JPS602699A - メツキハンガ−装置 - Google Patents

メツキハンガ−装置

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JPS602699A
JPS602699A JP11071883A JP11071883A JPS602699A JP S602699 A JPS602699 A JP S602699A JP 11071883 A JP11071883 A JP 11071883A JP 11071883 A JP11071883 A JP 11071883A JP S602699 A JPS602699 A JP S602699A
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JP
Japan
Prior art keywords
column
movable
workpiece
plating
stanchion
Prior art date
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Pending
Application number
JP11071883A
Other languages
English (en)
Inventor
Hikari Nakayama
光 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokico Ltd filed Critical Tokico Ltd
Priority to JP11071883A priority Critical patent/JPS602699A/ja
Publication of JPS602699A publication Critical patent/JPS602699A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、メッキハンガー装置に関するものである。
従来のメッキハンガー装置は、メッキすべきワークを只
単に吊り下げ保持して、その吊り下げ形態の甲!ワーク
をメッキ処理液中に順次浸漬させるものであった。
ところが、このようなメッキハンガー装置にょつて、袋
穴が形成されたワーク、例えばシリンダ穴カ形成された
キャリバーシリンダーやキャリパ−案内用のピンを嵌合
するためのビン穴が形成されたキャリヤなどを吊り下げ
て、そのメッキ処理を行なった場合には、次のような問
題があった。
すなわち、袋穴を上向きにしてワークを吊り下げた場合
には、その袋穴がメッキ処理液を汲み出すことになり、
これがため次工程の液組成を変化させてメツキネ良を起
こし、一方、袋穴を下向きに傾斜させてワークを吊り下
げた場合には、その袋穴にエアーポケットが生じること
になり、これがためメッキ液の影勢によってメッキ処理
中に錆が発生するといった互いに相反する問題があった
この発明Gゴ上記事情を考慮してなされたもので、ワー
クがメッキ処理液中に入った時はそのワークの袋穴を上
向きとし、一方、ワークがメッキ処理液中から出た時に
番ゴ、そのワークの袋穴を下向きとするようにワークを
反転させる構成とすることにより、上記従来の問題を解
消して、確かなメッキ処理を施すことができるメッキハ
ンガー装置な提供することを目的とする。
、以下、この発明を図示する実施例に基づいて説は吊り
部材であり、この吊り部材1は、各メッキ処理槽の上方
にて昇降する移動装膜に吊り下げられている。この吊り
部材1の下端には、下方へ延びる基礎支柱2が連結され
ている。この基礎支柱2には、メッキすべきワークWの
耳部が掛けられる複数のフック3が取付けられていて、
この7ツク3に耳部が掛けられたワークWは、その耳部
な中心として回転自在に吊り乍げられるようになってい
る。
また、吊り部材1に(ゴ、pラド4を上下なり自在にガ
イドするガイド部材5が取付けられている〇ロッド4の
下端には、連結部材6を介して枠型の可動支柱7が支持
されている・この可動支柱7の下側部分には上方に延び
るガイドピン8が設けられ、このガイドビン8は、前記
基礎支柱2の下端に取付けられたガイド部材9に対して
上下動自在にガイドされている。このようにして、可動
支柱7は、その上側と下側の部分をもって基礎支柱2に
対して上下変位自在にガイドされている。また、この可
動支柱70両側には、前記基礎支柱2の゛7ツク3に吊
り下げられたワークWの下側部分に当之るバー10が設
けられている。また、連結部材6の下側にはフロート1
1が取付けられている。
図中12は、吊#)部材2に設けられてフロート11の
下動位置を規制するストッパーであり、これによって基
礎支柱2に対す可動支柱7の下方への変位限位置が規制
されている。
しかして、このようにして成るメッキハンガー装置は、
フロート11がメッキ液の外にあるときには、可動支柱
7がその自重によって第1図に示すように基礎支柱2に
対して下方に変位している。
そして、基礎支柱2と共に可動支柱7が下降してメッキ
液中に浸漬したときには、フロート11がメッキ液から
の浮力を受けて、可動支柱7の下降を阻止する。したが
って、このとき基礎支柱2に対して可動支柱7が上方に
変位することになる。
に変位し、そして可動支柱7が第1図に示すような下方
への変位限位置に達したときから、この可動支柱1は基
礎支柱2と共に上昇して、メッキ液の外に出る。
こうした基礎支柱2に対する可動支柱7の上下方向の変
位により、それらがメッキ液の外にあるときは、第2図
に示すようにバー10が対応するフック3の下方に位1
けし、一方、それらがメッキ液中に浸漬したときは、第
3図に示すようにバー10が対応する7ツク3の上方に
位置する。これらフック3とバー10の位置関係は、メ
ッキすべきワークWの大きさ等に合わせて予め設定して
おく0すなわち、第一図に示すような状態のとき、バー
10がフック3に吊り下げられたり−りWの下側部分に
当たりもしくはそこから下方に離れて、そのワークWの
袋穴WHを下方に向かせ、−万一第3図に示すような状
態のとき、バー10がワークWの下側部分を上方に押上
げて、その□袋穴W・H−を上方に向かせるようにする
したがって、フック3に吊り下げられたワークWは、そ
れがメッキ液中に浸漬されたときはその袋穴WHが上方
を向かされ、一方、それがメッキ液から外に出るときは
その袋穴WHが下方を向かされることになる。この結果
、袋穴WBがメッキ液を汲み出すといったこともなく、
またその袋穴W〆エアーポケットが生じるということも
なく、その袋穴WHに対しても良好なメッキ処理が施さ
れる。
ところで、上記フック3とバー10は、いワユる両支柱
2.7の相対変位に応じてワークWを反転させるように
支持する支持部を成しているといえる。
第1/−図および第S図は、そうした7ツク3とバー1
0との成す支持部の他の実施例を示し、本実施例では、
基礎支柱2と可動支柱7との間にリンク13が架は渡さ
れ、そしてここにワークWを変位不可能な定状態に吊り
下げ保持する7ツク14が設けられている0その他の構
成は前述した実施例と同様であって、ワークWがメッキ
液の外にあるとき、つまり第1I図に示すように基礎支
柱2に対して可動支柱7が下方に変位しているときには
フック14が左方を向き、一方、ワークWがメッキ液中
に浸漬されだとき、つまり第5図に示すように基礎支柱
2に対して可動支柱7が上方に変位したときには7ツク
14が右方を向くようになっている。したがって、その
ように変位するフック14に対しては、そのフック14
が第を図に示すような状態のときに袋穴Wmが下方を向
き、かつフック14が第5図に示すような状態のときに
袋穴Wnが上方を向くように、ワークWを定状俳に保持
させる。これによって〜前述した実施例と同様の機能を
果す。
第6図および第7図はこの発明の更に他の実施例を示す
。本実施例では、基礎支柱2に対し複数の水平リンク1
5を介して可動支柱7が変位可能に連結され、そしてそ
の水平リンク15に、ワークWを変位不可能な定状態に
吊り下げ保持するフック(図示せず)が設けられている
◎そして、両支柱2,7がメッキ液の外にある通常の状
態では、第6図に示すように基礎支柱2に設けられたス
トッパー16が水平リンク15に当って、可動支柱7を
基礎支柱2に対する下方への変位限位置に止めている。
これら両支柱2,7をメッキ液中に浸漬させるときには
、それらの下降途中の段階にてストッパー17を差し入
れる。このストッパー17は外部の走位置、例えばメッ
キ液漕側に備えられていて、このストッパー17が差し
入れられることKより、水平リンク15の下降が阻止さ
れて、第7図に示すように、基礎支柱2に対して可動支
柱7が上方に変位する。これに伴って、全ての水平リン
ク15が水平状態から傾斜状態に変わる。
両支柱2.7をメッキ液中から出すときには、それらの
上昇途中の段階にてストッパー17を抜き外す0このこ
とにより、全ての水平リンク15は再び傾斜状態から元
の水平状態に戻る〇したがって、水平リンク15のフッ
クに対しては、その水平リンク15が第6図に示すよう
な状態のときに袋穴Wllが下方を向き、かつ水平リン
ク15が第7図に示すような状態のときに袋穴Wnが上
方を向くように、ワークWを定状態に保持させる。これ
によって、前述した実施例と同様の機能を果す。
第を図は、この発明の更に他の実施例を示す0本実施例
では、第6図、f57図に示した実施例におけるストッ
パー17に代えて、メッキ槽の底部を利用している。す
なわち、そのメッキ槽の底部に番ゴ、両支柱2.7が共
に下降してきたときに、基礎支柱2に対してよりも速く
可動支柱7に当ってその可動支柱7の下降を阻止するス
トッパー壁18が設けられている。これにより、第6図
、第7図の実施例と同様に動作する。
なお、基礎支柱2に対して可動支柱7を変位させるため
のいわゆる変位手段として、上述した各実施例のように
フロート11あるいはストッパー17、ストッパー壁1
8を利用していることは、可動支柱7を確かなタイミン
グで自動的に変位させるという点できわめて有利である
oしかし、そうした変位手段は、何ら上記実施例のみに
限定されず、適宜設計変更が可能である。
以上説明したように、この発明に係るメッキハンガー装
置によれば、ワークがメッキ処理液中に入った時は、そ
のワークの袋穴を上向きとし、一方、ワークがメッキ処
理液から出た時には、そのワークの袋穴を下向きとする
ようにワークを反転させる構成であるから、ワークの袋
穴がメッキ処理液を汲み出すといったこともなく、また
その袋穴にエアーポケットが生じるということもなく、
その袋穴に対しても良好なメッキ処理を施すことができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図はこの発明の第1実施例を示し、第1
図は正面図、第2図はメッキ液の外にあるときのワーク
の状態を説明するための一部拡大図・第3図はメッキ液
中に浸漬されたときの9−クの状態を説明するための一
部拡大図、第1I図および第S図はこの発明の他の実施
例を示し、第ダ図はメッキ液の外にあるときの要部の側
面図、第S図はメッキ液中に浸漬されたζきの要部の側
面図、第6図および第7図はこの発明の更に他の実施例
を示し、第6図はメッキ液の外にあるときの概略構成図
、第7図はメッキ液中に浸漬されたときの概略RM構成
図第を図はこの発明の更にT:た他の実施例を示す概略
構成図である。 2・・・・・・基礎支柱、3・・・・・・フック、4・
・・・・・ロッド、7・・・・・・可動支柱、11・・
・・・・フロート、13・・・・・・リンク、14・・
・・・・フック、17・・・・・・ストッパー、18・
・・・・・ストッパー櫓、W・・・・・・ワーク、WI
I・・・・・・袋穴。 出願人 トキコ株式会社 第4図 第5図 第8図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)袋穴が形成されたワークをメッキ処理液中に浸漬
    可能に支持するメッキハンガー装置において、メッキ液
    に対する浸漬方向に動かされる基礎支柱と、この基礎支
    柱に変位可能に取付けられた可動支柱と・これら基礎支
    柱と可動支柱との間に設けられて前記ワークを保持し、
    基礎支柱に対して可動支柱が一方向に変位したときにワ
    ークの袋穴を下方に向かせ、かつ基礎支柱に対して可動
    支柱が他方向に変位したときにワークの袋穴を上方に向
    かせる保持6七と、この保持部に保持されたワークがメ
    ッキ処理液の外にあるときに基礎支柱に対して可動支柱
    を一方向に変位させ、かつ保持部に保持されたワークが
    メッキ処理液中に浸漬されたときに基礎支柱に対して可
    動支柱を他方向に変位させる変位手段とを有して成るこ
    とを特徴とするメッキハンガー装置。 +21 前記変位手段は、基礎支柱と共に可動支柱が下
    動したときに、メッキ処理液から受ける浮力によって可
    動支柱のみの下動を阻止するように可動支柱に取付けら
    れた7el−トを有するものであることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項に記載のメッキハンガー装彷〇 (3)前記変位手段は、基礎支柱と共に可動支柱が下動
    したときに、可動支柱のみの下動を阻止するように定位
    置に設けられたストッパーを有するものであることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項に記載のメッキハンガー
    装置0
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