JPS6032822A - Resin composition curable with actinic energy radiation - Google Patents

Resin composition curable with actinic energy radiation

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JPS6032822A
JPS6032822A JP14055683A JP14055683A JPS6032822A JP S6032822 A JPS6032822 A JP S6032822A JP 14055683 A JP14055683 A JP 14055683A JP 14055683 A JP14055683 A JP 14055683A JP S6032822 A JPS6032822 A JP S6032822A
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Abstract

PURPOSE:To obtain a curable resin composition giving excellent adhesivity to substrate, by compounding a compound having epoxy group with a compound having >=2 aziridinyl groups and a compound giving a Lewis acid with actinic energy radiation. CONSTITUTION:The objective composition can be obtained by mixing (A) 1- 99.5pts.wt. of a compound having >=1 epoxy groups in the molecule (e.g. epoxide ester), (B) 0.5-99pts.wt. of a compound having >=2 aziridinyl groups in the molecule (e.g. omega-aziridinyl-propionic acid 2,2-dihydroxymethylbutanol triester) and (C) 0.1-10pts.wt., based on 100pts.wt. of A+B, of a compound capable of producing a Lewis acid with actinic energy radiation (e.g. aromatic halonium salt, aromatic diazonium salt and aromatic sulfonium salt of complex halide).

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、得られる硬化物の基材との密着性が優れた、
コーティング及び電気φ電子材料として有用な活性エネ
ルギー線硬化型樹脂組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a cured product having excellent adhesion to a base material.
The present invention relates to active energy ray-curable resin compositions useful as coatings and electric/phi/electronic materials.

従来から、コーティング及び電気・電子材料として、耐
食性・電気特性等の観点からエポキシ樹脂が使用されて
いるが、その硬化方法としては、酸無水物、アミン等の
硬化剤を加え、加熱硬化あるいは常温硬化せしめる方法
が主である。これに対して、近年、省資源・省エネルギ
ーの観点から常温短時間硬化を目的として、紫外線及び
電子線等の活性エネルギー線を照射せしめる硬化方法、
即ち、活性エネルギー線硬化型組成物が提案されている
。活性エネルギー線硬化型組成物は、連名1z、ラジカ
ル反応を用いた方法によって硬化される。したがって、
エポキシ樹脂にラジカル硬化能をl4するためには、エ
ポキシ樹脂をアクリレート変性又はメタクリレート変性
させる必要がある。
Epoxy resins have traditionally been used as coatings and electrical/electronic materials from the viewpoint of corrosion resistance and electrical properties, but their curing methods include adding curing agents such as acid anhydrides and amines, and curing them with heat or at room temperature. The main method is curing. On the other hand, in recent years, from the viewpoint of saving resources and energy, curing methods that involve irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams have been developed for the purpose of short-time curing at room temperature.
That is, active energy ray curable compositions have been proposed. The active energy ray curable composition is cured by a method using radical reaction, joint name 1z. therefore,
In order to increase the radical curing ability of the epoxy resin to 14, it is necessary to modify the epoxy resin with acrylate or methacrylate.

しかしながら、エポキシ樹脂をアクリレート変性又はメ
タクリレート変性せしめた、所謂、エポキシポリアクリ
レートを活性エネルギー線硬化せしめた硬化物は、耐食
性・電気特性等が優れる反面、基材、例えば、金属板等
への密着性が劣るという欠点を有している・ そこで、最近、エポキシ樹脂を変性することなく、常温
で短時間硬化が可能な活性エネルギー線硬化型樹脂組成
物の提案がなされているが、得られた硬化物が充分な密
着性を有する組成物は、未だ認められず、密着性に優れ
た硬化物を与えるエネルギー線硬化型樹脂組成物の出現
が強く望まれている。
However, cured products obtained by acrylate-modified or methacrylate-modified epoxy resins, so-called epoxy polyacrylates cured with active energy rays, have excellent corrosion resistance and electrical properties, but have poor adhesion to substrates, such as metal plates. Recently, proposals have been made for active energy ray-curable resin compositions that can be cured in a short time at room temperature without modifying the epoxy resin. A composition with sufficient adhesion has not yet been found, and there is a strong desire for an energy ray-curable resin composition that provides a cured product with excellent adhesion.

本発明溝らは、鋭意研究した結果、分子中に1個以」二
のエポキシ基を有する化合物、分子中に2個以上のアジ
リジニル基を有する化合物及び活性エネルギー線照射下
にルイス酸を発生する化合物を一定の配置・割合で含有
せしめた組成物が、基材に対し、著しど、1好な密着性
を示す硬イビ“、;!Iを与えることを見出し、本発明
を完成するに至った。
As a result of intensive research, the inventors of the present invention, Mizo et al., found that compounds having one or more epoxy groups in the molecule, compounds having two or more aziridinyl groups in the molecule, and compounds that generate Lewis acids when irradiated with active energy rays. It has been discovered that a composition containing a compound in a certain arrangement and proportion gives a hard crack that exhibits extremely good adhesion to a substrate, and has completed the present invention. It's arrived.

即ち、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、 (a) 分子中に1個以上のエポキシ基を有する化合物
1〜99.5重量部、 (b) 分子中に2個以上のアジリジニル基を有する化
合物0.5〜99重量部 並びに (C) 活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する
化合物;前記(a)成分及び(b)成分の合31100
重量部に対して 0.1〜10重量部からなることを特
徴とするものである。
That is, the active energy ray-curable resin composition of the present invention contains (a) 1 to 99.5 parts by weight of a compound having one or more epoxy groups in the molecule, (b) two or more aziridinyl groups in the molecule. and (C) a compound that generates a Lewis acid under active energy ray irradiation; the total of the components (a) and (b) is 31100 parts by weight.
It is characterized in that it consists of 0.1 to 10 parts by weight.

本発明に (a)成分として用いるエポキシ化合物は、
分子中に1個以上の工′ボキシ基を有するものであれば
、如何なるものでもよいが、好ましくは、 (i)2個
のエポキシシクロアルキル基を有するエポキシドエステ
ル; (i)ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビ
スフェノールSのジグリシジルエーテル; (m)ポリ
エポキシ化フェノールノボラック樹脂又はクレゾールノ
ボラック樹脂;(iv)多価アルコールのポリグリシジ
ルエーテル; (V)シクロアルキル系炭化水素、アル
キルシクロアルキル系炭化水素又はエーテルのジエポキ
シド、及び (Vi)前記の任意の混合物、が挙げられ
る。
The epoxy compound used as component (a) in the present invention is:
Any compound may be used as long as it has one or more epoxy groups in the molecule, but preferably: (i) Epoxide ester having two epoxycycloalkyl groups; (i) Bisphenol A, Bisphenol F , diglycidyl ether of bisphenol S; (m) polyepoxidized phenol novolak resin or cresol novolak resin; (iv) polyglycidyl ether of polyhydric alcohol; (V) cycloalkyl hydrocarbon, alkylcycloalkyl hydrocarbon or ether and (Vi) any mixture of the foregoing.

これらのうち、商業的に入手し得る前記エポキシドエス
テルとしては、3.4−エポキシシクロヘキシルメチル
、3,4−エボキシシクロヘキサンカルボキシレ−1・
(ユニオンカーバイド社ER1,−4221;チ/ヘカ
イギー社CY−179) 、ビス(3,4−エポキシ−
6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート(ユニオ
ンカーバイト社URL−4289)及びビス(3,4−
エポキシシクロヘキシルメチル)アジペー1 (ユニオ
ンカー7人41社ERL−4299)等が挙げられ、ヒ
スフェノールAのジグリシジルエーテルとしては、チバ
ガイギー社のアラルダイト6010、ダウケミカル社の
DER331及びシェル化学社のエポン828が挙げら
れる。
Among these, the commercially available epoxide esters include 3,4-epoxycyclohexylmethyl, 3,4-epoxycyclohexanecarboxylene-1.
(Union Carbide Co., Ltd. ER1, -4221; Chi/Hekaigy Co., Ltd. CY-179), Bis(3,4-epoxy-
6-methylcyclohexylmethyl)adipate (Union Carbide Co., Ltd. URL-4289) and bis(3,4-
Examples of the diglycidyl ether of hisphenol A include Araldite 6010 from Ciba Geigy, DER331 from Dow Chemical Company, and Epon 828 from Shell Chemical Company. can be mentioned.

ポリエポキシ化フェノールノボラック樹脂は、ダウケミ
カル社DEN−431及び438等として、また、ポリ
エポキシ化クレゾールノボラック樹脂は、チバカイギー
社アダルダイl−538等として入手可能である。
Polyepoxidized phenol novolak resins are available as DEN-431 and 438 from Dow Chemical Co., Ltd., and polyepoxidized cresol novolak resins are available as Adaldai 1-538 from Ciba-Kygyi Co., Ltd., etc.

多価アルコールのポリグリシジルエーテルとしては、ブ
タン−1,4−ジオールに由来するものとして、チバガ
イギー社アラルタイトRD−2等が、また、グリセリン
に由来するものとして、シェル化学社エポン812等が
入手可能である。
As polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols, those derived from butane-1,4-diol such as Ciba Geigy's Araltite RD-2 are available, and those derived from glycerin such as Shell Chemical's Epon 812 are available. It is.

更に、アルキルシクロアルキル系炭化水素のジエポキシ
ドは、ビニルシクロヘキセンジオキシド(ユニオンカー
バイド社ERL−4208)として、また、シクロアル
キルエーテルのジエボキシドは、ビス(2,3−エポキ
シシクロペンチル)エーテル(ユニオンカーバイド社E
RL−0400)として入手nf能である7 本発明の (b)成分である分子中に2個以上のアジリ
ジニル基を有する化合物としては、テトラメチレンビス
−N、N−エチレン尿素、ヘキサメチレンビス−N、N
〜エチレン尿素、トリス(1−アジリジニル)ホスフィ
ンオキシト、ω−アジリジニルプロピオ7%−2,2−
ジヒドロキシメチルブタノール−トリエステル等が挙げ
られるが、特にω−アジリジニルプロピオン酸−2,2
−ジヒドロキシメチルブタメール−トリエステルが好適
である。
Furthermore, the diepoxide of alkylcycloalkyl hydrocarbon is vinylcyclohexene dioxide (Union Carbide ERL-4208), and the dieboxide of cycloalkyl ether is bis(2,3-epoxycyclopentyl) ether (Union Carbide ERL).
Compounds having two or more aziridinyl groups in the molecule which are component (b) of the present invention include tetramethylenebis-N, N-ethyleneurea, hexamethylenebis- N, N
~Ethylene urea, tris(1-aziridinyl)phosphine oxyto, ω-aziridinylpropio 7%-2,2-
Examples include dihydroxymethylbutanol-triester, but especially ω-aziridinylpropionic acid-2,2
-dihydroxymethylbutamer-triester is preferred.

本発明の (C)成分である活性エネルギー線照射下に
ルイス酸を発生する化合物としては、次式(1): %式%)(1) (式中、Rは1価の芳香族有機基、R1は2価の芳香族
有機基;X及びXIは、それぞれ、1 、 Br、C1
,F等のハロゲン元素;hは、sb、Fe、Sn、’B
i、A1、Ga、In、 Ti、Zr、 Sc、 V、
Cr、 Mn、Cs等の遷移金属元素、La、 Ce、
 Pr、 Nd等のランタニド元素、Th、 Pa、 
II 、Np等のアクチニド元素、B 、 P 、 A
s等の元素;aは0又は2の整数;bは0又はlの整数
:eは2〜7の整数であるにの原子価:dはeより大き
な8までの整数;をそれぞれ表わし、 a+l)は2又
はXの原子価であり、c=d−eの関係にあり;rM 
XI d)−(d−e)で示される錯陰イオンの例とし
ては、BF、−、PF6−5 AsF、−、SbF6.
 FeCl、pp−lSnCl62−1S:16− 、
 BiCl32−等が挙げられる)で示される芳香族ハ
ロニウム史、 次式(II): (式中、M、X’、c、d、eは前記と同義であり;Y
は、ニトロ基、ハロゲン元素、N−モルホリノ基、アル
キル基、アルコキシ基、アリール基、アミノ基、アリー
ルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールメルカプト基
等を表わす)で示される芳香族ジアゾニウム塩及び錯ハ
ロゲン化物の芳香族スルホニウム塩等が挙げられるが、
錯ハロゲン化物の芳香族スルホニウム塩が発泡等の欠点
がなく好適である。
The compound (C) of the present invention, which generates a Lewis acid under active energy ray irradiation, has the following formula (1): %Formula%)(1) (wherein R is a monovalent aromatic organic group) , R1 is a divalent aromatic organic group; X and XI are respectively 1, Br, C1
, F; h is sb, Fe, Sn, 'B
i, A1, Ga, In, Ti, Zr, Sc, V,
Transition metal elements such as Cr, Mn, Cs, La, Ce,
Lanthanide elements such as Pr, Nd, Th, Pa,
II, actinide elements such as Np, B, P, A
Elements such as s; a is an integer of 0 or 2; b is an integer of 0 or l; e is an integer of 2 to 7; valence; d is an integer greater than e up to 8; ) is the valence of 2 or X, and has the relationship c=de; rM
Examples of complex anions represented by XI d)-(d-e) include BF, -, PF6-5 AsF, -, SbF6.
FeCl, pp-lSnCl62-1S:16-,
Aromatic halonium history represented by the following formula (II): (In the formula, M, X', c, d, e are the same as above; Y
represents a nitro group, a halogen element, an N-morpholino group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an amino group, an arylamino group, an alkylamino group, an arylmercapto group, etc.) and complex halogens. Examples include aromatic sulfonium salts of compounds,
Aromatic sulfonium salts of complex halides are preferred since they do not have drawbacks such as foaming.

錯ハロゲン化物の芳香族スルホニウム塩としては、トリ
フェニルスルホニウムテトラフルオロポレート ロアンチモネート、5−フェニルジベンゾチオフェニウ
ムフルオロポレート、フェナシルテトラメチレンスルホ
ニウムへキサフルオロアルセネート、トリフェニルスル
ホニウムへキサフルオロアルセネート等か挙げられる。
Aromatic sulfonium salts of complex halides include triphenylsulfonium tetrafluoroporate troantimonate, 5-phenyldibenzothiophenium fluoroporate, phenacyltetramethylenesulfonium hexafluoroarsenate, triphenylsulfonium hexafluoroarsenate. etc. can be mentioned.

本発明の樹脂組成物において、 (a)成分として用い
るエポキシ化合物と (b)成分として用いるアジリジ
こル化合物との配合割合は,重量比で1〜99.5 :
 0.5〜89であることが必要である。エポキシ化合
物の配合割合が前記上限を超えると、配合物の貯蔵安定
性が悪くなり、前記下限未満であると、得られる塗膜の
密着性が不充分となる。
In the resin composition of the present invention, the blending ratio of the epoxy compound used as component (a) and the aziridicol compound used as component (b) is 1 to 99.5 by weight:
It needs to be 0.5-89. If the blending ratio of the epoxy compound exceeds the above upper limit, the storage stability of the blend will deteriorate, and if it is below the above lower limit, the resulting coating film will have insufficient adhesion.

また、(C)成分として用いる活性エネルギー線照射下
にルイス酸を発生する化合物の配合割合は、前記(a)
成分及び(b)成分の合計100重量部に対して0.1
〜10重量部であることが必要である。この配合割合が
前記上限を超えると、配合物の貯蔵安定性が悪くなり、
前記下限未満であると、配合物の硬化が不充分となる。
In addition, the blending ratio of the compound that generates a Lewis acid under active energy ray irradiation used as component (C) is as described in (a) above.
0.1 per 100 parts by weight of component and component (b)
~10 parts by weight is required. If this blending ratio exceeds the above upper limit, the storage stability of the blend will deteriorate,
If it is less than the lower limit, the curing of the compound will be insufficient.

本発明の組成物には、」二連した化合物以外に通常使用
される添加剤、開始剤、着色剤、可塑剤。
The composition of the present invention contains, in addition to the bivalent compounds, commonly used additives, initiators, colorants, and plasticizers.

無機充填剤、重合禁止剤等の任意成分を含めることがで
きる。
Optional components such as inorganic fillers and polymerization inhibitors can be included.

また、本発明の組成物を硬化させる活性エネルギー線と
しては、γ線、紫外線、電も[X線等が使用できるが、
好ましくは紫外線、電子線が挙げられる。
In addition, as active energy rays for curing the composition of the present invention, gamma rays, ultraviolet rays, and electrons can also be used [X-rays, etc. can be used, but
Preferred are ultraviolet rays and electron beams.

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物から得られ
た硬化物は、従来のものに比し、極めて優れた密着性を
有する。
The cured product obtained from the active energy ray-curable resin composition of the present invention has extremely excellent adhesion compared to conventional products.

以下,実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説
明する。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

【実施例Iコ ビスフェノールAジグリシジルエーテル樹脂(シェル化
学社製、エビコー) 828) 80重量部とω−アジ
リジニルプロピオン@−2,2−ジヒドロキシメチルブ
タノール−トリエステル20重量部とを混合し、これに
、トリフェニルスルホニウムへキサフルオロアンチモネ
ート 5重量部を添加し、充分に攪拌・混合した後、バ
ーコーターNo、22を用いて軟鋼板」−に塗布した。
[Example I 80 parts by weight of cobisphenol A diglycidyl ether resin (manufactured by Shell Chemical Co., Ltd., Ebicor 828) and 20 parts by weight of ω-aziridinylpropion@-2,2-dihydroxymethylbutanol-triester were mixed. To this, 5 parts by weight of triphenylsulfonium hexafluoroantimonate was added, and after thorough stirring and mixing, the mixture was coated on a mild steel plate using a bar coater No. 22.

この塗板を、80 W/cmの紫外線ランプを用いて1
5秒間照射したところ、密着性の優れた鉛筆硬度2Hの
塗膜が得られた。
This coated plate was heated for 1 time using an 80 W/cm ultraviolet lamp.
When irradiated for 5 seconds, a coating film with excellent adhesion and a pencil hardness of 2H was obtained.

[比較例1] 実施例1で使用したビスフェノールAジグリシジルエー
テル樹脂100重量部に、弔に、トリフェニルスルホニ
ウムへキサフルオロアンチモネーI・5重量部を添加し
、その後、実施例1と同様にして軟鋼板上に硬化塗II
Iを得た。しかし、密着性が不充分であり、かつ、鉛筆
硬度もHBと低い塗膜が得られただけであった。
[Comparative Example 1] 5 parts by weight of triphenylsulfonium hexafluoroantimone I was added to 100 parts by weight of the bisphenol A diglycidyl ether resin used in Example 1, and then the same procedure as in Example 1 was carried out. hardened coating II on mild steel plate
I got I. However, only a coating film with insufficient adhesion and a low pencil hardness of HB was obtained.

[実施例2] 3.4−エポキシシクロヘキシルメチル3,4−エポキ
シシクロヘキサンカルボキシレート (ユニオンカーバ
イド社、ERL−4221) 40重量部と、)・リス
(1−アジリジニルホスフィンオキシト60重量部とを
混合し、これに、トリフェニルスルホニウムへキサフル
オロアルセネート 5重量部を添加し、充分に攪拌・混
合した後、バーコーターNo、22を用いて軟鋼板」二
に塗布した。この塗板を 80W/cmの紫外線ランプ
を用いて15秒間照射したところ、密着性の優れた鉛筆
硬度3Hの塗膜が得られた。
[Example 2] 40 parts by weight of 3.4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Union Carbide Co., ERL-4221) and 60 parts by weight of lith(1-aziridinylphosphine oxide) To this was added 5 parts by weight of triphenylsulfonium hexafluoroarsenate, and after thorough stirring and mixing, it was applied to a mild steel plate using a bar coater No. 22. This coated plate was coated with an 80W When irradiated for 15 seconds using an ultraviolet light lamp of /cm, a coating film with a pencil hardness of 3H and excellent adhesion was obtained.

[比較例21 実施例2で使用した3、4−エポキシシクロヘキシルメ
チル3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレ−6
100重量部に、単に、トリフェニルスルホニウム・ヘ
キサフルオロアルセネ−1・5重量部を添加し、その後
、実施例2と同様にして、軟綱板上に硬化塗膜を得た。
[Comparative Example 21 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylene-6 used in Example 2
1.5 parts by weight of triphenylsulfonium hexafluoroarsene was simply added to 100 parts by weight, and then a cured coating film was obtained on a soft steel board in the same manner as in Example 2.

しかし、密着性が不充分な塗11りが得られただけであ
った。
However, only coating 11 with insufficient adhesion was obtained.

[実施例3] 実施例1で用いた配合物を、同様に軟綱板上に塗布し、
電子線を空気中で5Mradとなるように照射したとこ
ろ、照射直後は、若干タックがあったが、24時間後に
はタックフリーになり、密着性の1pれた鉛筆硬度HB
の塗膜が得られた。
[Example 3] The formulation used in Example 1 was similarly applied on a soft rope board,
When the electron beam was irradiated in air at 5 Mrad, there was some tackiness immediately after irradiation, but it became tack-free after 24 hours, and the pencil hardness was HB with 1p of adhesion.
A coating film was obtained.

r実施例4] ノボランクタイプエポキシ樹脂であるエポン152(シ
ェル化学社製)80重量部とω−アジリジニルプロピオ
ン酸−2,2−ジヒドロキシメチルブタノール−トリエ
ステル10重量部とを混合し、これに、トリノェニルス
ルホニウムテトラフルオロポレ−1・5重量部を添加し
、充分に攪拌・混合した後、バーコーターNo、22を
用いて軟鋼板」−に塗布した。この塗板を、 80W/
cmの紫外線ランプを用いて、10秒間照射したところ
、密着性の優れた鉛筆硬度Hの塗膜が得られた。
r Example 4] 80 parts by weight of Epon 152 (manufactured by Shell Chemical Co., Ltd.), which is a novolanc type epoxy resin, and 10 parts by weight of ω-aziridinylpropionic acid-2,2-dihydroxymethylbutanol-triester were mixed, To this was added 1.5 parts by weight of trinoenylsulfonium tetrafluoropole, and after thorough stirring and mixing, the mixture was coated on a mild steel plate using a bar coater No. 22. This coated plate is 80W/
When irradiated for 10 seconds using a cm ultraviolet lamp, a coating film with a pencil hardness of H and excellent adhesion was obtained.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1(a)分子中に1個以上のエポキシ基を有する化合物
1〜99.5重量部、 (b) 分子中に2個以上のアジリジニル基を有する化
合物0.5〜88重量部 並びに (c) 活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する
化合物;前記 (a)成分及び (b)成分の合計 1
00重量部に対して0.1〜IO重量部 からなることを特徴とする活性エネルギー線硬化型樹脂
組成物。 2 分子中に2個以」;のアジリジニル基を有する化合
物が、ω−アジリジニルプロピオン酸−2,2−ジヒド
ロキシメチルブタノール−トリエステルである特許請求
の範囲第1項記載の樹脂組成物。 3 活性エネルギー線が、紫外線又は電子線である特許
請求の範囲第1項記載の樹脂組成物。 4 活性エネルギー線照射下にルイス酸を発生する化合
物が、錯ハロゲン化物の芳香族スルホニウム塩である特
許請求の範囲第1項記載の樹脂組成物。
[Scope of Claims] 1 (a) 1 to 99.5 parts by weight of a compound having one or more epoxy groups in the molecule, (b) 0.5 to 88 parts by weight of a compound having two or more aziridinyl groups in the molecule parts by weight, and (c) a compound that generates a Lewis acid upon irradiation with active energy rays; total of the above components (a) and (b) 1
An active energy ray-curable resin composition comprising 0.1 to IO parts by weight per 00 parts by weight. 2. The resin composition according to claim 1, wherein the compound having two or more aziridinyl groups in the molecule is ω-aziridinylpropionic acid-2,2-dihydroxymethylbutanol-triester. 3. The resin composition according to claim 1, wherein the active energy ray is an ultraviolet ray or an electron beam. 4. The resin composition according to claim 1, wherein the compound that generates a Lewis acid upon irradiation with active energy rays is an aromatic sulfonium salt of a complex halide.
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