JPS60190600A - Partial plating device of long-sized metallic strip - Google Patents

Partial plating device of long-sized metallic strip

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JPS60190600A
JPS60190600A JP4561684A JP4561684A JPS60190600A JP S60190600 A JPS60190600 A JP S60190600A JP 4561684 A JP4561684 A JP 4561684A JP 4561684 A JP4561684 A JP 4561684A JP S60190600 A JPS60190600 A JP S60190600A
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plating
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roller
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小林 広嗣
Shinichi Muramatsu
信一 村松
Yoshiro Ichikawa
市川 良郎
Seizo Mitsui
三井 精造
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Shinko Electric Industries Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide a titled device which supplies smoothly a strip by providing a sagging part to the strip in the stage of transferring the strip from a strip supply part to a continuous feed part of a pretreating stage for plating and synchronizing the let-off speed of the strip and the continuous feed speed of the pretreating part for plating. CONSTITUTION:A long-sized strip 12 wound on a reel 10 is let-off by a supply means A and while the strip is fed C continuously, the strip is subjected to a pretreatment for plating. The strip 12 is then fed intermittently and is subjected to partial plating D while the strip 12 is temporarily stopped. The strip 12 is subjected to a post treatment E for plating while the strip is again fed continuously. The treated strip 12 is wound on the reel 14 by a containing means G. A means for changing over the continuous feed and intermittent feed of the strip 12 with each other during this time, that is, a sagging part B is disposed and the tension of the strip 12 is maintained constant by constant tension mechanism H1, H2. The deviation position of the tension rollers of the mechanisms H1, H2 is detected and the speeds of the respective continuous feed parts C, E and the intermittent feed part D are synchronized, by which the strip 12 is partially plated.

Description

【発明の詳細な説明】 発1.lI]のJ支術分野 本発明は、長尺で帯状の金属材料(以下、ストリッツと
いう)を、その長さ方向に一定間隔おきに部分メッキす
る装置に関する。このような部分メッキ装置は、列えば
、I C、LSI等の半導体装WkH造するのに使用す
るリードフレームのように、プレスで打抜き加工された
多数のセグメントが連続した状態で長手方向につながっ
ているストリップを、そのセグメント毎に必要個所を部
分メッキする場合に好適に使用できるものである。
[Detailed Description of the Invention] Statement 1. FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus for partially plating a long strip-shaped metal material (hereinafter referred to as "strits") at regular intervals along its length. This kind of partial plating equipment can be used to continuously connect a large number of segments punched by a press in a longitudinal direction, like a lead frame used for manufacturing semiconductor devices such as ICs and LSIs. This strip can be suitably used when partially plating the required portions of each segment.

技術の背景 リードフレームのようなストリッツを部分メッキする場
合、まずメッキの前処理として、ストリッツの表面を洗
浄して油、酸化物、不純物等を除去する工程を含まなけ
ればならず、またメッキの終了後にはメッキの後処理と
して、ストリッツに付着したメッキ液を洗い流し、これ
を乾燥する工程を含まなければならない。このようなメ
ッキの前処理、メッキ処理および後処理の一連の処理を
、ス) IJッグがその長さ方向に移動する間に連続的
に行なう場合、前処理工程ではストリッfを連続送りに
、メッキ処理ではストリッ7°を間けつ送9に1後処理
では再びス)lラグを連続送シにすることが望ましい。
Background of the Technology When partially plating strips such as lead frames, the pre-plating process must include cleaning the surface of the strips to remove oil, oxides, impurities, etc. After completion of plating, the plating solution must be washed away from the strips and dried as post-treatment. If a series of such plating pre-treatment, plating treatment and post-treatment is carried out continuously while the IJ tag moves in its length direction, the pre-treatment process involves continuously feeding the strip f. In the plating process, it is desirable to feed the strip 7° intermittently, and in the post-processing, it is desirable to feed the strip continuously.

これは、部分メッキの場合には、メッキしない部分をマ
スクして一定時間電流を印加してメッキを行なうため、
その間はストリッツの送りな止める必要があるからであ
る。また、前処理と後処理では、ストリッツの表面を一
様に処理するためには連続送りが好ましいからである。
This is because in the case of partial plating, the parts that are not to be plated are masked and the plating is performed by applying current for a certain period of time.
This is because it is necessary to stop feeding the Stritz during that time. Further, in the pre-treatment and post-treatment, continuous feeding is preferred in order to uniformly treat the surface of the strips.

このように、]っの処理ラインにおいて連続送り部分と
間けつ送り部分とが共存する場合において、間けつ送り
部分でストリップが停止している間、連続送り部分では
ストリップに一定の張力が与えられているのが望ましい
。また、連続送り部分と間けつ送シ部分との間ではスト
IJッグの送り速度が互いに同ル」している必要がある
In this way, when the continuous feeding section and the intermittent feeding section coexist in the processing line, a constant tension is applied to the strip in the continuous feeding section while the strip is stopped in the intermittent feeding section. It is desirable that Further, the feed speed of the strike IJ must be the same between the continuous feed portion and the intermittent feed portion.

また、ストリッツはリールに巻回された供給部から繰り
出されて来るが、リードフレームのような薄いストリッ
プでは、リールの外部から強い力テストリッf2引張る
とストリップが変形するおそれがあるので、ストリップ
の供給部とメッキ前処理部との間でストリップのたるみ
部を設けている。従って、ストリップ供給部におけるス
トリップの繰り出し速度とメッキ前処理部の連続送シ速
度とを同期させてスムーズなストリップの供給を行う必
要がある。
In addition, strips are fed out from a supply section wound around a reel, but with thin strips such as lead frames, there is a risk that the strips will be deformed if pulled with a strong force from the outside of the reel. A slack portion of the strip is provided between the plating pretreatment section and the plating pretreatment section. Therefore, it is necessary to synchronize the strip feeding speed in the strip supply section and the continuous feeding speed of the plating pretreatment section to smoothly supply the strip.

更にまた、間けつ送り部でおるメッキ工程においても、
メッキ処理はストリップが停止している間にしか出来な
いため、メッキの生産量ヲ上げるためには1反に行なえ
る部分メッキの個7%が出来るだけ多いのが望ましく、
あるいは1回のメッキに必要な時間が出来るだけ短いの
が望−ましい。
Furthermore, in the plating process at the intermittent feed section,
Since plating can only be done while the strip is stopped, in order to increase the plating production, it is desirable to have as many 7% of partial platings as possible on one strip.
Alternatively, it is desirable that the time required for one plating be as short as possible.

発明の目的 本発明の第一の目的は、ス)IJツブをその長き方向に
送りながら一定間隔おきに部分メッキする装置における
前述のような問題を解決することにある。
OBJECTS OF THE INVENTION The first object of the present invention is to (1) solve the above-mentioned problems in an apparatus for partially plating an IJ tube at regular intervals while feeding it in its longitudinal direction.

本発明の他の目的は、リールにストリッツ全巻回したス
トリップ供給部からストリッツのメッキ前処理工程の連
続送シ部へ移行する過程でストリップにたるみ部を設け
、ストリッツ供給部のストリップの繰り出し速度とメッ
キ前処理部の連続送υ速度とを同期させてスムーズなス
トリップの供#を達成することである。
Another object of the present invention is to provide a slack portion in the strip in the process of transition from the strip supply section where the strip is fully wound on the reel to the continuous feed section of the strip plating pre-treatment process, thereby increasing the strip feeding speed of the strip supply section. The goal is to synchronize the continuous feeding speed of the plating pretreatment section to achieve smooth strip feeding.

本発明の更に池の目的は、1つの処理ラインにおいてス
トリップの連続送り部分と間けつ送り部分とが共存する
場合に、連続送り部と間けつ送り部との送り速匣ヲ互い
に同期させると共に、連続送す部におけるス) IJツ
ブの張力を一定に維持することである。
A further object of the present invention is to synchronize the feed speeds of the continuous feed section and the intermittent feed section with each other when a continuous feed section and an intermittent feed section of the strip coexist in one processing line; In the continuous feeding section, the tension of the IJ tube must be maintained constant.

本発明の更に他の目的は、ス)IJッグの長さ方向に−
だ間隔おきに部分メッキする」場合において、出来るだ
け短時間で篩速で能率良くメッキ処理を施すことである
Still another object of the present invention is to
In the case of ``partial plating at intervals of 300 mm,'' the purpose is to perform the plating process efficiently in the shortest possible time and at a sieving speed.

発明の(1q成 これらの目的ケ実現するために、本発明では、長尺状の
金属ストリップがその長さ方向に送られる間に、該スト
リップに長さ方向一定間隔おきに部分メッキを施す装置
であって、ストリップの送り方向順に、リールに巻回さ
れたス) IJツブを繰り出すストリップ供給手段と、
ストリップを連続送りしながら処理するメッキ前処理手
段と、ストリッfq連続送りから間けつ送りに袈換し、
これら連続送9と間けつ送シとを同期させる手段と、該
ストリップが間はり送り中に停止している間に部分メッ
キ盆施すメッキ手段と、再度ストリップを連続込シしな
がら処理するメッキ懐処理手段と、処理佐のストクツf
f巻回するストリップ収納手段とを含んで成り、前記ス
トIJッグの各連続送り部と間はり送υ部との間には、
該ストリップを少なくとも1つの固定ローラと少なくと
も1つのテンションローラを経由させることによりスト
リップの張力?一定に維持する定張力恢描が配置4され
、該定張力機構のテンションローラの振れ位置を検出す
ることによシ、各連続送り部と間欠送り部の送り速度ケ
同期する手段を具備することを特徴とする部分メッキ装
置が提供される。
In order to achieve these objects, the present invention provides an apparatus for partially plating a long metal strip at regular intervals along its length while the strip is fed along its length. a strip supply means for feeding out an IJ tube, which is wound on a reel in the order of the feeding direction of the strip;
A plating pretreatment means for processing the strip while continuously feeding it, and changing from continuous strip fq feeding to intermittent feeding,
There is a means for synchronizing the continuous feed 9 and the intermittent feed, a plating means for applying partial plating while the strip is stopped during the intermittent feed, and a plating means for applying plating while continuously feeding the strip again. Processing means and stock of processing staff
and a strip storage means for winding the strip, and between each continuous feeding section and the interleaving feeding section of the strip IJ,
tension of the strip by passing the strip through at least one fixed roller and at least one tension roller. A constant tension mechanism is arranged 4 to maintain a constant tension, and means is provided for synchronizing the feed speeds of the continuous feed section and the intermittent feed section by detecting the deflection position of the tension roller of the constant tension mechanism. A partial plating device is provided which is characterized by:

発明の実施pり 以下、添付図面を参照して本発明の実施列につき詳細に
説明する。実にレリにおいては、長尺でかつ帯状の全組
材料(ストリップ)として、IC。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In fact, in Reli, IC is a long and band-like complete material (strip).

LSI等の半導体装置全製造するのに使用するリードフ
レームの場合Vこついて説明する。
The case of a lead frame used for manufacturing all semiconductor devices such as LSI will be explained below.

第1図は本発明の部分メッキ装置の工程の概略を示した
図である。第1図に訃いて、Aはり−ル10に巻回した
ストリップ12全繰シ出すストリップ供給部、Bはスト
リップ12のたるみ部、Cはストリッジ12tメツキす
るための前処理としてストリ、グ120表面を洗浄して
油、酸化物p不純物等の除去を行なう部分、Dはストリ
ッツ12に部分メッキを施す部分、Eはメッキの後処理
としてストリップ12に付着したメッキ液全洗い流しこ
れを乾燥する部分、FはBと同様のたるみ部、Gは処理
後のストリッツ12孕リール14Vこ巻回して収納する
ストリッツ収納部である。
FIG. 1 is a diagram showing an outline of the process of the partial plating apparatus of the present invention. As shown in Fig. 1, A shows a strip supply unit that feeds out the entire strip 12 wound around the reel 10, B shows a slack part of the strip 12, and C shows the surface of the strip 120 as a pre-treatment for plating the strip 12t. D is the part where the strips 12 are partially plated, E is the part where all the plating solution adhering to the strips 12 is washed away and dried as a post-plating treatment, F is a slack portion similar to B, and G is a slit storage portion where the treated slits 12 are wound and stored on a reel 14V.

ストリッf12は第2図に示すようなリードフレームで
あり、ブレスで打抜き加工された多数の同一形状のセグ
メン)12a、12b、・・・が長さ方向に連続した状
態でつながっている。部分メッキ部りにおりて、ストリ
ッツ12が間けつ送9され、ス) IJツブ12が停止
している間に、各セグメントの中央部、すなわち半導体
チップ(図示せず)が搭載さハ、るダイポンディフグ領
域や半導体チップと金属細線で接続されるワイヤメンデ
ィング領域121がレリえば金等で部分メッキされる。
The strip f12 is a lead frame as shown in FIG. 2, in which a large number of segments 12a, 12b, . At the partial plating part, the strips 12 are fed 9 intermittently, and while the IJ tube 12 is stopped, the central part of each segment, that is, the semiconductor chip (not shown) is mounted. When the wire mending area 121 connected to the die-pond puffer area and the semiconductor chip with thin metal wires is removed, it is partially plated with gold or the like.

このように部分メッキ部りは間けつ送p部であp、−男
前処理部Cおよび後処理部Eは連続送り部である。セし
て、間けつ送り部りと連続送り部C。
In this way, the partial plating section is an intermittent feeding section, and the pre-processing section C and the post-processing section E are continuous feeding sections. Then, the intermittent feed section and the continuous feed section C.

Eとの間には、ストリッツ12の長さ方向の送りを吸収
しかつ連続送、り部C2Eにおけるストリッツ12の張
力を一定に維持する定張力機掃H1゜H2が設けられて
いる。
A constant tension sweeper H1°H2 is provided between C2E and C2E to absorb the feed of the strip 12 in the longitudinal direction and to keep the tension of the strip 12 constant at the continuous feed portion C2E.

第3図はス) +7ツノ供給部Aおよびストリップたる
み部B?I−斜視図で略示したものである。ストリップ
供給線Aは、駆動モータ16Pこよって回転されるリー
ル10から成る。ストリッ7°12は駆動モータ16の
回転によりリール10から繰り出されてたるみ領域12
4を形成した後、メッキ装置100の前処理部C(第1
図)へ連続的に供給される。たるみ部BKは、ストリッ
ツ12の高さを一定の範囲内に維持するだめの高さ検出
装置18が設けられている。
Figure 3 shows +7 horn supply section A and strip slack section B? I--Schematically shown in perspective view. The strip supply line A consists of a reel 10 rotated by a drive motor 16P. The strip 7° 12 is unwound from the reel 10 by the rotation of the drive motor 16 and reaches the slack area 12.
4, the pretreatment section C (first
(Fig.) is continuously supplied. The slack portion BK is provided with a height detection device 18 for maintaining the height of the strips 12 within a certain range.

高さ検出装置18は、たるみ部Bのス) IJツブ進行
方向の一定位置に設置された非接触型センサー20を営
み、このセンサー20はその下方全通過するストリッツ
12の高さ、すなわちセンサー20の位置からストリッ
ツ12までの世直方向の距離を周知の方法で測定し、そ
の/flJ定値を第5図のSl で示すような尖頭波ア
ナログ信号として検出回路22に入力する。
The height detection device 18 operates a non-contact type sensor 20 installed at a fixed position in the direction of travel of the IJ tube in the slack portion B. The distance in the vertical direction from the position to the strip 12 is measured by a well-known method, and the constant /flJ value is input to the detection circuit 22 as a peak wave analog signal as shown by Sl in FIG.

l14図は、tもさ検出回路22を示したものである。FIG. 114 shows the t-shape detection circuit 22.

センサー20の出力Slは、並列に配置された2つのピ
ークホールド回路24a、24bに分岐して入力さねる
。各ピークホールド回路24a。
The output Sl of the sensor 20 is branched and input to two peak hold circuits 24a and 24b arranged in parallel. Each peak hold circuit 24a.

24bは、スイッチ26 a # 26 b ; 28
 & #28b;及び30a、30bf:備えており、
これらのスイッチはfJ5図に示すようにある一定の周
期2Tで開閉している。すなわち、スイッチ26a。
24b is a switch 26a #26b; 28
& #28b; and 30a, 30bf: Equipped with
These switches open and close at a certain period of 2T, as shown in diagram fJ5. That is, switch 26a.

28aは時間2Tを周期として同時に短時間だけ閉じ、
同じく時間2Tを周期として同時に短時間だけ閉じるス
イッチ26b、28bとの間では時間Tの時間差をおい
ている。また、スイッチ30aおよびスイッチ3Ubは
、それぞれスイッチ26a。
28a closes simultaneously for a short time with a period of time 2T,
Similarly, there is a time difference of time T between the switches 26b and 28b, which are simultaneously closed for a short time with a period of time 2T. Further, the switch 30a and the switch 3Ub are each the switch 26a.

28aおよびスイッチ26b 、28bの閉止立上り力
・ら時間Tだけ開き、更に時間Tだけ閉じる、の動作を
繰り返し、結局、スイッチ30m 、 30b間では一
定時間2Tを周期として交互に開閉を繰り返す。このよ
うな開閉動作をするスイッチ26a。
28a and the switches 26b and 28b are opened for a time T and then closed for a further time T by the closing rising force of the switches 28a and 26b, 28b, and this operation is repeated, and in the end, the switches 30m and 30b are alternately opened and closed at a constant period of 2T. The switch 26a performs such opening and closing operations.

28&;スイッチ26b 、28bを具備することによ
り、尖頭波信号S1のピークはピークホールド回路24
a、24bによシ時間差ケおいて順次ホールドされる。
28&; By providing the switches 26b and 28b, the peak of the peak wave signal S1 is held in the peak hold circuit 24.
The signals a and 24b are held sequentially with a time difference.

このようにピークがホールドされたピークホールド回路
24 a 、 24 bの出力は一対のスイッチ30 
a 、30bによって選択切決され、その結果高さ検出
回路22の出力として第5図82に示すような波形の信
号を得るのである。
The outputs of the peak hold circuits 24a and 24b, in which the peaks are held in this way, are sent to a pair of switches 30.
a and 30b, and as a result, a signal with a waveform as shown in FIG. 582 is obtained as the output of the height detection circuit 22.

リール駆動モータ16(第3図)は高さ検出回路22の
出力として侍られた信号波形S2に比レリした速度で駆
動されるか又は82の波形に更にヒステリシスをもたせ
る為の回路(図示せず)を通してより安定にした状態で
駆動される。すなわち、センサー20はブレス加工され
た多数の孔を有するリードフレームであるストリッ7’
12を直接検出しているため尖頭波アナログ信号Stは
非常に不安定できわめて変動のはげしいものであるが、
ピークホールド回路24 a p 24 b ’に有す
る高さ検出回路22により安定した波形の16号S2に
変侠し、このIB号Szk用いるか、又は更にこれにヒ
ステリシスを与えた信号(図示せず)を用いて駆動モー
タ16を制御し、メッキ装置100の送り速度との関連
においてストリップ12がたるみ部B(第3図)で−足
範囲の高さくたるみ)?Il−維持するようにする。こ
こで、一定の時間Tは、ストリップ12 (!j−ドフ
レーム)の1つのセグメン)12a、12bp・・・(
第2図)が通過する時間以上の時間であり、この時間T
の間にはリードフレームのたるみ量にほぼ比例したピー
クをもつ尖頭波信号S1が得られると考えられる時間音
とる。もし、ストリッ7’12がリードフレームのよう
に多数の孔や凹凸を有しない平坦fxWY状材料である
場合には、時間Tを短く設定することによりたるみ検出
の応答性を高めることができる。第1図のFにおけるた
るみ部およびGにおけるストリップ収納部でも、同様の
たるみ(渦さ)検出装置を用いることができる。
The reel drive motor 16 (FIG. 3) is driven at a speed relative to the signal waveform S2 served as the output of the height detection circuit 22, or is driven by a circuit (not shown) to further add hysteresis to the waveform of the height detection circuit 22. ) is driven in a more stable state. That is, the sensor 20 is a strip 7' which is a lead frame having a large number of holes that are pressed.
12 is detected directly, the peak wave analog signal St is very unstable and has extremely large fluctuations.
The peak hold circuit 24 a p 24 b ' has a height detecting circuit 22 that changes the waveform to No. 16 S2 with a stable waveform, and uses this IB No. Szk, or a signal that further gives hysteresis to this (not shown) is used to control the drive motor 16 so that, in relation to the feed rate of the plating apparatus 100, the strip 12 sag at the slack portion B (FIG. 3) - ? Il- to maintain. Here, the constant time T is one segment of the strip 12 (!j-de frame) 12a, 12bp... (
(Fig. 2) is longer than the time taken by T
A period of time during which it is thought that a peak wave signal S1 having a peak approximately proportional to the amount of slack in the lead frame is obtained is taken. If the strip 7'12 is made of a flat fxWY-shaped material that does not have many holes or irregularities like a lead frame, the responsiveness of slack detection can be improved by setting the time T short. A similar sag (vortex) detection device can be used in the sagging portion at F and the strip storage portion at G in FIG.

このような高さ検出装置18にエリ、ストリップ供給部
へのストリップ12の繰り出し速度がメッキ装置100
の前処理部c (gi図)の連続送シ速度と関連をもつ
ように制御され、常時一定範囲内のたるみが維持される
ので、ストリップ12はリール10の慣性を受けたり、
無理な力で引っ張られたシするおそれはない。
The height detecting device 18 is controlled by the speed at which the strip 12 is fed to the strip supply section in the plating apparatus 100.
The strip 12 is controlled in relation to the continuous feeding speed of the pre-processing section c (gi figure), and the slack is always maintained within a certain range, so that the strip 12 is not affected by the inertia of the reel 10,
There is no risk of it being pulled with excessive force.

次に、第6図〜第12図を参照して、ストリッf12の
連続送り部C,E(第1図)と間けつ送り部D(第1図
)との間にある定張力機mfIx *H2について説明
する。なお、2つの定張力機構H1、H2はいずれも同
じ構造のものを採用できるので、その一方についてのみ
説明すれば十分であろう。
Next, with reference to FIGS. 6 to 12, the constant tension machine mfIx* located between the continuous feed sections C, E (FIG. 1) and the intermittent feed section D (FIG. 1) of the strip f12 is H2 will be explained. Note that since the two constant tension mechanisms H1 and H2 can both have the same structure, it will be sufficient to explain only one of them.

第6図および第7図は定張力機構の第一実施レリを示す
ものである。同図において31〜33は樹脂等で軽歌比
されたローラであり、34はローラ31とローラ32を
連結するアームである。ロー232及びローラ33の軸
はペースに固定されておシ、ローラ31はアーム34に
回転可能に取り付けられており、このアーム34はロー
ラ32の中心まわりに揺動できるようになっている。ア
ーム34のローラ32の側の中心は、35で示す空圧揺
動シリンダに直結されており、空圧揺動シリンダ35に
は圧力制御弁36を介して一定圧力が供給されている。
6 and 7 show a first implementation of the constant tension mechanism. In the figure, 31 to 33 are rollers made of resin or the like, and 34 is an arm connecting the rollers 31 and 32. The shafts of the row 232 and roller 33 are fixed to the pace, and the roller 31 is rotatably attached to an arm 34, which can swing around the center of the roller 32. The center of the arm 34 on the roller 32 side is directly connected to a pneumatic swing cylinder 35 , and a constant pressure is supplied to the pneumatic swing cylinder 35 via a pressure control valve 36 .

従ってこのような定張力機構によれば、アーム34には
一足トルクが発生しており、これに連結されたローラ3
1によシ、ローラ32.31,331経由してのびるス
トリップ12に張力が与えられる。このストリップにか
かる張力はアーム34の振り角度θによって変化するが
、ロー231の径、アーム34の長さ、ローラ32とロ
ーラ33との間の距離を選定し、θを一定の範囲に限定
する事によって、はぼ一定張力となる事は、計算で確め
られる。ロー231の径f 267 am、アーム34
の長さを300n+n+1 ローラ32.33間の距離
を600mmとし、アーム34に0.75に9mのトル
クを与えた時の張力は、θが0°で1.40kg、θが
20°で1.32kl;I、θが40゜で1.36kg
、θが60’で1.43ゆとなる。
Therefore, according to such a constant tension mechanism, one foot torque is generated in the arm 34, and the roller 3 connected to this
1, tension is applied to the strip 12 extending via rollers 32, 31, 331. The tension applied to this strip changes depending on the swing angle θ of the arm 34, but by selecting the diameter of the row 231, the length of the arm 34, and the distance between the rollers 32 and 33, θ is limited to a certain range. Depending on the situation, it can be confirmed by calculation that the tension is approximately constant. Diameter of row 231 f 267 am, arm 34
When the length of is 300n+n+1, the distance between the rollers 32 and 33 is 600mm, and a torque of 0.75 to 9m is applied to the arm 34, the tension is 1.40kg when θ is 0°, and 1.4kg when θ is 20°. 32kl; 1.36kg when I and θ are 40°
, when θ is 60', it is 1.43 yut.

第8図および第9図は定張力機構の紀二実mPlを示す
。同図において、ローラ31及び31′がアーム34′
で連結されており、アーム34′の中心軸に空圧揺動シ
リンダ35が直結されている。従って、ローラ31及び
31′は、アーム中間点を中心に揺動し、ローラ32,
31,31’、33′ff:経由してのびるス) IJ
ッグ12に張力を与えている。
Figures 8 and 9 show the Kijimi mPl of the constant tension mechanism. In the figure, rollers 31 and 31' are connected to arm 34'.
A pneumatic swing cylinder 35 is directly connected to the central axis of the arm 34'. Therefore, the rollers 31 and 31' swing around the intermediate point of the arm, and the rollers 32,
31, 31', 33'ff: via) IJ
This applies tension to the tag 12.

第二実施列は第−実施列に比べて間欠送りのストローク
が長い場合に有利である。
The second implementation row is advantageous when the intermittent feed stroke is longer than the first implementation row.

第10図は薙張力機構の第一および第二実施例で用いる
ことのできる空圧4mEIihシリンダ35の断面図を
示す。同図において、41は回転軸、42はピニオン、
43はラック、44及び44′はピストン、45は・母
ッキン全それぞれ示す。窒気入口47から圧力がかかっ
たとするとシリンダ49内の圧力が上昇し、ピストン4
4′ヲ押す。このピストン44′に連結されたラック4
3は左方へ移動し、それとかみ合う歯車42によって、
アーム34゜34′(第6図〜第9図)に連結された軸
41が回転する。このようなラックピニオンタイプの空
圧揺動シリンダのかわりにぜディ内面金摺動するベーン
と一体の軸を回転させるペーンタイグ等の梨圧掃動機構
を用いてもよい。
FIG. 10 shows a cross-sectional view of a pneumatic 4 mEIih cylinder 35 that can be used in the first and second embodiments of the lintel tension mechanism. In the figure, 41 is a rotating shaft, 42 is a pinion,
43 is a rack, 44 and 44' are pistons, and 45 is a motherboard. If pressure is applied from the nitrogen inlet 47, the pressure inside the cylinder 49 will rise and the piston 4 will
Press 4'. Rack 4 connected to this piston 44'
3 moves to the left, and by the gear 42 that meshes with it,
A shaft 41 connected to the arm 34.degree. 34' (FIGS. 6-9) rotates. In place of such a rack and pinion type pneumatic swing cylinder, a pneumatic sweeping mechanism such as a Peintig which rotates a shaft integrated with a vane that slides on the inner surface of the wheel may be used.

第11図および第12図は定張力機構の第三実h(rt
 nJである。同図において、テンションロー251の
情は、ガイド1I41I53上を移動可能なスライダ5
4上に固定されている。スライダ54は、圧力flil
J Thl弁36によって一定圧力を供給されている空
圧シリンダ55によって図の右方に常に押されている。
Figures 11 and 12 show the third real h(rt) of the constant tension mechanism.
It is nJ. In the figure, the tension row 251 is shown by a slider 5 movable on a guide 1I41I53.
4 is fixed on top. The slider 54 has a pressure flil
It is constantly pushed to the right in the figure by a pneumatic cylinder 55 that is supplied with constant pressure by a J Thl valve 36.

従って、テンションローラ511i−固定ローラ52を
経由してのびるストリッツ12には、テンションローラ
51’7介して一定張力が与えられる。この第三実施し
IJは、スペースを必要とするが、第一および第二実施
列と比較して、揺動運動金しない為、張力誤差が少ない
事が特徴である。
Therefore, a constant tension is applied to the strips 12 extending via the tension roller 511i and the fixed roller 52 via the tension roller 51'7. This third IJ requires space, but compared to the first and second implementation rows, it is characterized by having less tension error because it does not require rocking motion.

・以上に説明したような、空気圧を利用した定張力Sa
 h’t I(lp Hz f使用すれば、部分メッキ
部のような間けつ送り部D(g1図)においてストリッ
ツ12が停止していても、連続送り部C1E(第1図)
ではス) IJッグ12を連続的に送ることができしか
もストリッツ12にはほぼ一定の張力が得られる。また
、定張力機構H1yH2は空気圧上第11用しているの
で、その慣性質量を小さくでき、従って高速動作ができ
、iた張力の変更も圧力調整弁36により外部から容易
に行うことができる。
・As explained above, constant tension Sa using air pressure
If h't I (lp Hz f is used, even if the strips 12 are stopped in the intermittent feed section D (see g1), such as a partially plated section, the continuous feed section C1E (see fig. 1)
) The IJ rod 12 can be fed continuously, and a nearly constant tension can be obtained in the strips 12. Further, since the constant tension mechanism H1yH2 uses pneumatic pressure, its inertial mass can be reduced, and therefore high speed operation is possible, and the tension can be easily changed from the outside using the pressure regulating valve 36.

次に、第13図により連続送り部Cと間けっ送り部りと
の間のストリップ速度を同期させる装置について第6図
および第7図の定張力(幾構の場合を列として説明する
。連続送り部Cにおいてストリップ12uモータ52お
よびローラ54により連続的に駆動されている。一方、
間けつ送り部りにおいてはストリッツ12は、空気圧シ
リンダ56により往復移動するキャッチ機構58により
一定のストロークで間けつ的に移動する。ローラ32と
33との間Vこおいて、ストリッツ12はテンションロ
ーラ31で、連続送りscと間けつ送り部りの速度差が
吸収される。テンションローラ31は、前述の定張力機
構に↓り一方向に伺勢されたアーム34に回転自在に取
シ付けられていて、このアーム34の回転中心の軸受部
にはロータリエンコーダ68が設けられる。従りて、ア
ーム34およびテンションロー、731は揺動運動を繰
り返しながら前記速度差を吸収するのである。そして、
ロータリエンコーダ68はアーム34の振れ角を検出し
、その信号を速度制御装置70に送って、モータ速度制
御回路72によりモータ52の駆動速度をフィードバッ
ク制御するのである。
Next, referring to FIG. 13, a device for synchronizing the stripping speed between the continuous feed section C and the intermittent feed section will be explained using the constant tension of FIGS. 6 and 7. In the feeding section C, the strip 12u is continuously driven by a motor 52 and a roller 54. On the other hand,
In the intermittent feed section, the strips 12 are moved intermittently with a constant stroke by a catch mechanism 58 that is reciprocated by a pneumatic cylinder 56. Between the rollers 32 and 33, the strip 12 is a tension roller 31, which absorbs the speed difference between the continuous feed sc and the intermittent feed section. The tension roller 31 is rotatably attached to an arm 34 biased in one direction by the constant tension mechanism described above, and a rotary encoder 68 is provided at a bearing portion at the center of rotation of this arm 34. . Therefore, the arm 34 and the tension row 731 absorb the speed difference while repeating the rocking motion. and,
The rotary encoder 68 detects the deflection angle of the arm 34, sends the signal to the speed control device 70, and the motor speed control circuit 72 feedback-controls the driving speed of the motor 52.

モータ52によシ駆動される連続送シ部のストリッツ速
度をυ(m/5ee)とし、間欠送シ時間間隔をt(s
ee) 、間欠送り距離?!−tに)とすると、連続送
シ速度の同期条件は次式となる。
The strip speed of the continuous feed section driven by the motor 52 is υ (m/5ee), and the intermittent feed time interval is t (s
ee), intermittent feed distance? ! -t), the synchronization condition for the continuous feed rate is as follows.

υ =− を 今、テンションローラの振れの中心位置を機械的に決め
、その位置に対して時計方向回シの最大振れ角をθl、
反時計方向回シの最大振れ角をθ2とすると、速度との
関係は次のようになる。
Now, the center position of the tension roller's deflection is determined mechanically, and the maximum deflection angle of the clockwise rotation is θl,
If the maximum deflection angle of counterclockwise rotation is θ2, the relationship with the speed is as follows.

θl〉θ2なら υ〉− θ■=02 v−一 θ1〈θ2 vく− を 従って、θl とθ2をロータ0エンコーダ68によシ
測定し、その差をめる事により間欠送り速度に対して、
連続送り速度がどの様な状態にあるか判断する。
If θl〉θ2, υ〉− θ■=02 v−−θ1〈θ2 v− Therefore, θl and θ2 are measured by the rotor 0 encoder 68, and the difference is calculated for the intermittent feed speed. ,
Determine what state the continuous feed rate is in.

テンションローラ31又はアーム34の振れの中心位置
が所だの位置に来るように連続送り速度を加減して、同
期状態に戻すように制御する。またはテンションローラ
31の振れの端点aを検出し、aの位置が所定の位置a
よシ外側に位置した場合は連続送り速度を減少させ、内
側に位置した場合には連続送り速度を増加させて間欠送
り速度と同期させることも可能である。(振れの端点す
を検出し、同様に同期させることもできる。)このよう
な同期装置を使用することにより、連続送り部Cと間け
つ送り部りとの間の速度が自動的に同期される。なお、
この種の同ル」装置は、第1図における部分メッキ部り
と後処理部Eとの間でも同様に適用できる。また、この
同期装置は第8図および第9図で説明した定張力機構に
も適用できることはもちろんでおる0 なお第11図で説明した定張力機構の場合には、第13
図におけるテンションローラのアームの振れ角をロータ
リエンコーダで検出するかわりに、テンションローラ5
1の変位位置をリニアエンコーダ(図示せず)で検出し
て変位位置が所定の位ηイにくるように連続送り速度を
制御することにより同期させることができる。
The continuous feed speed is controlled so that the center position of the deflection of the tension roller 31 or the arm 34 comes to a predetermined position, and the synchronized state is returned. Alternatively, the end point a of the deflection of the tension roller 31 is detected, and the position of a is determined to be a predetermined position a.
It is also possible to synchronize the continuous feed rate with the intermittent feed rate by decreasing the continuous feed rate when it is located on the outside, and increasing the continuous feed rate when it is located on the inside. (The end point of the runout can also be detected and synchronized as well.) By using such a synchronizer, the speeds between the continuous feed section C and the intermittent feed section are automatically synchronized. Ru. In addition,
The same type of apparatus can be similarly applied between the partial plating section and the post-processing section E in FIG. It goes without saying that this synchronizer can also be applied to the constant tension mechanism explained in FIGS. 8 and 9. In the case of the constant tension mechanism explained in FIG.
Instead of detecting the deflection angle of the tension roller arm in the figure with a rotary encoder, the tension roller 5
Synchronization can be achieved by detecting the displacement position of 1 with a linear encoder (not shown) and controlling the continuous feed rate so that the displacement position is at a predetermined position ηa.

次Vこ、間けつ送り部である部分メッキ部D(第1図)
の動作について第14図〜第17図を参照して説明する
。こちらの図において、12はストリップ、80.80
’はメッキ用ヘッド、82゜82′はその取付台、84
 、84’は調整ねじ、86は・!イロットピン、88
はストリップ12の間けつ送り機構、90はストローク
調整ねじである。
Next V, partial plating part D which is the intermittent feed part (Fig. 1)
The operation will be explained with reference to FIGS. 14 to 17. In this figure, 12 is a strip, 80.80
' is the plating head, 82°82' is its mounting base, 84
, 84' is an adjustment screw, 86 is...! Ilot pin, 88
90 is a stroke adjustment screw.

第14図に2いて、同一長さのメッキ用ヘッド80 、
80’は長手方向にタンデムに配置され、各メッキ用ヘ
ッド80.80’は1サイクルでストリッツ120所定
数のセグメント分(説明の便宜上、4つのセグメント分
について示す)の部分メッキを受けもつ。また、ストリ
ッ7’12はこれと同じ4セグメント分のストロークで
送らizる。ストリッf12は・ぐイロットビン86に
よって装置本体に対して固定され、メッキ用ヘッド8 
U 、 8 U’は調整ねじ84,84’によりてメッ
キすべき所定の位置に調整される。ストリッツ12の各
セグメントはこれらのメッキ用ヘッド80 、80’に
より2回メッキされる。第15図において、aで示され
た部分はメッキ用ヘッl”80によりメッキされた部分
であり、abで示された部分はメッキ用ヘッド80.8
0’によって2回メッキされた部分である。従って、こ
の実施列によれは、Hr足の厚さにメッキするのに2つ
のメッキ用ヘッド80 、80’で2回に分けてメッキ
するために、1サイクル中の純然たるメッキに要する時
間が汐に短縮され、高速でメッキすることが可能となる
2 in FIG. 14, plating heads 80 of the same length,
80' are longitudinally arranged in tandem, and each plating head 80.80' is capable of partially plating a predetermined number of segments of strips 120 (for convenience of explanation, four segments are shown) in one cycle. Also, the strip 7'12 is fed with the same four-segment stroke. The strip f12 is fixed to the main body of the apparatus by a pilot bin 86, and is attached to the plating head 8.
U and 8 U' are adjusted to predetermined positions to be plated by adjusting screws 84 and 84'. Each segment of strip 12 is plated twice by these plating heads 80, 80'. In FIG. 15, the part indicated by a is the part plated by the plating head 80.8, and the part indicated by ab is the part plated by the plating head 80.8.
This is the part plated twice with 0'. Therefore, according to this implementation sequence, the time required for pure plating in one cycle is reduced because the two plating heads 80 and 80' perform plating twice in order to plate to a thickness of Hr feet. This shortens the length and allows for high-speed plating.

第16図においても、同一長さのメッキ用ヘッド80 
、80’が長手方向にタンデムに配置され、かつ各メッ
キ治具s o 、 s o’は1サイクルでストリッツ
12の所定数のセグメント分(説明の便宜上、4つのセ
グメント分について示す)の部分メッキを受けもつ。し
かし、これらのメッキ用ヘッド80 、80’間には、
8つのセグメント部の間隔があけてあり、かつストリッ
プ12は第14図の場合の2倍のストローク、即ち8セ
グメント分のストロークで送られる。従って、これらの
メッキ治具80,80’によりストリッツ12は4つの
セグメントずつ交互にメッキされることとなる。第17
図において、aがメッキ用ヘッド8oでメッキされた部
分、bがメッキ用ヘッド80’でメッキされた部分であ
る。
Also in FIG. 16, the plating head 80 has the same length.
. Responsible for However, between these plating heads 80 and 80',
The eight segments are spaced apart, and the strip 12 is fed in twice the stroke as in FIG. 14, or eight segments. Therefore, the strips 12 are alternately plated in four segments using these plating jigs 80 and 80'. 17th
In the figure, a indicates a portion plated by the plating head 8o, and b indicates a portion plated by the plating head 80'.

第16図および第17図に示した後者の実施列は第14
図およびi15図に示した前者の実施例に比べて次の点
で有利である。すなわち、(1)1サイクル中のメッキ
に要する時間が前者の場合より長いとしても、1サイク
ル毎にストリッツを送る長さが前者の場合の2倍である
ため、全体としてメッキに委する時間が短縮される。(
2)前者の場合は1回目のメッキの上に2回目のメッキ
を重ねるため、全く同じ位置にメッキを施すことは困難
で、多少でもずれが生じるため位置精度が低いが、後者
の場合は1回のメッキでよいのでメッキの位置精度が良
好である。
The latter implementation column shown in FIGS. 16 and 17 is
This embodiment has the following advantages over the former embodiment shown in FIGS. In other words, (1) Even if the time required for plating in one cycle is longer than in the former case, the length of sending strips in each cycle is twice that in the former case, so the overall time spent on plating is shorter than in the former case. be shortened. (
2) In the former case, the second plating is layered on top of the first plating, so it is difficult to plate in the exact same position, and even a slight deviation occurs, resulting in low positional accuracy; however, in the latter case, The positional accuracy of the plating is good because it only needs to be plated twice.

メッキ速度を・上げるためにメッキヘッドを長くすると
、メッキヘッドの熱膨張による伸縮が大きくなシメッキ
の位置精度が低下するので、メッキヘッドの長さには制
約がある。従って、上述のようにメッキヘッドを2個又
はそれ以上使用することによシメッキ速度を上昇させる
ことができる。
If the plating head is lengthened in order to increase the plating speed, the positional accuracy of the plating will decrease as the plating head expands and contracts due to thermal expansion, so there are restrictions on the length of the plating head. Therefore, the plating speed can be increased by using two or more plating heads as described above.

一般にn個のメッキヘッドを使用すり、ば約1倍のスビ
ードアッノを図ることができる。
Generally, by using n plating heads, it is possible to achieve about 1 times the speed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の部分メッキ装置の工程の概略を示した
図、第2図はリードフレームとして構成された長尺帯状
の金属ストリッツの平面図、第3図はストリッツ供給部
およびたるみ部の斜視図、第4図はたる与ないし1晃さ
の検出回路、第5図は第4図の高さ検出回路の信号波形
を示す図、第6図は定張力機構の第−実施列の平面図、
第7図は同側面図、第8図は定張力機構の第二実施例の
平面図、第9図は同側面図、第10図はアー7ムを揺動
させるシリンダの断面図、第11図は定張力機t4の第
三実施[+lの平面図、第12図は同側面図、第13図
は連続送り部分と間けつ送シ部分のフィードバック速度
同期装置の概略図、第14図はメッキ治具の配列の第−
実施列の概1晒図、第15図は同実7iiii列により
メッキを施したストリップの概略図、第16図はメッキ
治具の配列の第二実施列の概略図、第17図は同実施列
によシメッキを施したストリップの概略図である。 A・・・ストリップ供給部、B・・・たるみ検出部、C
・・・前処理連続送り部、D・・・部分メッキ部、E・
・・後処理連続送シ部、F・・・たるみ部、G・・・ス
トリップ収納部、■(l v f(2・・・定張力機構
、10・・・リール、12・・・ストリップ、20・・
・高さ検出センサ、22・・・高さ検出回路、31・・
・0J動ローラ、32,33・・・固定ローラ、34・
・・アーム。 第4図 第5図 S2−一一一一一一一一一一一 +−−−1酔−瞥 第10図 第12図 手続補正書(自発) 昭和59年6月15日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 1、事件の表示 昭和59年特許願第045616号 2、発明の名称 長尺金属ストリ、7°の部分メッキ装置3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 名 称 新光電気工業株式会社 4、代理人 住所 〒105東京都港区虎ノ門−丁目8番10号5、
補正の対象 (1)明細書の「特許請求の範囲」の欄(2)明細書の
「発明の詳細な説明」の欄(3)明細書の「図面の簡単
な説明」の欄(4)図面(第3図) 6、補正の内容 (1) 特許請求の範囲を別紙のとおシ補正する。 (2)発明の詳細な説明の欄 イ)明細書7頁4〜5行目 [間けつ送り部分でス) IJッグが停止している間、
連続送シ部分ではストリップに一定の張力が与えられて
いるのが望ましい。また、」を削除する。 口)同頁8行目 「必要がある。」を、 「必要があシ、ストリップには一定の張力が与えられて
いるのが望ましい。」に補正する。 ノ→ 8頁11行目〜14行目 [ストリップ供給部から・・・・・・メッキ前処理部の
」を次のとおシ補正する。 「ストリップ供給部及び/又はストリップ収納部とスト
リップのメッキ前処理工程及び/又はメツΦ後処理工程
の連続送シ部との間のス) IJッゾにたるみ部を設け
、ストリップ供給部又はストリップ収納部のストリップ
の繰シ出し速度又は巻取り速度とメッキ前処理部又はメ
ッキ後処理部の」→ 8頁20行目〜9頁1行目 「連続送シ部における」を削除する。 ホ)9頁14行目〜17行目 「ストリップを連続送シから・・・・・・間けつ送り中
に」を、 「ストップを間けつ送9すると共に間けつ送シ中に」に
補正する。 へ)10頁1行目 「含んで成り、」と「前記ストリップ」との間に、 「ストリップの連続送シと間けつ送りとを相互に変換す
る手段を備え、」を挿入する。 ト) 13頁3行目 「検出回路22」を 「検出回路22の一例」に補正する。 チ)21頁15行目 [θ、〉θ2ならv>rJを 「θ、〈θ2ならv)7Jに補正する。 。 す)同頁17行目 「θ、〉θ2ならv<7Jに補正する。 (3)明細書26頁16行目 「検出回路」を「検出回路例」に補正する。 (4)別紙添付図面に朱書で示すように、図面の第3図
に符号r124Jおよびその引出線を追加する。 7、添付書類の目録 補正特許請求の範囲 1通 補正図面(第31’l) 1通 2、特許請求の範囲 1.長尺状の金属ストリップがその長さ方向に送られる
間に、該ストリ、76に長さ方向一定間隔おきに部分メ
ッキを施す装置であって、ストリップの送り方向順に、
リールに巻回されたストリップを繰り、出すストリップ
供給手段と、ストリップを連続送りしながら処理するメ
ッキ前処理手段と、ストリップを間けつ送シすると共に
間けつ送シ中に停止している間、ストリップに部分メッ
キを施すメッキ手段と、再度ストリップを連続送シしな
がら処理するメッキ後処理手段と、処理後のストリップ
をリールに巻回するストリップ収納手段とゾの各連続送
υ部と間けつ送シ部との間には、該ストリップを少なく
とも1つの固定ローラと少なくとも1つのテンションロ
ーラを経由させることによυストリップの張力を一定に
維持する定張力機構が配置され、該定張力機構のテンシ
ョンローラの振れ位置を検出すkとによシ、各連続送シ
部と間欠送9部の送り速度を同期する手段を具備するこ
とを特徴とする部分メッキ装置。 2、ストリップ供給手段及び収納手段の両方又は一方は
、ストリップを巻回したリールを回転する駆動モータを
含み、該駆動モータは、該ストリップ供給及び/又は収
納手段と前記メッキ前処理手段及び/又はメッキ後処理
手段との間に形成されるストリ、fのたるみが一定の範
囲内になるように回転制御される特許請求の範囲第1項
記載の装置。 3、ストリップのたるみが、一定の高さ範囲内になるよ
うに制御する前記手段は、ストリップのたるみを検出す
る検出手段を含み、該検出手段は、ス) IJッグの進
行方向の一定位置における該ストIJ、7’の高さを検
出する非接触型検出器と、該検出器からの尖頭波信号を
受け、該尖頭波信号のピークを時間差をおいてJ@次ホ
ールドする2つのピークホールド回路と該2つのピーク
ホールド回路の出力を選択切換する一対のスイッチとを
含んで成る特許請求の範囲第2項記載の装置。 4、定張力機構は、所定の間隔をおいて配置した2つの
固定ローラと、該2つの固定ローラの少なくとも一方の
軸心まわシに揺動可能に設けたアームと、該アームの自
由端に回転可能に取り付けたテンションローラとを含み
、ストリップを一方の固定ローラからテンションローラ
を経由して他方の固定ローラへ係合せしめ、該ストリッ
プに張力を与える方向に前記アームをその中心軸に関し
て一定の力で回転付勢する手段を具備して成る特許請求
の範囲第1項記載の装置。 5、定張力機構は、所定の間隔をおいて配置した2つの
固定ローラと、該2つの固定ローラ間の任意の固定中心
軸まわシに揺動可能に設けたアームと、前記固定中心軸
に関する該アームの両端にそれぞれ回転可能に設けたテ
ンションローラとを含んで成り、ストリップを一方の固
定ローラからこれらの2つのテンションローラを経由し
て他方の固定ローラへ係合せしめ、該ストリップに張力
を与える方向に前記アームをその中心軸に関して一定の
力で回転付勢す9段を具備して成る特許請求の範囲第1
項記載の装置。 6、前記アームは空圧揺動機構によって、ストリップに
張力をかける方向に一定の力で回転付勢されている特許
請求の範囲第4項又は第5項記載の装置。 7、定張力機構は、少なくとも1つの固定ローラと、直
線上を振れ移動することが可能な少なくとも1つのテン
ションローラとを含み、ストリップを該固定ローラとテ
ンションローラとを経由させ、該ストリップに張力を与
える前記直線上の方向に前記アームを一定の力で付勢す
る手段を具備して成る特許請求の範囲第1項記載の装置
。 8、前記同期手段は、前記定張力機構の振れ運動するテ
ンションローラの位置が所定の範囲内に来るように前記
連続送システーションにおけるストリップの送)速度を
フィードバック制御する手段を具備する特許請求の範囲
第1項記載の装置。 9、ストリップは長手方向に連続的につながったセグメ
ントを有し、該ストリップに部分メッキを施す前記メッ
キ手段は、ストリップの長手方向に縦列に並んだ同一の
長さの少なくともn個のメツキ用ヘッドを具備し、各メ
ッキ用ヘッドは1つのサイクルで同時に複数の前記セグ
メントの部分メッキを施し、各メッキ用ヘッドが同時に
メッキを施す前記複数のセグメントに対応するストリッ
プの距離をtとしたとき、前記ストリップは1サイクル
と・とに長さnLだけ送られると共に、各メッキ用ヘッ
ドはそれらの隣接する端部間がnlの距離だけ相互に離
間して配置されている特許請求の範囲第1項記載の装置
◎ 72字
Fig. 1 is a diagram showing an outline of the process of the partial plating apparatus of the present invention, Fig. 2 is a plan view of a long strip-shaped metal strip configured as a lead frame, and Fig. 3 is a diagram showing the strip supply section and the slack section. FIG. 4 is a perspective view, FIG. 4 is a diagram showing the signal waveform of the height detection circuit in FIG. 4, and FIG. 6 is a plane view of the first implementation row of the constant tension mechanism. figure,
7 is a side view of the same, FIG. 8 is a plan view of the second embodiment of the constant tension mechanism, FIG. 9 is a side view of the same, FIG. 10 is a sectional view of the cylinder for swinging the arm 7, and FIG. The figure shows a plan view of the third implementation [+l] of the constant tension machine t4, FIG. The first part of the plating jig arrangement
Figure 15 is a schematic diagram of the strip plated by the same row 7iii, Figure 16 is a schematic diagram of the second array of the plating jig arrangement, and Figure 17 is the same diagram. FIG. 2 is a schematic diagram of a strip plated in rows; A...Strip supply section, B...Sag detection section, C
... Pre-treatment continuous feeding section, D... Partial plating section, E.
... Post-processing continuous feeding section, F... Slack section, G... Strip storage section, ■(l v f (2... Constant tension mechanism, 10... Reel, 12... Strip, 20...
・Height detection sensor, 22... Height detection circuit, 31...
・0J moving roller, 32, 33...fixed roller, 34・
··arm. Figure 4 Figure 5 S2-111111111 +---1 Drunken Eye Figure 10 Figure 12 Procedural amendment (voluntary) June 15, 1980 Commissioner of the Japan Patent Office Waka Kazuo Sugi 1, Indication of the case 1982 Patent Application No. 045616 2, Name of the invention: Long metal strip, 7° partial plating device 3, Person making the amendment Relationship with the case Patent applicant name: Shinko Electric Industry Co., Ltd. Co., Ltd. 4, agent address: 8-10-5, Toranomon-chome, Minato-ku, Tokyo 105
Target of amendment (1) “Claims” column in the specification (2) “Detailed description of the invention” column in the specification (3) “Brief description of drawings” column in the specification (4) Drawing (Figure 3) 6. Contents of amendment (1) The scope of the claims will be amended as a separate sheet. (2) Detailed Description of the Invention Column A) Page 7 of the Specification, Lines 4-5 [S in the intermittent feed section] While the IJ is stopped,
Preferably, the strip is under constant tension in the continuous feeding section. Also, delete ". (Example) In line 8 of the same page, amend "It is necessary." to "It is necessary, and it is desirable that a certain tension is applied to the strip."ノ → Page 8, lines 11 to 14 [From the strip supply section... to the plating pretreatment section] is corrected as follows. ``The gap between the strip supply section and/or the strip storage section and the continuous feeding section of the strip plating pre-treatment process and/or the metal Φ post-treatment process). ``The feeding speed or winding speed of the strip in the storage section and the pre-plating treatment section or the post-plating treatment section''-> Delete ``in the continuous feeding section'' from page 8, line 20 to page 9, line 1. E) On page 9, lines 14 to 17, "The strip is moved from continuous feeding to...during intermittent feeding" is corrected to "The stop is changed to intermittent feeding 9 and during intermittent feeding." do. f) In the first line of page 10, between "comprising" and "the strip," insert "comprising means for mutually converting between continuous feeding and intermittent feeding of the strip." g) On page 13, line 3, "detection circuit 22" is corrected to "an example of detection circuit 22". h) Page 21, line 15, if [θ, > θ2, then v>rJ is corrected to ``θ, <θ2, then v) 7J.'' Page 21, line 17, ``If θ, > θ2, then v<7J is corrected. (3) "Detection circuit" on page 26, line 16 of the specification is corrected to "detection circuit example." (4) As shown in red ink on the attached drawing, the code r124J and its leader line are added to Figure 3 of the drawing. 7. List of attached documents Amended claims 1 copy Amended drawings (No. 31'l) 1 copy 2. Claims 1. An apparatus for partially plating a long metal strip 76 at regular intervals in the longitudinal direction while the strip is being fed in the longitudinal direction, and in the order of the feeding direction of the strip,
a strip supply means for reeling out a strip wound on a reel; a plating pretreatment means for processing the strip while continuously feeding it; and a plating pretreatment means for feeding the strip intermittently and stopping during the intermittent feeding; A plating means for partially plating the strip, a post-plating treatment means for processing the strip while continuously feeding it again, a strip storage means for winding the treated strip around a reel, and a plating means for partially plating the strip. A constant tension mechanism that maintains the tension of the υ strip at a constant level by passing the strip through at least one fixed roller and at least one tension roller is disposed between the feeding section and the constant tension mechanism. A partial plating apparatus characterized by comprising means for detecting the deflection position of the tension roller and for synchronizing the feed speed of each continuous feed section and the intermittent feed section. 2. Both or one of the strip supply means and the storage means includes a drive motor that rotates a reel wound with the strip, and the drive motor is connected to the strip supply and/or storage means and the plating pretreatment means and/or 2. The apparatus according to claim 1, wherein the rotation is controlled so that the slack of the strip, f, formed between the plating post-processing means and the plating post-processing means is within a certain range. 3. The means for controlling the slack of the strip to be within a certain height range includes a detecting means for detecting the slack of the strip, and the detecting means is arranged at a certain position in the direction of movement of the IJ. a non-contact type detector that detects the height of the strike IJ, 7' at , and a non-contact detector that receives a peak wave signal from the detector and holds the peak of the peak wave signal with a time difference J @ order 2 3. The apparatus according to claim 2, comprising: one peak hold circuit and a pair of switches for selectively switching outputs of the two peak hold circuits. 4. The constant tension mechanism includes two fixed rollers arranged at a predetermined interval, an arm swingably provided around the axis of at least one of the two fixed rollers, and a free end of the arm. and a rotatably mounted tension roller for engaging the strip from one fixed roller through the tension roller to the other fixed roller, and moving said arm at a constant angle about its central axis in a direction to tension the strip. 2. An apparatus according to claim 1, further comprising means for biasing rotation by force. 5. The constant tension mechanism includes two fixed rollers arranged at a predetermined interval, an arm provided swingably around an arbitrary fixed central axis between the two fixed rollers, and a mechanism related to the fixed central axis. tension rollers rotatably provided at both ends of the arm, the strip is engaged from one fixed roller to the other fixed roller via these two tension rollers, and tension is applied to the strip. Claim 1 comprising nine stages for rotationally biasing the arm in a direction in which the arm is rotated with a constant force about its central axis.
Apparatus described in section. 6. The device according to claim 4 or 5, wherein the arm is rotationally biased by a pneumatic swinging mechanism with a constant force in a direction that applies tension to the strip. 7. The constant tension mechanism includes at least one fixed roller and at least one tension roller capable of swinging movement on a straight line, passes the strip through the fixed roller and the tension roller, and applies tension to the strip. 2. The apparatus according to claim 1, further comprising means for biasing said arm with a constant force in a direction on said straight line that provides a constant force. 8. The synchronizing means comprises means for feedback controlling the strip feeding speed in the continuous feeding station so that the position of the oscillating tension roller of the constant tension mechanism is within a predetermined range. The device according to scope 1. 9. The strip has segments continuously connected in the longitudinal direction, and the plating means for partially plating the strip includes at least n plating heads of the same length arranged in a column in the longitudinal direction of the strip. each plating head performs partial plating on a plurality of the segments at the same time in one cycle, and where t is the distance of the strip corresponding to the plurality of segments that each plating head simultaneously plating, Claim 1, wherein the strip is fed by a length nL in one cycle and each plating head is spaced apart from each other by a distance nl between their adjacent ends. device ◎ 72 characters

Claims (1)

【特許請求の範囲】 ■、長尺状の金属ストリッツがその長さ方向に送られる
間に、該ストリップに長さ方向−尾間隔おきに部分メッ
キを施す装置であって、ストリップの送シ方向順に、リ
ールに巻回されたストリッfを繰り出すストリッツ供給
手段と、ストリップを連続送りしながら処理するメッキ
前処理手段と、ストリップを連続送シから間けつ送りに
変換し、これら連続送シと間けつ送シとを同期させる手
段と、該ス) IJッグが間けつ送す中に停止している
間、ストリッツに部分メツキラ施すメッキ手段と、スト
リッジ収納手段とを含んで成り、前記ストリップの各連
続送9部と間けつ送9部との間には、該ストリッツ°を
少なくとも1つの固定ローンと少なくとも1つのテン7
ヨンローラを紅白させることによりストリッツの張力を
一定に維持する定張力機構が配置され、該定張力機構の
テンションローラの振れ位置を検出することにより、各
連続送り部と間欠送り部の送り速度を同期する手段を具
処理手段との間に形成されるストリップのたるみが一定
の範囲内になるように回転制御される特許請求の範囲第
1項記載の装置。 3、ストリップのたるみが、一定の高さ範囲内になるよ
うに制御する前記手段は、ストリップのたるみを検出す
る検出手段を會み、該検出手段は、ストリッツの進行方
向の一定位置における該ストリップの高さ全検出する非
接触型検出器と、該検出器からの尖頭波信号を受け、該
尖頭波信号のピークを時間差音おいて順次ホールドする
2つのピークホールド回路と該2つのピークホールド回
路の出力を選択切戻する一対のスイッチとヲ言んで成る
特許請求の範囲第2項記載の装置。 4.定張力機構は、所定の間隔をおいて配置した2つの
固定ローラと、該2つの固定ローラの少なくとも一方の
軸心まわりに揺動可能に設けたアームと、I按アームの
自由端に回転自工能に取り付けたテンションローラとt
含み、ストリッツを一方の固定ローラからテンションロ
ーラ全経由して他方の固定ローラへ保合せしめ、該スト
リップに張力を与える方向に前記アームをその中心軸に
関して一定の力で回転付勢する手段を具備して成る特許
請求の範囲第1項記載の装置。 5、定張力機構は、所定の間隔をおいて配置した2つの
固定ローラと、該2つの固定ローラ間の任意の固定中心
軸まわりに揺動0工能に設けたアームと、前記固定中心
軸に関する該アームの両端にそれぞれ回転iiJ能に設
けたテンションローラとを言んで成り、ストリップを一
方の固定ローラからこれらの2つのテンションローラf
H由して他方の固定ローラへ係合ぜしめ、該ストIJッ
グに張力を与える方向に前記アーム荀その中心軸に関し
て一定の力で回転付勢する手段を具備して成る特許請求
の範囲第1項記載の装置。 6、前記アームは空圧揺動機(14によって、ストリッ
ツに張力をかける方向に一定の力で回転付勢されている
特許請求の範囲第4項又は第5項記載の装置4゜ 7、 定張力機構は、少なくとも1つの固定ローラと、
直線上を振れ移動することが0]′能な少なくとも1つ
のテンションローラとヲ含み、ストリッツを該固定ロー
ラとテンションローラと全経由させ、葭ストリッツに張
力を与える前記直線上の方向に前記アームを一定の力で
付勢する手段を具(1fifして取る特許請求の範囲第
1項記載の装置。 8、前記同期手段は、前記定張力機構の振れ運動するテ
ンションローラの位置が所定の範囲内に来るように前記
連続送りステーションにおけるスートリップの送り速度
全フィードバックt[+lJ御する手段ヶ具備する特許
請求の範囲第1項記載の装置。 9、 ストリッツは長手方向に連続的につながったセグ
メントを有し、該ストリップに部分メッキを施す前記メ
ッキ手段は、ストリッツの長手方向に縦列に並んだ同一
の長さの少なくともn個のメッキ用ヘッドを具備し、各
メッキ用ヘッドは1つのサイクルで同時に複数の前記セ
グメントの部分メッキ全施し、各メッキ用ヘッドが同時
にメッキfeltす前記複数のセグメントに対応するス
) l)ッゾの距離をtとしたとき、前記ストリッツは
1サイクルごとに長さntだけ送られると共に、各メッ
キ用ヘッドはそノLらの隣接する端部間がntの距離だ
け相互に雅量して配置されている特許請求の範囲第1項
記載の装置。
[Claims] (1) An apparatus for partially plating a long metal strip at intervals in the lengthwise direction while the strip is being fed in the lengthwise direction, the device comprising: In order, there is a strip supply means for feeding out the strip wound on a reel, a plating pretreatment means for treating the strip while continuously feeding it, and a plating pretreatment means for converting the strip from continuous feeding to intermittent feeding, and converting the strip from continuous feeding to intermittent feeding. plating means for partially plating the strips while the IJ is stopped during interfeeding; and means for storing the strips; Between each 9 parts of continuous feed and 9 parts of intermittent feed, the strips are connected to at least one fixed loan and at least one ten 7 part.
A constant tension mechanism is installed that maintains the tension of the strips at a constant level by turning the tension roller red and white, and by detecting the deflection position of the tension roller of the constant tension mechanism, the feed speeds of each continuous feed section and intermittent feed section are synchronized. 2. The apparatus according to claim 1, wherein the rotation of the strip formed between the strip processing means and the processing means is controlled so that the slack is within a certain range. 3. The means for controlling the slack of the strip to be within a certain height range includes a detecting means for detecting the slack of the strip, and the detecting means detects the slack of the strip at a certain position in the traveling direction of the strip. a non-contact type detector that detects the entire height of the peak wave signal, two peak hold circuits that receive the peak wave signal from the detector and sequentially hold the peaks of the peak wave signal with a time difference, and the two peaks. 3. The device according to claim 2, comprising a pair of switches for selectively switching back the output of the hold circuit. 4. The constant tension mechanism includes two fixed rollers arranged at a predetermined interval, an arm swingably provided around the axis of at least one of the two fixed rollers, and a rotatable arm attached to the free end of the I-arm. Tension roller and t attached to the tool
and retains the strip from one fixed roller through the tension roller to the other fixed roller, and includes means for urging the arm to rotate with a constant force about its central axis in a direction that applies tension to the strip. An apparatus according to claim 1, comprising: 5. The constant tension mechanism consists of two fixed rollers arranged at a predetermined interval, an arm provided with zero swinging around an arbitrary fixed central axis between the two fixed rollers, and the fixed central axis. tension rollers rotatably provided at both ends of the arm, respectively, and the strip is moved from one fixed roller to these two tension rollers f.
Claims further comprising means for engaging the other fixed roller through the arm arm and urging the arm shaft to rotate with a constant force about its central axis in a direction that applies tension to the arm arm. The device according to paragraph 1. 6. The device according to claim 4 or 5, wherein the arm is rotated by a pneumatic rocker (14) with a constant force in the direction of applying tension to the strips. 7. Constant tension The mechanism includes at least one fixed roller;
at least one tension roller capable of swinging on a straight line, the strip passes through the fixed roller and the tension roller, and the arm is moved in the direction of the straight line to apply tension to the strip. 8. The device according to claim 1, which includes means for biasing with a constant force (1f); 9. The apparatus according to claim 1, further comprising means for controlling the total feed rate t[+lJ of the soot lip at the continuous feed station so that the feed rate t[+lJ and the plating means for partially plating the strip comprises at least n plating heads of the same length arranged in tandem in the longitudinal direction of the strip, each plating head simultaneously plating in one cycle. Partial plating of a plurality of segments is fully applied, and each plating head simultaneously plating the segments corresponding to the plurality of segments; 2. The apparatus of claim 1, wherein the plating heads are spaced apart from each other by a distance of nt between their adjacent ends.
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JPS62144257U (en) * 1986-02-28 1987-09-11
JPH01134669U (en) * 1988-03-09 1989-09-13
JP2011037558A (en) * 2009-08-07 2011-02-24 Sinfonia Technology Co Ltd Method for calculating winding diameter of sheet body, method for controlling conveyance of sheet, and printer
JP2020524214A (en) * 2017-06-08 2020-08-13 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se Roll-to-roll equipment for processing metal tape with ceramic coating

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5696099A (en) * 1979-12-28 1981-08-03 Citizen Watch Co Ltd Continuous plating apparatus for tape-shaped work

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