JPS60216430A - Electron gun structure - Google Patents

Electron gun structure

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JPS60216430A
JPS60216430A JP60018490A JP1849085A JPS60216430A JP S60216430 A JPS60216430 A JP S60216430A JP 60018490 A JP60018490 A JP 60018490A JP 1849085 A JP1849085 A JP 1849085A JP S60216430 A JPS60216430 A JP S60216430A
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focusing
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electron gun
horizontal
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    • H01J29/72Arrangements for deflecting ray or beam along one straight line or along two perpendicular straight lines
    • H01J29/76Deflecting by magnetic fields only

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の関連する技術分野〕 この発明は一般にカラー画像表示装置に使用する電子銃
構体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical field to which the invention relates] The present invention generally relates to an electron gun assembly used in a color image display device.

〔従来技術〕[Prior art]

カラー画像表示装置において最初シャドーマスク型の多
ビーム式カラー映像管が用いられたとき、その表示スク
リーン上の走査ラスタのすべての点において確実にビー
ムが集中するようするために動的集中補正回路が必要で
あったが、それ以後例えば米国特許第3800176号
明細書記載のような自己集中表示方式が開発されて動的
集中補正回路の必要がなくなった。上記米国特許の方式
では、3本のインライン型電子ビームが全ラスク点で実
質的な集中が得られるような負の水平軸方向収差と正の
垂直軸方向収差を生ずる不均一性を持つ偏向磁界を通る
When shadow-mask multi-beam color picture tubes were first used in color image displays, dynamic concentration correction circuits were used to ensure that the beam was focused at every point in the scanning raster on the display screen. Since then, self-focusing display systems have been developed, such as those described in U.S. Pat. No. 3,800,176, which eliminate the need for dynamic concentration correction circuits. In the system of the above-mentioned US patent, three in-line electron beams are deflected by a deflection magnetic field with inhomogeneities that produce negative horizontal axial aberrations and positive vertical axial aberrations such that substantial concentration is obtained at all rask points. pass through.

集中条件を簡単にするため約5.08MM未満に保たれ
ていたが、このようにビーム間隔を小さくするとその走
査されるビームの電子銃源の集束電極の横長素子に設け
られるビーム位置決定用開孔の直径に限度が生じる。各
ビームの集束レンズの有効径はこの開孔の直径で決まる
ため、この開孔が小さければ小径レンズに付随する球面
収差によるビームスポットの変形の問題が生ずる。
Although the beam spacing was kept below approximately 5.08 mm to simplify the concentration conditions, the beam positioning opening provided in the oblong element of the focusing electrode of the electron gun source for the scanned beam was reduced. There is a limit to the diameter of the hole. Since the effective diameter of the focusing lens for each beam is determined by the diameter of this aperture, if this aperture is small, a problem arises in which the beam spot is deformed due to spherical aberration associated with a small diameter lens.

しかしその後ビーム間隔を広げて集束電極の開孔径を大
きくすることができるようになり、そのためスポット変
形の問題は減少したが、代りに集中の問題が増加した。
However, later it became possible to widen the beam spacing and increase the aperture diameter of the focusing electrode, which reduced the problem of spot deformation but increased the problem of concentration.

例えば東芝レビュー昭和55年3.4月号掲載の浜野等
の織文「ミニネックカラー映像管」に記載されたような
自己集中表示方式の次の改良では、ネック部の外径が通
常用いられて来たもの(2つ、ll市および36.5f
l)より著しく小さい(g2.5mm)カラー映像管に
比較的コンパクトな偏向ヨークを取付けた管球ヨーク構
体が用いられている。この論文によると、ネック部の直
径を小さくすると水平偏向電力が節約され、通常のネッ
ク径29.1111ffiのものに比して偏向感度が2
0〜30%向上するが、ネック部領域の寸法が充分な集
束性能や高電圧安定度(すなわち放電に対する信頼度)
を得ることの困難を助長することになる。
For example, in the next improvement of the self-focusing display system described in Hamano et al.'s paper ``Mini Neck Color Video Tube'' published in the March/April 1980 issue of the Toshiba Review, the outside diameter of the neck was usually used. (2, ll city and 36.5f
l) A tube yoke assembly is used in which a relatively compact deflection yoke is attached to a color picture tube that is significantly smaller (g 2.5 mm). According to this paper, reducing the neck diameter saves horizontal deflection power and increases deflection sensitivity by 2.
0-30% improvement, but the dimensions of the neck area are sufficient for focusing performance and high voltage stability (i.e. reliability for discharge)
This will make it more difficult to obtain.

〔発明の開示〕[Disclosure of the invention]

この発明の電子銃構体は三本のインライン電子ビームを
生成する電子銃構体であって、上記ビームの通路を横切
って配置される共通で非対称な上記ビーム用集束レンズ
(例えばレンズ18)を設定する素子を備え、上記集束
レンズは第1方向(例えば水平方向)において該方向に
直交する第2方向(例えば垂直方向)における最大差渡
し寸法(例えばf4)よりも大きな最大差渡し寸法(例
えばf6)を示すようになされている。この発明の電子
銃構体は、更に、上記集束レンズの入口において上記ビ
ームの各々の断面が上記第2方向における寸法よりも上
記第1方向における寸法の方が大きくなるように上記ビ
ームの各々を形成する手段(例えば凹陥部68)を備え
ている。
The electron gun assembly of the present invention is an electron gun assembly that generates three in-line electron beams, and includes a common asymmetric focusing lens for the beams (e.g., lens 18) disposed across the path of the beams. and the focusing lens has a maximum width dimension (e.g., f6) larger in a first direction (e.g., horizontal direction) than a maximum width dimension (e.g., f4) in a second direction (e.g., vertical direction) orthogonal to the first direction (e.g., horizontal direction). It is designed to show. The electron gun assembly of the present invention further forms each of the beams so that the cross section of each of the beams has a larger dimension in the first direction than a dimension in the second direction at the entrance of the focusing lens. means (for example, a recessed portion 68).

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

この発明の実施例では、管球ヨーク構体に通常のネック
部外径29.11ffffの管球を用いる。これによっ
てネック径22.!Mffiのものの破損し易さに関係
する取扱いの問題は、管球の製造と画像表示装置の組立
ての双方においてなくなり、また「ミニネックj管の排
気に付随する排気時間の長い問題も解消する。
In the embodiment of the present invention, a normal tube having a neck outer diameter of 29.11ffff is used for the tube yoke structure. This results in a neck diameter of 22. ! The handling problems associated with the fragility of Mffi products are eliminated, both in tube manufacture and image display assembly, and the long evacuation time problems associated with evacuation of mini-neck J-tubes are also eliminated.

90°偏向角を用いると、S間隔が約5.0811ff
i未満の29.1lffff径ネツクの管球に水平偏向
巻線の窓のビーム出口端における内径が約67.0mm
(すなわち偏向角1°当りQ、76fflff以下)で
半トロイド型(すなわち垂直偏向巻線がトロイド型で水
平偏向巻線が鞍型)のコンパクトな偏向ヨークを設けて
自己集中式19V画像表示を行う。このコンパクトな9
0゜ヨークの水平偏向巻線の蓄積エネルギ条件は陽極電
圧25KVの動作において僅か1.85mJに過ぎない
Using a 90° deflection angle, the S spacing is approximately 5.0811ff
The inner diameter of the horizontal deflection winding window at the beam exit end of the tube with a diameter of less than 29.1lffff is approximately 67.0 mm.
(i.e. Q per 1 degree of deflection angle, less than 76 fflff) and a compact deflection yoke of semi-troid type (i.e. vertical deflection winding is toroid type and horizontal deflection winding is saddle type) to perform self-concentrating 19V image display. . This compact 9
The stored energy requirement of the 0° yoke horizontal deflection winding is only 1.85 mJ at an anode voltage of 25 KV operation.

110°偏向角を用いると、上記同様のS間隔とネック
径の管球に窓のビーム出口端における内径が約81.5
111M(すなわちこの場合も偏向角1°当り0.76
酎以下)のコンパクトな半トロイド型ヨークを設けて自
己集中式19V画像表示を行う。このコンパクトな11
0°ヨークの水平偏向巻線の蓄積エネルギ条件は陽極電
圧25KVの動作において僅か3.5mJに過ぎない。
Using a 110° deflection angle, a tube with the same S spacing and neck diameter as above would have an inner diameter of approximately 81.5 at the beam exit end of the window.
111M (i.e. in this case also 0.76 per degree of deflection angle)
A self-concentrating 19V image display is performed by providing a compact semi-troid type yoke (less than 10cm). This compact 11
The stored energy requirement of the horizontal deflection winding of the 0° yoke is only 3.5 mJ at an anode voltage of 25 KV operation.

上述の実施例におけるヨークの相対的コンパクト性を理
解するには、前述のS間隔の広い管球と共に過去長期間
用いられた90°偏向ヨークの匹敵する内径が例えば約
78.2πmであり、またそのS間隔の広い管球と共に
長期間用いられた1100偏向ヨークの内径は例えば約
108.7 am (どちらの内径も偏向角1°当り0
.76 MWIより著しく大きい)であることを知れば
よい。
To appreciate the relative compactness of the yoke in the embodiment described above, it is important to note that the comparable internal diameter of a 90° deflection yoke used for a long time in the past with the wide S-spacing tubes described above is, for example, about 78.2πm; For example, the inner diameter of the 1100 deflection yoke used for a long time with the wide S-spacing tube is about 108.7 am (both inner diameters are
.. 76 MWI).

上述の2実施例ではどちらも29,1lffffi径の
ネック部に米国特許願第201692号明細書開示の一
般形状を持つ集束電極構体を挿入することにより高レベ
ルの集束性能を保証している。この形状では電子銃構体
のビーム出口端の主集束電極の一部が管球ネック部の長
軸に垂直で、ここに各電子ビームが各別に通過する3個
の円孔が形成されている。
In both of the above-mentioned embodiments, a high level of focusing performance is ensured by inserting a focusing electrode assembly having the general shape disclosed in US Pat. In this shape, a part of the main focusing electrode at the beam exit end of the electron gun assembly is perpendicular to the long axis of the tube neck, and three circular holes are formed here through which each electron beam passes separately.

またその主集束電極の隣接部は上記一部から長手方向に
延びて全ビームの径路に対する共通の囲壁を形成してい
る。この主集束電極の各囲壁部は並置されてその間にビ
ームの共通集束レンズを形成している。最後尾の集束電
極の共通の囲壁の内側長径は例えば17.65mm、最
後尾の次の集束電極の共通の囲壁の内側長径は例えば1
8.16ffffiである。
Adjacent portions of the main focusing electrode also extend longitudinally from the portion to form a common enclosure for the entire beam path. The surrounding walls of the main focusing electrode are juxtaposed to form a common focusing lens for the beam therebetween. The inner major axis of the common surrounding wall of the last focusing electrode is, for example, 17.65 mm, and the inner major axis of the common surrounding wall of the next focusing electrode at the last end is, for example, 1.
8.16ffffi.

この寸法にすると29.ll+/1ffi径のネック部
の内部空間が(上述のしミニネック」に比して)広くな
り、長径が少なくとも開孔の中心間隔の3.5倍以上の
集束レンズができる。上記の各長径間の差によって電子
銃構体から発射されるビームに対する所要の集中効果が
制御される。
If you make this size, it will be 29. The internal space of the neck portion with a diameter of ll+/1ffi is wider (compared to the above-mentioned "mini-neck"), and a focusing lens whose major axis is at least 3.5 times the center distance of the apertures is produced. The required concentration effect on the beam emitted from the electron gun assembly is controlled by the difference between the long spans.

この発明を実施する方式の電子銃構体の1例示形式では
、最後尾の次の集束電極の共通囲壁部の内周の形状が例
えは上記米国特許出願明細書記載のような競走トラック
型をしており、これに対し最後尾の集束電極の共通囲壁
部の内周形状が例えば米国特許願第282228号明細
書記載のような亜鈴型をしている。さらに電子銃構体の
ビーム形成領域には主集束レンズの入口における各ビー
ム断面の垂直寸法をその水平寸法に対して減じる型のレ
ンズの非対称性がある。この非対称性は例えば電子銃構
体の第1グリツド(G1)の各円孔に垂直に長い矩形開
口を共働させることにより導入される。
In one example of an electron gun assembly embodying the present invention, the shape of the inner periphery of the common surrounding wall of the next last focusing electrode is, for example, a race track shape as described in the above-mentioned US patent application. In contrast, the inner periphery of the common surrounding wall of the last focusing electrode has a dumbbell shape, for example, as described in US Pat. No. 2,822,288. Furthermore, there is a lens asymmetry in the beam forming region of the electron gun assembly of the type that reduces the vertical dimension of each beam cross section at the entrance of the main focusing lens relative to its horizontal dimension. This asymmetry is introduced, for example, by cooperating a perpendicularly elongated rectangular opening with each circular hole in the first grid (G1) of the electron gun assembly.

上記「競走トラック型」および「亜鈴型」囲壁部並びに
Glの矩形開口の寸法を適当に選定することにより、表
示ラスタの中心部と端縁部の光点の許容形状がこれらの
素子に関係する非点収差の最適の釣合いによって得られ
る。
By appropriately selecting the dimensions of the above-mentioned "racetrack-shaped" and "dumbbell-shaped" surrounding walls and the rectangular opening of Gl, the allowable shape of the light spot at the center and edge of the display raster is related to these elements. Obtained by optimal balance of astigmatism.

第1図はこの発明の電子銃構体を具備したカラー画像表
示装置の映像管ヨーク構体の平面図で、カラー映像管1
1は円筒状ネック部11N (インライン電子銃構体を
収容)、表示面(図面が大きくなるため図示せず)を収
容する実質的に矩形のスクリーン部およびこの両者を連
結するファンネル部11F (一部図示)とを含む真空
外囲器を有する。
FIG. 1 is a plan view of a picture tube yoke structure of a color image display device equipped with an electron gun structure of the present invention.
Reference numeral 1 denotes a cylindrical neck portion 11N (accommodating an in-line electron gun assembly), a substantially rectangular screen portion housing a display surface (not shown due to the size of the drawing), and a funnel portion 11F (partially connected) connecting the two. (as shown).

このネック部11Nとファンネル部11Fの隣接部分を
偏向ヨーク構体13のヨーク取付台17が取巻いている
A yoke mounting base 17 of the deflection yoke structure 13 surrounds the adjacent portion of the neck portion 11N and the funnel portion 11F.

ヨーク構体13は(絶縁材料製の)ヨーク取付台17を
取囲む可磁化材料の磁心15にトロイド状に巻かれた垂
直偏向巻線13Vと、第1図では見えない水平偏向巻線
13Hを含むが、第2図の取外したヨーク構体13の正
面図に示すように、水平偏向巻線13Hは鞍型に巻かれ
、長手方向に延びる有効導線がヨーク取付台17の咽喉
部内に張り付いている。
The yoke structure 13 includes a vertical deflection winding 13V wound toroidally around a magnetic core 15 of magnetizable material surrounding a yoke mount 17 (of insulating material) and a horizontal deflection winding 13H not visible in FIG. However, as shown in the front view of the removed yoke structure 13 in FIG. .

巻線13Hの前端部は巻上げられて取付台17の前縁部
17F内に収容され、後端部(第1図、第2図には見え
ない)も同様に台17の後縁部17R内に収容されてい
る。
The front end of the winding 13H is wound up and housed within the front edge 17F of the mounting base 17, and the rear end (not visible in FIGS. 1 and 2) is similarly housed within the rear edge 17R of the base 17. is housed in.

第1図にはこの発明の1実施例に適する寸法関係が指定
されているが、巻線1犯、13■で形成される偏向ヨー
クのコンパクトなことは(そのヨークの与える偏向角の
)1度当り約0 、76 問未満に相当する前部内径「
1」で示されている。第2図に示すように、この内径は
鞍型巻線13Hの有効導線の前端(すなわち巻線の形成
する窓のビーム出口端)で測定される。カラー映像管1
1のネック部11Nの外径rOJは通常の29.1:L
lllmになっている。ネック部13内の電子銃構体の
電極間に形成された(点線のレンズで示す)静電ビーム
集束レンズ18ハ、その水平方向の(すなわち3本のビ
ーム軸R,G、Bの占める水平面上の)差渡し寸法rf
Jが、レンズ入口における隣接ビーム軸間隔「g」(例
えば約(9) 5.08mm)の3.5倍以上になっている。
In FIG. 1, dimensional relationships suitable for one embodiment of the present invention are specified, and the compactness of the deflection yoke formed by one winding and 13 squares (the deflection angle given by the yoke) is 1. The front inner diameter corresponds to about 0,76 degrees per degree.
1”. As shown in FIG. 2, this inner diameter is measured at the front end of the active conductor of saddle winding 13H (ie, at the beam exit end of the window formed by the winding). color video tube 1
The outer diameter rOJ of the neck part 11N of 1 is the normal 29.1:L
It has become lllm. The electrostatic beam focusing lens 18 (indicated by a dotted line lens) formed between the electrodes of the electron gun assembly in the neck part 13 is located in the horizontal direction (that is, on the horizontal plane occupied by the three beam axes R, G, and B). ) across dimension rf
J is greater than or equal to 3.5 times the distance between adjacent beam axes "g" at the lens entrance (eg, approximately (9) 5.08 mm).

第3図は第1図のカラー映像管11のネック部11Nに
適するこの発明による電子銃構体の1実施例の部分断面
側面図である。この第3図の電子銃構体の電極には3本
の陰極21(第3図の側面図には1本しか見えない)、
制御グリッド(Gl)23、遮蔽グリッドCG2)25
、第1加速集束電極(G3)27および第2加速集束電
極(G4)29がある。これらの電子銃素子の取付台は
1対の平行なガラス支柱33a1331)により与えら
れ、この間に各電極が支持されている。
FIG. 3 is a partially sectional side view of one embodiment of an electron gun assembly according to the present invention suitable for the neck portion 11N of the color picture tube 11 of FIG. The electrodes of the electron gun assembly in FIG. 3 include three cathodes 21 (only one is visible in the side view of FIG. 3);
Control grid (Gl) 23, shielding grid CG2) 25
, a first accelerating and focusing electrode (G3) 27 and a second accelerating and focusing electrode (G4) 29. The mounts for these electron gun elements are provided by a pair of parallel glass columns 33a1331) between which each electrode is supported.

各陰極21はG1、G2、G3、G4の各電極の各開孔
に整合して、これから出た電子がその開孔を通って映像
管の表示面に達し得るようになっている。陰極から放出
された電子はそれぞれ異なる単方向電位(例えばそれぞ
れOボルトと+1100ボルト)に保たれたGl、 G
2電極23.25の対向する開孔領域間に設定された各
静電ビーム形成レンズにより3本の電子ビームに成形さ
れる。このビームの表示面に対する集束はまずG3、G
4電極の隣接領域(27a、(10) 29a)間に形成された主静電集束レンズ(第1図の1
8)によって行われる。例としてG3電極はG4電極の
印加電位(例えば+25KV)の26%の電位(例えば
+6500V )に保たれる。
Each cathode 21 is aligned with each aperture in each of the G1, G2, G3, and G4 electrodes so that electrons emitted from the cathode can pass through the apertures and reach the display surface of the picture tube. Electrons emitted from the cathode are connected to Gl and G held at different unidirectional potentials (e.g. O volts and +1100 volts, respectively).
Three electron beams are formed by each electrostatic beam forming lens set between opposing aperture areas of two electrodes 23, 25. This beam is first focused on the display surface by G3, G
The main electrostatic focusing lens (1 in FIG.
8). As an example, the G3 electrode is held at a potential (eg, +6500V) that is 26% of the potential applied to the G4 electrode (eg, +25KV).

G3電極27はフランジ付開端部を衝合した2つのカッ
プ型素子27a、27bの構体から成り、その前部素子
27aの正面図は第4図に、その線C−C’に沿う断面
図は第8図に示され、後部素子27bの背面図は第6図
に、その線E−E’に沿う断面図は第1O図に示されて
いる。
The G3 electrode 27 consists of two cup-shaped elements 27a and 27b whose flanged open ends abut each other, and the front view of the front element 27a is shown in FIG. 4, and the cross-sectional view taken along the line CC' is shown in FIG. 8, a rear view of the rear element 27b is shown in FIG. 6, and a cross-sectional view thereof along line EE' is shown in FIG. 1O.

G4電極2つはカップ型素子29aとそのフランジ付開
端部と開孔付閉端部を衝合した静電遮蔽カップ29bと
から成っている。素子29aは背面図が第5図に、その
線D−D’に沿う断面図が第9図に示されている。
The two G4 electrodes consist of a cup-shaped element 29a and an electrostatic shielding cup 29b whose flanged open end and apertured closed end abut against each other. A rear view of the element 29a is shown in FIG. 5, and a cross-sectional view taken along the line DD' is shown in FIG.

G3素子27aの閉塞前端の凹陥部の底に当る軸に垂直
な部分40には3個の開孔44が形成されている。
Three openings 44 are formed in a portion 40 perpendicular to the axis that corresponds to the bottom of the concave portion at the closed front end of the G3 element 27a.

この各開孔44から射出される3本のビームの共通の囲
壁部を成す凹陥部の周壁42は両側が半円形でその間が
平行直線状になっていて、第4図の端面(11) 図では「競走トラック」型に見える。このG3の囲壁部
の最大水平内径はビーム軸の平面上にあり、第4図では
flて表されている。またこのG3の囲壁部の最大垂直
内径は周壁の平行直線状部分の間隔て決まり、第4図で
はf、で表されている。この垂直内径はどのビーム位置
においてもf2に等しい。
The peripheral wall 42 of the concave portion, which forms a common surrounding wall for the three beams emitted from each of the apertures 44, has semicircular sides on both sides and parallel straight lines between them. It looks like a "race truck" type. The maximum horizontal inner diameter of the surrounding wall of G3 lies on the plane of the beam axis, and is indicated by fl in FIG. Further, the maximum vertical inner diameter of the surrounding wall portion of G3 is determined by the interval between the parallel linear portions of the surrounding wall, and is represented by f in FIG. 4. This vertical inner diameter is equal to f2 at any beam position.

G4素子29aの閉塞後端の凹陥部の底に当る軸に垂直
な部分50にも3個の開孔54が形成されているG4電
極に入射する3本のビームの共通囲壁を形成する凹陥部
の周壁52は中央部において平行直線状を成しているが
、両端部ではこの中央部の平行壁面間隔より直径の大き
い過剰半円形をして、第5図に示すように「亜鈴」型に
見える。この形状のため、中央開孔の軸位置におけるG
4の囲壁の垂直内径f5は、両側開孔の軸位置における
それより小さい。G4の囲壁部の最大水平内径はビーム
軸の面内にあり、第5図にf3で示されている。またG
4の囲壁部の、最大垂直内径は両端部の半円の直径に相
当し、第5図にf4で示されている。
Three openings 54 are also formed in a portion 50 perpendicular to the axis that corresponds to the bottom of the recess at the closed rear end of the G4 element 29a.The recess forms a common surrounding wall for the three beams incident on the G4 electrode. The peripheral wall 52 has a parallel straight line shape at the center, but at both ends it has an extra semicircular shape with a diameter larger than the distance between the parallel walls at the center, forming a "dark bell" shape as shown in FIG. appear. Because of this shape, G at the axial position of the central hole
The vertical inner diameter f5 of the surrounding wall of No. 4 is smaller than that at the axial position of the openings on both sides. The maximum horizontal inner diameter of the surrounding wall of G4 is in the plane of the beam axis and is indicated by f3 in FIG. G again
The maximum vertical inner diameter of the enclosure wall 4 corresponds to the diameter of the semicircles at both ends, and is indicated by f4 in FIG.

G3.04電極の各「競走トラック」および「亜鈴」(
12) 型領域の最大外側幅は同じで、第8図および第9図にf
6で示されている。開孔44.54の直径も同じで第8
図および第9図にαで示されている。G3、G4電極の
凹陥部の深さもまた等しく、第8図および第9図にrで
示されている。しかしG3の開孔の深さく第8図のa□
)と04のそれ(第9図のag )は等しくない。d、
f、、f2、f3、f4、f5、f6、r、a工、G2
の値は例えば次の通りである。d=4.olIff、f
l: 18.1611N、f2=a、oo酎、f3−1
7.65 MM、f4=7.2411!、f :6,8
6+11111、f6= 22.22 txm、r=2
.92MMa□=o、G6朋、G2:1.141111
!10各集束電極の隣接開孔間の中心間隔gは第1図に
ついて述べたように例えば5.08111Mである。素
子27a、 29aの軸方向の長さは例えばそれぞれ1
2.451+!l!1..3.05111111で、第
3図の構体の03.04間隔は例えば1.27ffll
!である。
Each of the G3.04 electrodes “Race Truck” and “Alin” (
12) The maximum outer width of the mold area is the same and f is shown in Figures 8 and 9.
6. The diameter of the opening 44.54 is also the same, and the 8th
It is indicated by α in the figure and FIG. The depths of the recesses of the G3 and G4 electrodes are also equal and are indicated by r in FIGS. 8 and 9. However, the depth of the hole in G3 is a□ in Figure 8.
) and that of 04 (ag in Figure 9) are not equal. d,
f,, f2, f3, f4, f5, f6, r, a, G2
For example, the value of is as follows. d=4. olIff, f
l: 18.1611N, f2=a, oochu, f3-1
7.65 MM, f4=7.2411! , f :6,8
6+11111, f6=22.22 txm, r=2
.. 92MMa□=o, G6 Tomo, G2:1.141111
! 10 The center spacing g between adjacent apertures of each focusing electrode is, for example, 5.08111M as described with respect to FIG. The axial lengths of the elements 27a and 29a are, for example, 1
2.451+! l! 1. .. 3.05111111, and the 03.04 spacing of the structure in Figure 3 is, for example, 1.27ffll.
! It is.

素子2’7a 、 29aの間に形成される顕著な主集
束レンズは、対向する陥入壁面間を連続的に延びてビー
ム径路と交わる領域で比較的曲率の低い等電位線を有し
、3本の電子ビームの径路のすべてと交わる大きな単一
レンズとして現れる。これに対(13) し凹陥部のない従来法の電子銃では、集束電極の各不陥
入開孔領域に集中する比較的曲率の高い強力な等電位線
によって顕著な集束効果が与えられる。図示実施例の素
子27a、29aには凹陥部があるため、開孔領域にお
ける比較的曲率の高い等電位線は集束性能の品質を決定
する役割を僅かしが負わず、それはむしろ陥入壁面に関
連する大レンズの寸法で決まる。
The prominent main focusing lens formed between the elements 2'7a, 29a has equipotential lines of relatively low curvature in the region that extends continuously between the opposing recessed walls and intersects the beam path; It appears as a large single lens that intersects all of the book's electron beam paths. In contrast, (13) in conventional electron guns without recesses, a significant focusing effect is provided by strong equipotential lines with relatively high curvature concentrated in each unrecessed aperture region of the focusing electrode. Since the elements 27a, 29a of the illustrated embodiment have recesses, the relatively high curvature equipotential lines in the aperture region play little role in determining the quality of the focusing performance, but rather the recessed walls. Determined by the dimensions of the large lens involved.

このため不都合な球面収差効果のレベルが開孔の直径に
比較的無関係で、主として陥入壁面で形成される大レン
ズの寸法に支配されるという保証により、開孔径に限度
を生じても狭いビーム間隔(例えば前述の5.os+u
+)を用いることができる。
This ensures that the level of undesirable spherical aberration effects is relatively independent of aperture diameter and is dominated primarily by the dimensions of the large lens formed by the recessed wall, resulting in a narrow beam even when limiting the aperture diameter. interval (for example, the above-mentioned 5.os+u
+) can be used.

以上の条件ではネック部の直径が集束性能の限定要因と
なり、前述の寸法を用いると、上記通常直径(すなわち
29.11 s+s+ )のネック部内に(ガラス公差
最悪時にも)良好な高電圧安定性に適合する外囲器内壁
との許容間隔を保って容易に適用されるような集束電極
の外部寸法で、極めて優れた集束品質を得ることができ
る。これに対し前述の浜(14) 野等の「ミニネック」管のネック部は上述のような寸法
の集束電極構体に合わない。
Under these conditions, the diameter of the neck becomes the limiting factor in focusing performance, and using the aforementioned dimensions, good high voltage stability (even with worst glass tolerances) can be achieved within the neck of the above normal diameter (i.e. 29.11 s+s+). Very good focusing quality can be obtained with the external dimensions of the focusing electrode such that it is easily applied with an acceptable spacing to the inner wall of the envelope that is compatible with the . In contrast, the neck of the Hama et al. "mini-neck" tube described above does not accommodate focusing electrode structures of the dimensions described above.

主静電ビーム集束レンズ18の収斂側には上述のように
競走トラック型周壁を・持つ素子の凹陥部がある。この
ような水平対垂直非対称形状は非点収差効果が生じ、G
3電極の凹陥部を通過する電子ヒλムの垂直方向の線群
が水平方向の線群より大きく収斂する。これと並存する
G4電極の凹陥部が同じ競走トラック型であれば、主集
束レンズ18の発散側も補償方向の非点収差効果を呈す
る。この補償効果は正味非点収差の存在を防ぐには大き
さが不適当で、表示面上に所要形状の光点を形成する妨
げになることがある。
On the converging side of the main electrostatic beam focusing lens 18 is a concave portion of the element having a racetrack shaped peripheral wall as described above. Such horizontal-to-vertical asymmetric shapes create astigmatism effects and
The vertical lines of the electron beam λ passing through the recesses of the three electrodes converge to a greater extent than the horizontal lines. If the concave portion of the G4 electrode existing alongside this is of the same race track shape, the divergent side of the main focusing lens 18 also exhibits an astigmatism effect in the compensation direction. This compensating effect is inadequately sized to prevent the presence of net astigmatism and may interfere with forming a light spot of the desired shape on the display surface.

この非点収差の補償に必要な追加を行う1つの方法は、
前述の米国特許願第201692号明細書記載のように
、素子29a、29bの接触面にある軸に垂直な板の開
孔に1対の帯金を用いてスロットを形成するもので、こ
の方法による各部の寸法例はその米国出願明細書に記載
されている。
One way to make the necessary additions to compensate for this astigmatism is to
As described in the above-mentioned U.S. Patent Application No. 201692, a pair of metal bands are used to form a slot in an opening in a plate perpendicular to the axis on the contact surface of the elements 29a and 29b, and this method Examples of dimensions of each part are given in the US patent application.

非点収差の補償に必要な追加を行う他の方法は−(15
) 前述の米国特許願第282228号明細書記載のように
、G4電極の凹陥部の形状を「亜鈴型」に変更するもの
である。このためにその亜鈴型の中央領域の垂直方向寸
法の減少量を、主集束レンズ自身の発散部の非点収差を
実質的完全に補償するように選定するか、上記形式の0
4のスロットの補償効果を補充するように選定する。こ
の方法による各部寸法例もその米国出願明細書に記載さ
れている。
Another way to make the addition necessary to compensate for astigmatism is −(15
) As described in the above-mentioned US Patent Application No. 282,228, the shape of the concave portion of the G4 electrode is changed to a "dull shape". For this purpose, the reduction in the vertical dimension of its dumbbell-shaped central region is selected to substantially completely compensate for the astigmatism of the diverging part of the main focusing lens itself, or
Choose to replenish the compensation effect of 4 slots. Examples of the dimensions of each part obtained by this method are also described in that US application.

ここではG4の凹陥部壁面の亜鈴型輪郭の補償効果にG
l、G2電極23.25によって形成されたビーム形成
レンズに適当な非対称性を導入して得られる補償効果を
組合せる別の非点収差補償法を用いる。
Here, G
Another method of astigmatism compensation is used which combines the compensation effect obtained by introducing a suitable asymmetry in the beam-forming lens formed by the L, G2 electrodes 23.25.

この補償効果の性質を理解するには、第7図に背面図を
、第7a図および第7b図にその断面図を示したような
G1電極23の構造を考えるのが適当である。
In order to understand the nature of this compensation effect, it is appropriate to consider the structure of the G1 electrode 23 as shown in the rear view in FIG. 7 and in cross-section in FIGS. 7a and 7b.

G1電極23の中央部には3個の開孔64(直径d工)
があり、各開孔はその電極23の背面の凹陥部66と前
面の凹陥部68に連絡している。背面の各凹陥部66の
周壁形状は円形で、その直径には適当な間隙を保って陰
極21(第7b図に点線で外形を示す)の(16) 前端を受入れ得るよう充分に大きい。また前面の各凹陥
部68の周壁は水平寸法りより垂直寸法■が遥かに大き
い長方形スロットの形状をしている。
There are three openings 64 (diameter d) in the center of the G1 electrode 23.
Each opening communicates with a recess 66 on the back side and a recess 68 on the front side of the electrode 23. The shape of the circumferential wall of each concave portion 66 on the back surface is circular, and its diameter is large enough to receive the front end (16) of the cathode 21 (outline indicated by dotted lines in FIG. 7b) with an appropriate gap. Further, the peripheral wall of each of the front recesses 68 is in the shape of a rectangular slot whose vertical dimension (2) is much larger than its horizontal dimension.

隣接する開孔64の中心間隔gは前述の03およびG4
電極のものと同じである。01電極23の他の寸法の実
施例は次の通りである。d工= 0.615 myn、
 k =3.075Fffff、h = 0.711 
txyn、 V = 2.134 tnM、開孔64の
深さa3= 0,102+1[、スロット68)深さa
4=0.203朋、凹陥部66の深さa5= 0.45
7 mm。陰極21およびG2電極25と組立てたとき
、陰極21と凹陥部66の底の間隔は例えば帆152M
で、G1と02の間隔は例えば0.178朋である。
The center distance g between adjacent openings 64 is 03 and G4 described above.
It is the same as that of the electrode. Examples of other dimensions of the 01 electrode 23 are as follows. d engineering = 0.615 myn,
k = 3.075Fffff, h = 0.711
txyn, V = 2.134 tnM, depth a3 of opening hole 64 = 0,102+1 [, slot 68) depth a
4=0.203, depth a5 of recessed part 66=0.45
7 mm. When assembled with the cathode 21 and the G2 electrode 25, the distance between the cathode 21 and the bottom of the recess 66 is, for example, 152M.
The interval between G1 and 02 is, for example, 0.178 h.

第3図に示す組立状態では、G2電極25の3個の円孔
26がそれぞれG1電極23の開孔64に1つずつ整合
し、その間のスロット68がG1−02ビーム形成電極
の各収斂側に非対称性を導入する。これによって各ビー
ムの垂直方向線群の交点が水平方向線群の交点より各ビ
ーム径路に沿ってさらに前方に移動するため、主集束レ
ンズに入る各ビームの断面は垂直寸法より水平寸法が大
きくなり、このビー(17) ム断面形状の「事前変形」の向きは主集束レンズの非点
収差の光点変形効果を補償する向きである。
In the assembled state shown in FIG. 3, the three circular holes 26 of the G2 electrode 25 are aligned one by one with the apertures 64 of the G1 electrode 23, and the slots 68 therebetween are aligned with each converging side of the G1-02 beam forming electrode. Introducing an asymmetry into. This moves the intersection of the vertical lines of each beam further along each beam path than the intersection of the horizontal lines, so that the cross-section of each beam entering the main focusing lens has a horizontal dimension larger than its vertical dimension. , the direction of the "pre-deformation" of the cross-sectional shape of this beam (17) is the direction that compensates for the light point deformation effect of the astigmatism of the main focusing lens.

上記のようにビームが主集束レンズに入る前に「事前変
形」する利点の1つは、垂直水平寸法における集束品質
の等化を促進することである。主集束レンズの非対称は
、ビーム径路と交わるレンズ領域の垂直寸法が(前述の
従来法電子銃の集束レンズの大きさを制限した)集束電
極開孔の直径より著しく太きいけれどもその領域の水平
寸法よりは小さくなるような性質のものである。従って
各ビームの垂直方向の線群はその水平方向の線群が見る
レンズより小さいレンズを見ることになる。
One of the advantages of "pre-deforming" the beam before it enters the main focusing lens, as described above, is that it promotes equalization of focusing quality in the vertical and horizontal dimensions. The asymmetry of the main focusing lens is such that the vertical dimension of the lens region that intersects the beam path is significantly larger than the diameter of the focusing electrode aperture (which limited the size of the focusing lens in conventional electron guns discussed above), but the horizontal dimension of that region It is of a nature that it becomes smaller. Each beam's vertical lines therefore see a smaller lens than its horizontal lines see.

上述の「事前変形」は各ビームの主集束レンズ通過中の
垂直の拡がりを制限して、小さくて低品質の垂直レンズ
を通る正しく中心合せされたビームの垂直境界線の分離
が大きくて高品質の水平レンズを通るビームの水平境界
線の分離より小さくなるようにする。
The "pre-deformation" described above limits the vertical divergence of each beam as it passes through the main focusing lens, so that the separation of the vertical boundaries of correctly centered beams passing through a small, low quality vertical lens is large and high quality. so that the separation of the horizontal boundaries of the beam passing through the horizontal lens is less than that of the horizontal lens.

上述の主集束レンズに入るビームに「事前変形」を加え
る利点の他の1つは、ヨーク構体13の後方(18) に生fるトロイド型垂直巻線13Vのフリンジ磁界に応
するビームの主集束レンズへの入射点の不都合な垂直偏
移に関係するラスタ上下の垂直フレアの問題が解消また
は低減されることである。後述のように特にビーム径路
の低速領域においてこのフリンジ磁界からビームを磁気
遮蔽することに努力は払われているが、その径路の次の
領域はそのフリンジ磁界から実質的に遮蔽されない。上
述の各ビームの主集束レンズ通過中の垂直拡がりの制限
によって、フリンジ磁界による入射点の偏移が比較的収
差のないレンズ領域外へ境界線群を押し出す可能性が減
する。
Another advantage of adding "pre-deformation" to the beam entering the main focusing lens described above is that the main focus of the beam in response to the fringe magnetic field of the toroidal vertical winding 13V generated behind the yoke structure 13 (18) is The problem of vertical flare above and below the raster, which is associated with an unfavorable vertical shift of the point of incidence on the focusing lens, is eliminated or reduced. Although efforts are made to magnetically shield the beam from this fringe field, particularly in the low velocity regions of the beam path, as discussed below, subsequent regions of the path are not substantially shielded from the fringe field. The aforementioned limitations on the vertical spread of each beam as it passes through the main focusing lens reduce the likelihood that shifts in the point of incidence due to fringe fields will push boundaries out of the relatively aberration-free region of the lens.

上述の主集束レンズに入るビームに「事前変形」を加え
る利点の今1つは、鞍型巻線13Hによりラスタ両側の
光点形状に与えられる主水平偏向磁界の逆効果を減する
ことである。ヨーク構体に必要な自己集中効果を生成す
るため、水平偏向磁界はビーム偏向領域の軸方向長さの
相当な部分に亘って強い糸巻型になっている。この水平
偏向磁界のこのような不均一性の不幸な結果として、ラ
スタ(19) 両側で各ビームの垂直方向線群の過剰集束を生ずる傾向
があるが、上述の「事前変形」を用いると、偏向領域通
過中の各ビームの垂直方向寸法が充分に圧縮されて、ラ
スタ両側の過剰集束効果が許容限度内に減殺される。
Another advantage of adding "pre-deformation" to the beam entering the main focusing lens described above is to reduce the adverse effect of the main horizontal deflection magnetic field imparted by the saddle winding 13H to the light spot shape on either side of the raster. . To produce the necessary self-focusing effect in the yoke structure, the horizontal deflection field is strongly pincushion-shaped over a significant portion of the axial length of the beam deflection region. An unfortunate consequence of this inhomogeneity of the horizontal deflection field is that it tends to result in over-focusing of the vertical lines of each beam on both sides of the raster (19), but with the "pre-deformation" described above, The vertical dimension of each beam as it passes through the deflection region is sufficiently compressed to reduce overfocusing effects on either side of the raster to within acceptable limits.

上述のビームの「事前変形」を説明するため米国特許第
4234814号を引用する。この特許の構体では水平
方向に長い長方形スロットが02電極の各円形開孔に整
合連通してその背面に設けられ、これによって各ビーム
形成レンズの発散部に非対称性を導入することにより、
主集束レンズを通過する各ビームの垂直方向寸法をその
水平方向寸法に対して圧縮する。上述の電子銃方式のG
l電極に前述の非対称性を導入する利点は垂直方向の焦
点深度の改善であることが判る。この得られる焦点深度
は普通表示系に設けられている集束電圧調節用電位差計
を用いて(G3電極27に印加される)集束電圧を適°
当範囲に亘って微細に変化させ、垂直方向の集束に顕著
な撹乱を与えずに水平方向の集束を最適にすることがで
きるものである。
Reference is made to US Pat. No. 4,234,814 to explain the "pre-deformation" of the beams mentioned above. In the construction of this patent, a horizontally elongated rectangular slot is provided on the back surface of each circular aperture in aligned communication with each circular aperture of the 02 electrode, thereby introducing an asymmetry in the diverging portion of each beam-forming lens.
The vertical dimension of each beam passing through the main focusing lens is compressed relative to its horizontal dimension. G of the above-mentioned electron gun method
It can be seen that the advantage of introducing the aforementioned asymmetry into the l electrode is an improvement in the depth of focus in the vertical direction. This obtained depth of focus is usually determined by adjusting the focusing voltage (applied to the G3 electrode 27) using a focusing voltage adjusting potentiometer provided in the display system.
By making minute changes over this range, horizontal focusing can be optimized without significantly disturbing vertical focusing.

(20) 前述のように各ビーム径路の低速領域を偏向ヨークの後
向きのフリンジ磁界から遮蔽することが望ましい。この
ためG3電極27の後部素子27b内にカップ型磁気遮
蔽素子31を嵌込み、第3図の構体に見られるように両
者の閉端部を衝合して固定している。第6図および第1
0図に示すように、上記カップ型素子27bの閉端部に
は円形周壁を持つ3個のインライン開孔28が形成され
、磁気遮蔽用嵌着素子31の閉端部にも定位置に嵌着し
たとき開孔28と整合連通ずる円形周壁を持つ3個のイ
ンライン開孔32が同様に形成されている。
(20) As mentioned above, it is desirable to shield the low-velocity region of each beam path from the backward fringe magnetic field of the deflection yoke. For this purpose, a cup-shaped magnetic shielding element 31 is fitted into the rear element 27b of the G3 electrode 27, and their closed ends are abutted and fixed as seen in the structure of FIG. Figure 6 and 1
As shown in FIG. 0, three in-line holes 28 having a circular peripheral wall are formed at the closed end of the cup-shaped element 27b, and are also fitted in place at the closed end of the magnetic shielding fitting element 31. Three in-line apertures 32 are similarly formed with circular peripheral walls that align and communicate with apertures 28 when installed.

第3図の構体では、開孔28はG2電極25の開孔26
と整合しているが軸方向に離れている。この構体のこの
部分の寸法は例えば次の通りである。開孔26の直径=
 0,615朋、開孔26の深さ=’Q、5Q8朋、開
孔28の直径: 1,524闘、開孔28の深さ= 0
.254朋、開孔32の直径=2.54闘、開孔32の
深さ==0.254鰭、整合開孔26.28の軸方向間
隔: 0,838酊、各隣接開孔の中心間隔(前述のg
 ) ==5,081+11゜磁気遮蔽用嵌着素子31
の軸方向長さは例えば5.31ffで、(21) これに対しG3素子27b、 27aのそれは例えばそ
れぞれ13.335ff+11および12.45ffl
!!である。この遮蔽素子の長さくG3電極全長の1/
4以下)は前焦点領域のビーム径路を遮蔽することと、
4隅部の集中を乱す磁界の歪をなくすることの互いに競
合する2つの希望の許容し得る妥協点を示している。遮
蔽素子31は例えば集束電極素子の材料(例えばステン
レス鋼)より高透磁率の可磁化材料(例えばニッケル5
2%、鉄48%の鉄ニツケル合金)で作られる。
In the structure of FIG. 3, the opening 28 is the opening 26 of the G2 electrode 25.
are aligned with but axially separated. The dimensions of this part of the structure are, for example, as follows. Diameter of opening 26 =
0,615 mm, depth of hole 26 = 'Q, 5Q8 mm, diameter of hole 28: 1,524 mm, depth of hole 28 = 0
.. 254 mm, diameter of the aperture 32 = 2.54 m, depth of the aperture 32 = 0.254 mm, axial spacing of the aligned apertures 26.28: 0,838 mm, center distance between each adjacent aperture (G
) ==5,081+11°Magnetic shielding fitting element 31
For example, the axial length of G3 elements 27b and 27a is, for example, 5.31ff and 13.335ff+11 and 12.45ffl, respectively.
! ! It is. The length of this shielding element is 1/ of the total length of the G3 electrode.
4 or less) to shield the beam path in the front focal region;
It represents an acceptable compromise between two competing desires to eliminate distortion of the magnetic field that disturbs the four corner concentrations. The shielding element 31 is made of, for example, a magnetizable material (for example, nickel 5
2% iron and 48% iron (nickel alloy).

G4電極29の前部素子29’Dはその前部周辺に複数
個の接触バネz30を有し、映像管内面の通常のカーボ
ン被覆に接触してG4電極に陽極電位(例えば25KV
)を伝達するようになっている。カップ型素子291)
の閉端部には主集束レンズを離れる各ビームを通す中心
間隔例えは5.081ffffの3個のインライン開孔
(図示せず)があり、好ましくはその閉端部内面の開孔
付近に、例えば米国特許第3772554号のコマ収差
補正用高透磁率磁気部材が取付けられている。
The front element 29'D of the G4 electrode 29 has a plurality of contact springs z30 around its front periphery, which contact the conventional carbon coating on the inner surface of the picture tube and apply an anode potential (e.g. 25 KV) to the G4 electrode.
). Cup-shaped element 291)
The closed end of the lens has three in-line apertures (not shown) with center-to-center spacing, e.g. For example, a high permeability magnetic member for comatic aberration correction disclosed in US Pat. No. 3,772,554 is attached.

(22) 第3図の構体における他の電極(陰極、Gl、 02、
G3)への動作電位の印加は映像管のベースから通常の
導線構体(図示せず)を介して行われる。
(22) Other electrodes (cathode, Gl, 02,
Application of the operating potential to G3) takes place from the base of the picture tube via a conventional conductor arrangement (not shown).

第3図の構体のG3、G4電極間に形成される主集束レ
ンズはこれを通る3本のビームに正味集中効果を及ぼし
、このためビームはこのレンズを集中傾向に出て行くか
、素子27a、29aの隣接する囲壁の水平方向寸法の
相対値はこの集中作用の強さに影響する。すなわちこの
集中作用は寸法比が04の囲壁の幅に味方すると増大し
、G3の囲壁の幅に味方すると減少する。上に寸法を例
示した実施例では集中作用の減少が望まれ、G3、G4
の囲壁幅の比は715/695が適当であることが判っ
た。
The main focusing lens formed between the G3 and G4 electrodes of the structure of FIG. 3 has a net focusing effect on the three beams passing through it, so that the beam either exits this lens with a tendency to concentrate or , 29a influence the strength of this concentration effect. That is, this concentration effect increases when the size ratio favors the width of the enclosure wall of 04, and decreases when the size ratio favors the width of the enclosure wall of G3. In the embodiments whose dimensions are illustrated above, a reduction in concentration is desired, and G3, G4
It was found that the appropriate ratio of the surrounding wall width was 715/695.

第1図の表示方式を使用する場合、ラスタの中心部にお
けるビームの集中度を最適状態に調節するため通常他の
ネック部囲繞装置を用いることがある。この装置は例え
ば米国特許第3725831号明細書記載の可調節磁気
リング型または米国特許第4162470号明細書記載
の鞘型のものでよい。
When using the display scheme of FIG. 1, other neck surrounding devices are typically used to optimize the concentration of the beam at the center of the raster. This device may be of the adjustable magnetic ring type as described in US Pat. No. 3,725,831 or of the sheath type as described in US Pat. No. 4,162,470, for example.

第13図は第1図の装置に使用し得る第3図の電(23
) 子銃構体の変形の略図である。この変形では遮蔽グリッ
ド25′と主加速集束電W 27’ 、29’との間に
1対の補助集束電極27″、2つ“を設けている。
FIG. 13 shows the electric current (23) of FIG. 3 that can be used in the device of FIG.
) is a schematic diagram of the modification of the sub-gun structure. In this modification, a pair of auxiliary focusing electrodes 27'', two'' are provided between the shielding grid 25' and the main acceleration focusing electrodes W27', 29'.

主集束レンズはこの場合G5、G6電極を構成するこの
最終電極の間に形成される。最初にビームが通過する方
の補助集束電極(G3電極27″)はG5電極27′と
同電位(例えば+8KV)で付勢されるが、他方の補助
集束電極(G4電極29″)はG6電極29′と同等位
(例えば25KV)で付勢される。第3図の実施例にお
けるように、制御グリッド(G1電極23′)と遮蔽グ
リッド(G2電極25′)の間に形成された各ビーム形
成レンズにより各ビームが(各陰極21′から放出され
た電子から)形成される。
The main focusing lens is formed between this final electrode, which in this case constitutes the G5, G6 electrodes. The auxiliary focusing electrode (G3 electrode 27'') through which the beam passes first is energized with the same potential as the G5 electrode 27' (e.g. +8KV), while the other auxiliary focusing electrode (G4 electrode 29'') is energized with the G6 electrode 27''. It is energized at the same level as 29' (for example, 25 KV). As in the embodiment of FIG. 3, each beam (emitted from each cathode 21' (from electrons).

この第2の実施例を実現するには、G5、G6電極27
′、29′を例えば第3図の構体のG3、G4電極27
.29と同様の形とし、「競走トラック型」と1亜鈴型
」で前述の寸法順序を持ち、底部に前述の5.08mm
の中心間隔の陥入開孔を有する囲壁を並置する。
To realize this second embodiment, the G5 and G6 electrodes 27
', 29' for example, the G3 and G4 electrodes 27 of the structure shown in FIG.
.. It has the same shape as 29, has the above-mentioned dimensional order of ``race track type'' and 1 diminutive type, and has the above-mentioned 5.08 mm on the bottom.
juxtapose enclosure walls with recessed apertures with center-to-center spacing of .

また前述の形式のビームの「事前変形」も各ビーム形成
レンズの非対称性により導入する。これは(24) 例えばGl、G2電極23′、25′を前記米国特許第
4234814号の形式に構成し、G1電極23′の背
面に水平方向の長方形スロットを設けてこれを上記G1
、G2の中心間隔5.08ffll+の3個の円形開孔
の間に介在させる。例えば上述のような中心間隔を持つ
3個ツインライン円孔を形成したカップ型素子で形成さ
れた挿間補助集束レンズ27“、29″は、主集束レン
ズと次の偏向領域を通過するビームの断面寸法の対称的
減少という正味効果を有する対線G3−G4およびG4
− G5レンズを導入する。この寸法減少はラスタ両側
の光点形状に対する水平偏向磁界の過剰集束効果を減す
るために望ましいかも知れないが、より簡単な第3図の
2本位集束方式の場合より中心部の光点が大きくなる。
A "pre-deformation" of the beam of the type described above is also introduced by the asymmetry of each beam-forming lens. (24) For example, the Gl and G2 electrodes 23' and 25' are constructed in the form of the above-mentioned US Pat. No. 4,234,814, and a horizontal rectangular slot is provided on the back surface of the G1 electrode 23' to connect the
, G2 between three circular holes with a center spacing of 5.08ffll+. For example, the intervening auxiliary focusing lenses 27", 29" formed of cup-shaped elements having three twin-line circular holes with center spacing as described above are used to control the beam passing through the main focusing lens and the next deflection area. Pairs G3-G4 and G4 with the net effect of a symmetrical reduction in cross-sectional dimension
- Introduce G5 lens. Although this size reduction may be desirable to reduce the overfocusing effect of the horizontal deflection field on the spot shape on either side of the raster, the central spot is larger than in the simpler two-pronged focusing scheme of Figure 3. Become.

この第13図の構成を用いると、嵌着素子31について
述べた低速ビーム径路領域遮蔽効果が03電極27〃を
高透磁率材料で形成することにより調和される。
Using the configuration of FIG. 13, the low velocity beam path region shielding effect described for the fitting element 31 is matched by forming the 03 electrode 27 from a high permeability material.

第1図の方式の偏向ヨークの感度を上げるため、管球外
囲器のファンネル部11Fの偏向領域の円錐部の形状を
、コンパクト型ヨークの偏向巻線13H(25) の有効導線がネック陰影(偏向ビームのファンネル部内
面への衝突)を排除しつつできるだけ(ラスタの4隅に
向う)最外ビーム径路に近付くように選ぶことが望まし
い。第11図は90’偏向角を用いた第1図の方式の1
実施例に適するように選定したファンネル形状を示す。
In order to increase the sensitivity of the deflection yoke of the method shown in Figure 1, the shape of the conical part of the deflection area of the funnel part 11F of the tube envelope is changed so that the effective conductor of the deflection winding 13H (25) of the compact yoke is in the neck shadow. It is desirable to select a beam path as close to the outermost beam path (towards the four corners of the raster) as possible while eliminating (impingement of the deflected beam against the inner surface of the funnel portion). Figure 11 shows one of the methods shown in Figure 1 using a 90' deflection angle.
The funnel shape selected to be suitable for the example is shown.

この形状を表わす数式は下記の通りである。The formula representing this shape is as follows.

x=CO+01(Z)+02(Z2)十03(Z3)十
04(Z4)+05(Z5)+06(Z6)+07(Z
7)ここでXは管球の長手軸Aから外囲器の外面に向っ
て測った円錐の半径を酊で表した値、Zはネツ久部とフ
ァンネル部の接合線の前方1 、27 mmの点で軸A
と交わる平面2=0から軸Aに沿って表示面方向に測定
した距離を闘で表した値であり、この場合CQ= 15
.10490590 、C1=−0,15822402
10、C2: 0.01162553080 、 C3
二8,880522990 XIO’、C4= −3,
877228960XIO、C5= 7.249226
520 X10 ’、C6= −6,’7238514
20 X 1O−1C7:2.482776160X 
10 であって、この値は9.35〜52.0鰭のZ値
に対して有効である。
x=CO+01(Z)+02(Z2) 1003(Z3) 104(Z4)+05(Z5)+06(Z6)+07(Z
7) Here, X is the radius of the cone measured from the longitudinal axis A of the tube toward the outer surface of the envelope, and Z is 1.27 mm in front of the joining line between the neck part and the funnel part. Axis A at the point
It is the value expressed in units of distance measured from the plane 2 = 0 that intersects with the axis A in the direction of the display surface, in this case CQ = 15
.. 10490590, C1=-0,15822402
10, C2: 0.01162553080, C3
28,880522990 XIO', C4= -3,
877228960XIO, C5=7.249226
520 X10', C6=-6,'7238514
20X 1O-1C7:2.482776160X
10, and this value is valid for fin Z values between 9.35 and 52.0.

(26) 第12図は110°偏向角を用いた第1図の方式の1実
施例に適するように選定されたファンネル形状を示す。
(26) Figure 12 shows a funnel shape selected to be suitable for one embodiment of the scheme of Figure 1 using a 110° deflection angle.

この形状を表わす数式は次の通りである。The formula representing this shape is as follows.

X=Co+C1(Z)+C2(Z2)+C3(Z3)+
04(Z4)+05(Z”’)ここでXは長手軸Aから
外囲器の外面まで測った円錐半径を朋で表した値、Zは
ネック部とファンネル部の接合線の前方1.27門の点
で軸Aと交わる平面2=0から軸Aに沿って表示面方向
に測った距離を朋で表した値であり、この場合Co: 
14.5840702、Ql= 0.31253417
4 、C2:0,0242187585、C3=−6,
99740898XlO−4、C4= 1.64032
142 X 10−5、C5:1.17802606 
X 10−7であって、この値は1.53〜50、Of
fのZ値に対して有効である。
X=Co+C1(Z)+C2(Z2)+C3(Z3)+
04 (Z4) + 05 (Z"') where X is the radius of the cone measured from the longitudinal axis A to the outer surface of the envelope expressed in squares, and Z is 1.27 in front of the joining line between the neck and funnel parts. It is the distance measured in the direction of the display surface along the axis A from the plane 2 = 0 that intersects the axis A at the gate point, and in this case Co:
14.5840702, Ql=0.31253417
4, C2:0,0242187585, C3=-6,
99740898XlO-4, C4=1.64032
142 X 10-5, C5: 1.17802606
X 10-7, and this value is 1.53~50, Of
This is valid for the Z value of f.

例えば第1図の方式の1100偏向角19型の実施例で
は、ヨーク取付台17の咽喉部の形がヨーク構体13を
最前方位置においたとき第12図の軸に垂直な平面yS
y’間の外囲器部分11F、 IINの外面に巻線13
Hの有効導線が緊密に衝合するようになっている。第1
2図のファンネル形状では、外囲器の角にビームを衝突
させずに長さくy−y’)のヨーク(27) を(純度調節のため)例えは5〜6朋後退させることが
できる。
For example, in the 1100 deflection angle 19 type embodiment of the method shown in FIG.
Envelope part 11F between y', winding 13 on the outer surface of IIN
The active conductors of H are brought into close abutment. 1st
In the funnel shape of Figure 2, the yoke (27) of length y-y' can be retracted by, for example, 5 to 6 degrees (for purity control) without impinging the beam on the corners of the envelope.

第14a図には第1図の方式の110’偏向実施例で自
己集中を行わせるため第2図のヨークに要する水平偏向
磁界の必要な不均一度関数H2の一般形が実線HI(2
で示されている。ここで横軸は管球の長手軸に沿う位置
(第12図の平面2=0の位置を参考のため示す)を示
し、縦軸は均一磁界からの偏移度を示す。この第14a
図において、曲線HH2のO軸からの上向き(矢印P方
向)の変位は磁場の「糸巻型」不均一を示し、下向き(
矢印B方向)の変位は「樽型」の不均一を示す。同位置
の横軸に対して描かれた点線曲線HE(。は管軸に沿う
相対磁界強度分布を表わす水平偏向磁界のH6関数を示
す。曲線I(E(2の正の波はラスタ両側の光点形状の
問題の原因として前述した強力な糸巻型フィールド領域
の位置を示す。
FIG. 14a shows the general form of the necessary non-uniformity function H2 of the horizontal deflection magnetic field required for the yoke of FIG.
It is shown in Here, the horizontal axis indicates the position along the longitudinal axis of the tube (the position of plane 2=0 in FIG. 12 is shown for reference), and the vertical axis indicates the degree of deviation from the uniform magnetic field. This 14th a
In the figure, the upward displacement (in the direction of arrow P) of the curve HH2 from the O axis indicates a "pincushion" non-uniformity of the magnetic field, and the downward displacement (
The displacement in the direction of arrow B) shows a "barrel-shaped" non-uniformity. The dotted curve HE(.) drawn with respect to the horizontal axis at the same position indicates the H6 function of the horizontal deflection magnetic field representing the relative magnetic field strength distribution along the tube axis. The positive waves of the curve I(E(2) The location of the strong pincushion field region mentioned above as the cause of the light spot shape problem is shown.

第14’b図は横軸縦軸を第14a図と同様として第1
4a図の水平偏向磁界に対し自己集中結果を得るための
垂直偏向磁界の必要な不均一度関数H2の−(28) 膜形を示す。付随する点線曲線■Hoは垂直偏向磁界の
H8関数を示すもので、管軸に沿う相対磁界強度分布を
表わす。曲線VHoの左端部はビームの「事前変形」の
利点について前述したようにトロイド型巻線13Vの後
方への垂直偏向磁界の著しい浴出を立証している。
In Figure 14'b, the horizontal and vertical axes are the same as in Figure 14a.
4a shows the -(28) film shape of the necessary non-uniformity function H2 of the vertical deflection magnetic field to obtain a self-concentration result for the horizontal deflection magnetic field shown in FIG. 4a. The accompanying dotted curve ■Ho shows the H8 function of the vertical deflection magnetic field, and represents the relative magnetic field strength distribution along the tube axis. The left end of the curve VHo demonstrates the significant outflow of the vertical deflection field to the rear of the toroidal winding 13V, as discussed above regarding the benefits of "pre-deformation" of the beam.

例えば第12図の形状に基き第14b図の曲線によって
示唆されるように、第1図の方式の主偏向作用は、ファ
ンネル部の形状が適正でヨークの導線を最も外側のビー
ム径路に近接し得る領域で起る。
For example, based on the shape of FIG. 12 and suggested by the curve of FIG. 14b, the main deflection effect of the method of FIG. It occurs in the area of gain.

従って「ミニネック」方式で頼みにしたネック径の減少
がないことは偏向効率の実現においてそれ程重要でない
ことが判る。一方この径の減少がないため「ミニネック
」方式では実現不能の集束レンズ径が容易に得られ、高
電圧安定度性能と矛盾なしで高い集束品質が保証される
Therefore, it can be seen that the lack of neck diameter reduction relied upon in the "mini-neck" approach is less important in achieving deflection efficiency. On the other hand, since there is no reduction in this diameter, focusing lens diameters not possible with the "mini-neck" method can be easily obtained, ensuring high focusing quality consistent with high voltage stability performance.

第12図において軸に垂直な平面C,C′はそれぞれ第
1図の方式の上記110°偏向19型実施例における磁
心15の前後両端の位置を表わす。図示のように水平巻
線13Hの有効導線の前後端間の軸方自互(29) 離(:5’−y′)は磁心15の前後端間の軸方向距離
(c−c’)より著しく(例えば1.4倍)大きく、磁
心15の後方に余分の導線長の1//2以上(例えば間 62.5%)がある。各平面4距離CC−y)、(y−
y′)、(y′−C′)は例えばそれぞれ約7.62門
、50I8酊、12.7闘である。
In FIG. 12, planes C and C' perpendicular to the axis represent the positions of the front and rear ends of the magnetic core 15 in the 110° deflection type 19 embodiment of the method shown in FIG. 1, respectively. As shown in the figure, the axial distance (29) between the front and rear ends of the effective conductor of the horizontal winding 13H (:5'-y') is determined from the axial distance (c-c') between the front and rear ends of the magnetic core 15. It is significantly larger (for example, 1.4 times), and there is more than 1/2 of the extra conducting wire length (for example, 62.5%) behind the magnetic core 15. Each plane 4 distances CC-y), (y-
y') and (y'-C') are, for example, about 7.62 gates, 50I8 drunkenness, and 12.7 fights, respectively.

水平巻線の有効導線を磁心の後方に著しく延長する特徴
はその方式の蓄積エネルギ(すなわち詳述すればl/2
工HLH2)の需要の減少を助け、水平偏向中心を後方
に移動して垂直偏向中心と実質的平 に一致させ易くする。この水4巻線の後方推移の制限は
所要のヨーク後退条件下のネック部間隙とラスタ4隅に
おける充分なビーム集中に対する影響の考察から生ずる
。第12図の巻線13Hと磁心15の相対位置と軸方向
距離比は、偏向効率の向上の要求と、4隅部の許容集中
性能および適当なヨーク後退範囲の要望により生ずる競
合需要間の許容し得る妥協点を示している。第14a図
と第14b図の曲線HE(。と■Hoの比較によって判
るように、第12図の巻線13Hと磁心15の相対位置
は各強度分布量(30) 数回。と■Hoのピークの軸方内位装置と実質的に一致
することが望ましい。
The feature of significantly extending the effective conductor of the horizontal winding behind the magnetic core is the storage energy of the system (i.e., 1/2
HLH2) to help reduce the demand for the horizontal deflection center and move the horizontal deflection center rearward to make it substantially flush with the vertical deflection center. This restriction on the backward travel of the four water windings arises from consideration of the neck clearance under the required yoke retraction conditions and its effect on sufficient beam concentration at the four raster corners. The relative position and axial distance ratio between the winding 13H and the magnetic core 15 in FIG. It shows possible compromises. As can be seen by comparing the curves HE (.) and ■Ho in Figures 14a and 14b, the relative positions of the winding 13H and the magnetic core 15 in Figure 12 are equal to each intensity distribution amount (30) several times. It is desirable to substantially coincide with the axial inner device of the peak.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の電子銃構体を備えた映像管とヨーク
の組合せの平面図、第2図は第1図の装置のヨーク構体
の正面図、第3図は第1図の装置の映像管のネック部に
用いるこの発明による電子銃構体の一実施例の部分断面
側面図、第4図、第5図、第6図および第7図は第3図
の電子銃構体の各素子の端面図、第7a図は第7図の電
子銃素子の線A−A’に沿う断面図、第7b図は第7図
の電子銃素子の線B−B’に沿う断面図、第8図は第4
図の電子銃素子の線C−0’に沿う断面図、第9図は第
5図の電子銃素子の線D−D’に沿う断面図、第10図
は第6図の電子銃素子の線E−E’に沿う断面図、第1
1図は90’偏向角を用いた映像管ファンネル形状を示
す図、第12図は110°偏向角を用いた映像管ファン
ネル形状を示す図、第13図は第3図の電子銃構体の変
形を示す略図、第14a図および第1411)図は第2
図のヨーク構体の1実施例に関係す(31) ることか望ましい不均一度関数を示す図である。 18・・・集束レンズ、68・・・凹陥部、f4・・・
G4の囲壁部の最大垂直内径(第2方向における最大差
渡し寸法)、f6・・・G3、G4の最大外側幅(第1
方向における最大差渡し寸法)。 特許出願人 アールシーニー コーポレーション代理 
人 清 水 哲 はか2名 (32) 13図 15図 肴7図 才乃図 78図 1− ” 一 )X9図 窪lO図 第1頁の続き 優先権主張 [相]19叩年1月29日[相]米国(U
 S)0発 明 者 ウィリアム ヘンリ アメバーコ
ラ セン [株]343734 リカ合衆国 ニューシャーシー州 ペンソーケン ギズ
・アベニュ 7235
FIG. 1 is a plan view of a combination of a picture tube and yoke equipped with an electron gun structure of the present invention, FIG. 2 is a front view of the yoke structure of the device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is an image of the device shown in FIG. A partial cross-sectional side view of one embodiment of the electron gun assembly according to the present invention used in the neck portion of a tube, and FIGS. 4, 5, 6, and 7 show end faces of each element of the electron gun assembly of FIG. 3. Figure 7a is a cross-sectional view of the electron gun element in Figure 7 along line AA', Figure 7b is a cross-sectional view of the electron gun element in Figure 7 along line B-B', and Figure 8 is a cross-sectional view of the electron gun element in Figure 7 along line BB'. Fourth
9 is a cross-sectional view of the electron gun element in FIG. 5 along line D-D', and FIG. 10 is a cross-sectional view of the electron gun element in FIG. Sectional view along line E-E', first
Figure 1 is a diagram showing the picture tube funnel shape using a 90' deflection angle, Figure 12 is a diagram showing the picture tube funnel shape using a 110° deflection angle, and Figure 13 is a modification of the electron gun assembly in Figure 3. 14a and 1411) are the second
31 is a diagram illustrating a desirable non-uniformity function related to one embodiment of the yoke structure shown in FIG. 18... Focusing lens, 68... Concave portion, f4...
Maximum vertical inner diameter of surrounding wall of G4 (maximum across dimension in second direction), f6... Maximum outer width of G3, G4 (first
direction). Patent Applicant R Ciney Corporation Agent
Person Tetsu Shimizu 2 people (32) 13 Figure 15 Figure 7 Appetizer Figure 78 Figure 1 - 1) Continuation of X9 Figure 1 O Figure 1st page Priority claim [Phase] January 29, 2019 Japan [phase] United States (U.S.
S) 0 Inventor William Henry Amebacola Sen [Ltd.] 343734 7235 Giz Avenue, Pennsauken, New Jersey, United States

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)三本のインライン電子ビームを生成する電子銃構
体であって、 上記ビームの通路を横切って配置される共通で非対称な
上記ビーム用集束レンズを設定する素子を備え、上記集
束レンズは第1方向において該方向に直交する第2方向
における最大差渡し寸法よりも大きな最大差渡し寸法を
示すようになされ、更に、上記集束レンズの入口におい
て上記ビームの各々の断面が上記第2方向における寸法
よりも上記第1方向における寸法の方が大きくなるよう
に上記ビームの各々を形成する手段を備えた、電子銃構
体。
(1) An electron gun assembly for generating three in-line electron beams, comprising an element for setting a common asymmetrical focusing lens for the beams disposed across the path of the beams, the focusing lens being the cross-section of each of the beams at the entrance of the focusing lens exhibits a maximum width dimension in one direction that is greater than a maximum width dimension in a second direction perpendicular to the direction; an electron gun assembly, comprising means for forming each of the beams so that the dimension in the first direction is larger than the size of the beam in the first direction;
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