体的には4ーホルムア
ミド−3,4′−ジアミ/ージフエニルエーテル、4−
アセトアミド−3,4′ージアミノ−ジフエニルエーテ
ル、4ーベンゾアミド−3,4ージアミノージフエニル
エタン、4−プロピオンアミドー3,4′ージアミ′ノ
ージフエニルプロ/ぐ、1−アセトアミドー2,4ージ
アミノベンゼン、4−ホルムアミドー2,4−ジアミノ
ベンゼン、4−アセトアミド−2,4−ジアミノベンゼ
ン、4−プロピオンアミド−3,4′ージアミノージフ
エニルスルホン、3−クロルアセトアミノーペンジジン
、4ーアセトアミドー3,4′ージフエニルスルフイド
、4−ペンゾアミドー3,4′ージアミノージフヱニル
ジメチルシランこれらのアシルアミノジアミンは単独又
は混合して用いることができる。本発明に用いるジアミ
ノジアミドは隣接炭素原子に結合しているアミノ基とア
ミド基とを1分子中に2組有する化合物である。
Further, one amino group and one amyl amino group must be bonded to each other in the ortho position. The other amino group may be located at any position. Specifically, 4-formamide-3,4'-diami/-diphenyl ether, 4-
Acetamide-3,4'-diamino-diphenyl ether, 4-benzamido-3,4-diamino-diphenyl ethane, 4-propionamido-3,4'-diamino-diphenylpro/g, 1-acetamido-2,4- Diaminobenzene, 4-formamido-2,4-diaminobenzene, 4-acetamido-2,4-diaminobenzene, 4-propionamido-3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3-chloroacetaminopenzidine, 4 -Acetamide 3,4'-diphenyl sulfide, 4-penzamido 3,4'-diaminodiphenyldimethylsilane These acylaminodiamines can be used alone or in combination. The diaminodiamide used in the present invention is a compound having two sets of amino groups and amide groups bonded to adjacent carbon atoms in one molecule.

かかるジアミノジアミドとしては好ましく用いられるも
のは次の如き構造を有するものである。(式中、乙は芳
香族核同志を直接つなぐ炭素−炭素結合のアルキレン基
、一0一,一S02−,S−,一CON日一,一COO
−、等の芳香族核同志をつなぎ得るものであればいずれ
でもよい。)本発明で用いられるジアミノジスホンアミ
ドは隣接炭素原子に結合しているアミノ基とアミド基と
を1分子中に2組有する化合物である。かかるジアミノ
ジススルホンアミドとして好ましく用いられるものは次
の如き機造を有する化合物である。(但し、式中るは芳
香族核同志を直接つなぐ炭素−炭素結合、アルキレン基
、一0−,一S02−,−S−,一CONH−,一CO
O一等の芳香族核同志をつなぎ得るものであればよい。
The diamino diamide preferably used has the following structure. (In the formula, O is an alkylene group with a carbon-carbon bond that directly connects aromatic nuclei, 101,1S02-,S-,1CONday1,1COO
Any material that can connect aromatic nuclei such as -, etc. may be used. ) The diaminodisphonamide used in the present invention is a compound having two sets of amino groups and amide groups bonded to adjacent carbon atoms in one molecule. The diaminodisulfonamide preferably used is a compound having the following mechanism. (However, in the formula, carbon-carbon bond directly connecting aromatic nuclei, alkylene group, 10-, 1S02-, -S-, 1CONH-, 1CO
Any material may be used as long as it can connect aromatic nuclei such as O.

)本発明に用いられるテトラミンは好ましく用いられる
ものは次の如き構造を有するものである。
) Tetramines preferably used in the present invention have the following structures.

(式中Z6は芳香族核同志を直接つなぐ炭素−炭素結合
のアルキレン基、一〇−,一S02一,一S,一CON
H−,一COO一等の芳香族核同志をつなぎ得るもので
あればよい。)また、ジァミルアミノジアミンは、次の
如き構造のものがとくに好ましいものである。(但し、
式中Zは芳香族核同志を直接つなぐ炭素−炭素結合のア
ルキレン基、一〇−,一S02一,−S−,一CONH
−等の芳香族核同志をつなぎ得るものであればよい。
(In the formula, Z6 is an alkylene group with a carbon-carbon bond that directly connects aromatic nuclei, 10-,1S021,1S,1CON
Any material that can connect aromatic nuclei such as H-, 1-COO, etc. may be used. ) Furthermore, diamylaminodiamine having the following structure is particularly preferable. (however,
In the formula, Z is an alkylene group with a carbon-carbon bond that directly connects aromatic nuclei, 10-, 1S02 1, -S-, 1CONH
Any material that can connect aromatic nuclei such as - may be used.

R′はアルキル基、ミクロアルキル基、アリール基から
なる1価の置換基である。本発明に用いられるジアミノ
ジカルボン酸化合物は好ましくいられるものは次の如き
構造を有するものである。
R' is a monovalent substituent consisting of an alkyl group, a microalkyl group, or an aryl group. The diaminodicarboxylic acid compound used in the present invention preferably has the following structure.

(式中、Zは−○−,一S−,一S02一,一CO−,
一OAv○−を表わす。Ayはフェニレン、ジフヱニレ
ン、ナフタレン基、又は、 を表わす。
(In the formula, Z is -○-, -S-, -S02-, -CO-,
- Represents OAv○-. Ay represents a phenylene, diphenylene, naphthalene group, or

)またカルボン酸二無水物は例えばピ。) Also, carboxylic dianhydrides are, for example, pi.

メリット酸二無水物、2,3,6,7ーナフタリンテト
ラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′ーテトラカ
ルボキシビフェニル二無水物、ナフタレンー1,2,4
,5−テトラカルボン酸二無水物、ピリジン−2,3,
5,6−テトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4
′ーベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物1,4,
5,8ーナフタレンテトラカラボン酸二無水物、3,4
,9,10ーベリレンテトラカルボン酸二無水物あるい
は4,4′ースルホニルジフタル酸二無水物等およびこ
れらの混合物適宜用いられる。また、本発明に用いられ
る感光基を持つ化合物は次のような構造を有するもので
ある。(但し、式中、R2は少なくとも2個の炭素原子
を含有する4価の基である。
Mellitic acid dianhydride, 2,3,6,7 naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-tetracarboxybiphenyl dianhydride, naphthalene-1,2,4
, 5-tetracarboxylic dianhydride, pyridine-2,3,
5,6-tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4
'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 1,4,
5,8 naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,4
, 9,10-berylenetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-sulfonyl diphthalic dianhydride, and mixtures thereof may be used as appropriate. Further, the compound having a photosensitive group used in the present invention has the following structure. (However, in the formula, R2 is a tetravalent group containing at least 2 carbon atoms.

X,はCI,Byのハロゲン原子である。R′′は前記
の感光基である。)本発明を実施するに当っては不活性
の溶媒が使われる。
X, is a halogen atom of CI, By. R'' is the photosensitive group described above. ) In the practice of this invention, inert solvents are used.

好ましいものとしては生成するポリマ中間体を熔解する
作用を有するものである。例えば、N−メチル−2−ピ
。リドン、N,N′−ジメチルアセトアミド、N,N′
一ジメチルホルムアミド、N,N′−ジエチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキサイドヘキサメチルホスホルア
ミド、テトラメチレンスルホンなどの1種もしくは2種
以上が用いられる。また、これらの不活性溶媒には溶液
の粘度を調整する場合、ナフサなどを少量添加すること
もできる。
Preferably, it has the effect of melting the produced polymer intermediate. For example, N-methyl-2-pi. Lydone, N,N'-dimethylacetamide, N,N'
One or more of monodimethylformamide, N,N'-diethylformamide, dimethyl sulfoxide hexamethylphosphoramide, tetramethylene sulfone, etc. can be used. Further, a small amount of naphtha or the like can be added to these inert solvents in order to adjust the viscosity of the solution.

更に、不活性溶媒には従来から樹脂状物を溶解し易くす
るために用いられている塩化リチウムや塩化マグネシウ
ムなどを添加しておくことできる。
Furthermore, lithium chloride, magnesium chloride, etc., which have been conventionally used to facilitate the dissolution of resinous materials, can be added to the inert solvent.

本発明の実施の態様は、先ず、溶液重縮合が好ましいが
、とくに限定するものではない。
In the embodiment of the present invention, solution polycondensation is preferred, but is not particularly limited.

すなわち、ジアミン、ジアミノアミド、ジアミノスルホ
ンアミド、トリアミン、アミルアミノジアミン、ジアミ
ノジアミド、ジアノジスルホンアミド、テトラアミン、
ジアミルアミノジアミン、および、テトラカルポン酸二
無水物、感光性の基を持つテトラカルボン酸議導体、ジ
アミノジカルボン酸およびその議導体又はジカルボン酸
ジクロリドとを前記不活性溶媒にできるだけよく溶解し
、この反応系を約80qo以下特に室温付近ないしそれ
以下の温度に保ちながら擁拝する。これによって反応は
速やかに進行し、かつ反応系の粘度は次第に上昇し、ポ
リマワニスとして生成する。
Namely, diamine, diaminoamide, diaminosulfonamide, triamine, amyl aminodiamine, diaminodiamide, dianodisulfonamide, tetraamine,
Diamylaminodiamine, tetracarboxylic dianhydride, a tetracarboxylic acid derivative having a photosensitive group, diaminodicarboxylic acid and its derivative, or dicarboxylic acid dichloride are dissolved as well as possible in the inert solvent, and the reaction is carried out. The system is maintained at a temperature of about 80 qo or less, especially near or below room temperature. As a result, the reaction proceeds rapidly, and the viscosity of the reaction system gradually increases, producing a polymer varnish.

次に、本発明に用いられるモノェポキシ化合物として、
等である。
Next, as a monoepoxy compound used in the present invention,
etc.

本発明のカルボキシル基ーェポキシ基との付加反応には
トリメチルアミン、トリェタトルアミレ、N−N−ジメ
チルアニリン、N,Nージエチルアニリン、トリェチル
アミレ塩酸塩などの第3ァミン、ジェチルアミン塩酸塩
などの第2アミン、テトラエチルアンモニウムクロライ
ド、トリエチルベンジルアンモニウムク0ライド、ドテ
シルトリェチルアンモニウムアィオダィドなどの第4ア
ンモニウム塩、安息香酸カリウム、酢酸ナトリウム、塩
化リチウムなどがアルカリ金属塩化物などが触媒として
用いられる。
In the addition reaction between a carboxyl group and an epoxy group in the present invention, tertiary amines such as trimethylamine, triethylamire, N-N-dimethylaniline, N,N-diethylaniline, and triethylamire hydrochloride, and secondary amines such as diethylamine hydrochloride are used. Alkali metal chlorides such as amines, tetraethylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, quaternary ammonium salts such as dotesyltriethylammonium iodide, potassium benzoate, sodium acetate, lithium chloride, etc. are used as catalysts. .

本発明の光硬化性高分子の実施態様は、前記のポリマ中
間体にモノェポキシ化合物をよく溶解し、この反応系を
第3級アミン、第4級アンモニウム塩、アルカリ金属塩
化合物などの触媒の存在下で約70〜13000程度の
反応温度で、ほぼ定量的に付加し、目的とする光硬化性
高分子の中間体を与える。
In an embodiment of the photocurable polymer of the present invention, a monoepoxy compound is well dissolved in the above polymer intermediate, and the reaction system is controlled in the presence of a catalyst such as a tertiary amine, a quaternary ammonium salt, or an alkali metal salt compound. It is added almost quantitatively at a reaction temperature of about 70 to about 13,000 ℃ to give the desired photocurable polymer intermediate.

得られ光硬化性高分子に光増感剤を添加することにより
、そのまま光硬化性高分子として使用できる。
By adding a photosensitizer to the obtained photocurable polymer, it can be used as it is as a photocurable polymer.

本発明に用いる光増感剤として例えば、ベンゾフエノン
、アセトフエノン、アントロン、P,P−テトラメチル
ジアミノベンゾフエノン(ミヒラーケトン)、フエナン
トレン、ナフタレン、2ーニトロフルオレン、5ーニト
ロアセナフテン、Nーアセチル−4−ニトロ−1−ナフ
チルアミン、4ーニトロー1ーナフチルアミン、ベンゾ
キノン、ジベンザルアセトン、ベンジル、Pージアミノ
ベンゾフエノン、P,P′−ジメチルーアミノベンゾフ
エノン、1,2ーナフトキノン、1,4ーナフトキノン
、アントラキノン、1,9−ペンゾアントロンが単独又
は組み合わせで使用する。
Examples of the photosensitizer used in the present invention include benzophenone, acetophenone, anthrone, P,P-tetramethyldiaminobenzophenone (Michler's ketone), phenanthrene, naphthalene, 2-nitrofluorene, 5-nitroacenaphthene, N-acetyl-4 -Nitro-1-naphthylamine, 4-nitro-1-naphthylamine, benzoquinone, dibenzalacetone, benzyl, P-diaminobenzophenone, P,P'-dimethyl-aminobenzophenone, 1,2-naphthoquinone, 1,4-naphthoquinone , anthraquinone, and 1,9-penzoanthrone are used alone or in combination.

これらの光増感剤は、光陵化性高分子成分に対して約0
.01〜1の重量%の割合で添加され、顔料などの着色
剤を添加する場合には適宜増量される。以下本発明を実
施例によって説明する。前記の光硬化性高分子は、光増
感剤を添加した状態にあって安定であり、その安定性は
硬化性成分の種類によっても異なるが、室温、遮光下の
保存では何ケ月間にわたって安定である。
These photosensitizers have approximately 0
.. It is added in a proportion of 0.01 to 1% by weight, and the amount is increased as appropriate when a coloring agent such as a pigment is added. The present invention will be explained below with reference to Examples. The above-mentioned photocurable polymer is stable in the state in which a photosensitizer is added, and its stability varies depending on the type of curable component, but it remains stable for many months when stored at room temperature and protected from light. It is.

光硬化は光照射、一般に紫外線、可視光、電子線、放射
線などの照射によって行なわれ、硬化を遅延させる着色
剤を添加した場合にあっても、普通2分以内に硬化が完
了する。次いで禾光硬化部分の樹脂を有機溶剤で溶解除
去又は引きはがしによる除去し、しかる後に光硬化した
高分子膜を約100〜350℃の温度で加熱する。以下
本発明を実施例によって説明する。
Photocuring is carried out by irradiation with light, generally ultraviolet rays, visible light, electron beams, radiation, etc., and even when a colorant that delays curing is added, curing is usually completed within 2 minutes. Next, the resin in the photocured portion is removed by dissolving or peeling off with an organic solvent, and then the photocured polymer film is heated at a temperature of about 100 to 350°C. The present invention will be explained below with reference to Examples.

実施例 1 イ 温度計、かくはん機、塩化カルシウム管および窒素
導入管をとりつけた300地の4つ口フラスコに4,4
′ージアミノジフエニルエーテル15夕(0.075モ
ル)、Nーメチルピロリドン100夕およびジメチルア
セトアミド100夕を入れ、内容物をよくはくはんし、
溶解する。
Example 1 A. In a 300mm 4-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a calcium chloride tube, and a nitrogen introduction tube, 4,4
Add 15 moles of '-diaminodiphenyl ether (0.075 mol), 100 moles of N-methylpyrrolidone and 100 moles of dimethylacetamide, stir the contents well,
dissolve.

内容物が溶解後フラスコを氷浴で冷却し、ピロメリット
酸二無水物24.16夕(0.075モル)を徐々に加
え、添加終了後、15o0で6時間反応させる。ロ そ
の後窒素ガスを流しながら90ooに加熱して、得られ
たポリアミド酸ワニスにグリシジルシナマート3.78
夕およびトリエチルベンジルアンモニウムクロライド0
.378夕を加えて、90q05時間反応する。得られ
た光硬化性ポアミド酸ワニスに増感剤P,P′ーテトラ
メチルジアノベンゾフェノンを添加して図のガラス板に
塗布し、80q03び分乾燥し、この基板に所定のパタ
ーンを描いたマスクを取りつけ、該基板を高圧水銀燈(
30弧/IKW)で60秒間紫外線照射する。次いで、
該基板上の未露光部分の未硬化樹脂をN−メチルピロリ
ドンで十分に溶解した後、80qoで30分間乾燥する
。さらにこの基板を350002時間加熱、硬化した。
以上のようにして作成した樹脂の薄膜をフェルトで一定
方向にこすり、配向制御膜が完成する。
After the contents have dissolved, the flask is cooled in an ice bath, and 24.16 mol (0.075 mol) of pyromellitic dianhydride is gradually added, and after the addition is complete, the reaction is carried out at 15°C for 6 hours. (b) After that, it was heated to 90 oo while flowing nitrogen gas, and 3.78 glycidyl cinnamate was added to the obtained polyamic acid varnish.
0 and triethylbenzylammonium chloride
.. Add 378 hours and react for 90 hours. A sensitizer P,P'-tetramethyldianobenzophenone was added to the resulting photocurable polyamic acid varnish, which was applied to the glass plate shown in the figure, dried for 80q03 minutes, and a predetermined pattern was drawn on this substrate. Attach a mask and expose the board to a high-pressure mercury lamp (
30 arc/IKW) for 60 seconds. Then,
After sufficiently dissolving the uncured resin in the unexposed areas on the substrate with N-methylpyrrolidone, it is dried at 80 qo for 30 minutes. Further, this substrate was heated and cured for 350,002 hours.
The thin resin film created as described above is rubbed in a certain direction with felt to complete an orientation control film.

上記の完成した2枚の板の配向制御膜を対向させて平行
に配置し、これらの板をフリットガラスシール剤(非結
晶性フリットガラス)よりなる封着剤で接着してセルを
作成した。なお、封着剤は450〜47000で30分
空気焼成を行なった。このセルの配向制御膜間にビフェ
ニル系およびェステル系の液晶を挟持し、セルのガラス
基板の配向制御膜のついてない面と平行に偏光板を配置
して液晶表*示セルとして液晶の配向性を調べたところ
良好な配向性を示した。またパターン精度5〜30y、
耐熱性良好であった。実施例 2 表のNo.2〜7の穣光硬化性高分子で実施例1と同様
の方法により配向制御膜を作成した。
The orientation control films of the two completed plates were placed in parallel and facing each other, and these plates were adhered with a sealing agent made of a frit glass sealant (amorphous frit glass) to create a cell. Note that the sealant was air fired at 450 to 47,000 for 30 minutes. Biphenyl-based and ester-based liquid crystals are sandwiched between the alignment control films of this cell, and a polarizing plate is placed parallel to the surface of the cell's glass substrate that does not have the alignment control film. When examined, it showed good orientation. In addition, the pattern accuracy is 5 to 30y,
It had good heat resistance. Example 2 Table No. An alignment control film was prepared using the photocurable polymers Nos. 2 to 7 in the same manner as in Example 1.

その膜の配向性、パターン精度耐熱性は表に示すごとく
すべて良好であった。比較例 表に示すごとく従来のェポキシアクリレートで配向制御
膜を作成したが、表に示すごとく良い結果は得られなか
った。
The orientation, pattern accuracy, and heat resistance of the film were all good as shown in the table. As shown in the comparative example table, an orientation control film was prepared using conventional epoxy acrylate, but as shown in the table, good results were not obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図は液晶表示セルの断面図である。 1・・・・・・ガラス基板、2・・・・・・透明導電膜
、3・・・・・・配向制御膜、4・・・・・・液晶、5
・・・・・・有機又は無機封着剤、6…・・・偏光板。
The figure is a cross-sectional view of a liquid crystal display cell. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Glass substrate, 2... Transparent conductive film, 3... Alignment control film, 4... Liquid crystal, 5
...Organic or inorganic sealant, 6...Polarizing plate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 液晶挾持基板の液晶と接する側に電極を設け更に上
記基板及び上記電極上にわたつて光硬化高分子膜を塗布
して半硬化し、この半硬化膜上に所定のパターンを描い
たマスクを取りつけ、紫外線又は可視光又は放射線を照
射し、次いで未露光部分の未硬化樹脂を有機溶剤で溶解
除去又は引きはがしにより除去し光硬化した高分子膜を
加熱し、これをラピングすることを特徴とする配向制御
膜の製造方法。
1. An electrode is provided on the side of the liquid crystal holding substrate that is in contact with the liquid crystal, and a photocurable polymer film is applied over the substrate and the electrode, semi-cured, and a mask with a predetermined pattern drawn on the semi-cured film. It is characterized by attaching the film, irradiating it with ultraviolet rays, visible light, or radiation, then removing the uncured resin in the unexposed areas by dissolving or peeling it off with an organic solvent, heating the photocured polymer film, and wrapping it. A method for manufacturing an alignment control film.
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