JPS6034836B2 - レ−ザ−発生装置 - Google Patents
レ−ザ−発生装置Info
- Publication number
- JPS6034836B2 JPS6034836B2 JP3933879A JP3933879A JPS6034836B2 JP S6034836 B2 JPS6034836 B2 JP S6034836B2 JP 3933879 A JP3933879 A JP 3933879A JP 3933879 A JP3933879 A JP 3933879A JP S6034836 B2 JPS6034836 B2 JP S6034836B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- temperature
- pressure
- cooling tank
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Lasers (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、レーザー発生装置に関するもので、とりわけ
、ウラン同位体分離用１６ムのレーザーとして注目され
ているＣＦ４（フレオン−１４）ガスを用いたレーザー
装置において、レーザー管３〜４肌）を均一に冷却する
とともに、その冷却温度を１００〜１５０ｏＫに制御で
きるようにしたものである。
、ウラン同位体分離用１６ムのレーザーとして注目され
ているＣＦ４（フレオン−１４）ガスを用いたレーザー
装置において、レーザー管３〜４肌）を均一に冷却する
とともに、その冷却温度を１００〜１５０ｏＫに制御で
きるようにしたものである。
ウラン同位体分離用１６〆のレーザーとして注目されて
いるＣＦ４を用いたレーザー発生には、ＣＦ４ガスを２
０００ Ｋ以下に冷却させなければならない、またレー
ザー出力は温度に対して敏感な依存性を有し、高出力化
には、低温であればある程よい。
いるＣＦ４を用いたレーザー発生には、ＣＦ４ガスを２
０００ Ｋ以下に冷却させなければならない、またレー
ザー出力は温度に対して敏感な依存性を有し、高出力化
には、低温であればある程よい。
第１図は米国の南カルフオルニア大学での実験結果を示
すもので、横軸ｘに温度（ｏＫ）をとり、縦軸ｙにＣＦ
４レーザー出力（相対値）をとつたものである。一方、
ＣＦ４ガスの蒸気圧は、９１０Ｋで１．１５肋Ｈｇであ
り、温度上昇にともなって蒸気圧も、第１表に示すよう
に上昇する。第１表（ＯＦ４の蒸気圧温度依存性） またＣＦ４ガス圧力の増加に従ってレーザー出力が増加
する。
すもので、横軸ｘに温度（ｏＫ）をとり、縦軸ｙにＣＦ
４レーザー出力（相対値）をとつたものである。一方、
ＣＦ４ガスの蒸気圧は、９１０Ｋで１．１５肋Ｈｇであ
り、温度上昇にともなって蒸気圧も、第１表に示すよう
に上昇する。第１表（ＯＦ４の蒸気圧温度依存性） またＣＦ４ガス圧力の増加に従ってレーザー出力が増加
する。
このため、ＣＦ４レーザー１６仏のでは低温領域（１０
０〜２００ｏＫ）範囲でガス温度制御を行なうことによ
り、レーザー出力の最大化高出力化がはかれることにな
る。しかし、従来のＣＦ４レーザー用の冷却冷却装置と
しては、液体窒素（７７Ｋ）の蒸発ガスをレーザー管に
吹きかけることにより、レーザー管の冷却を行なってい
た。
０〜２００ｏＫ）範囲でガス温度制御を行なうことによ
り、レーザー出力の最大化高出力化がはかれることにな
る。しかし、従来のＣＦ４レーザー用の冷却冷却装置と
しては、液体窒素（７７Ｋ）の蒸発ガスをレーザー管に
吹きかけることにより、レーザー管の冷却を行なってい
た。
したがって、渋来の方法では、半導体レーザ全体にわた
って均一に冷却をさせることが困難であり、管材の不均
一温度分布による歪曲りが発生しやすかった。また低温
制御精度が悪く、温度制御時間応答も悪かった。さらに
、低温（１００〜１５００Ｋにレーザー管を冷却する場
合、液体窒素の蒸発ガスを常時吹きかけていなければな
らなかったので、液体窒素の使用量および消費量が非常
に多量なものとなり、ＣＦ４１６山肌レーザー高出化の
ために装置を大型化させることについては、数多多くの
難点があった。本発明はしーザー管の外周を包囲する冷
却槽を設けて該槽内に液体窒素または液化アルゴンなど
の低温液体を充てんし、該レーザー管がこの低温液体に
浸るようにして均一に冷却されるようにすることによっ
て大型化をも可能とし、かつ、その低温液体の加圧力を
調整することによって該し−ザ−管内のＣＦ４ガスの温
度制御をするようにし、これにより、低温液体の消費量
を著しく小さくできるようにしたもので、その一実施例
について、第２図を参照しながら説明する。
って均一に冷却をさせることが困難であり、管材の不均
一温度分布による歪曲りが発生しやすかった。また低温
制御精度が悪く、温度制御時間応答も悪かった。さらに
、低温（１００〜１５００Ｋにレーザー管を冷却する場
合、液体窒素の蒸発ガスを常時吹きかけていなければな
らなかったので、液体窒素の使用量および消費量が非常
に多量なものとなり、ＣＦ４１６山肌レーザー高出化の
ために装置を大型化させることについては、数多多くの
難点があった。本発明はしーザー管の外周を包囲する冷
却槽を設けて該槽内に液体窒素または液化アルゴンなど
の低温液体を充てんし、該レーザー管がこの低温液体に
浸るようにして均一に冷却されるようにすることによっ
て大型化をも可能とし、かつ、その低温液体の加圧力を
調整することによって該し−ザ−管内のＣＦ４ガスの温
度制御をするようにし、これにより、低温液体の消費量
を著しく小さくできるようにしたもので、その一実施例
について、第２図を参照しながら説明する。
第２図において、１は冷却槽で、一端にＣ０２レーザー
１６仏の反射９．６仏の透過用鏡５を有して他端に１６
仏肌レーザー出力用鏡７を有するレーザー管６の外周を
とりまいて、断熱材４によって大気とは熱的に遮断され
ており、液体酸素加圧ボンベ３から液体酸素が充てんさ
れ、その加圧力は圧力調整器２によって調整される。
１６仏の反射９．６仏の透過用鏡５を有して他端に１６
仏肌レーザー出力用鏡７を有するレーザー管６の外周を
とりまいて、断熱材４によって大気とは熱的に遮断され
ており、液体酸素加圧ボンベ３から液体酸素が充てんさ
れ、その加圧力は圧力調整器２によって調整される。
８は真空圧力調整器、９はＣＦ４ガスボンベ、１０は○
リングである。
リングである。
また、１１は励起光源レーザーとしての前述のＣ０２レ
ーザーを示す矢印、１ ２は出力レーザーを示す矢印で
ある。さらにまた、１３は真空ポンプ、１４は切換え用
弁である。その他、１５，１６，１７，１８は止弁であ
り、１９および２川ま排気を示す矢印である。第２図に
示されるように構成されたレーザー発生装置においては
、ＣＦ４レーザー用レーザー管６は冷却槽１内に置かれ
ており、まず、議しーザー管６の内部は真空ポンプ１３
によって真空に引かれる。
ーザーを示す矢印、１ ２は出力レーザーを示す矢印で
ある。さらにまた、１３は真空ポンプ、１４は切換え用
弁である。その他、１５，１６，１７，１８は止弁であ
り、１９および２川ま排気を示す矢印である。第２図に
示されるように構成されたレーザー発生装置においては
、ＣＦ４レーザー用レーザー管６は冷却槽１内に置かれ
ており、まず、議しーザー管６の内部は真空ポンプ１３
によって真空に引かれる。
そして該レーザー管６は切換え用弁１４を介して真空圧
力調整器８とＣＦ４ガボンべ９とに接続されているので
、止弁１５を開にして該ボンベ９からのＣＦ４ガスを前
記調整器８に送り、この調整器８でＣＦ４ガスの圧力を
調整して切換え用弁１４を切換えてそのＣＦ４ガスを議
しーザー管６内に封入する。つぎに、止弁１６を関にし
て液体酸素加圧ボンベ３から加圧された液体酸素を冷却
槽１内に充満させ、該レーザー管６の外周がその液体酸
素に浸るようにするとともに冷却槽１内の液体酸素を該
ボンベ３により加圧する。その後、止弁１７および１８
を関にして冷却槽１内の液体酸素の加圧力を圧力調整器
２で調整することにより、冷却槽１内の温度を制御し、
レーザー管６内のＣＦ４ガスの温度を制御する。すなわ
ち、冷却槽１内に充てんされた当初の液体酸素は１気圧
で約９７０Ｋあるが、これを加圧することによって液体
酸素の沸点が上昇する。この現象により、液体酸素の温
度上昇がなされ、冷却槽１内の温度制御を行なう。この
液体酸素の加圧は、前述したように、液体酸素加圧ボン
ベ３により達成することができ、また圧力調整器２によ
り圧力調整を行なう。この制御方法は、液体酸素の沸点
が圧力に敏感な依存性をもっていることを利用したもの
である。第２表に液体酸素の圧力と沸点の関係を示す。
第２表 く液体酸素圧力と沸点）すなわち、液体酸素の
温度制御を圧力によって行なうため、温度制御精度が圧
力制御精度により決定される。
力調整器８とＣＦ４ガボンべ９とに接続されているので
、止弁１５を開にして該ボンベ９からのＣＦ４ガスを前
記調整器８に送り、この調整器８でＣＦ４ガスの圧力を
調整して切換え用弁１４を切換えてそのＣＦ４ガスを議
しーザー管６内に封入する。つぎに、止弁１６を関にし
て液体酸素加圧ボンベ３から加圧された液体酸素を冷却
槽１内に充満させ、該レーザー管６の外周がその液体酸
素に浸るようにするとともに冷却槽１内の液体酸素を該
ボンベ３により加圧する。その後、止弁１７および１８
を関にして冷却槽１内の液体酸素の加圧力を圧力調整器
２で調整することにより、冷却槽１内の温度を制御し、
レーザー管６内のＣＦ４ガスの温度を制御する。すなわ
ち、冷却槽１内に充てんされた当初の液体酸素は１気圧
で約９７０Ｋあるが、これを加圧することによって液体
酸素の沸点が上昇する。この現象により、液体酸素の温
度上昇がなされ、冷却槽１内の温度制御を行なう。この
液体酸素の加圧は、前述したように、液体酸素加圧ボン
ベ３により達成することができ、また圧力調整器２によ
り圧力調整を行なう。この制御方法は、液体酸素の沸点
が圧力に敏感な依存性をもっていることを利用したもの
である。第２表に液体酸素の圧力と沸点の関係を示す。
第２表 く液体酸素圧力と沸点）すなわち、液体酸素の
温度制御を圧力によって行なうため、温度制御精度が圧
力制御精度により決定される。
したがって、高い温度制御が得られる。また加圧に対す
る温度変化の応答が遠く、応答時間数分で温度制御が可
能である。第３図は実験結果を示したもので、横軸ｔは
時間（分）で、縦軸Ｔは液体酸素温度（。Ｋ）である。
すなわち、はじめの時刻ｔで冷却槽１内に液体酸素を１
気圧（９７．５ｏＫ）で充満させたのち、時亥山，で４
気圧で加圧したときの温度応答時間を示している。第３
図にみられるように、時刻ｔ２（ちからｔ２までの時間
は５分）では、圧力が約３．５気圧になっている。この
結果から、立ち上りの遠い温度制御が可能であることが
わかる。また実験に用いたレーザー管６の長さは３．５
のであり、レーザー管６の全体にわたって均一な温度分
布であることが確認された。そして、このようなしーザ
ー管冷却法は、冷却槽１に液体酸素を充てんした状態で
使用し、圧力調整器２の設置により加圧力を調整するの
で、液体酸素の消費量を著しく低減させることができる
。このようにして、液体酸素でレーザー管６の冷却を維
持し、第２図の矢印１１で示すように、９．６ムのＣ０
２レーザー光が入力用鏡５を通過し、該管６中のＣＦ４
ガスを振動励起し、レーザー動作に必要な逆転分布を形
成することができる。そして逆転分布が形成されたＣＦ
４は光放出し、両端の鏡５と７の間で、その光は増幅さ
れ、矢印１２で示すように、１６仏のの波長をもつレー
ザー光として外部に取り出される。この際、前述したよ
うに、２０００Ｋ以下に冷却されていなければ、レーザ
ー動作が起らない。なお冷却槽１はその低温保持のめに
断熱材４でおおわれており、またレーザー管６と冷却槽
１は熱収縮の逢いによる材料への歪を減少させるために
、０リング１０により止められて適当な自由度をもたせ
ており、同時に冷却槽１内の内圧保持を○リング１０が
行なつている。上記実施例では、レーザー管６の冷却用
媒体としての低温液体として液体酸素を用いた場合を示
したが、液化アルゴンなどによっても、同機な手段によ
って実施するとができる。
る温度変化の応答が遠く、応答時間数分で温度制御が可
能である。第３図は実験結果を示したもので、横軸ｔは
時間（分）で、縦軸Ｔは液体酸素温度（。Ｋ）である。
すなわち、はじめの時刻ｔで冷却槽１内に液体酸素を１
気圧（９７．５ｏＫ）で充満させたのち、時亥山，で４
気圧で加圧したときの温度応答時間を示している。第３
図にみられるように、時刻ｔ２（ちからｔ２までの時間
は５分）では、圧力が約３．５気圧になっている。この
結果から、立ち上りの遠い温度制御が可能であることが
わかる。また実験に用いたレーザー管６の長さは３．５
のであり、レーザー管６の全体にわたって均一な温度分
布であることが確認された。そして、このようなしーザ
ー管冷却法は、冷却槽１に液体酸素を充てんした状態で
使用し、圧力調整器２の設置により加圧力を調整するの
で、液体酸素の消費量を著しく低減させることができる
。このようにして、液体酸素でレーザー管６の冷却を維
持し、第２図の矢印１１で示すように、９．６ムのＣ０
２レーザー光が入力用鏡５を通過し、該管６中のＣＦ４
ガスを振動励起し、レーザー動作に必要な逆転分布を形
成することができる。そして逆転分布が形成されたＣＦ
４は光放出し、両端の鏡５と７の間で、その光は増幅さ
れ、矢印１２で示すように、１６仏のの波長をもつレー
ザー光として外部に取り出される。この際、前述したよ
うに、２０００Ｋ以下に冷却されていなければ、レーザ
ー動作が起らない。なお冷却槽１はその低温保持のめに
断熱材４でおおわれており、またレーザー管６と冷却槽
１は熱収縮の逢いによる材料への歪を減少させるために
、０リング１０により止められて適当な自由度をもたせ
ており、同時に冷却槽１内の内圧保持を○リング１０が
行なつている。上記実施例では、レーザー管６の冷却用
媒体としての低温液体として液体酸素を用いた場合を示
したが、液化アルゴンなどによっても、同機な手段によ
って実施するとができる。
なお液化アルゴンの沸点と圧力の関係を第３表に示す。
第３表 く液化アルゴン圧力と沸点） 上述のように、本発明のレーザー発生装置においては、
最も重要なしーザー管の冷却手段として、レーザー管の
外周をとりまいた冷却槽を備え、この糟内に液体酸素ま
たは液化アルゴンなどの、沸点が圧力に敏感な依存性を
もつ低温液体を充てんして行なうようにしてあるから、
レーザー管内のＣＦ４ガスを振動励起させるのに必要な
低温領域の温度範囲内で均一に冷却することができ、大
出力とするためのレーザー発生装置の大型化が容易とな
り、かつ、その低温液体の圧力を調整する圧力調整器を
備えているから、その低温液体の沸点が圧力に敏感な依
存性をもつことと、低温液体の加圧に対する該液体の温
度上昇応答速度が遠いこととを利用してレーザー管内の
ＣＦ４ガスの温度制御を精度よく、じん速に行なうこと
ができる。
第３表 く液化アルゴン圧力と沸点） 上述のように、本発明のレーザー発生装置においては、
最も重要なしーザー管の冷却手段として、レーザー管の
外周をとりまいた冷却槽を備え、この糟内に液体酸素ま
たは液化アルゴンなどの、沸点が圧力に敏感な依存性を
もつ低温液体を充てんして行なうようにしてあるから、
レーザー管内のＣＦ４ガスを振動励起させるのに必要な
低温領域の温度範囲内で均一に冷却することができ、大
出力とするためのレーザー発生装置の大型化が容易とな
り、かつ、その低温液体の圧力を調整する圧力調整器を
備えているから、その低温液体の沸点が圧力に敏感な依
存性をもつことと、低温液体の加圧に対する該液体の温
度上昇応答速度が遠いこととを利用してレーザー管内の
ＣＦ４ガスの温度制御を精度よく、じん速に行なうこと
ができる。
すなわち、該低温液体の加圧力を精度よく制御たするこ
とによって該液体の温度をじん遠に精度よく制御するこ
とができ、したがって、レーザー管内のＣＦ４ガスの温
度を精度よく、じん遠に制御することができるので、Ｃ
Ｆ４レーザー出力を最適化することができる。しかも、
低温液体を冷却槽内に充てんして圧力調整の操作をする
から、低温液体の消費量が少なく、経済的であるなど、
本発明の奏する効果は、きわめて大である。図面の簡単
な説明第１図はＣＦ４レーザー出力の温度依性について
の説明図、第２図は本発明の一実施例の断面図、第３図
は実験による液体酸素加圧温度上昇特性曲線図である。
とによって該液体の温度をじん遠に精度よく制御するこ
とができ、したがって、レーザー管内のＣＦ４ガスの温
度を精度よく、じん遠に制御することができるので、Ｃ
Ｆ４レーザー出力を最適化することができる。しかも、
低温液体を冷却槽内に充てんして圧力調整の操作をする
から、低温液体の消費量が少なく、経済的であるなど、
本発明の奏する効果は、きわめて大である。図面の簡単
な説明第１図はＣＦ４レーザー出力の温度依性について
の説明図、第２図は本発明の一実施例の断面図、第３図
は実験による液体酸素加圧温度上昇特性曲線図である。
１…・・・冷却槽、２・…・・圧力調整器、３・…・・
液体酸素加圧ボンベ、４・・・断熱材、５・・・・・・
レーザー光入力用鏡、６…・・・レーザー管、７……レ
ーザー光出力用鏡、８・・・・・・真空圧力調整器、９
・・・・・・ＣＦ４ガスボンベ、１０・・・・・・○リ
ング、１１・・…・励起光源レーザー光、１２……出力
レーザー光、１３……真空ポンプ、１４・・・・・・切
換え用弁、１５，１６，１７，１８・・・・・・止弁、
１９，２０・・・・・・排気。
液体酸素加圧ボンベ、４・・・断熱材、５・・・・・・
レーザー光入力用鏡、６…・・・レーザー管、７……レ
ーザー光出力用鏡、８・・・・・・真空圧力調整器、９
・・・・・・ＣＦ４ガスボンベ、１０・・・・・・○リ
ング、１１・・…・励起光源レーザー光、１２……出力
レーザー光、１３……真空ポンプ、１４・・・・・・切
換え用弁、１５，１６，１７，１８・・・・・・止弁、
１９，２０・・・・・・排気。
多１図多２図
第３図
Claims (1)
- １ 一端にレーザー光入力用鏡を有するとともに他端に
レーザー光出力用鏡を有して内部にＣＦ＿４ガスを封入
するレーザー管と、このレーザー管の外周をとりまいて
該レーザー管を均一に低温にするための加圧された液体
酸素または液化アルゴンなどの沸点が圧力に敏感な依存
性をもつ低温液体を充てんする冷却槽と、この冷却槽内
の前記低温液体の加圧力を調整して前記レーザー管内の
ＣＦ＿４ガスの温度を制御する圧力調整器とからなる、
レーザー発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3933879A JPS6034836B2 (ja) | 1979-04-03 | 1979-04-03 | レ−ザ−発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3933879A JPS6034836B2 (ja) | 1979-04-03 | 1979-04-03 | レ−ザ−発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55132086A JPS55132086A (en) | 1980-10-14 |
| JPS6034836B2 true JPS6034836B2 (ja) | 1985-08-10 |
Family
ID=12550296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3933879A Expired JPS6034836B2 (ja) | 1979-04-03 | 1979-04-03 | レ−ザ−発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6034836B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02139634U (ja) * | 1989-04-27 | 1990-11-21 | ||
| JPH07172264A (ja) * | 1991-04-19 | 1995-07-11 | Taishirou Kitamura | 乗員保護装置 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59219973A (ja) * | 1983-05-27 | 1984-12-11 | Tomoo Fujioka | 冷凍型横方向流炭酸ガスレ−ザ |
| JPH01243596A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-09-28 | Ushio Inc | 金属蒸気レーザ装置 |
| RU2607269C1 (ru) * | 2015-09-28 | 2017-01-10 | Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") | Устройство компенсации термического расширения охлаждающей жидкости активного элемента твердотельного лазера (варианты) |
-
1979
- 1979-04-03 JP JP3933879A patent/JPS6034836B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02139634U (ja) * | 1989-04-27 | 1990-11-21 | ||
| JPH07172264A (ja) * | 1991-04-19 | 1995-07-11 | Taishirou Kitamura | 乗員保護装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS55132086A (en) | 1980-10-14 |
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