JPS60198749A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

Info

Publication number
JPS60198749A
JPS60198749A JP5429484A JP5429484A JPS60198749A JP S60198749 A JPS60198749 A JP S60198749A JP 5429484 A JP5429484 A JP 5429484A JP 5429484 A JP5429484 A JP 5429484A JP S60198749 A JPS60198749 A JP S60198749A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
region
resistor
base
collector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5429484A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0650769B2 (en
Inventor
Keiichi Yamaha
山羽 敬一
Mitsuo Usami
光雄 宇佐美
Shuichi Ishii
修一 石井
Tsuneo Mitani
三谷 恒夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Computer Engineering Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Computer Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Computer Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP59054294A priority Critical patent/JPH0650769B2/en
Publication of JPS60198749A publication Critical patent/JPS60198749A/en
Publication of JPH0650769B2 publication Critical patent/JPH0650769B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/10Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
    • H01L27/118Masterslice integrated circuits
    • H01L27/11801Masterslice integrated circuits using bipolar technology

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To shorten a signal retardation-time by preventing a division into two of the inside of a fundamental circuit cell for a logic gate circuit by a diffusion resistor and shortening wiring length between a collector in an input transistor (Tr) and a base in a Tr for an emitter follower. CONSTITUTION:A fundamental circuit such as a non-threshold-logic circuit (NTL) constituting a master slice LSI is formed to an active region 1. P type diffusion regions 2 as base regions in three bipolars Trs Q1, Q2, Q3 for inputs are disposed in the active region 1 in an approximately one row in the longitudinal directon. An N type diffusion region 3 as a common collector region for said Trs is shaped to the lower section on the right side of the base regions, and a resistor 4 is formed next the diffusion region 3 and a P type diffusion region 5 as a base region in a TrQ4 for an emitter follower is further shaped. Accordingly, the length of a wiring L is made the shortest becuase the inside of a fundamental circuit cell is not divided by the diffusion resistor 4 and the regions 3, 4, 5 are disposed in an approximately rectilinear manner.

Description

【発明の詳細な説明】 [技術分野] この発明は、回路技術、更には電子回路における素子の
レイアウトに適用して特に有効な技術に関するもので、
例えば半導体集積回路に適用して有効な技術に関するも
のである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to circuit technology, and more particularly, to a technology that is particularly effective when applied to the layout of elements in electronic circuits.
For example, it relates to techniques that are effective when applied to semiconductor integrated circuits.

[背景技術] マスタスライス法により形成される論理LSI(以下マ
スタスライスLSIと称する)を構成する基本回路とし
て、例えば第1図に示すようなノン・スレッショールド
・ロジック回路(以下NTL回路と称する)が知られて
いる。この場合、LSIは第1図の回路を基本セル(回
路単位)として、これを基盤の目のように配設すること
によって構成される。
[Background Art] As a basic circuit constituting a logic LSI formed by the master slice method (hereinafter referred to as master slice LSI), for example, a non-threshold logic circuit (hereinafter referred to as NTL circuit) as shown in FIG. )It has been known. In this case, the LSI is constructed by using the circuit shown in FIG. 1 as a basic cell (circuit unit) and arranging it like a base.

そこで、本発明者は、上記基本セル内における素子(特
に入力トランジスタ)のレイアウト方法として例えば第
2図に示すように、第1図の回路そのままに配設する方
法を考えた。しかしながら、第2図に示すようなレイア
ウトの方法では、コレクタ抵抗Reによって活性領域が
二分されてしまう。そのため、活性領域の有効利用が図
れないとともに、入力トランジスタQ1〜Q3の共通コ
レクタCとエミッタ・フォロワEF用トランジスタQ4
のベースbとを接続する配線りの長さが最短にならない
ため、配線容量による遅延時間も長くなるという問題点
があることが分かった。
Therefore, the inventor of the present invention has devised a method of arranging the elements (especially input transistors) in the basic cell as shown in FIG. 1, for example, in the same manner as shown in FIG. However, in the layout method shown in FIG. 2, the active region is divided into two by the collector resistance Re. Therefore, the active region cannot be used effectively, and the common collector C of the input transistors Q1 to Q3 and the emitter follower EF transistor Q4
It has been found that there is a problem in that the length of the wiring that connects the base b of the device to the base b is not the shortest, and the delay time due to the wiring capacitance is also increased.

[発明の目的コ この発明の目的は、従来に比べて顕著な勿果を奏する回
路技術を提供することにある。
[Object of the Invention] An object of the present invention is to provide a circuit technology that achieves remarkable results compared to the prior art.

この発明の他の目的は、例えばバイポーラ論理集積回路
に適用した場合に、基本論理ゲート回路内の活性領域の
有効利用を図ることができるようにするとともに、信号
の伝播遅i時間を減少させることができるようにするこ
とを目的とする。
Another object of the present invention is to make it possible to effectively utilize the active region in a basic logic gate circuit and to reduce the signal propagation delay i time when applied to a bipolar logic integrated circuit, for example. The purpose is to make it possible.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては、本明細書の記述および添附図面から明らかと
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

[発明の概要] 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、°下記のとおりである。
[Summary of the Invention] A brief outline of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、例えばNTL回路を基本回路とするマスタス
ライスLSIにおいて、複数′個の入力トランジスタを
コレクタ抵抗の一側にこれに沿って配設し、かつ入力ト
ランジスタの共通コレクタとコレクタ抵抗の一端とエミ
ッタ・フォロワ用トランジスタのベースとが略直線上に
並ぶように配設することによって、基本回路セル内が拡
散抵抗によって二分されないようにして活性領域の有効
利用を図るとともに、入力トランジスタのコレクタとエ
ミッタ・フォロワ用トランジスタのベース間の配線長を
最短にして信号の遅延時間を減少させるものである。
That is, for example, in a master slice LSI whose basic circuit is an NTL circuit, a plurality of input transistors are arranged along one side of a collector resistor, and the common collector of the input transistors, one end of the collector resistor, and the emitter By arranging the base of the follower transistor so that it is aligned with the base of the follower transistor, it is possible to prevent the inside of the basic circuit cell from being divided into two by the diffused resistor and to effectively utilize the active region. This reduces the signal delay time by minimizing the wiring length between the bases of the transistors.

以下図面を用いて二の発明を具体的に説明する。The second invention will be specifically described below with reference to the drawings.

[実施例]、を 第3図は、本発明をマスタスライスLSIに適用した場
合の基本回路セルの一実施例を示すものである。
[Embodiment] FIG. 3 shows an embodiment of a basic circuit cell when the present invention is applied to a master slice LSI.

図において、1はマスタスライスLSIを構成するNT
L回路のような基本回路が形成される活性領域を示す。
In the figure, 1 is an NT constituting the master slice LSI.
It shows the active region where basic circuits such as L circuits are formed.

この活性領域1は、一つの基本回路セルに対応しており
、その−@(図では左側)には、特に制限されないが、
3個の入力用バイポーラトランジスタQx 、Q2 、
Qsのベース領域となるP型拡散領域2,2.・・・・
が縦方向に沿って略−列に並んで設けられている。
This active region 1 corresponds to one basic circuit cell, and its -@ (left side in the figure) includes, but is not particularly limited to,
Three input bipolar transistors Qx, Q2,
P-type diffusion regions 2, 2 .・・・・・・
are arranged substantially in rows along the vertical direction.

そして、上記ベース領域2,2.・・・・の右側下部に
は、上記トランジスタQx 、Q2 、Qsの共通コレ
クタ領域としてのN型拡散領域3が設けられ、この拡散
領域3の隣には縦方向に形成された拡散層からなる抵抗
4が配設されている。また、この抵抗4 (Rc)のさ
らに右隣の下方には、エミッタ・フォロワ用トランジス
タQ4のベース領域となるP型拡散領域5が形成されて
いる。
Then, the base regions 2, 2 . An N-type diffusion region 3 serving as a common collector region of the transistors Qx, Q2, and Qs is provided at the lower right side of the transistors Qx, Q2, and Qs, and adjacent to this diffusion region 3, a diffusion layer formed in the vertical direction is provided. A resistor 4 is provided. Further, below and further to the right of this resistor 4 (Rc), a P-type diffusion region 5 is formed which becomes the base region of the emitter follower transistor Q4.

従って、上記基本回路セルが形成される活性領域l内に
は、図面に示すように入力トランジスタQ、〜Q3がセ
ル内の一側(拡散抵抗4の左側)にきっちりと配設され
るようになる。掌−のため、基本回路セル内が拡散抵抗
4によって二分されるようなことがなくなり、他の回路
素子が形成可能な空白領域が拡散抵抗4の右側に集中的
に形成されるようになる。
Therefore, in the active region l where the basic circuit cell is formed, the input transistors Q, ~Q3 are arranged tightly on one side of the cell (to the left of the diffused resistor 4) as shown in the drawing. Become. Because of this, the interior of the basic circuit cell is no longer divided into two by the diffused resistor 4, and a blank area where other circuit elements can be formed is concentrated on the right side of the diffused resistor 4.

その結果、このようにして広く形成された空白領域を利
用して、゛ここに例えばNTL回路の動作速度を向上さ
せるスピードアップ・コンデンサC5等を形成すること
ができるようになり、セル内の活性領域の有効利用が可
能となる。
As a result, by utilizing the wide blank area formed in this way, it is now possible to form here a speed-up capacitor C5, etc., which improves the operating speed of the NTL circuit, thereby increasing the activation speed within the cell. Effective use of area becomes possible.

しかも、第3図に示すように、入力トランジスタQ1〜
Q3の共通コレクタ領域3と拡散抵抗4およびエミッタ
・フォロワ用トランジスタQ4のベース領域5とが、略
直線上に並ぶようになる。
Moreover, as shown in FIG.
The common collector region 3 of Q3, the diffused resistor 4, and the base region 5 of emitter follower transistor Q4 are arranged substantially on a straight line.

そのため、共通コレクタ領域3と拡散抵抗4の一端とト
ランジスタQ4のベース領域5とを結ぶ配線りの長さが
最短にされ、入力トランジスタQ1〜Q3のコレクタに
接続される配線容量が減少される。゛これによって、N
TL回路における信号の遅延時間が短くされ、回路の動
作速度が約10%′ 程度向上されるようになることが
分かった。
Therefore, the length of the wire connecting the common collector region 3, one end of the diffused resistor 4, and the base region 5 of the transistor Q4 is minimized, and the capacitance of the wire connected to the collectors of the input transistors Q1 to Q3 is reduced.゛Thus, N
It has been found that the signal delay time in the TL circuit is shortened and the operating speed of the circuit is improved by approximately 10%.

さらに、上記広くなったセル内の空白領域を利用すれば
、第2図のものに比べてより大きなスピードアップ・コ
ンデンサを形成することが可能となる。その結果、容量
の大きなスピードアップ・コンデンサC5を設けること
により、更にNTL回路の遅延時間を約lO%程度向上
させることができることが分かった。
Furthermore, by utilizing the expanded blank area within the cell, it is possible to form a larger speed-up capacitor than that of FIG. As a result, it was found that by providing a speed-up capacitor C5 with a large capacity, the delay time of the NTL circuit can be further improved by about 10%.

特に制限されないが、上記スピードアップ・コンデンサ
C8は上記空白領域に比較的大きなバイポーラトランジ
スタを形成し、マスタスライス法による配線形成時に入
力トランジスタの共通エミッタと電源電圧との間に接続
させてそのベース・エミッタ間の寄生容量を利用するよ
うになっている。
Although not particularly limited, the speed-up capacitor C8 is formed by forming a relatively large bipolar transistor in the blank area, and connecting it between the common emitter of the input transistor and the power supply voltage during wiring formation by the master slicing method, so that its base It uses parasitic capacitance between emitters.

さらに、上記拡散抵抗4の右側の空白領域には、上記ス
ピードアップ・コンデンサCsの他に、第4図に示すよ
うに、NTL回路の出力段となるエミッタ・フォロワを
構成するトランジスタQ41Q5のベース領域5と抵抗
R4,R,および入力トランジスタQ1〜Q3のエミッ
タ側に接続される抵抗Reを構成する拡散領域4を設け
るようにしてもよい。
Furthermore, in the blank area to the right of the diffused resistor 4, in addition to the speed-up capacitor Cs, as shown in FIG. 5, resistors R4, R, and a diffusion region 4 that constitutes a resistor Re connected to the emitter side of the input transistors Q1 to Q3 may be provided.

本発明によれば、入力トランジスタQ1〜Q3がセル(
活性領域)内の左側に配設され、拡散抵抗4の右側に広
い空白領域が集中的に形成されるため、ここに上記のご
とくエミッタ・フォロワを構成する素子を形成した場合
、基本回路セルを小さな面積で構成することができるよ
うになる。
According to the present invention, input transistors Q1 to Q3 are connected to cells (
Since a large blank area is concentrated on the right side of the diffused resistor 4, when an element constituting an emitter follower is formed here as described above, the basic circuit cell is It can be configured in a small area.

なお、第4図に符号Q6で示されるのは、上記入カドラ
ンジス゛りQ1〜Q3の共通エミッタに選択的に接続可
能なトランジスタで、そのエミッタを上記入力トランジ
スタQ1〜Q3の共通エミッタに接続しベースに適当な
基準電圧V Baを印加させることによって、回路を第
5図に示すようなセミ・スレッショールド・ロジック回
路に構成することができるようにされている。このよう
に、回路をセミ・スレッショールド・ロジック回路に構
成することによって回路マージンを向上させ、ノイズに
対し強くすることができる。
In addition, the reference numeral Q6 in FIG. 4 is a transistor that can be selectively connected to the common emitter of the input transistors Q1 to Q3, and its emitter is connected to the common emitter of the input transistors Q1 to Q3, and the base is connected to the common emitter of the input transistors Q1 to Q3. By applying an appropriate reference voltage VBa to the circuit, the circuit can be constructed into a semi-threshold logic circuit as shown in FIG. By configuring the circuit as a semi-threshold logic circuit in this way, the circuit margin can be improved and resistance to noise can be increased.

さらに、上記基本回路セル1を、例えば第6図のように
鎖線Aに対し対称的に配設し、かつこれを鎖線Bに対し
て対称的に配設してなる4個の基本回路を一つの単位と
して、これを格子状に並べて配設するとともに、第6図
に符号D s 、、 D 2で示すような各基本回路セ
ルの交点から集中的に各回路に対して電源電圧を供給さ
せるようにすることによって、LSI全体の給電を効率
良く行なうことができるようにすることができる。
Further, the basic circuit cells 1 are arranged symmetrically with respect to the chain line A as shown in FIG. 6, and four basic circuits are arranged symmetrically with respect to the chain line B. As one unit, these are arranged in a grid pattern, and the power supply voltage is intensively supplied to each circuit from the intersection of each basic circuit cell as shown by symbols D s , D 2 in Fig. 6. By doing so, it is possible to efficiently feed power to the entire LSI.

なお、上記実施例では、NTL回路を基本回路とするマ
スタスライスLSI適用したものが示されているが、こ
の発明はECL回路(エミッタ・カップルド・ロジック
回路)を基本回路とするLSIにも適用できるものであ
る。
Although the above embodiments are applied to a master slice LSI whose basic circuit is an NTL circuit, the present invention can also be applied to an LSI whose basic circuit is an ECL circuit (emitter coupled logic circuit). It is possible.

また、上記実施例ではNTL回路として入力トランジス
タを3個有するようにされたものが示されているが、入
力トランジスタの数はこれに限定されるものでなく、2
個あるいは4個以上であってもよいことはいうまでもな
い。
Further, in the above embodiment, an NTL circuit having three input transistors is shown, but the number of input transistors is not limited to this, and is two.
It goes without saying that the number may be four or more.

マスタスライスでは、X、Y方向に配線チャンネル(ト
ラック)を持っている。回路当りのこのチャンネル本数
は、X、Y方向ともに同数が望ましい。
The master slice has wiring channels (tracks) in the X and Y directions. The number of channels per circuit is preferably the same in both the X and Y directions.

配線を第i層目のアルミニウム層ALLと第二層目のア
ルミニウム層AL2で行なうことを考えた場合、アルミ
ニウム層ALIの配線ピッチの方が、アルミニウム層A
L2のそれよりも一般に小さくなる。このため、回路当
りのチャンネル本数をX、Y両、方向で同じにすると、
回路当りの素子エリアは、横長の形になってしまう。上
述した実施例に従えば、従来に比べ回路当りの素子エリ
アの横方向を短かくすることが可能であり、チップサイ
ズを正方形に近づけることが可能となる。
When considering that wiring is performed between the i-th aluminum layer ALL and the second aluminum layer AL2, the wiring pitch of the aluminum layer ALI is smaller than that of the aluminum layer A.
It is generally smaller than that of L2. Therefore, if the number of channels per circuit is the same in both the X and Y directions,
The element area per circuit becomes horizontally long. According to the embodiments described above, it is possible to make the element area per circuit shorter in the horizontal direction than in the conventional case, and it is possible to make the chip size closer to a square.

[効果] 以上説明したように、互いに並列に接続された複数個の
入力トランジスタを有するNTL回路のような論理ゲー
ト回路において、複数個の入力トランジスタをコレクタ
抵抗の一側にこれに沿って配設し、かつ入力トランジス
タの共通コレクタとコレクタ抵抗の一端とエミッタ・フ
ォロワ用トランジスタのベースとを略直線上に並ぶよう
に配設するようにしたので、入力トランジスタのコレク
タとエミッタ・フォロワ用トランジスタを結ぶ配線の長
さが最短になるという作用によって、入力トランジスタ
のコレクタに接続される配線容量が減少され、信号の遅
延時間が短縮されるという効果がある。
[Effect] As explained above, in a logic gate circuit such as an NTL circuit that has a plurality of input transistors connected in parallel to each other, the plurality of input transistors are arranged on one side of the collector resistor along this. In addition, the common collector of the input transistor, one end of the collector resistor, and the base of the emitter follower transistor are arranged in a substantially straight line, so that the collector of the input transistor and the emitter follower transistor can be connected. By minimizing the length of the wiring, the capacitance of the wiring connected to the collector of the input transistor is reduced, which has the effect of shortening the signal delay time.

また、複数個の入力トランジスタをコレクタ抵抗の一側
にこれに沿って配設するようにしたので、基本回路セル
内が拡散抵抗によって二分されず空白領域が一箇所に集
中配設されるようになるという作用によって、ここにス
ピードアップ・コンデンサ等の回路素子を効率良く配設
して回路の占有面積を減少させることができるという効
果がある。
In addition, multiple input transistors are arranged along one side of the collector resistor, so that the inside of the basic circuit cell is not divided into two by the diffused resistor, and the blank area is concentrated in one place. This effect has the effect that circuit elements such as speed-up capacitors can be efficiently disposed here to reduce the area occupied by the circuit.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもなし)。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. None).

[利用分野] 以上の説明では、主として本発明者によってなされた発
明を、その背景となった利用分野であるマスタスライス
LSIに適用したものについて説明したが、それに限定
されるものではなく、バイポーラ論理LSI一般に適用
できるものである。
[Field of Application] In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to the master slice LSI, which is the field of application that formed the background of the invention, but it is not limited to this, and is applicable to bipolar logic. This can be applied to LSI in general.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はマスタスライスLSIの基本回路となるNTL
回路の構成例を示す回路図、 第2図はNTL回路を構成する素子のレイアウトの一例
を示す平面図、 第3図は本発明に係る論理ゲート回路のレイアウトの一
実施例を示す平面図、 第4図は本発明に係る論理ゲート回路のレイアウトの他
の実施例を示す平面図、 第5図は論理ゲート回路の他の構成例を示す回路図、 第6図は上記論理ゲート回路を用いたマスタスライスL
 S 、Iの構成方法の一例を示す説明図である。 1・・・・活性領域(基本回路セル)、2・・・・ベー
ス領域、3・・・・コレクタ領域、4・・・・拡散抵抗
、Q1〜Q3・・・・入力トランジスタ、Re・・・・
コレクタ抵抗、EF・・・・エミッタ・フォロワ、C8
・・・・スピードアップ・コンデンサ。 第 1 図 第3図 第4図
Figure 1 shows the NTL which is the basic circuit of the master slice LSI.
2 is a plan view showing an example of the layout of elements constituting the NTL circuit; FIG. 3 is a plan view showing an example of the layout of the logic gate circuit according to the present invention; 4 is a plan view showing another embodiment of the layout of the logic gate circuit according to the present invention, FIG. 5 is a circuit diagram showing another example of the configuration of the logic gate circuit, and FIG. 6 is a plan view showing another example of the layout of the logic gate circuit according to the present invention. Ita Master Slice L
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an example of a method of configuring S and I; 1...Active region (basic circuit cell), 2...Base region, 3...Collector region, 4...Diffused resistance, Q1-Q3...Input transistor, Re...・・・
Collector resistance, EF...emitter follower, C8
...Speed-up capacitor. Figure 1 Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、互いに並列に接続されてなる複数個の入力トランジ
スタを有する論理ゲート回路を備えた半導体集積回路装
置において、複数個の入力トランジスタをコレクタ抵抗
の一側にこれに沿って配設し、かつ上記入力トランジス
タの共通のコレクタ端子と、コレクタ抵抗の一端と、出
力トランジスタのベース端子とが略直線上に並ぶように
配設されてなることを特徴とする半導体集積回路装置。 2、上記論理ゲート回路がノン・スレッショールド・ロ
ジック回路により構成され、とのノン・スレッショール
ド・ロジック回路を基本論理ゲート回路として構成され
たマスタスライスLSIであることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の半導体集積回路装置。
[Claims] 1. In a semiconductor integrated circuit device equipped with a logic gate circuit having a plurality of input transistors connected in parallel to each other, the plurality of input transistors are arranged along one side of a collector resistor. A semiconductor integrated circuit device, wherein a common collector terminal of the input transistor, one end of the collector resistor, and a base terminal of the output transistor are arranged substantially in a straight line. 2. A patent claim characterized in that the logic gate circuit is constituted by a non-threshold logic circuit, and is a master slice LSI configured with the non-threshold logic circuit as a basic logic gate circuit. The semiconductor integrated circuit device according to item 1.
JP59054294A 1984-03-23 1984-03-23 Semiconductor integrated circuit device Expired - Lifetime JPH0650769B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59054294A JPH0650769B2 (en) 1984-03-23 1984-03-23 Semiconductor integrated circuit device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59054294A JPH0650769B2 (en) 1984-03-23 1984-03-23 Semiconductor integrated circuit device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60198749A true JPS60198749A (en) 1985-10-08
JPH0650769B2 JPH0650769B2 (en) 1994-06-29

Family

ID=12966544

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59054294A Expired - Lifetime JPH0650769B2 (en) 1984-03-23 1984-03-23 Semiconductor integrated circuit device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0650769B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63152213A (en) * 1986-12-17 1988-06-24 Hitachi Ltd Logic integrated circuit

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57112062A (en) * 1980-12-05 1982-07-12 Cii High density integrated circuit device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57112062A (en) * 1980-12-05 1982-07-12 Cii High density integrated circuit device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63152213A (en) * 1986-12-17 1988-06-24 Hitachi Ltd Logic integrated circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0650769B2 (en) 1994-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900008648B1 (en) Semiconductor integrated circuit device
IE53844B1 (en) Semiconductor integrated circuit comprising a semiconductor substrate and interconnecting layers
JPS5943548A (en) Semiconductor integrated circuit device
US4748488A (en) Master-slice-type semiconductor integrated circuit device
JPH0831578B2 (en) Master-slice type gate semiconductor integrated circuit device
JPS60198749A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH0774327A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPS58124263A (en) Semiconductor device
JPH0831581B2 (en) Semiconductor device
KR910009423B1 (en) Large scale integrated circuit
JPH0558582B2 (en)
KR900017165A (en) Standard Cell Semiconductor Integrated Circuits
JP2739958B2 (en) Standard cell
JPS6290948A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPS63140A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPS62150844A (en) Logic integrated circuit device
JP2578164B2 (en) Gate array device
JPS623584B2 (en)
JPH04225548A (en) Integrated circuit device
US4518874A (en) Cascoded PLA array
JPS6352805B2 (en)
KR100339909B1 (en) Standard cell type integrated circuit
JPS63306641A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH02144936A (en) Semiconductor integrated circuit device
JPH0210870A (en) Semiconductor integrated circuit device