JPS60217673A - Ｆｒｐクライオスタツト - Google Patents
ＦｒｐクライオスタツトInfo
- Publication number
- JPS60217673A JPS60217673A JP59072705A JP7270584A JPS60217673A JP S60217673 A JPS60217673 A JP S60217673A JP 59072705 A JP59072705 A JP 59072705A JP 7270584 A JP7270584 A JP 7270584A JP S60217673 A JPS60217673 A JP S60217673A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- layer
- frp
- tank
- auxiliary
- Prior art date
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C3/00—Vessels not under pressure
- F17C3/02—Vessels not under pressure with provision for thermal insulation
- F17C3/08—Vessels not under pressure with provision for thermal insulation by vacuum spaces, e.g. Dewar flask
- F17C3/085—Cryostats
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2221/00—Handled fluid, in particular type of fluid
- F17C2221/01—Pure fluids
- F17C2221/016—Noble gases (Ar, Kr, Xe)
- F17C2221/017—Helium
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F17—STORING OR DISTRIBUTING GASES OR LIQUIDS
- F17C—VESSELS FOR CONTAINING OR STORING COMPRESSED, LIQUEFIED OR SOLIDIFIED GASES; FIXED-CAPACITY GAS-HOLDERS; FILLING VESSELS WITH, OR DISCHARGING FROM VESSELS, COMPRESSED, LIQUEFIED, OR SOLIDIFIED GASES
- F17C2270/00—Applications
- F17C2270/05—Applications for industrial use
- F17C2270/0509—"Dewar" vessels
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はＦ几Ｐで構成したクライオスタットに係り、特
に、真空断熱層の真空劣化が少なく長期的に保守の容易
なＦＲＰクライオスタットに関する。
に、真空断熱層の真空劣化が少なく長期的に保守の容易
なＦＲＰクライオスタットに関する。
超電導マグネットのコイル等は液体ヘリウム中に浸漬冷
却されるか、あるいは、熱伝導の優れた銅、アルミニウ
ム等を介した熱伝導で極低温まで冷却される。
却されるか、あるいは、熱伝導の優れた銅、アルミニウ
ム等を介した熱伝導で極低温まで冷却される。
仁のような超電導機器は外部からの熱侵入による液体ヘ
リウムの蒸発を極力少匁くするため、内部に真空断熱層
、および、液体窒素シールド等の熱シールドを適宜設け
たクライオスタット中に収納される。
リウムの蒸発を極力少匁くするため、内部に真空断熱層
、および、液体窒素シールド等の熱シールドを適宜設け
たクライオスタット中に収納される。
通常、このようなりライオスタットはステンレス等の金
属材料で構成される。しかし、金栖拐料は磁場の変動に
伴い、その内部にうず電流が発生し、損失の発生と磁場
の変歪を生じる。そのだめ、よシ一層の発生損失の低敷
あるいは、磁場均−嵐の向上を図るには非金域月料でク
ライオスタットを構成する必要がある。このようなりラ
イオスタットには、ガラス製のものとＦｉｌ、ＩＪのも
のとがおるが、ガラス製のものは（バ械的強度が馳い等
の欠点があり、小型のもの以外ではＦＲＰｍのものが優
れている。
属材料で構成される。しかし、金栖拐料は磁場の変動に
伴い、その内部にうず電流が発生し、損失の発生と磁場
の変歪を生じる。そのだめ、よシ一層の発生損失の低敷
あるいは、磁場均−嵐の向上を図るには非金域月料でク
ライオスタットを構成する必要がある。このようなりラ
イオスタットには、ガラス製のものとＦｉｌ、ＩＪのも
のとがおるが、ガラス製のものは（バ械的強度が馳い等
の欠点があり、小型のもの以外ではＦＲＰｍのものが優
れている。
第１図にＦＲＰクライオスタットの概略構成を示す。Ｆ
ＲＰ製の内槽１、外槽２及び上蓋５で構成され、内槽１
と外槽２とはＯリングの使用あるいは接着等の手段によ
り気密に一体化される。内槽と外槽によって構成される
空間は通常外槽に取シ付けられる真空排気口４から排気
された後、封じ切られ真空断熱層３となる。真空断熱層
３中には通常、さらに熱伝導を低減するため、スパーイ
ンシュレータ（図示せず）が設置される。内槽１内には
超電導マグネット６等が収納され液体ヘリウム８で満た
される。上部には断熱材７が取シ付けられ上部からの熱
侵入を防止する。まだ、上蓋５には図示しない液体ヘリ
ウムの注入口、超電導マグネットへの給電線等が取り付
けられる。このような構成のＦＲＰクライオスタットは
液体窒素シールド無しでステンレスフライオスフット等
とｉｔは同程度の断熱性能が得られ、且つ、絶縁物で結
成されているためうす電流の発生がない等の利点がある
。
ＲＰ製の内槽１、外槽２及び上蓋５で構成され、内槽１
と外槽２とはＯリングの使用あるいは接着等の手段によ
り気密に一体化される。内槽と外槽によって構成される
空間は通常外槽に取シ付けられる真空排気口４から排気
された後、封じ切られ真空断熱層３となる。真空断熱層
３中には通常、さらに熱伝導を低減するため、スパーイ
ンシュレータ（図示せず）が設置される。内槽１内には
超電導マグネット６等が収納され液体ヘリウム８で満た
される。上部には断熱材７が取シ付けられ上部からの熱
侵入を防止する。まだ、上蓋５には図示しない液体ヘリ
ウムの注入口、超電導マグネットへの給電線等が取り付
けられる。このような構成のＦＲＰクライオスタットは
液体窒素シールド無しでステンレスフライオスフット等
とｉｔは同程度の断熱性能が得られ、且つ、絶縁物で結
成されているためうす電流の発生がない等の利点がある
。
しかし、このような構成のＦＲＰクライオスタットでは
プラスチックの気体透過率が金属材料のそれに比較して
大きいため、長時間経過後の真空断熱層内の圧力上昇（
真空度の劣化）は金属に比較して大きい。気体の透過は
プラスチックス単体で用いるよシもガラス繊維などの無
機質材料と組み合わせることによシ低減されるが、それ
でも金属材料に比べればかなシ大きい。真空中の熱伝導
は、内部の真空度が１０′″”ｆｏｒｒ以上になると圧
力上昇に伴って大きくなる。すなわち、真空劣化によシ
真空断熱層内の真空度が１０ ” ’ｌ’ｏｒｒ以上に
なると、所定の真空断熱効果が得られず、熱侵入蓋が増
加する。このようなりライオスタットを使用する場合に
は、使用の直前、あるいは、定期的に真空ポンプを用い
た真空断熱層の真空排気を実施する必要があり、運転及
び保守の点から極めて不利である。
プラスチックの気体透過率が金属材料のそれに比較して
大きいため、長時間経過後の真空断熱層内の圧力上昇（
真空度の劣化）は金属に比較して大きい。気体の透過は
プラスチックス単体で用いるよシもガラス繊維などの無
機質材料と組み合わせることによシ低減されるが、それ
でも金属材料に比べればかなシ大きい。真空中の熱伝導
は、内部の真空度が１０′″”ｆｏｒｒ以上になると圧
力上昇に伴って大きくなる。すなわち、真空劣化によシ
真空断熱層内の真空度が１０ ” ’ｌ’ｏｒｒ以上に
なると、所定の真空断熱効果が得られず、熱侵入蓋が増
加する。このようなりライオスタットを使用する場合に
は、使用の直前、あるいは、定期的に真空ポンプを用い
た真空断熱層の真空排気を実施する必要があり、運転及
び保守の点から極めて不利である。
本発明の目的は、保守が容易で、且つ、長時間使用に供
せるＦＲＰクライオスタットを提供するにある。
せるＦＲＰクライオスタットを提供するにある。
本発明の要点は、真空断熱層（以下主真空断熱層）の側
面に、独立した補助真空層を設けることにより、ＦＲＰ
層を透過してきた気体分子を補助真空層で捕獲し、主真
空断熱層の真空劣化を防止したことにある。
面に、独立した補助真空層を設けることにより、ＦＲＰ
層を透過してきた気体分子を補助真空層で捕獲し、主真
空断熱層の真空劣化を防止したことにある。
第２図に本発明の一実施例を示す。液体ヘリウム８０を
収容する内槽中にはＦＲＰ７ｉ１＄１１及び１２によっ
て構成される補助真空層３１が設けられる。また、外槽
中にもＦＲＰ層２１．２２で構成される補助真空層３２
が設けられ、内槽及び外槽によって主真空断熱層３０が
構成される。主真空断熱層内には図示しないスーパイン
シュレータが取付けられる。それぞれの真空層３０，３
１゜３２にはそれぞれ独立した真空排気口４０，４１゜
４２が設けられる。亀１図及び第２図における主真空断
熱層の真空劣化を、単純化したモデル第３図、第４図を
用いて説明する。第３図、第４図は一方向のみに気体透
過のある材料１３．１４及び１５（例えばＦＲＰ）を配
置し、その周囲に気体透過の無視できる材料（例えば金
属）を配置して一方向のみから透過するモデルである。
収容する内槽中にはＦＲＰ７ｉ１＄１１及び１２によっ
て構成される補助真空層３１が設けられる。また、外槽
中にもＦＲＰ層２１．２２で構成される補助真空層３２
が設けられ、内槽及び外槽によって主真空断熱層３０が
構成される。主真空断熱層内には図示しないスーパイン
シュレータが取付けられる。それぞれの真空層３０，３
１゜３２にはそれぞれ独立した真空排気口４０，４１゜
４２が設けられる。亀１図及び第２図における主真空断
熱層の真空劣化を、単純化したモデル第３図、第４図を
用いて説明する。第３図、第４図は一方向のみに気体透
過のある材料１３．１４及び１５（例えばＦＲＰ）を配
置し、その周囲に気体透過の無視できる材料（例えば金
属）を配置して一方向のみから透過するモデルである。
第３図は第１図、第４図は第２図のモデルである。
第３図でＦＲＰ層１３の厚みをｄ１空間３３の体積をｖ
１圧力をＰ、外部の圧力をＰ、（大気圧）とすると、気
体透過による単位時間当たりの圧力上昇ΔＰは、 ΔＰ＝Ｋ・−、−−（）） 、 −Ｐ ） ・・・・・
・・・・（１）−ｖ ここでＳはＦＲ，Ｐ層の表面積、Ｋは月料の気体透過率
によって決まる定数。
１圧力をＰ、外部の圧力をＰ、（大気圧）とすると、気
体透過による単位時間当たりの圧力上昇ΔＰは、 ΔＰ＝Ｋ・−、−−（）） 、 −Ｐ ） ・・・・・
・・・・（１）−ｖ ここでＳはＦＲ，Ｐ層の表面積、Ｋは月料の気体透過率
によって決まる定数。
さらに、式（１）はＰがＰ、（大気圧７６０ Ｔｏｒｒ
）に比較して無視できる領域（約１ｇ’１’ｏｒｒ以下
）では、 ΔＰ＝Ｋ・□−・Ｐ、 ・・・・・・・・・（２）ｄ・
■ また、第４図においてＦＲＰ層１４．１５の厚みをそれ
ぞれｄ、、ｄ、、とじ、１４．１５及び９で囲まれる空
間３４の体積、圧力をそれぞれＶ ｌ ＋Ｐ１、さらに
１５，９で囲まれる空間３５の体積、圧力を■ゎ、Ｐゎ
とする。
）に比較して無視できる領域（約１ｇ’１’ｏｒｒ以下
）では、 ΔＰ＝Ｋ・□−・Ｐ、 ・・・・・・・・・（２）ｄ・
■ また、第４図においてＦＲＰ層１４．１５の厚みをそれ
ぞれｄ、、ｄ、、とじ、１４．１５及び９で囲まれる空
間３４の体積、圧力をそれぞれＶ ｌ ＋Ｐ１、さらに
１５，９で囲まれる空間３５の体積、圧力を■ゎ、Ｐゎ
とする。
この場合、空間３４の単位時間あたりの圧力上昇ΔＰ、
は、 今、ｄ、−１／２・ｄ、Ｖ、＝Ｖ／１０に設計すると（
ｄ、、ｖ、を太きぐすると性能は向上するがクライオス
タットが大型化する）ΔＦ、＝２０・ΔＰとなる。
は、 今、ｄ、−１／２・ｄ、Ｖ、＝Ｖ／１０に設計すると（
ｄ、、ｖ、を太きぐすると性能は向上するがクライオス
タットが大型化する）ΔＦ、＝２０・ΔＰとなる。
また、空間３５の単位時間当たりの圧力上昇ΔＰ、は式
（１）と同様の考えで、 ΔＰ１もＰｒｆｉが小さい範囲で次式となる。
（１）と同様の考えで、 ΔＰ１もＰｒｆｉが小さい範囲で次式となる。
空間３５（第２図の主真空断熱層）の圧力上昇はＰ、が
１Ｔｏｒｒ以下で空間３３の圧力上昇に比較し、１／７
６０以下でほとんど零と見なせる。
１Ｔｏｒｒ以下で空間３３の圧力上昇に比較し、１／７
６０以下でほとんど零と見なせる。
（１）〜（５）式から得られる各空間の圧力上昇曲線を
縦軸に圧力Ｐの対数、横軸に経過時間ｔの対数をとシ、
第５図に示す。曲線ａ、ｌ）、ｃはそれぞれ空間３３，
３４．３５の圧力変化を示す。（第５図は便宜上、初期
圧力を１０”” Ｔｏｒｒとしたが、異表る場合、各曲
線上下に移動。）曲線ａｌ ｂ＃Ｃで経過時間とともに
飽和傾向（７６０ＴＯｒｒに漸近）を示すのは、（１）
式の（ｐ、−ｐ）、（４）式の（Ｐ、−Ｐ、）の項が無
視できなくなるためである。
縦軸に圧力Ｐの対数、横軸に経過時間ｔの対数をとシ、
第５図に示す。曲線ａ、ｌ）、ｃはそれぞれ空間３３，
３４．３５の圧力変化を示す。（第５図は便宜上、初期
圧力を１０”” Ｔｏｒｒとしたが、異表る場合、各曲
線上下に移動。）曲線ａｌ ｂ＃Ｃで経過時間とともに
飽和傾向（７６０ＴＯｒｒに漸近）を示すのは、（１）
式の（ｐ、−ｐ）、（４）式の（Ｐ、−Ｐ、）の項が無
視できなくなるためである。
第５図で曲線８１曲＋ｌ１ｉｃが真空断熱特性が低下し
てくる圧力１０−”Ｉ’ｏｒｒに達した時間をそれぞれ
１．．１．とすると、ｔ、はｔ、に比較し１００倍以上
も長い。（１，及び１ｅの具体的な時間は材料定数Ｋ及
び寸法によって決まる。）なお、第１図及び第２図のフ
ランジ方向からの気体透過は極めて少ない（面積が極め
て小さい）ため、モデルと＃１は同様に考えられる。
てくる圧力１０−”Ｉ’ｏｒｒに達した時間をそれぞれ
１．．１．とすると、ｔ、はｔ、に比較し１００倍以上
も長い。（１，及び１ｅの具体的な時間は材料定数Ｋ及
び寸法によって決まる。）なお、第１図及び第２図のフ
ランジ方向からの気体透過は極めて少ない（面積が極め
て小さい）ため、モデルと＃１は同様に考えられる。
すなわち、本発明の第２図における主真空断熱層の真空
劣化は従来の第１図の真空劣化に比較して極めて小さい
。
劣化は従来の第１図の真空劣化に比較して極めて小さい
。
次に、補助真空層の形成方法について説明する。
第６図にその一例を示す。巻枠６１の周囲に内側ＦＲＰ
層６２が巻回され、その周囲に熱形状に成形されたスペ
ーサ等６３が取付けられ、さらに、その周囲にやは構成
形されたＦＲＰ薄板６４を巻きつける。その後、外側Ｆ
ＲＰ層６４を巻回して完成する。ＦＲＰ層６２及び６４
がハンドレイアップ法、フィラメントワインディング法
等によシ新たに成形されるもので、真空容器壁となる。
層６２が巻回され、その周囲に熱形状に成形されたスペ
ーサ等６３が取付けられ、さらに、その周囲にやは構成
形されたＦＲＰ薄板６４を巻きつける。その後、外側Ｆ
ＲＰ層６４を巻回して完成する。ＦＲＰ層６２及び６４
がハンドレイアップ法、フィラメントワインディング法
等によシ新たに成形されるもので、真空容器壁となる。
波形状スペーサによって形成される空間が、補助真空層
として用いられる。第６図はスペーサとして波形状のも
のを用いたが、丸棒、あるいは、紐状のものを巻付ける
など連続した空間が形成できれば適宜のもので良い。
として用いられる。第６図はスペーサとして波形状のも
のを用いたが、丸棒、あるいは、紐状のものを巻付ける
など連続した空間が形成できれば適宜のもので良い。
次に、本発明の変形例について述べる。
第７図は、第２図の補助真空層に、補助真空タンク７２
．７３を取付けたものである。真空排気口４３．４４に
真空ポンプを接続し、真空排気した後、図示しない真空
弁で封じ切る。このようにすれば式（３）は次式のよう
になシ、ΔＰ、を小さくできる。
．７３を取付けたものである。真空排気口４３．４４に
真空ポンプを接続し、真空排気した後、図示しない真空
弁で封じ切る。このようにすれば式（３）は次式のよう
になシ、ΔＰ、を小さくできる。
ここで、Ｖｔは補助真空タンクの容積。
すなわち、補助真空層の圧力上昇が小さくなることによ
シ主真壁断熱層の真空劣化を一段と低減できる。
シ主真壁断熱層の真空劣化を一段と低減できる。
また、第２図の真空排気口４１．４２に真空排気系（Ｘ
空ポンプ）を接弄、・じした捷まにし、連続的、あるい
は、定期的に真空排気するのも有効な手段である。主真
空断熱層を真壁排気する場合には、真空断熱効果が得ら
れるＩＱ”ｌ’ｏｒｒ以下にする必要があるため油回転
ポンプと油拡散ポンプの組合せ等、犬がかシな装置が必
要であるが、補助真空層の場合、第５図かられかるよう
にｌ’ｌ’ｏｒｒ以下であれば良く、小型の油回転ポン
プのみでよい。
空ポンプ）を接弄、・じした捷まにし、連続的、あるい
は、定期的に真空排気するのも有効な手段である。主真
空断熱層を真壁排気する場合には、真空断熱効果が得ら
れるＩＱ”ｌ’ｏｒｒ以下にする必要があるため油回転
ポンプと油拡散ポンプの組合せ等、犬がかシな装置が必
要であるが、補助真空層の場合、第５図かられかるよう
にｌ’ｌ’ｏｒｒ以下であれば良く、小型の油回転ポン
プのみでよい。
この方法では第５図における曲ｉｆＭｂ（補助真空層の
圧力上昇）は１０’−” 〜１０”’ＴＯｒｒ（７）範
囲で一定（油回転ポンプの性能）となるため、主真空断
熱層への気体透過は実用上塔とみなせる。すなわち、極
めて真空劣化の少ないＦｌ（、Ｐクライオスタンドが構
成できる。
圧力上昇）は１０’−” 〜１０”’ＴＯｒｒ（７）範
囲で一定（油回転ポンプの性能）となるため、主真空断
熱層への気体透過は実用上塔とみなせる。すなわち、極
めて真空劣化の少ないＦｌ（、Ｐクライオスタンドが構
成できる。
以上の説明では、内槽及び外層のはは全体に補助真空層
を設けたが、第８図のように内槽のみに設けても本発明
の効果が得られる。
を設けたが、第８図のように内槽のみに設けても本発明
の効果が得られる。
通常、液体ヘリウムを収納するクライオスタットでは、
液体ヘリウム（４，２°Ｋ）を入れた場合、内ｍ壁も冷
やされ真空側壁面がクライオポンプ（ヘリウム以外の気
体分子は冷やされて壁面に吸着される）として働くため
、ヘリウム以外の気体分子が少々透過しても自然に真空
が向後する。しかし、ヘリウムの透過に対してはクライ
オポンプの効果がなく極力低減する必要がある。その意
味から第８図のようにヘリウム透過が生じる内槽に本発
明を適用すれば、外層の補助真空層が無い場合でも、本
発明の効果は得られる。
液体ヘリウム（４，２°Ｋ）を入れた場合、内ｍ壁も冷
やされ真空側壁面がクライオポンプ（ヘリウム以外の気
体分子は冷やされて壁面に吸着される）として働くため
、ヘリウム以外の気体分子が少々透過しても自然に真空
が向後する。しかし、ヘリウムの透過に対してはクライ
オポンプの効果がなく極力低減する必要がある。その意
味から第８図のようにヘリウム透過が生じる内槽に本発
明を適用すれば、外層の補助真空層が無い場合でも、本
発明の効果は得られる。
また、ＦＲＰ等の気体透過率は、極低温になるとかなシ
小さくなるため、第９図のように液体ヘリウムと接しな
い、温度の高い部分のみに補助真空層を設けてもかなシ
の効果が得られる。
小さくなるため、第９図のように液体ヘリウムと接しな
い、温度の高い部分のみに補助真空層を設けてもかなシ
の効果が得られる。
なお、液体窒素、液体酸素、ＬＮＧなどの低温液体を収
容するクライオスタット全般に本発明は適用できる。。
容するクライオスタット全般に本発明は適用できる。。
また、クライオスタットの構成材料は、ＦＲＰを例に説
明したが、金属等に比較して気体透過率の大きい材料を
用いる場合、本発明は有効である。
明したが、金属等に比較して気体透過率の大きい材料を
用いる場合、本発明は有効である。
本発明によれば真空断熱層の真空劣化が極めて小さく、
保守が容易で信頼性の高いＦ几Ｐクライオスタットが得
られる。
保守が容易で信頼性の高いＦ几Ｐクライオスタットが得
られる。
第１図は従来のぼ五面図、第２図は本発明の一実施例の
縦断面図、第３図、第４図は本発明の詳細な説明図、第
５図は従来と本発明の特性比較の説明図、第６図は本発
明の製作方法の横断面図、第７図は本発明の変形例の縦
断面図、第８図、第９図は本発明の他の実施例の縦断面
図である。 １１．１２，２１．２２−ＦＲＰ層、３０−・・主真空
断熱層、３１．３２・・・補助真空層、４０．４１゜４
２・・・真空排気口、７２．７３・・・補助真空タンク
。 代理人 弁理士 高橋明夫 弔１図 も３図 電α図 率５日 １０９を 弔６０
縦断面図、第３図、第４図は本発明の詳細な説明図、第
５図は従来と本発明の特性比較の説明図、第６図は本発
明の製作方法の横断面図、第７図は本発明の変形例の縦
断面図、第８図、第９図は本発明の他の実施例の縦断面
図である。 １１．１２，２１．２２−ＦＲＰ層、３０−・・主真空
断熱層、３１．３２・・・補助真空層、４０．４１゜４
２・・・真空排気口、７２．７３・・・補助真空タンク
。 代理人 弁理士 高橋明夫 弔１図 も３図 電α図 率５日 １０９を 弔６０
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、液体ヘリウムあるいは液体屋素等を収容する稙維強
化プラスチック製の内槽と、この内槽の周囲に設けられ
たＦＫＰＭ外槽によって構成され、前記内槽と前記外槽
とによって構成される第一の空間を真空排気したＦＲＰ
クライオスタットにおいて、 前記内槽あるいは前記外槽のうち少なくとも一方の内部
に連続した第二の空間を設けた二重壁となし、且つ、そ
れぞれの補助真空層にはそれぞれ独立した真空排気口を
設けたことを特徴とするＦＲＰクライオスタット。 ２、特許請求の範囲第１項において、 前記第二の真空１−の前記排気口の外部に前記第二の真
空層の容積の二倍以上の容積の補助真空タンクを備えた
ことを特徴とするＦ几Ｐクライオスタット。 ３、特許請求の範囲第１項において、 前記補助真空層の前記真空排気口に独立した真空ポンプ
を設けたことを特徴とするＦＲＰクライオスタット。 ４、特許請求の範囲第１項において、 前記補助真壁ノＨを、内周側ＦＲＰ層の外側にスペーサ
を取付け、このスペーサの周囲にＦＲＰ薄板を巻き付け
、さらに、その外周ｆｌｌ１１に外周側ＦＲＰ層を巻回
して形成したことを％徽とするＦ）ＬＰクライオスタッ
ト。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59072705A JPS60217673A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | Ｆｒｐクライオスタツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59072705A JPS60217673A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | Ｆｒｐクライオスタツト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60217673A true JPS60217673A (ja) | 1985-10-31 |
Family
ID=13497031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59072705A Pending JPS60217673A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | Ｆｒｐクライオスタツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60217673A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1156263A1 (fr) * | 2000-05-17 | 2001-11-21 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Bac d'immersion de produits notamment alimentaires dans un liquide cryogénique |
| US20160163439A1 (en) * | 2014-01-24 | 2016-06-09 | Nadder Pourrahimi | Structural support for conduction-cooled superconducting magnets |
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1984
- 1984-04-13 JP JP59072705A patent/JPS60217673A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1156263A1 (fr) * | 2000-05-17 | 2001-11-21 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Bac d'immersion de produits notamment alimentaires dans un liquide cryogénique |
| FR2809169A1 (fr) * | 2000-05-17 | 2001-11-23 | Air Liquide | Bac d'immersion de produits notamment alimentaires dans un liquide cryogenique |
| US20160163439A1 (en) * | 2014-01-24 | 2016-06-09 | Nadder Pourrahimi | Structural support for conduction-cooled superconducting magnets |
| US10109407B2 (en) * | 2014-01-24 | 2018-10-23 | Nadder Pourrahimi | Structural support for conduction-cooled superconducting magnets |
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