JPS60231730A - フルオロポリマーの放射線架橋剤化合物、同架橋性組成物および架橋方法 - Google Patents
フルオロポリマーの放射線架橋剤化合物、同架橋性組成物および架橋方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放射線架橋ポリマーの分野におけるものであり
、さらに詳しくは、本発明はフルオロポリマーの放射線
架橋に有用な架橋剤に関する。
、さらに詳しくは、本発明はフルオロポリマーの放射線
架橋に有用な架橋剤に関する。
フルオロポリマー、特に高い融点を有するこれらのもの
は、これらが電気絶縁材料として特に有用なものとなる
機械的、化学的および誘電特性を合ワせ持っている。こ
れらのフルオロポリマーを高温まだは過負荷Φ外下で使
用づ−るためには、フルオロポリマーを架橋することが
好ましい。耐熱性のフルオロポリマーの架橋は、たいて
いの化学架橋剤には高すぎる温度でポリマーを普通処理
するので、難しい。このことは再発行特許第31,10
3号および米国特許第3,894.118号で実証され
ている1、フルオロポリマー、たとえはエチレンークロ
ロトリフルオロエチレンコホI) −r −、ヲたいて
いの公知化学架橋剤および方法を用いる架橋の前に、溶
融加工することは、化学架橋系がポリマーの押出に必要
な高温溶融加工中に早期反応してしまうので、不可能で
あることが、米匡目l′計第3.894.118号に詳
しく!yr・れている。化学架橋に代わるものとして、
ポリマーの放射ツメ架橋を研究してきた。押μ口・・よ
ひある棟の成形法におけるような高温加工の後に過度な
放射線量でフルオロポリマーの架橋を可能にする、フル
オロポリマーと共に使用するための、架橋共反応体また
は架橋剤としても知られるs 4当な放射線増感剤を提
供することが非常に望ましくそして商業的に重要である
ことがわかった。そのような増感剤はプロラドとしても
知られている。
は、これらが電気絶縁材料として特に有用なものとなる
機械的、化学的および誘電特性を合ワせ持っている。こ
れらのフルオロポリマーを高温まだは過負荷Φ外下で使
用づ−るためには、フルオロポリマーを架橋することが
好ましい。耐熱性のフルオロポリマーの架橋は、たいて
いの化学架橋剤には高すぎる温度でポリマーを普通処理
するので、難しい。このことは再発行特許第31,10
3号および米国特許第3,894.118号で実証され
ている1、フルオロポリマー、たとえはエチレンークロ
ロトリフルオロエチレンコホI) −r −、ヲたいて
いの公知化学架橋剤および方法を用いる架橋の前に、溶
融加工することは、化学架橋系がポリマーの押出に必要
な高温溶融加工中に早期反応してしまうので、不可能で
あることが、米匡目l′計第3.894.118号に詳
しく!yr・れている。化学架橋に代わるものとして、
ポリマーの放射ツメ架橋を研究してきた。押μ口・・よ
ひある棟の成形法におけるような高温加工の後に過度な
放射線量でフルオロポリマーの架橋を可能にする、フル
オロポリマーと共に使用するための、架橋共反応体また
は架橋剤としても知られるs 4当な放射線増感剤を提
供することが非常に望ましくそして商業的に重要である
ことがわかった。そのような増感剤はプロラドとしても
知られている。
従来の文献には種々の放射線増感剤が示されている。こ
れらの文献の例は、米国特許第3,970゜770号、
第3,985,716号、第3.911,192号、第
3.8 ’94.118号、第3,840,619号、
第3,763,222号、第3,995,091号およ
びP)発行特許第31.103号である。
れらの文献の例は、米国特許第3,970゜770号、
第3,985,716号、第3.911,192号、第
3.8 ’94.118号、第3,840,619号、
第3,763,222号、第3,995,091号およ
びP)発行特許第31.103号である。
本発明は式:
(式中、nは2〜6であり、R8はHおよびメチル基か
ら選択したものであり:R1は炭素i子数1〜16のア
ルキレン、シクロアルキレン、アルアルキレンおよびア
リ−レッジラジカルよりなる群から選択したジラジカル
であり:そしてXは、官能基が一〇−1、NRおよびこ
れらの混ざったものから選択したものであり、RはHま
たは炭素原子数1〜4のアルキル基、好ましくはメチル
であり、2〜6個の官能基を有する、多官能価基である
) を有する放射線増感剤または架橋剤である。
ら選択したものであり:R1は炭素i子数1〜16のア
ルキレン、シクロアルキレン、アルアルキレンおよびア
リ−レッジラジカルよりなる群から選択したジラジカル
であり:そしてXは、官能基が一〇−1、NRおよびこ
れらの混ざったものから選択したものであり、RはHま
たは炭素原子数1〜4のアルキル基、好ましくはメチル
であり、2〜6個の官能基を有する、多官能価基である
) を有する放射線増感剤または架橋剤である。
この放射線増感剤はフルオロポリマーよりなる組成物に
有用である。好ましいフルオロポリマーには、エチレン
−テトラフルオロエチレンコポリマー 、x チVン−
クロロトリフルオロエチレンコポリマー、ポリ弗化ビニ
リゾyホモポリマー、テトラフルオロエチレン−弗化ビ
ニリデンコポリマー、テトラフルオロエチレン−ヘキサ
フルオロプロピレンコポリマーおよび弗化ビニリデン−
へキサフルオロプロピレンコポリマーが含まレル。
有用である。好ましいフルオロポリマーには、エチレン
−テトラフルオロエチレンコポリマー 、x チVン−
クロロトリフルオロエチレンコポリマー、ポリ弗化ビニ
リゾyホモポリマー、テトラフルオロエチレン−弗化ビ
ニリデンコポリマー、テトラフルオロエチレン−ヘキサ
フルオロプロピレンコポリマーおよび弗化ビニリデン−
へキサフルオロプロピレンコポリマーが含まレル。
本発明はまた上記組成物を放射線照射する工程よりなる
方法を含んでいる。上記の組成物は溶融加工することが
でき、その後に放射線照射する。
方法を含んでいる。上記の組成物は溶融加工することが
でき、その後に放射線照射する。
上記組成物の放射線増感剤は溶融加工の間特に安定して
いる。溶融加工には、溶融ブレンディング、たとえば押
出ブレンディング、および溶融二次成形、たとえば線材
被覆を含めることができる。
いる。溶融加工には、溶融ブレンディング、たとえば押
出ブレンディング、および溶融二次成形、たとえば線材
被覆を含めることができる。
本発明は、放射線増感剤、放射線増感剤およびフルオロ
ポリマーよりなる組成物、そして組成物を放射線照射す
る工程よりなる方法を含んでいる。
ポリマーよりなる組成物、そして組成物を放射線照射す
る工程よりなる方法を含んでいる。
架橋剤またはプロラドとしても知られている放射線増感
剤は式: (式中、ルは2〜6であり; R8はHおよびメチル基から選択したものであり: R1は、炭素原子数1〜16、好ましくは4〜101最
も好ましくは8のアルキレン、シクロアルキレン、7ア
ルアルキレンおよびアリーレンジラジカルよりなる群か
ら選択したジラジカルであり:そして Xは、官能基が−〇−1ゝNRおよびこれ/ らの混ざったものから選択したものであり、2〜6個の
官能基を有する、多官能価基である) を有する化合物である。
剤は式: (式中、ルは2〜6であり; R8はHおよびメチル基から選択したものであり: R1は、炭素原子数1〜16、好ましくは4〜101最
も好ましくは8のアルキレン、シクロアルキレン、7ア
ルアルキレンおよびアリーレンジラジカルよりなる群か
ら選択したジラジカルであり:そして Xは、官能基が−〇−1ゝNRおよびこれ/ らの混ざったものから選択したものであり、2〜6個の
官能基を有する、多官能価基である) を有する化合物である。
多官能価基の炭化水素部分は、アルキル、シクロアルキ
ル、アルアルキルおよびアリール基を含む群から選択す
ることができる。好ましい多官能価基は、限定的ではな
いが、エチレングリコール、プロピレングリコール、1
.3−プロパンジオール、ブタンジオール、ピノコール
、グリセロール、インタエリトリトール、シクロ4ンタ
ンジオール、シクロヘキサンジオール、ヒドロベンゼン
、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシノールおよびテ
トラヒドロキシナフタレンを含む化合物の群から選択し
つる。多官能価アミン基は、限定的ではないが、テトラ
メチレンジアミン、フェニレンジアミン、トリアミノベ
ンゼン、テトラアミノナフタレン、アミノエタノールお
よびこれらのN−1チル誘導体たとえばN−メチルアミ
ノエタノールおよびN’ 、 f、 N”’−トリメチ
ルトリアミノベンゼンを含む群から選択しつる。
ル、アルアルキルおよびアリール基を含む群から選択す
ることができる。好ましい多官能価基は、限定的ではな
いが、エチレングリコール、プロピレングリコール、1
.3−プロパンジオール、ブタンジオール、ピノコール
、グリセロール、インタエリトリトール、シクロ4ンタ
ンジオール、シクロヘキサンジオール、ヒドロベンゼン
、ヒドロキノン、カテコール、レゾルシノールおよびテ
トラヒドロキシナフタレンを含む化合物の群から選択し
つる。多官能価アミン基は、限定的ではないが、テトラ
メチレンジアミン、フェニレンジアミン、トリアミノベ
ンゼン、テトラアミノナフタレン、アミノエタノールお
よびこれらのN−1チル誘導体たとえばN−メチルアミ
ノエタノールおよびN’ 、 f、 N”’−トリメチ
ルトリアミノベンゼンを含む群から選択しつる。
R8は好ましくはHであり、そしてR1は好ましくは炭
素原子数2〜18、好ましくは4〜10のアルキレンジ
ラジカルである。好ましい多官能価基Xは、エチレング
リコール、ブタンジオール、インタエリトリトール、7
V、7V’−ジメチルエチレンジアミンおよびN 、
N’−ジメチルジアミノヘキサンを含む化合物から選択
されるものである:次表で、好ましい放射線増感剤の化
学名、式および周囲温度での外観を示す: 本発明の放射線増感剤はフルオロポリマー組成物に特に
有用である。放射線増感剤はフルオロポリマーの架橋を
促進する。本発明の放射線増感剤を含むフルオロポリマ
ー組成物は、加工、特に溶融加工、たとえは200℃ま
たはこれより高い温度、特に250℃より高い温度で、
押出、線材被覆または成形を行なうことが可能であるこ
とを見出した。これらの放射線増感剤は高温で安定であ
り、その上放射線にさらした際のフルオロポリマーの架
橋を促進することがわかった。
素原子数2〜18、好ましくは4〜10のアルキレンジ
ラジカルである。好ましい多官能価基Xは、エチレング
リコール、ブタンジオール、インタエリトリトール、7
V、7V’−ジメチルエチレンジアミンおよびN 、
N’−ジメチルジアミノヘキサンを含む化合物から選択
されるものである:次表で、好ましい放射線増感剤の化
学名、式および周囲温度での外観を示す: 本発明の放射線増感剤はフルオロポリマー組成物に特に
有用である。放射線増感剤はフルオロポリマーの架橋を
促進する。本発明の放射線増感剤を含むフルオロポリマ
ー組成物は、加工、特に溶融加工、たとえは200℃ま
たはこれより高い温度、特に250℃より高い温度で、
押出、線材被覆または成形を行なうことが可能であるこ
とを見出した。これらの放射線増感剤は高温で安定であ
り、その上放射線にさらした際のフルオロポリマーの架
橋を促進することがわかった。
本発明の放射線増感剤と共に使用することができるフル
オロポリマーには、ホモポリマー、コポリマーおよびタ
ーポリマー、たとえばエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマー、エチレンークロロトリフルオロエチレン
コホリマー、ホリ弗化ビニリデンホモポリマー、テトラ
フルオロエチレン−弗化ビニリデンコポリマー、テトラ
ヒドロ0 :r−f Vンーヘキサフル加フロピレンコ
ホリマーおよび弗化ビニリデン−へキサフルオロプロピ
レンコホIJマーが含まれる。フルオロポリマーには、
表示量10%までの、プロピレン、インブチレン、弗化
ビニル、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエ
チレン、弗化ビニリデン、ぜルフル牙ロービニルエーテ
ル、アクリル酸、メタクリル酸およびこれらのエステル
、被ルフルオロアルキルエチレン、ヘキサフルオロイソ
ブチレフ等の他の共重合可能なコモノマーを含有させう
る。
オロポリマーには、ホモポリマー、コポリマーおよびタ
ーポリマー、たとえばエチレン−テトラフルオロエチレ
ンコポリマー、エチレンークロロトリフルオロエチレン
コホリマー、ホリ弗化ビニリデンホモポリマー、テトラ
フルオロエチレン−弗化ビニリデンコポリマー、テトラ
ヒドロ0 :r−f Vンーヘキサフル加フロピレンコ
ホリマーおよび弗化ビニリデン−へキサフルオロプロピ
レンコホIJマーが含まれる。フルオロポリマーには、
表示量10%までの、プロピレン、インブチレン、弗化
ビニル、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエ
チレン、弗化ビニリデン、ぜルフル牙ロービニルエーテ
ル、アクリル酸、メタクリル酸およびこれらのエステル
、被ルフルオロアルキルエチレン、ヘキサフルオロイソ
ブチレフ等の他の共重合可能なコモノマーを含有させう
る。
本発明の組成物にはさらに添加剤、たとえばシリカおよ
びカーボンブラック等の充填剤、酸化カルシウムのよう
な安定剤、抗酸化剤、接着剤、さらに可塑剤および/ま
たは架橋剤を含有させることができる、。
びカーボンブラック等の充填剤、酸化カルシウムのよう
な安定剤、抗酸化剤、接着剤、さらに可塑剤および/ま
たは架橋剤を含有させることができる、。
不発明はまた上記組成物の放射線照射法も含んでいる。
本発明は、200℃より上のおよび250℃より上の高
温で加工した組成物の照射に特に有用である。本発明の
放射線増感剤は高温での溶融加工の間特に安定であり、
そのため溶融加工完了時に、成形品または押出品のよう
な溶融成形品を含めた溶融加工物質を照射しそして放射
線増感剤の助けで架橋することができることがわかった
。
温で加工した組成物の照射に特に有用である。本発明の
放射線増感剤は高温での溶融加工の間特に安定であり、
そのため溶融加工完了時に、成形品または押出品のよう
な溶融成形品を含めた溶融加工物質を照射しそして放射
線増感剤の助けで架橋することができることがわかった
。
代表的には、放射線は、コバルト60源から供給される
ガンマ線、または電子ビーム源から供給される電磁線で
ある。一般に、本発明の方法における放射線とは、処理
されるポリマーの厚みを透過しそして結合の開裂によっ
てラジカルを生じる程、十分に高エネルギーの電離線を
さす。電離線はX線、ガンマ線、電子ビーム、プロトン
、ジューテロン、アルファ粒子、ベニタ粒子等またはこ
れらの組合せからなる。一般に、放射線のエネルギーレ
ベルは少なくとも500.000電子ボルト、好ましく
は1〜2MeVである。しかしながら、用いる大気圧条
件下で、照射を行なうポリマーの厚みを透過するいかな
るエネルギーレベルも使用することができる。本発明に
おいて好ましいフルオロポリマーに対して、改良された
特性、たとえば高温引張特性、を得るのに効果的な線量
は、一般に2〜50メガラドである。これより少ない量
では、改良は認められず、これより多い量では、ポリマ
ー特性に悪影響を及ぼす。組成物に5〜30メガラドの
照射を加えるのが好ましい。クロロトリフルオロエチレ
ン含有コポリマーでは、一般的な竹゛縫の仙、囲は8〜
50メガラド、好ましくはlO〜20メガラドである。
ガンマ線、または電子ビーム源から供給される電磁線で
ある。一般に、本発明の方法における放射線とは、処理
されるポリマーの厚みを透過しそして結合の開裂によっ
てラジカルを生じる程、十分に高エネルギーの電離線を
さす。電離線はX線、ガンマ線、電子ビーム、プロトン
、ジューテロン、アルファ粒子、ベニタ粒子等またはこ
れらの組合せからなる。一般に、放射線のエネルギーレ
ベルは少なくとも500.000電子ボルト、好ましく
は1〜2MeVである。しかしながら、用いる大気圧条
件下で、照射を行なうポリマーの厚みを透過するいかな
るエネルギーレベルも使用することができる。本発明に
おいて好ましいフルオロポリマーに対して、改良された
特性、たとえば高温引張特性、を得るのに効果的な線量
は、一般に2〜50メガラドである。これより少ない量
では、改良は認められず、これより多い量では、ポリマ
ー特性に悪影響を及ぼす。組成物に5〜30メガラドの
照射を加えるのが好ましい。クロロトリフルオロエチレ
ン含有コポリマーでは、一般的な竹゛縫の仙、囲は8〜
50メガラド、好ましくはlO〜20メガラドである。
照射するポリマーの温度は重要ではないが、一般に周囲
温度で60℃より下であり、20〜25℃がIdも都合
よい。通常、照射は不活性雰囲気中のポリマーに行なう
:しかしながら、いくらかの犠牲を払い、照射効果の効
率から、照射を空気中で行がってもよい。ポリマー(才
従来の方法で照射しうる。す々わち、ポリマーは、一般
的には最終の形、たとえばフィルム、繊維、管または線
材上の被搾、へ加工した後に照射する。照射は加工した
ポリマーを一足速度で放射線の場に通すことによって行
ないつる。たとえば、ポリマーを線材上に押出して、冷
却しそして得られた被覆線を照射するCとができる。こ
のように押出した線は240゜〜250℃の高さの温度
において有用であることがわかった。照射の利点は、1
975年11月5日再発行の米国再発行特許第28,6
28号に示しである。
温度で60℃より下であり、20〜25℃がIdも都合
よい。通常、照射は不活性雰囲気中のポリマーに行なう
:しかしながら、いくらかの犠牲を払い、照射効果の効
率から、照射を空気中で行がってもよい。ポリマー(才
従来の方法で照射しうる。す々わち、ポリマーは、一般
的には最終の形、たとえばフィルム、繊維、管または線
材上の被搾、へ加工した後に照射する。照射は加工した
ポリマーを一足速度で放射線の場に通すことによって行
ないつる。たとえば、ポリマーを線材上に押出して、冷
却しそして得られた被覆線を照射するCとができる。こ
のように押出した線は240゜〜250℃の高さの温度
において有用であることがわかった。照射の利点は、1
975年11月5日再発行の米国再発行特許第28,6
28号に示しである。
フルオロポリマー用の種々の適当な放射線1増感剤が従
来知られているが、ポリマーを照射する前に、高温、た
とえば200℃より上の、特に250℃より上の温度で
加工しなければならない場合、たいていの公知物質には
問題がある。従来、ポリマー、放射線増感剤および他の
添加剤(たとえば充填剤、抗酸化剤等)はできるだけ均
一に混合し、次いで成形または押出、たとえば導線の押
出被覆、によって成形して被覆線をつくっている。成形
品、たとえば外被線、を次に照射して、ポリマー絶縁材
を架橋する。最も好ましいポリマーのいくつかには、効
果的に押出または成形を行なうために、比較的高い温度
(たとえば250℃を越える)が必要なものがある。多
くの公知の放射線増感剤をこのような高温で用いると、
いくつかの問題が生じる。すなわち、多くの放射線増感
剤は蒸発によって失われたりそして/あるいはプロラド
は熱的に誘発されたホモ重合または分解を生じる。この
ような場合、放射線増感剤はポリマーの架橋を引き起こ
す照射にもはや役立たない。さらに、熱的eこ誘発され
たホモ重合が生じると、この放射線増感ポモポリマーは
好ましくない、しはしはほぼ安定な不純物として存在す
る。本発明の化合物は、250℃を越す温度を受けた時
でも、低揮発性でありかつホモポリマー化する傾向は僅
かである。
来知られているが、ポリマーを照射する前に、高温、た
とえば200℃より上の、特に250℃より上の温度で
加工しなければならない場合、たいていの公知物質には
問題がある。従来、ポリマー、放射線増感剤および他の
添加剤(たとえば充填剤、抗酸化剤等)はできるだけ均
一に混合し、次いで成形または押出、たとえば導線の押
出被覆、によって成形して被覆線をつくっている。成形
品、たとえば外被線、を次に照射して、ポリマー絶縁材
を架橋する。最も好ましいポリマーのいくつかには、効
果的に押出または成形を行なうために、比較的高い温度
(たとえば250℃を越える)が必要なものがある。多
くの公知の放射線増感剤をこのような高温で用いると、
いくつかの問題が生じる。すなわち、多くの放射線増感
剤は蒸発によって失われたりそして/あるいはプロラド
は熱的に誘発されたホモ重合または分解を生じる。この
ような場合、放射線増感剤はポリマーの架橋を引き起こ
す照射にもはや役立たない。さらに、熱的eこ誘発され
たホモ重合が生じると、この放射線増感ポモポリマーは
好ましくない、しはしはほぼ安定な不純物として存在す
る。本発明の化合物は、250℃を越す温度を受けた時
でも、低揮発性でありかつホモポリマー化する傾向は僅
かである。
しかしながら、これらは、電熱線を受けると、フルオロ
ポリマーの架橋剤として大きな効果を示す。
ポリマーの架橋剤として大きな効果を示す。
従って、本発明の化合物は、ポリ弗化ビニリデン、エチ
レン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー オJ:
ヒエチレンーテトラフルオロエチレンコポリマーのよ
うな高融点フルオロポリマーに特に有用である。
レン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー オJ:
ヒエチレンーテトラフルオロエチレンコポリマーのよ
うな高融点フルオロポリマーに特に有用である。
本発明の放射線増感剤は、多官能価アルコールまたはア
ミンである多官能価物質と、カルボン酸またはそのハロ
ゲン化物とを反応させることによって作り、このカルボ
ン酸類は末端に不飽和を有はOHまたは(Jのようなハ
ロゲンである)で表わされる。一般的に、反応は末端に
不飽和を有する醒と多官能価アルコールとのエステル化
である。
ミンである多官能価物質と、カルボン酸またはそのハロ
ゲン化物とを反応させることによって作り、このカルボ
ン酸類は末端に不飽和を有はOHまたは(Jのようなハ
ロゲンである)で表わされる。一般的に、反応は末端に
不飽和を有する醒と多官能価アルコールとのエステル化
である。
あるいは、酸を多官能価アミンと反応させてもよい。酸
塩化物を酸の代わりに使用することもできる。
塩化物を酸の代わりに使用することもできる。
いくつかの例を以下に示して本発明の特徴および実施方
法を説明する。しかしながら、本発明がその詳細に限定
されないことは言うまでもないことである。断わりがな
けれは全ての部はf&4gj;−[よる。
法を説明する。しかしながら、本発明がその詳細に限定
されないことは言うまでもないことである。断わりがな
けれは全ての部はf&4gj;−[よる。
実施例1
実施例1ではペンタエリトリトール−テトラ−10−ウ
ンデセノエートの製造を説明jA013.6.17のイ
ンタエリトリトールの懸濁液を、175mJのピリジン
に89.1 flの基体10−ウンデセノイルを簡加し
て作った。酪加の曲、温度を水浴で10〜20℃に保持
した。冷加漏斗を追加した25Nのピリジンですすぎ、
混合物をさらに2時間冥温で撹拌した。反応混付物を5
001のジエチルエーテルと混会し、そして2回、20
0m1部の水で抽出した。そのせ、抽出物が酸性となる
まで、5%MCI 溶液100N部でエーテル溶液を洗
浄した。次にエーテル層を200d部の水で2回そして
10(l1部の5%A/ a HCOs 溶液で2回洗
浄(7た。エーテル層を乾燥しく M y s04 )
、蒸発させて、86IIの粗生成物を得た。これをパル
プ−トウーバルブ蒸留装竹中で15分間、250℃(オ
ーブン)、0.1m+*圧にて加熱することによって、
揮発性不純物を除去した。残留物(77fl、収率96
%)は実質的に純粋な4ンタエリトリトールーテトラ−
10−ウンデセノエートであった。
ンデセノエートの製造を説明jA013.6.17のイ
ンタエリトリトールの懸濁液を、175mJのピリジン
に89.1 flの基体10−ウンデセノイルを簡加し
て作った。酪加の曲、温度を水浴で10〜20℃に保持
した。冷加漏斗を追加した25Nのピリジンですすぎ、
混合物をさらに2時間冥温で撹拌した。反応混付物を5
001のジエチルエーテルと混会し、そして2回、20
0m1部の水で抽出した。そのせ、抽出物が酸性となる
まで、5%MCI 溶液100N部でエーテル溶液を洗
浄した。次にエーテル層を200d部の水で2回そして
10(l1部の5%A/ a HCOs 溶液で2回洗
浄(7た。エーテル層を乾燥しく M y s04 )
、蒸発させて、86IIの粗生成物を得た。これをパル
プ−トウーバルブ蒸留装竹中で15分間、250℃(オ
ーブン)、0.1m+*圧にて加熱することによって、
揮発性不純物を除去した。残留物(77fl、収率96
%)は実質的に純粋な4ンタエリトリトールーテトラ−
10−ウンデセノエートであった。
実施例2
実施例1で製造したインタエリトリトール−テトラ−1
0−ウンデセノエートの放射線増感剤を使って組成物を
作った。組成物は、樹脂密度が1.67EI/m!、A
STM D−3275タイプ2試験に従って測定したメ
ルトインデックスが10分間に1.5pのエチレン−ク
ロロトリフルオロエチレンコポリマー1に9と共に作っ
た。エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー
は粉末形であり、アライド社製のHALAR■3001
E−CTFE コポリマー粉末であった。このコポリ
マーは約49〜51モル%のエチレンおよび相応量のク
ロロトリフルオロエチレンモノマを有していた。組成物
には50Sのペンタエリトリトール−テトラ−1O−ウ
ンデセノエートを含有させた。
0−ウンデセノエートの放射線増感剤を使って組成物を
作った。組成物は、樹脂密度が1.67EI/m!、A
STM D−3275タイプ2試験に従って測定したメ
ルトインデックスが10分間に1.5pのエチレン−ク
ロロトリフルオロエチレンコポリマー1に9と共に作っ
た。エチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマー
は粉末形であり、アライド社製のHALAR■3001
E−CTFE コポリマー粉末であった。このコポリ
マーは約49〜51モル%のエチレンおよび相応量のク
ロロトリフルオロエチレンモノマを有していた。組成物
には50Sのペンタエリトリトール−テトラ−1O−ウ
ンデセノエートを含有させた。
組成物にはさらに15gの微粉砕酸化カルシウムを含め
た。組成物を21の丸底フラスコ中で850m1のヘキ
サンをベースにした溶液と混合した。ヘキサンを真空下
、最高温度約100℃で除去した。
た。組成物を21の丸底フラスコ中で850m1のヘキ
サンをベースにした溶液と混合した。ヘキサンを真空下
、最高温度約100℃で除去した。
残っている乾燥粉末を押出して、(レットにした。
実施例3〜4
以下の実施例は本発明の放射線増感剤を含有する組成物
を説明するものである。組成物は実施例2に記載の種類
のエチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマーを
含んでいた。評価した放射線増感剤は表1の放射線増感
剤■および…であった。実施例3は樹脂100部当り5
部の放射線増感剤Iを含有し、実施例4は樹脂100部
当り5部の放射線増感剤■を含有していた。
を説明するものである。組成物は実施例2に記載の種類
のエチレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマーを
含んでいた。評価した放射線増感剤は表1の放射線増感
剤■および…であった。実施例3は樹脂100部当り5
部の放射線増感剤Iを含有し、実施例4は樹脂100部
当り5部の放射線増感剤■を含有していた。
各実施例の組成物では、放射線増感剤およびポリマーは
共に粉末形であり、強カヘンシエルFM10ミキサー中
で250 、Orpmにて4分間混合した。トライブレ
ンドを次に、L/D比3/1のハーク2.54m(1イ
ンチ)−軸スクリユー押出機を使って押出した。押出条
件は、押出機を64rpmで運転して、ゾーン1−22
5℃;ゾーン2−235℃:ゾーン3−245℃;ダイ
−255℃であった。253℃での圧縮成形によって4
レツトを12.7X12.7X0.16CIn(5X5
X Kaクランプのブラックに成形した。ブラックをガ
ンマ線および電子ビーム線にさらした。ブラックをガン
マ線にさらす際、試料ブラックを容器に入れてコバルト
60源にさらした。試料はコバルト60源に10メガラ
ド線量さらした。
共に粉末形であり、強カヘンシエルFM10ミキサー中
で250 、Orpmにて4分間混合した。トライブレ
ンドを次に、L/D比3/1のハーク2.54m(1イ
ンチ)−軸スクリユー押出機を使って押出した。押出条
件は、押出機を64rpmで運転して、ゾーン1−22
5℃;ゾーン2−235℃:ゾーン3−245℃;ダイ
−255℃であった。253℃での圧縮成形によって4
レツトを12.7X12.7X0.16CIn(5X5
X Kaクランプのブラックに成形した。ブラックをガ
ンマ線および電子ビーム線にさらした。ブラックをガン
マ線にさらす際、試料ブラックを容器に入れてコバルト
60源にさらした。試料はコバルト60源に10メガラ
ド線量さらした。
他の試料は電子ビーム線にさらした。ブラックを平らな
トレー上に置き、電子ビームカーテン下を通過させた。
トレー上に置き、電子ビームカーテン下を通過させた。
ブラックは1回の通過当り約3.3メガラドさらされた
。各通過の後、ブラックを戻して再び通過させた。ブラ
ックは電子ビームカーテン下を3回通過させ、全線量は
約10メガラドであった。
。各通過の後、ブラックを戻して再び通過させた。ブラ
ックは電子ビームカーテン下を3回通過させ、全線量は
約10メガラドであった。
ASTM−3275に従って放射線にさらした試料から
小さな引張試験片を切った。引張および伸び強度をイン
ストロンを使って測定した。試料をインストロン内にク
ランプし、200℃に15分間加熱し、その後引張を1
分間当り2インチの延伸速度で試験した。
小さな引張試験片を切った。引張および伸び強度をイン
ストロンを使って測定した。試料をインストロン内にク
ランプし、200℃に15分間加熱し、その後引張を1
分間当り2インチの延伸速度で試験した。
1回線を上記各実施例の組成物で押出被覆した。
16ゲージ銅線を組成物で0.254mm(10ミル)
の厚みに押出被覆した。押出機は線材被覆付属部品を備
えたL/D比24/1の一軸スクリユー押出機であった
。押出機は大体280℃溶融温度で操作した。押出被覆
線の試料は、ブラックと同様の方法でコバルト60ガン
マ線源にさらした。押出被覆線の試料は、各々3.3メ
ガラドを通した後、線材を1206回転させた他は、ブ
ラックと同じ方法で電子ビーム線にさらした。
の厚みに押出被覆した。押出機は線材被覆付属部品を備
えたL/D比24/1の一軸スクリユー押出機であった
。押出機は大体280℃溶融温度で操作した。押出被覆
線の試料は、ブラックと同様の方法でコバルト60ガン
マ線源にさらした。押出被覆線の試料は、各々3.3メ
ガラドを通した後、線材を1206回転させた他は、ブ
ラックと同じ方法で電子ビーム線にさらした。
被覆線は改定米軍規格22759/16に従って試験し
た。特定の長さの線材をつり、その各端に直径2.54
cm (1インチ)、重量908.jil’(2ボン
ド)のロンドを下げた。短期(ET)エージング試験を
230℃にて7時間行ない、そして長期CL、’)エー
ジング試験を210℃にて7日間行なった。試験終了後
、線材を真直にし、亀裂を目で調べた。線材は、真直に
する前に、1時間室温に冷却した。i材に亀裂がなけれ
ば、合格(P)であり、一つでも亀裂があれば、不合格
(F)とした。
た。特定の長さの線材をつり、その各端に直径2.54
cm (1インチ)、重量908.jil’(2ボン
ド)のロンドを下げた。短期(ET)エージング試験を
230℃にて7時間行ない、そして長期CL、’)エー
ジング試験を210℃にて7日間行なった。試験終了後
、線材を真直にし、亀裂を目で調べた。線材は、真直に
する前に、1時間室温に冷却した。i材に亀裂がなけれ
ば、合格(P)であり、一つでも亀裂があれば、不合格
(F)とした。
ブラックおよび線材はガンマ線および電子ビニム線に1
0メガラドおよび20メガラドさらした。
0メガラドおよび20メガラドさらした。
試験を行ない、延伸データおよび長期および短期エージ
ングデータを次の表2にまとめた。
ングデータを次の表2にまとめた。
表 2
□3□4
E−CTFE 100100
1− [(ll’H2CH26C(CH2)g CH=
CHt 〕2 5 −11、CCCHtQC(CHI)
aC7/=CH2)4 5200℃での伸び率(%) Co60 10メガラド 90 70 Co60 20メガラド 70 50 電子ビーム 10メガラド 150 180電子ビーム
20メガラド 400 350LTエージング Co60 10メガラド Fp Co60 20メガラド PP 電子ビーム 10メガラド F F 電子ビーム 20メガラド PP 5Tエージング CO&0 10メガラド P P Co60 20メガラド PP 電子ビーム 10メガラド PP 電子ビーム 20メガラド 、PP 実施例5〜9 表1に示した放射線増感剤Is n、mセよび■をアル
ゴン雰囲気中で熱重量分析した。熱重量分析は加熱時の
重量損失を測定するものである。分析は20℃/分の加
熱速度で行ない、そして250℃および300℃の一定
温度でも行なった。式:のアリルイミドと比較した。
CHt 〕2 5 −11、CCCHtQC(CHI)
aC7/=CH2)4 5200℃での伸び率(%) Co60 10メガラド 90 70 Co60 20メガラド 70 50 電子ビーム 10メガラド 150 180電子ビーム
20メガラド 400 350LTエージング Co60 10メガラド Fp Co60 20メガラド PP 電子ビーム 10メガラド F F 電子ビーム 20メガラド PP 5Tエージング CO&0 10メガラド P P Co60 20メガラド PP 電子ビーム 10メガラド PP 電子ビーム 20メガラド 、PP 実施例5〜9 表1に示した放射線増感剤Is n、mセよび■をアル
ゴン雰囲気中で熱重量分析した。熱重量分析は加熱時の
重量損失を測定するものである。分析は20℃/分の加
熱速度で行ない、そして250℃および300℃の一定
温度でも行なった。式:のアリルイミドと比較した。
結果は、実験放射線増感剤の熱安定性および/または揮
発性が、公知の放射線増感剤に較べて満足なものである
ことを示している。特に、放射線増感剤■は、450℃
に余る温度でも並はずれた低揮発性とすぐれた安定性を
有していた。実施例の組成物および比較物のいずれも3
00℃に至るまでも満足な安定性と揮発性を有しており
、この温度はフルオロポリマーを溶融加工する温度より
も一般に高い温度である。
発性が、公知の放射線増感剤に較べて満足なものである
ことを示している。特に、放射線増感剤■は、450℃
に余る温度でも並はずれた低揮発性とすぐれた安定性を
有していた。実施例の組成物および比較物のいずれも3
00℃に至るまでも満足な安定性と揮発性を有しており
、この温度はフルオロポリマーを溶融加工する温度より
も一般に高い温度である。
実Mii例10
動的機械分析を、実施例2で使用した種類のエチレンー
クロロトリフルオロエチレンコホリマーおよび放射線増
感剤■(4ンタエリトリトールテトラエステル)を含有
する組成物に対して行なった。比較物として100%エ
チレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマーを使用
した。実施例の組成物を実施例2と同じ方法でブラック
に成形した。動的貯蔵弾性率(Eつおよび動的損失弾性
率(E“)を測定した。ブラックの動的貯蔵弾性率E′
対温度およびE″/E′ 比である減衰率対温度を測定
した。本実施例の組成物および比較物は共に三つの王な
転移を示した:マイナス50℃、75℃および135℃
。75℃のピークはエチレン−クロロトリフルオロエチ
レンコポリマーの最終転移点と考えられる。比較物と較
べて、放射線増感剤を含有する本実施例の組成物は、放
射線増感剤によるそれ以上のピークを示さなかった。ガ
ラス転移温度にわずかであるが、再現性のある差異があ
る。本実施例の組成物のガラス転移温度は比較物のそれ
より2〜5℃低く、ガラス転移領域はわずかにより広く
、エテレ/−クロロトリフルオロエチレンコポリマーと
放射線増感剤との間の相混合を示す。透過重子顕微i(
TEM)で、放射線増感剤が分離相中に存在しないこと
を確認した。両方法とも、ポリマーと添加物が混和性で
あることを示している。
クロロトリフルオロエチレンコホリマーおよび放射線増
感剤■(4ンタエリトリトールテトラエステル)を含有
する組成物に対して行なった。比較物として100%エ
チレン−クロロトリフルオロエチレンコポリマーを使用
した。実施例の組成物を実施例2と同じ方法でブラック
に成形した。動的貯蔵弾性率(Eつおよび動的損失弾性
率(E“)を測定した。ブラックの動的貯蔵弾性率E′
対温度およびE″/E′ 比である減衰率対温度を測定
した。本実施例の組成物および比較物は共に三つの王な
転移を示した:マイナス50℃、75℃および135℃
。75℃のピークはエチレン−クロロトリフルオロエチ
レンコポリマーの最終転移点と考えられる。比較物と較
べて、放射線増感剤を含有する本実施例の組成物は、放
射線増感剤によるそれ以上のピークを示さなかった。ガ
ラス転移温度にわずかであるが、再現性のある差異があ
る。本実施例の組成物のガラス転移温度は比較物のそれ
より2〜5℃低く、ガラス転移領域はわずかにより広く
、エテレ/−クロロトリフルオロエチレンコポリマーと
放射線増感剤との間の相混合を示す。透過重子顕微i(
TEM)で、放射線増感剤が分離相中に存在しないこと
を確認した。両方法とも、ポリマーと添加物が混和性で
あることを示している。
本発明の具体例を記してきたが、本発明の真の範囲は特
許請求の範囲から限定される。
許請求の範囲から限定される。
・ 第1頁の続き
■Int、CI、’ 識別記2
号 庁内整理番号
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) フルオロポリマーおよび式: (式中、ルは2〜6であり; R4はHおよびメチル基(置換メチル基を含む)から選
択したものであり; R2は炭素原子数1〜16のアルキレン、シクロアルキ
レ/、アルアルキレンおよびアリーレンジラジカルより
なる群から選択したジラジカルであり;そして Xは、官能基が一〇−1.NRおよびこれらの混ざった
ものから選択したものであり、そして2〜6個の官能基
を有する、多官能価基である) を有する放射線増感剤よりなる組成物。 (2) フルオロポリマーが、エチレン−テトラフルオ
ロエチレンコポリマー、エチレン−クロロトリフルオロ
エチレンコポリマー、ポリ弗化ピニリデンホモホリマー
、テトラフルオロエチレン−弗化ビニリチンコポリマー
、テトラフルオロエチレンーヘキサフルオロフ0ロピレ
ンコポリマーおよび弗化ヒニリテンーへキサフルオロプ
ロピレンホリマーよりなる群から選択したものである、
特許請求の範囲第(1)項記載の組成物。 (3)多官能価基の炭化水素部分が、アルキル、シクロ
アルキル、アルアルキルおよびアリール基よりなる群か
ら選択したものである、特許請求の範囲第(1)項記載
の組成物。 (4)多官能価基が、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、1.3−プロパンジオール、フ゛タンジオ
ール、ピノコール、グリセロール、4ンタエリトリトー
ル、シクロベンタンジオール、シクロヘキサンジオール
、ヒドロベンゾイン、ヒドロキノン、カテコール、レゾ
ル7ノールおよびテトラ−ヒドロキシナフタレンよりな
る化合物の群n)ら選択したものである、特許請求の範
囲第(3)項記載の組成物。 (5) 多官能価基が、テトラメチレンジアミン、フェ
ニレンジアミン、テトラアミノナフタレン、トリアミノ
ベンゼン、アミンエタノールおよびこれらのN−メチル
誘導体よりなる化合物の群から選択したものである、特
許請求の範囲第(3)項記載の組成物。 (6) R+ がHであり、そしてR7が炭素原子数2
〜18のアルキレン基である、特許請求の範囲第(1)
項記載の組成物。 (7) 式: (式中、nは2〜6であり; R1はHおよびメチル基(置換メチル基を含む)から選
択したものであり: R1は炭素原子数1〜16のアルキレン、シクロアルキ
レン、アルアルキレンおよび了り−レンジラジカルより
なる群から選択した基であり:そして Xは、官能基が一〇−1.NRおよびこれらの混ざった
ものから選択したものであり、2〜6個の官能基を有す
る、多官能価基である) を有する化合物。 (8)多官能価基の炭化水素部分が、アルキル、シクロ
アルキル、アルアルキルおよびアリール基よりなる群か
ら選択したものである、特許請求の範囲第(7)項記載
の化合物。 (9)多官能価基が、エチレンダリコール、プロピレン
グリコール、1.3−7’ロパンジオール、フ゛タンジ
オール、ピノコール、グリセロール、インタエリトリト
ール、シクロインタンジオール、シクロヘキサンジオー
ル、ヒドロベンゾイン、ヒドロキノン、カテコール、レ
ゾルシノールおよびテトラ−ヒドロキシナフタレンより
なる化合物の群から選択したものである、特許請求の範
囲第(8)項記載の化合物。 (ト)多官能価基が、テトラメチレンジアミン、フェニ
レンジアミン、テトラアミノナフタレン、トリアミノベ
ンゼン、アミノエタノールおよびこれらのN−メチル誘
導体よりなる化合物の群から選択したものである、特許
請求の範囲第(8)項記載の化合物。 (u) R+ がHであり、そしてR2が炭素原子2〜
1Bのアルキレン基である、特許請求の範囲第(9)項
記載の化合物。 (2)エテレンーテトラフルオロエチレンコホリマー、
エチレン−クロロ、ト+Jフルオロエチレンコホリマー
、ポリ弗化ビニリデンホモポリマー、テトラフルオロエ
チレン−弗化ビニリデンコポリマー、テトラフルオロエ
チレン−ヘキサフルオロプロピレンコポリマーおよび弗
化ビニリデン−へキサフルオロプロピレンポリマーより
なる群から選択したフルオロポリマーおよび式: (式中、nは2〜6であり; R,はHおよびメチル基(置換メチル基を含む)、から
選択したものであり: R2は、炭素原子数1〜16のアルキレン、 ゛シクロ
アルキレン、アルアルキレンおよびアリーレンジラジカ
ルよりなる群から選択したジラジカルであり;そして Xは、官能基が一〇−1>NRおよびこれらの混ざった
ものから選択したものであり、2〜6の官能基を有する
、多官能価基である)を有する架橋剤よりなる組成物を
放射線照射する工程よりなる方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US59790884A | 1984-04-09 | 1984-04-09 | |
US597908 | 1990-10-15 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60231730A true JPS60231730A (ja) | 1985-11-18 |
Family
ID=24393414
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7525385A Pending JPS60231730A (ja) | 1984-04-09 | 1985-04-09 | フルオロポリマーの放射線架橋剤化合物、同架橋性組成物および架橋方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0163825B1 (ja) |
JP (1) | JPS60231730A (ja) |
CA (1) | CA1257873A (ja) |
DE (1) | DE3564813D1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2864542B1 (fr) * | 2003-12-29 | 2007-02-23 | Arkema | Procede de greffage de polymere fluore et structures multicouches comprenant ce polymere greffe |
FR2876626B1 (fr) * | 2004-10-19 | 2007-01-05 | Arkema Sa | Utilisation d'un polymere fluore pour proteger la surface d' un materiau inorganique contre la corrosion |
US7790813B2 (en) * | 2008-07-29 | 2010-09-07 | Siltech Llc | Multifunctional silicone resin polymers |
US7723443B1 (en) * | 2008-07-29 | 2010-05-25 | Siltech Llc | Multifunctional linear silicone resin polymers |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2944995A (en) * | 1959-05-15 | 1960-07-12 | Us Rubber Co | Acceleration of the peroxide cure of hexafluoropropylene-vinylidene fluoride elastomer with methylene bisacrylamide |
US4028093A (en) * | 1971-09-09 | 1977-06-07 | Stauffer Chemical Company | Meta-bis anilide derivatives and their utility as herbicides |
US3894118A (en) * | 1974-01-21 | 1975-07-08 | Itt | Crosslinking agents for fluorocarbon polymers |
EP0056189B1 (en) * | 1980-12-26 | 1986-08-20 | Ss Pharmaceutical Co., Ltd. | 2,3-butanediol diester derivatives, process for producing the same, and an antiulcer drug containing the same |
DE3314786A1 (de) * | 1983-04-23 | 1984-10-25 | Rolf Dr. 3000 Hannover Schober | Glycerin-partialester der 10-undecylensaeure als antimycoticum bzw. vehikel fuer antimycotische externa |
-
1985
- 1985-03-08 CA CA000476049A patent/CA1257873A/en not_active Expired
- 1985-03-19 DE DE8585103137T patent/DE3564813D1/de not_active Expired
- 1985-03-19 EP EP19850103137 patent/EP0163825B1/en not_active Expired
- 1985-04-09 JP JP7525385A patent/JPS60231730A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0163825A3 (en) | 1986-11-20 |
CA1257873A (en) | 1989-07-25 |
EP0163825B1 (en) | 1988-09-07 |
EP0163825A2 (en) | 1985-12-11 |
DE3564813D1 (en) | 1988-10-13 |
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