JPS60189709A - Photocoupler - Google Patents

Photocoupler

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Publication number
JPS60189709A
JPS60189709A JP4483084A JP4483084A JPS60189709A JP S60189709 A JPS60189709 A JP S60189709A JP 4483084 A JP4483084 A JP 4483084A JP 4483084 A JP4483084 A JP 4483084A JP S60189709 A JPS60189709 A JP S60189709A
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JP
Japan
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film
grating
substrate
cumulative
monomolecular
Prior art date
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Pending
Application number
JP4483084A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukio Nishimura
征生 西村
Mamoru Miyawaki
守 宮脇
Tetsushi Nose
哲志 野瀬
Takashi Nakagiri
孝志 中桐
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPS60189709A publication Critical patent/JPS60189709A/en
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/26Optical coupling means
    • G02B6/34Optical coupling means utilising prism or grating
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/124Geodesic lenses or integrated gratings

Abstract

PURPOSE:To obtain a photocoupler with high precision and good efficiency by forming a light guide on which a grating is installed, and a buffer layer and a reflecting layer. CONSTITUTION:An LB film 31 having the plane type grating formed is adhered to a substrate 31. An LB film 33 is provided in recesses of the grating part of the LB film 31, and the LB film 31 and LB film 33 are in level with each other, thereby forming the phase difference type grating 36. Further, the LB films 31 and 33 have the same surface property. An LB film 34 is formed on the grating 36. The refractive index of the LB film 34 should be smaller than that of the LB film 31. The LB film 34 is made of the same material with the LB film 33 and functions as a buffer layer. The reflecting layer 35 is formed by vapor-depositing an Al film. Projection light beams 36-a and 36-b have a difference in optical path length and intensify each other when the optical path difference is an integral multiple of the wavelength. Consequently, the photocoupler with high precision and good efficiency is obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光結合器、更に詳しくは先導波路にグレーティ
ングを設置した光結合器に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an optical coupler, and more particularly to an optical coupler in which a grating is installed in a leading waveguide.

近年、光集積回路の発達に伴って、高精度で、かつ効率
の良い光結合器が望まれている。
In recent years, with the development of optical integrated circuits, there has been a demand for highly accurate and efficient optical couplers.

しかしながら、従来、所望の精度の結合器を得るために
は高度の微細加工技術を必要とするため、いきおい歩留
りの低下、したがってコスト高さを招くといった欠陥が
あった。
However, conventionally, in order to obtain a coupler with desired precision, a high degree of microfabrication technology is required, which has resulted in a drawback that the yield is lowered and, therefore, the cost is increased.

ここで従来のグレーティング型光結合器について説明す
る。第1図は従来の平面型グレーティング型光結合器の
断面図で、この図において2は基板であって1例えば、
ガラス、プラスチック又はニオブ酸リチウム(LiNb
O3)等の透明基板又はシリコン、セラミックス等の不
透明基板が用いられる。基板2の表面に光導波路1が配
設される。光導波路lは基板2よりも屈折率が高いもの
が用いられる。例えば、ニオブ酸リチウムを基板として
用いる場合には、その表面にチタン(Ti)を熱拡散す
ることによって0.5〜511.程度の膜厚の光導波路
1が得られる。或いは、屈折率が1.5のガラスを基板
として用いる場合には、その表面に屈折率が1.55 
(波長8328k )のガラス(例えば、コーニング社
商品名C−70511)をスパッタリングにより膜厚0
.5〜5ル程度に成膜し、光導波路1を得る。
Here, a conventional grating type optical coupler will be explained. FIG. 1 is a cross-sectional view of a conventional planar grating type optical coupler. In this figure, 2 is a substrate, and 1, for example,
glass, plastic or lithium niobate (LiNb)
A transparent substrate such as O3) or an opaque substrate such as silicon or ceramics is used. An optical waveguide 1 is arranged on the surface of a substrate 2. The optical waveguide l has a higher refractive index than the substrate 2. For example, when using lithium niobate as a substrate, titanium (Ti) is thermally diffused onto the surface of the lithium niobate. An optical waveguide 1 having a film thickness of about 100% can be obtained. Alternatively, if glass with a refractive index of 1.5 is used as a substrate, the surface of the glass has a refractive index of 1.55.
(wavelength 8328k) glass (for example, Corning Co., Ltd. product name C-70511) is sputtered to a film thickness of 0.
.. The optical waveguide 1 is obtained by forming a film to a thickness of about 5 to 5 μm.

6はグレーティングで、通常ピッチ0.3〜1川、深さ
0.1〜0.2PLである。このように構成された光結
合器に入射光3が入ると、導波路内を光4が全反射によ
り伝播し、グレーティング6によって回折され射出光5
がとり出される。
6 is a grating, which usually has a pitch of 0.3 to 1 PL and a depth of 0.1 to 0.2 PL. When the incident light 3 enters the optical coupler configured in this way, the light 4 propagates through the waveguide by total internal reflection, is diffracted by the grating 6, and becomes the emitted light 5.
is taken out.

この場合、一般にグレイテングの製作が困難である。平
面型はレリーフ型に比べてさらに困難である。シン−テ
ィング6の機能をより効果的に発揮するためには完全に
矩形のグレーティングが好ましいが、そのような完全矩
形のグレーティングを得ることは一般に容易でないから
である。
In this case, it is generally difficult to manufacture the grating. The planar type is more difficult than the relief type. In order to more effectively exhibit the function of the thinning 6, a completely rectangular grating is preferable, but it is generally not easy to obtain such a completely rectangular grating.

本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、製作が容易
で、かつ安価な光結合器を提供することを目的とするも
のである。
The present invention has been made in view of these points, and it is an object of the present invention to provide an optical coupler that is easy to manufacture and inexpensive.

更に、本発明は高精度で、かつ効率の良い光結合器を提
供することを目的とするものである。
A further object of the present invention is to provide a highly accurate and efficient optical coupler.

また更に、本発明はレリーフ型グレーティング1−には
構築しにくい(後述する)他の構成要素(バッファ層)
を容易に構築できるようにするため、平面型グレーティ
ングを有する光結合器を提供することを目的とするもの
である。
Furthermore, the present invention also includes other components (buffer layer) that are difficult to construct in the relief type grating 1- (described later).
An object of the present invention is to provide an optical coupler having a planar grating so that it can be easily constructed.

本発明は以下に示す単分子累積法を用いることにより、
単分子累積膜を得ることを基本とし、さらにグレーティ
ングの形式を可能にするため改良を施したものである。
The present invention uses the single molecule accumulation method shown below to
The basic idea is to obtain a monomolecular stacked film, and further improvements have been made to enable a grating format.

以下、本発明の基本となる単分子累積法およびそれによ
って形成される単分子累積膜について説明する。単分子
累積法とは水面上に形成した単分子膜を基板表面に移し
取り、1枚ずつ重ねて超薄膜を作る方法であり、発明者
にちなんでラングミュア・ブロジェー7 ト(LB)法
とも呼ばれる。
Hereinafter, the single molecule accumulation method which is the basis of the present invention and the single molecule accumulation film formed thereby will be explained. The monomolecular accumulation method is a method in which a monomolecular film formed on the water surface is transferred to the surface of a substrate and layered one by one to form an ultra-thin film.It is also called the Langmuir-Blodget (LB) method after the inventor. .

ここで、単分子膜とは一分子の厚さの均一な膜をいい、
これを累積した膜を累積膜という。
Here, a monomolecular film refers to a uniform film with a thickness of one molecule,
A film in which this is accumulated is called a cumulative film.

かかる単分子膜及び累積膜を構成する分子は必ず同一化
学構造内に少なくとも疎水性部分と親木性部分とを併有
していることが必要である。疎水性部分として最も代表
的なものは長鎖アルキル基であって、一般に炭素数が5
〜30位いのものが用いられるが、好ましくは、炭素数
10〜25位いである。又、アルキル鎖の長さが適当で
あれば、直鎖状アルキル基、及び枝わかれ状アルキル基
、共に有用である。その他の疎水性部分を構成する基と
しては、例えば、ビニレン、ビニリデン、アセチレン等
のオレフィン系炭化水素基、フェニル、ナフチル、アン
トラニルの如き縮合多環フェニル基、ビフェニル、ター
フェニル、等の鎖状多速フェニル基等があり、これらは
各々単独又は複数の組合せによる場合や一ヒ述のアルキ
ル基の末端や中間に位置している場合もある。親木性部
分として最も代表的なものは、例えば、カルボキシル基
及びその金属塩並びにアミン塩、スルホン酸基及びその
金属塩並びにアミン塩、スルホンアミド基、アミド基、
アミン基、イミノ基、ヒドロキシル基、4級アミン基、
オキシイミノ基、オキシイミノ基、ジアゾニウム基、グ
アニジン基、ヒドラジン基、リン酸基、ケイ酸基、アル
ミン酸基、等がある。しかしながら疎水性部分と親木性
部分との任意の組合せで、常に単分子膜及び累積膜が形
成されるとは限らない。単分子累積法によって単分子膜
及び累積膜を得るためには、後述のように作製工程上、
まず水面上に単分子膜を形成させなければならないが、
もし、疎水性よりも親水性の方が強ければ分子は水に溶
解して水溶液となり逆に疎水性の方が勝てば2相に分離
する。水面上で単分子膜ができるのは疎水性と親木性が
適度に釣合うときである。そのとき分子は全体として浮
きも沈みもせず、親木性部分を水相に向けて気水界面に
吸着されて単分子膜を形成する。したがって、単分子膜
及び累積膜を構成する分子は疎水性部分と親水性部分が
適度にバランスしていることが要求される。
The molecules constituting such a monomolecular film and a cumulative film must necessarily have at least a hydrophobic part and a woody part in the same chemical structure. The most typical hydrophobic moiety is a long-chain alkyl group, which generally has 5 carbon atoms.
Those having a carbon number of 10 to 25 are used, preferably 10 to 25. Furthermore, both straight-chain alkyl groups and branched alkyl groups are useful as long as the length of the alkyl chain is appropriate. Examples of groups constituting other hydrophobic moieties include olefinic hydrocarbon groups such as vinylene, vinylidene, and acetylene, condensed polycyclic phenyl groups such as phenyl, naphthyl, and anthranyl, and chain polycyclic groups such as biphenyl and terphenyl. There are phenyl groups, etc., and these may be used alone or in combination, or may be located at the end or in the middle of the alkyl group mentioned above. The most typical wood-philic moieties include, for example, carboxyl groups and their metal salts and amine salts, sulfonic acid groups and their metal salts and amine salts, sulfonamide groups, amide groups,
Amine group, imino group, hydroxyl group, quaternary amine group,
Examples include oximino group, oximino group, diazonium group, guanidine group, hydrazine group, phosphoric acid group, silicate group, aluminate group, and the like. However, a monomolecular film and a cumulative film may not always be formed with any combination of hydrophobic portions and lignophilic portions. In order to obtain a monomolecular film and a cumulative film by the monomolecular accumulation method, the following steps are required in the production process, as described below.
First, a monomolecular film must be formed on the water surface,
If hydrophilicity is stronger than hydrophobicity, the molecule dissolves in water and becomes an aqueous solution; conversely, if hydrophobicity is stronger, it separates into two phases. A monomolecular film is formed on the water surface when hydrophobicity and phyllophilicity are appropriately balanced. At this time, the molecules as a whole do not float or sink, but instead direct their woody parts toward the water phase and are adsorbed at the air-water interface, forming a monomolecular film. Therefore, the molecules constituting the monomolecular film and the cumulative film are required to have an appropriate balance of hydrophobic and hydrophilic parts.

つぎに第2図(A)、 (B)を参照してLB膜製作装
置および製作方法について説明する。ここでLB膜とは
単分子累積法によって作製された単分子膜および累積膜
をいう。第2図(A)(B)に例示したLB膜製作装置
は、前述のラングミュアブロジェット法(LB法)の原
理に基づき、Kuhnの研究グループが考案したもので
ある。浅くて広い角型水槽14の内側にポリプロピレン
酸の枠15が水平ニ吊ってあり、水面23を仕切ってい
る。枠15は後述のように2次元シリンダーとして機能
する。枠15の内側にはポリプロピレン酸の浮子16が
浮かべられている。浮子16の幅は枠15の内側より僅
かに狭く作ってあり2次元ピストンとして左右に滑らか
に動けるようになっている。浮子16を右方に引張るた
めに滑車18を介しておもり17が結びつけられている
。浮子1Bを停めたり左方に押し戻すのは−般に磁石の
反発力が利用される。そのために、浮子16トに固定し
た磁石19と左右に動かせる対磁石20が設けられてい
る。即ち、押し戻すときは、対磁石20を磁石19に近
づければ、斥力が働き、浮子16は押し戻される。
Next, the LB film manufacturing apparatus and manufacturing method will be explained with reference to FIGS. 2(A) and 2(B). Here, the LB film refers to a monomolecular film and a cumulative film produced by a single-molecule accumulation method. The LB film manufacturing apparatus illustrated in FIGS. 2A and 2B was devised by Kuhn's research group based on the principle of the Langmuir-Blodgett method (LB method) described above. A polypropylene acid frame 15 is hung horizontally inside a shallow and wide rectangular water tank 14 to partition a water surface 23. The frame 15 functions as a two-dimensional cylinder as described below. A polypropylene acid float 16 is floated inside the frame 15. The width of the float 16 is made slightly narrower than the inside of the frame 15 so that it can move smoothly from side to side as a two-dimensional piston. A weight 17 is connected via a pulley 18 to pull the float 16 to the right. Generally, the repulsive force of a magnet is used to stop the float 1B or push it back to the left. For this purpose, a magnet 19 fixed to the float 16 and a pair of magnets 20 that can be moved left and right are provided. That is, when pushing back the float 16, if the counter magnet 20 is brought close to the magnet 19, a repulsive force acts and the float 16 is pushed back.

このようなおもりや磁石19.20の代りに、回転モー
タやプーリーを用いて直接浮子16を左右に動かすこと
も可能である。左右の吸引ノズル22はそれぞれ吸引パ
イプ21を介して不図示の吸引ポンプに接続される。単
分子累積法に於いては単分子膜、累積膜の内部に不純物
の混入を防止するために、清浄な純水が使用されるが、
水面23の清掃や不要になった単分子膜の迅速除去に不
図示の吸引ポンプ及び吸引ノズル22が活用される。そ
の場合、浮子16で不要になった単分子層等を掃き寄せ
ながら、吸引ノズル22で迅速にするり出すことによっ
て水面23を浄化する。
Instead of such weights and magnets 19, 20, it is also possible to directly move the float 16 from side to side using a rotary motor or pulley. The left and right suction nozzles 22 are connected to a suction pump (not shown) via suction pipes 21, respectively. In the monomolecular accumulation method, clean pure water is used to prevent impurities from entering the monomolecular film and the cumulative film.
A suction pump and a suction nozzle 22 (not shown) are used to clean the water surface 23 and quickly remove unnecessary monomolecular films. In that case, the water surface 23 is purified by sweeping up the unnecessary monomolecular layer and the like with the float 16 and quickly pushing it out with the suction nozzle 22.

こうして、清浄になった水面23の左端に浮子16を寄
せて〜 5X 10−3+mol/lの濃度で、ベンゼ
ン・クロロホルム等の揮発性溶媒に溶かした薄い膜構成
物質の溶液を数滴水面にたらすと、溶媒が揮発したあと
に単分子膜が水面23ヒに残される。この単分子膜は水
面23七で2次元系の挙動を示す。分子の面密度が低い
ときは2次元気体の気体膜と呼ばれ、−分子あたりの占
有面積と表面圧との間に2次元理想気体の状態方程式が
成立する。占有面積と表面圧は不図示の測定器によって
自動的かつ持続的に計測される。占有面積及びその変化
量は浮子16の左右の動きからめられる。表面圧の測定
器としては純水及び単分子膜でおおわれた水面の表面張
力の差から間接的にめる方法を応用したもの、純水表面
と単分子膜面を区切るように浮かべた浮子16にかかる
2次元的圧力を直接測定するもの等があり、それぞれ特
色がある。気体膜の状態から、徐々に浮子16を右方に
動かし単分子膜が展開する水面の広がりを次第に縮めて
面密度を増してゆくと、分子間相互作用が強まり、2次
元液体の液体膜をへて2次元固体の固体膜へと変わる。
In this way, the float 16 is brought to the left end of the purified water surface 23, and a few drops of a thin solution of the membrane constituent material dissolved in a volatile solvent such as benzene or chloroform at a concentration of ~5X 10-3 + mol/l are dropped onto the water surface. After the solvent evaporates, a monomolecular film is left on the water surface. This monomolecular film exhibits the behavior of a two-dimensional system at the water surface. When the areal density of molecules is low, it is called a gas film of a two-dimensional gas, and a two-dimensional ideal gas equation of state is established between the occupied area per molecule and the surface pressure. The occupied area and surface pressure are automatically and continuously measured by a measuring device (not shown). The occupied area and the amount of change thereof can be determined from the left and right movement of the float 16. The surface pressure measuring device uses a method to measure the surface pressure indirectly from the difference in surface tension between pure water and the water surface covered with a monomolecular film, and a float 16 floating to separate the pure water surface and the monomolecular film surface. There are methods that directly measure the two-dimensional pressure applied to the surface, and each has its own characteristics. From the state of a gas film, when the float 16 is gradually moved to the right to gradually reduce the expanse of the water surface on which the monomolecular film develops and increase the surface density, the intermolecular interaction becomes stronger and the liquid film of the two-dimensional liquid is formed. Then it turns into a two-dimensional solid film.

該固体膜になると、分子の配列耐高はきれいにそろい、
光学材料に要求される高度の秩序性及び均一な超薄膜性
をもつにいたる。而して、該固体膜の状態を維持したま
ま、該単分子膜を清浄な基板24(例えば、ガラス、セ
ラミック、プラスチック又は金属等の基板が用いられる
)の表面に移すことが可能となる。基板24に付着した
単分子膜の上に之らに何層にでも単分子膜を累積するこ
ともできる。一般に、累積操作に好適な単分子膜の表面
圧は 15〜30dyne/cmである。その範囲外で
は分子の配列配向秩序が乱れたり、膜の剥がれが生じた
りするので、不適当である。もつとも、特別の場合、例
えば、膜構造物質の化学構造、及び温度条件等によって
は、好適な表面圧の値が上述の範囲からはみでる場合も
あるので、−上述の範囲は一応の目安である。単分子膜
が累積操作に好適な条件の範囲内で選ばれた一定の表面
圧を常に維持できるように、対磁石20を左右に駆動さ
せる不図示の駆動装置が不図示の表面圧制御装置によっ
て制御される。例えば、累積操作過程に於いて、単分子
膜が基板24に移し取られると、当然表面圧は低下する
から対磁石20を動かして、従って浮子16を動かして
、展開膜面積を圧縮し、表面圧低下分を補正して一定表
面圧を維持する操作が自動的になされる。単分子膜26
(第3図参照)を水面23上から基板24表面に移し取
る方法は大別して2種類ある。−は垂直浸漬法で他は水
平付着法である。垂直浸漬法とは水面23上の単分子膜
26に累積操作に好適な一定の表面圧をかけながら、膜
を横切る方向、即ち、垂直方向に基板24を上下させる
ことにより単分子膜26を移し取る方法である。
When it becomes a solid film, the molecular arrangement and height are perfectly aligned,
This results in the high degree of order and uniform ultra-thin film properties required for optical materials. Thus, it becomes possible to transfer the monomolecular film to the surface of a clean substrate 24 (for example, a substrate made of glass, ceramic, plastic, or metal is used) while maintaining the state of the solid film. It is also possible to accumulate any number of monolayers on top of the monolayer deposited on the substrate 24. Generally, the surface pressure of a monolayer suitable for cumulative operation is between 15 and 30 dyne/cm. Outside this range, the arrangement and orientation of molecules may be disturbed and the film may peel off, which is inappropriate. However, in special cases, for example, depending on the chemical structure of the membrane structure material, temperature conditions, etc., a suitable surface pressure value may fall outside the above range, so the above range is only a rough guide. A driving device (not shown) that drives the counter magnet 20 from side to side is controlled by a surface pressure control device (not shown) so that the monomolecular film can always maintain a constant surface pressure selected within the range of conditions suitable for cumulative operation. controlled. For example, in the cumulative operation process, when a monomolecular film is transferred to the substrate 24, the surface pressure naturally decreases, so the counter magnet 20 is moved, and therefore the float 16 is moved to compress the spread film area and surface the surface. An operation is automatically performed to correct the pressure drop and maintain a constant surface pressure. Monolayer 26
There are roughly two types of methods for transferring the water (see FIG. 3) from the water surface 23 to the substrate 24 surface. - is the vertical immersion method, and the others are the horizontal attachment method. The vertical immersion method involves transferring the monomolecular film 26 on the water surface 23 by moving the substrate 24 up and down in the direction across the film, that is, in the vertical direction, while applying a constant surface pressure suitable for cumulative operation to the monomolecular film 26 on the water surface 23. This is the way to take it.

水平付着法とは基板を水平に保ちながら上から水面23
にできるだけ近づけわずかに傾けて一端から単分子膜2
6に触れて付着する方法である。それぞれ向き不向きが
ある。垂直浸漬法の場合は、膜を構成する分子や膜作製
条件によって第3図に示すように3種類の膜構造ができ
る。第3図(A)のように浸漬時だけ膜が付着するX型
、第3図(B)のように浸漬時にも引き上げ時にも付着
するY型、第3図(G)のように引き上げ時のみ膜が付
着するX型、等がある。
Horizontal attachment method is to attach the substrate from above to the water surface 23 while keeping it horizontal.
Monolayer 2 from one end as close as possible to the monolayer at a slight angle.
This is the method of adhesion by touching 6. Each has its pros and cons. In the case of the vertical dipping method, three types of membrane structures can be formed as shown in FIG. 3 depending on the molecules constituting the membrane and the conditions for manufacturing the membrane. Figure 3 (A) shows an X type in which the film adheres only during immersion, Figure 3 (B) shows a Y type in which the film adheres both during immersion and pulling up, and Figure 3 (G) shows a film that adheres during pulling up. There is an X-type, in which only a film is attached.

従って、X型は疎水性部分りを基板24表面に向け親水
性部分を外側に向けて付着する。Z型は親水性部分Qを
基板24表面に向は疎水性部分Pを外に向けて付着する
Therefore, the X type is attached with the hydrophobic part facing the surface of the substrate 24 and the hydrophilic part facing outside. In the Z type, the hydrophilic portion Q is attached to the surface of the substrate 24, and the hydrophobic portion P is attached to the outside.

これに対して水平付着法の場合にはX型の累積膜しかで
きないが、垂直浸漬法よりも後述する累積比のすぐれた
X型の累積膜を比較的簡単に作りやすい。又、蛋白単分
子膜の作製にはこの水平付着法が適している。
On the other hand, in the case of the horizontal deposition method, only an X-shaped cumulative film can be produced, but it is relatively easier to produce an X-shaped cumulative film with a superior cumulative ratio, which will be described later, than in the vertical dipping method. Furthermore, this horizontal deposition method is suitable for producing protein monolayers.

しかしながら、いずれの方法による場合でも、基板24
の表面は界面化学的に充分清浄でなければならない。基
板24の表面の清浄が不充分であれば膜の剥がれが生じ
、累積膜を作製することが困難となる。
However, in either method, the substrate 24
The surface must be sufficiently clean from a surface chemical point of view. If the surface of the substrate 24 is insufficiently cleaned, the film will peel off, making it difficult to form a cumulative film.

例えば、ガラス基板はクロム酸混液中に浸し、蒸留水で
洗った後に、清浄な気流中で乾燥すると、その表面は完
全に親水性になる。
For example, if a glass substrate is immersed in a chromic acid mixture, washed with distilled water, and then dried in a clean air stream, its surface becomes completely hydrophilic.

例えば、清浄にした固体表面に融解したステアリン酸鉄
(II[)をよく塗り付けて、ガーゼのような清浄な布
で強く十分にこすりとると、その後には親木基を固体面
に向けたステアリン酸鉄(m)の単分子膜が形成され、
表面は完全に疎水性になる。
For example, molten iron stearate (II) is thoroughly applied to a cleaned solid surface, rubbed thoroughly with a clean cloth such as gauze, and then the parent wood is turned towards the solid surface. A monolayer of iron stearate (m) is formed,
The surface becomes completely hydrophobic.

累積操作をさらに具体的に明らかにするため、第4図に
従って、垂直浸漬法によりY型累積膜を作製する操作に
ついて説明する。図示例(第4図)は親水性基板24を
用いた場合である。親水性基板24に付着する単分子膜
26の第1層目は第4図(A)に示すように引き一■−
げニ[捏持に付くから、実際の操作としては、まず基板
を深く水中に漬け、それから膜構成物質の薄い溶液を滴
下する順序になる。それから、表面圧を上げて行き、累
積膜作製に好適な表面圧に達した後、基板24を引き上
げる。累積膜作製に好適な引き−Lげ(引き下げ)速度
は0.1− 10cm/winである。ただし、膜構成
物質や膜作製条件によってはこの範囲外に好適条件が存
在する場合もある。
In order to clarify the accumulation operation more specifically, the operation of producing a Y-shaped accumulation film by the vertical dipping method will be explained according to FIG. The illustrated example (FIG. 4) is a case where a hydrophilic substrate 24 is used. The first layer of the monomolecular film 26 attached to the hydrophilic substrate 24 is pulled as shown in FIG.
The actual procedure is to first immerse the substrate deeply in water, and then drop a dilute solution of the film constituent material. Then, the surface pressure is increased, and after reaching a surface pressure suitable for producing a cumulative film, the substrate 24 is pulled up. The pull-L pulling (lowering) speed suitable for producing a cumulative film is 0.1-10 cm/win. However, suitable conditions may exist outside this range depending on the film constituent materials and film manufacturing conditions.

最初の引き上げ行程で、第1暦車分子膜が親水性部分Q
を基板24の表面に向け、疎水性部分Pを外側に向けて
付着する。
In the first lifting process, the first calendar wheel molecular membrane is exposed to the hydrophilic portion Q.
is attached to the surface of the substrate 24, with the hydrophobic portion P facing outward.

次の浸漬(引き下げ)行程(第4図(B))で、第2層
重分子膜が疎水性部分Pを基板14表面に向は親水性部
分Qを外側に向けて付着する。なお、第1層目 26a
を付けた後、充分空中で乾かし水分その他溶媒を除去し
てから、2層目28b以上を付けた方が累積膜に剥がれ
が生じず、累積操作がうまくいくことが判った。3層目
26c以トは同様の操作の繰り返えしにより(第4図(
C)参照)、任意の暦数の累積膜を作製することができ
る。
In the next dipping (lowering) step (FIG. 4(B)), the second layer heavy molecular film is attached to the surface of the substrate 14 with the hydrophobic portion P facing outward and the hydrophilic portion Q facing outward. In addition, the first layer 26a
It has been found that the cumulative film does not peel off and the cumulative operation is more successful if the second layer 28b or more is applied after drying thoroughly in the air to remove moisture and other solvents. For the third layer 26c onwards, repeat the same operation (Fig. 4 (
C)), any number of cumulative films can be produced.

図示例に於けるY型膜の奇数番目の層は常に親水性の部
分Qが基板24表面に向き、疎水性部分Pが外側を向く
In the illustrated example, in the odd-numbered layers of the Y-type film, the hydrophilic portion Q always faces the surface of the substrate 24, and the hydrophobic portion P faces outward.

このようにして作製された累積膜の厚みは分子の長さく
10〜80A)に累積回数(単分子膜の暦数)を乗した
ものに等しいことが多くの実験によって確認されている
。膜の付き方に影響を及ぼすその他の因子としては、(
1)膜構成物質の化学構造、(2)水相のPHや含有塩
類の種類・濃度。
It has been confirmed through many experiments that the thickness of the cumulative film produced in this way is equal to the product of the length of the molecule (10 to 80 A) times the cumulative number of times (the number of monomolecular films). Other factors that affect the way the film adheres include (
1) Chemical structure of membrane constituents, (2) PH of the aqueous phase and type and concentration of salts contained.

(3)温度、(4)基板の種類等がある。例えば、純粋
な直鎖脂肪酸よりも脂肪酸塩の方が安定な累積膜を作り
やすく、特にカルシウム、バリウム、カドミウム等の塩
がすぐれる。この場合、水相のPHによって累積膜の組
成や付き方が異なる。即ち、一般にPH4以下であれば
純粋な脂肪m膜になりPH9以−Lだと金属塩の膜にな
り、中間のPHではこれらの混ざった累積膜が得られる
。なお、累積膜の付き方を定量的に表示するために累積
比という指標が用いられる。累積比とは基板上の所定の
面積に対する実際に水面23から移し取られた膜面積の
比をいう。なお、水面から移し取られた膜面積は浮子1
6の移動量を計測することによりめられる。例えば、累
積比0は全く膜が付かなかった場合、累積比lは理想的
に膜が移し取られた場合を示す。一般には、遊離酸より
も金属塩の方が累積比が大きい。
(3) temperature, (4) type of substrate, etc. For example, it is easier to form a stable cumulative film with fatty acid salts than with pure straight-chain fatty acids, and salts of calcium, barium, cadmium, etc. are particularly good. In this case, the composition and deposition of the cumulative film differ depending on the pH of the aqueous phase. That is, in general, if the pH is 4 or lower, a pure fat film will be obtained, if the pH is 9 or higher, a metal salt film will be obtained, and if the pH is in the middle, a cumulative film containing these will be obtained. Note that an index called cumulative ratio is used to quantitatively display how the cumulative film is formed. The cumulative ratio refers to the ratio of the film area actually transferred from the water surface 23 to a predetermined area on the substrate. In addition, the membrane area transferred from the water surface is 1 float.
It can be determined by measuring the amount of movement of 6. For example, a cumulative ratio of 0 indicates that no film was attached at all, and a cumulative ratio of 1 indicates that the film was ideally transferred. Generally, the metal salt has a higher cumulative ratio than the free acid.

本発明において使用される基板24は任意の適当な基板
でよく、基板寸法も特に限定されない0本発明における
LB膜の厚みは、上述した累積の繰り返えしにより 0
.5〜5ILの範囲である0本発明のグレーティング型
光結合器に適した物質は、適切な光学的特性を有し、か
つLB膜形成物質であればよい。
The substrate 24 used in the present invention may be any suitable substrate, and the dimensions of the substrate are not particularly limited. The thickness of the LB film in the present invention is determined by the above-mentioned repeated accumulation.
.. A material suitable for the grating-type optical coupler of the present invention in the range of 5 to 5 IL may be any material as long as it has appropriate optical properties and forms an LB film.

特に適当なもの、例えば脂肪酸、殊に10〜30個の炭
素原子を含む直鎖脂肪酸(ステアリン酸、アラキシン酸
)及びそれらの塩(カドミウム塩)、後述する重合性L
B膜である。これらの物質の屈折率はCH2鎖の長さを
適宜選択することによりあるいは金属イオンの付加によ
り容易に制御される。
Particularly suitable, such as fatty acids, in particular straight-chain fatty acids containing 10 to 30 carbon atoms (stearic acid, araxic acid) and their salts (cadmium salts), the polymerizable L described below
This is a B film. The refractive index of these materials is easily controlled by appropriately selecting the length of the CH2 chain or by adding metal ions.

成膜されたLB膜は公知手段によってパターニングされ
る。。また本出願人の他の特許出願(出願番号未定)に
係る新規なパターニング形成方法によって所望の形状に
パターニングされる。パターニングされたLB膜は導波
路として機能する。
The formed LB film is patterned by known means. . Further, it is patterned into a desired shape by a novel patterning method related to another patent application (application number undetermined) filed by the present applicant. The patterned LB film functions as a waveguide.

次に本発明に係る平面型グレーティングの形成方法につ
いて、第5図を参照して説明する。LB膜材料としては
光重合性のものを使用する。この場合LB膜としては前
述のY型膜を前提とする。
Next, a method for forming a planar grating according to the present invention will be explained with reference to FIG. A photopolymerizable material is used as the LB film material. In this case, the LB film is assumed to be the aforementioned Y-type film.

まず重合性LB膜7を前述した単分子累積法により、ガ
ラス、セラミックス、プラスチックス又は酸化シリコン
等の基板2上に成膜する。次に、光結合器の所望の形状
を得るために、光又は電子によるパターニング電光(第
3図(1))の後、現像(現像液:アルコール、クロロ
ホルム、ベンゼン等)により未露光部のLB膜を除去す
る(第5図(1)、 (2))。この際重合部分は現像
液によって溶出されない。(第5図(2))。
First, the polymerizable LB film 7 is formed on the substrate 2 of glass, ceramics, plastics, silicon oxide, etc. by the single molecule accumulation method described above. Next, in order to obtain the desired shape of the optical coupler, after patterning with light or electrons (Fig. 3 (1)), the LB of the unexposed area is developed (developing solution: alcohol, chloroform, benzene, etc.). Remove the film (Fig. 5 (1), (2)). At this time, the polymerized portion is not eluted by the developer. (Figure 5 (2)).

次に重合LB膜9の一ヒに重合性LB膜10を単分子累
積法により成膜する。重合性LB膜10は重合性LB膜
7と同種のものが好ましいが、光学的条件を満たすなら
異種のものでもよい。
Next, a polymerizable LB film 10 is formed on one of the polymerized LB films 9 by a single molecule accumulation method. The polymerizable LB film 10 is preferably of the same type as the polymerizable LB film 7, but may be of a different type as long as it satisfies the optical conditions.

この場合、重合LB膜9の表面(重合性LB膜lOと接
する面)が親木性なら、重合性LB膜lOの表面が疎水
性になるように、或いは重合性LB膜9の表面が疎水性
なら重合性LB膜lOの表面が親水性になるように重合
性LB膜10の厚みを調整する必要がある。
In this case, if the surface of the polymerizable LB film 9 (the surface in contact with the polymerizable LB film 1O) is lignophilic, the surface of the polymerizable LB film 9 may be made hydrophobic, or the surface of the polymerizable LB film 9 may be hydrophobic. If the polymerizable LB film 10 is hydrophilic, it is necessary to adjust the thickness of the polymerizable LB film 10 so that the surface of the polymerizable LB film 10 becomes hydrophilic.

前述した単分子累積法により明らかなように、LB膜の
表面は必らず親水性が疎水性かのいずれかをとり、その
制御は極めて容易である。所望の形状のLBBaO表面
に積層されたLB膜のみが残るように、前述のパターニ
ング露光を施す。その際グレーティングのパターンも、
同時に又は相前後して露光する。これを現像後、第5図
(4)に示す重合LB膜11のレリーフ・パターンが得
られる。この時、グレーティング11の凹部は重合LB
膜9の表面であり、凸部はLB膜製Oの表面であるから
、一方が親木性表面のとき、他方は疎水性表面となって
いる。次いで重合LB膜11の上にLBBi12び13
を前述した単分子累積法により形成する。このとき、重
合LBIIIIの四部低面が親木性なら、LBBi12
第1層目は親木基が基板側を向くように付着させる。し
たがって、凸部では疎水基と親水基(LBBi12第1
層目)とが向かいあうことになる。反対に重合LB膜1
1の凹部低面が疎水性なら、LBBi12第1層目は疎
水性が基板側を向くように付着させる。LBBi12厚
みがグレーティングの深みと同じになるようにする(即
ち、11の凸部の表面と13の表面が同一面になるよう
にする。)第5図(4))。LBBi12一厚制御が極
めて容易であることは、単分子を繰り返えし累積する工
程をとる単分子累積法の特徴より明らかである。
As is clear from the above-mentioned single molecule accumulation method, the surface of the LB film is necessarily either hydrophilic or hydrophobic, and the control thereof is extremely easy. The above-described patterning exposure is performed so that only the LB film laminated on the LBBaO surface of the desired shape remains. At that time, the grating pattern also
Expose at the same time or one after the other. After development, a relief pattern of the polymerized LB film 11 shown in FIG. 5(4) is obtained. At this time, the concave portion of the grating 11 is the polymerized LB.
Since this is the surface of the membrane 9 and the convex portion is the surface of O made of LB membrane, when one side is a wood-loving surface, the other side is a hydrophobic surface. Next, LBBi 12 and 13 are deposited on the polymerized LB film 11.
is formed by the single molecule accumulation method described above. At this time, if the four-part lower surface of polymerized LBIII is wood-loving, LBBi12
The first layer is attached so that the parent wood base faces the substrate side. Therefore, in the convex part, a hydrophobic group and a hydrophilic group (LBBi12 first
layer) will be facing each other. On the contrary, polymerized LB film 1
If the lower surface of the recess 1 is hydrophobic, the first layer of LBBi 12 is attached so that the hydrophobic side faces the substrate side. The thickness of the LBBi 12 is made to be the same as the depth of the grating (that is, the surface of the convex portion 11 and the surface of 13 are made to be on the same plane) (FIG. 5 (4)). The fact that the thickness of LBBi12 is extremely easy to control is clear from the characteristics of the single molecule accumulation method, which involves the step of repeatedly accumulating single molecules.

゛重合L膜製ll上に積層されるLBII112及び1
3は重合性であると否とを問わないが屈折率は重合L 
B B@のそれより、小であることが要求される。
LBII112 and 1 stacked on polymerized L film II
3 is polymerizable or not, but the refractive index is polymerizable L.
B It is required to be smaller than that of B@.

次に第5図(4)の構成のものを不図示の超音防水槽に
つけ、適当な条件下で超音波を発生させると、疎水基と
親木基が向い合っているから、接合力の弱いLBBi1
212の接触面で剥離(除去))が生ずる。
Next, when the structure shown in Fig. 5 (4) is placed in an ultrasonic waterproof tank (not shown) and ultrasonic waves are generated under appropriate conditions, the bonding force is reduced because the hydrophobic group and the parent wood group are facing each other. Weak LBBi1
Peeling (removal) occurs at the contact surface of 212.

LB膜製lと13の接触面では親水基同志(又は疎水基
同志)が向き合っているので、比較的接合力が強いため
、剥離が生じない。かくして選択的剥離(除去)により
第3図(5)に示す断面構造のものが形成される。
Since the hydrophilic groups (or hydrophobic groups) face each other at the contact surface between the LB membranes 1 and 13, the bonding force is relatively strong and no peeling occurs. Thus, by selective peeling (removal), a cross-sectional structure shown in FIG. 3(5) is formed.

LBBi1213は同一平面上に形成され、かくして平
面型、すなわち位相差型グレーティングが構築される。
The LBBi 1213 is formed on the same plane, thus constructing a planar type, that is, a phase difference type grating.

このような位相差型結合器は、他の構成要素をグレーテ
ィング上に構築する場合に有利である。
Such a phase difference coupler is advantageous when other components are built on top of the grating.

つぎに1本発明を一実施例により、第6図を参照して説
明する。この図において、基板32には平面型グレーテ
ィングの形成されたLBBa2O着設される。LBll
131のグレーティング部36の凹部にはLBBa2O
装着されLBBa2O33との表面は同一平面にあって
、平面型、すなわち位相差型グレーティング36が形成
されている。またLBll131および33は表面の性
質が同じである。すなわち、LBBa2O表面が親木性
なら、LBBa2O表面も親水性にする必要がある。反
対にLBBa2O表面が疎水性なら、LBBa2O表面
も疎水性にする必要がある。
Next, one embodiment of the present invention will be explained with reference to FIG. 6. In this figure, a substrate 32 is provided with LBBa2O on which a planar grating is formed. LBll
LBBa2O in the concave part of the grating part 36 of 131.
The surface of the attached LBBa2O33 is on the same plane, forming a planar type, that is, a phase difference type grating 36. Furthermore, LBll131 and LBll33 have the same surface properties. That is, if the LBBa2O surface is lignophilic, the LBBa2O surface must also be made hydrophilic. Conversely, if the LBBa2O surface is hydrophobic, the LBBa2O surface must also be made hydrophobic.

グレーティング上にLBBa3O成膜されている。A LBBa3O film is formed on the grating.

LBBa3O屈折率はLBBa2O屈折率より低いこと
が条件である。LBBa3OLBBa2O同一材料であ
るか、又は屈折率が同じものが好適である。LBBa3
Oバッファ層として機能する。LB膜(バッファ層)3
4の上面には反射層35が装着される。反射層35はA
1膜を蒸着したものである。
The condition is that the refractive index of LBBa3O is lower than the refractive index of LBBa2O. LBBa3OLBBa2O are preferably made of the same material or have the same refractive index. LBBa3
Functions as an O buffer layer. LB film (buffer layer) 3
A reflective layer 35 is attached to the upper surface of 4. The reflective layer 35 is A
1 film was deposited.

LBBa3OLBBa2OLに一様に成膜されていても
よいが、第6図のようにグレーティグ−ヒにのみ構築さ
れるように選択付着してもよい。その際、重合性LB層
の場合は、パターン露光により、非重合性LB層の場合
は、本出願人の他の特許出願(出願番号未定)に係るパ
ターニング形成方法によって所望の形状にパターニング
される。 LBlli34の膜厚はグレーティングによ
って回折され、直接基板側32に射出する光36−bと
、LBBa3O側射出し反射層35によって反射され基
板側32に射出する光36−aとが干渉によって互いに
強めあうように設定される必要がある。この場合LB層
34は前述のようにバッファ層として機能する。
The film may be uniformly deposited on LBBa3OLBBa2OL, but it may be selectively deposited so that it is formed only on the grating as shown in FIG. At that time, in the case of a polymerizable LB layer, it is patterned into a desired shape by pattern exposure, and in the case of a non-polymerizable LB layer, it is patterned into a desired shape by a patterning method related to another patent application (application number undetermined) by the applicant. . The film thickness of the LBlli 34 is diffracted by the grating, and the light 36-b directly emitted to the substrate side 32 and the light 36-a reflected by the LBBa3O side emission reflection layer 35 and emitted to the substrate side 32 strengthen each other due to interference. It needs to be set as follows. In this case, the LB layer 34 functions as a buffer layer as described above.

射出光36−aと38−bとが干渉により強め合う最適
のLBHIA34の膜厚条件は公知の光学的法則により
容易に導かれる。但し光の波長以下の膜厚制御が要求さ
れる。射出光36−aと36−bとは第6図に示すよう
に光路長が異なる。この光路差が波長の整数倍のとき強
めあう。
Optimal film thickness conditions for the LBHIA 34 under which the emitted light beams 36-a and 38-b strengthen each other through interference can be easily derived from known optical laws. However, film thickness control below the wavelength of light is required. The emitted light beams 36-a and 36-b have different optical path lengths as shown in FIG. When this optical path difference is an integral multiple of the wavelength, they become stronger.

このように、第6図に示すLB層により構成されたクレ
ーティングと光導波器とバッファ層に反射層を設けた本
発明の光結合器は基板32の反射側に射出する光を利用
できるので射出効率の向−トを図ることができるという
効果がある。さらに本発明は安価な光結合器を提供し、
4777層を容易に構築できる平面型グレーティングを
有する光結合器を提供する。
In this way, the optical coupler of the present invention, which includes a crating composed of the LB layer shown in FIG. 6, an optical waveguide, and a buffer layer provided with a reflective layer, can utilize the light emitted to the reflective side of the substrate 32. This has the effect of increasing injection efficiency. Furthermore, the present invention provides an inexpensive optical coupler,
An optical coupler having a planar grating in which 4777 layers can be easily constructed is provided.

〈実施例) ・基板〜白板ガラス、10+w膳X 10m閣、0.3
m■(Si0281%、820313%、 Na2O4
%、Al2032%)グレーティングピッチ 200人
 深さ 0.1pLB膜9の膜厚0.9#L 〃1O110,IIL // 12.13/I Q、IIL tt 14 // 0,2ル ・入射光〜He−Meレーザ(8328A )半導体レ
ーザ(8300A ) 拳オレフィン系(光重合性) 拳ステアリン酸ビニルにγ線をあてて重合。
<Example) ・Substrate ~ White plate glass, 10+w tray x 10m cabinet, 0.3
m (Si0281%, 820313%, Na2O4
%, Al2032%) Grating pitch 200 people Depth 0.1p Thickness of LB film 9 0.9#L 〃1O110,IIL // 12.13/I Q, IIL tt 14 // 0.2L・Incoming light ~ He-Me laser (8328A) Semiconductor laser (8300A) Olefin type (photopolymerizable) Polymerizes vinyl stearate by exposing it to gamma rays.

番末露光部アルコールに溶ける。The exposed part at the end dissolves in alcohol.

・トトリコセン酸に電子線(10−100KeV)をあ
てて重合。
-Polymerize totricosenic acid by exposing it to an electron beam (10-100KeV).

φ電子ビーム露光装置(日本電子TEBX−2B) ・ジアセチレン誘導体は紫外線で重合。φ electron beam exposure device (JEOL TEBX-2B) ・Diacetylene derivatives are polymerized by ultraviolet light.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は従来の光結合器の断面図、第2図(A)。 (B)はLB膜製作装置の斜視図および断面図、第3図
(A)、 (B)、 (C)はLB膜の3種類の構成を
説明する図、第4図(A)、 (B)、 (C)はLB
膜の形成を説明する図、第5図は(1)、 (2)、 
(3) 、 (4)。 (5)は本発明の平面型グレーティングを形成する工程
説明図、第6図は本発明の一実施例の断面図である。 2−−一 基板 7−−− モノマL膜製 8−m−露光 9−m−重合LB膜 10−−− モノマL膜製 11−m−重合LB膜 12、13−−− モノマL膜製 14−−− 水槽 15− 枠 16−−− 浮子 18、20−−一磁石 23−m−水面 24−m−基板 2B−−一 単分子膜 31−−一 光導波路 32−m−基板 33、34−−− LB膜 35−m−反射層 特許出願人 キャノン株式会社 第 1 図 3へ 第 6 図 第 2(1m(a) 第 2 図 (1)) (A) 第3図 114図 115図
FIG. 1 is a sectional view of a conventional optical coupler, and FIG. 2 (A). (B) is a perspective view and a cross-sectional view of the LB film production apparatus, Figures 3 (A), (B), and (C) are diagrams explaining three types of LB film configurations; Figures 4 (A), ( B), (C) is LB
Diagrams explaining the formation of the film, Figure 5, are (1), (2),
(3), (4). (5) is an explanatory diagram of the process of forming a planar grating of the present invention, and FIG. 6 is a sectional view of one embodiment of the present invention. 2--1 Substrate 7---Made of monomer L film 8-m-Exposed 9-m-polymerized LB film 10---Made of monomer L film 11-m-polymerized LB film 12, 13---Made of monomer L film 14--Aquarium 15-Frame 16--Float 18, 20--1 Magnet 23-m-Water surface 24-m-Substrate 2B--1 Monomolecular film 31--1 Optical waveguide 32-m-Substrate 33, 34---- LB film 35-m-Reflection layer Patent applicant Canon Corporation No. 1 To Fig. 3 Fig. 6 Fig. 2 (1m (a) Fig. 2 (1)) (A) Fig. 3 Fig. 114 Fig. 115

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] グレーティングを設置した光導波路と、4777層と、
反射層とからなることを特徴とする光結合器。
An optical waveguide with a grating installed, 4777 layers,
An optical coupler characterized by comprising a reflective layer.
JP4483084A 1984-03-10 1984-03-10 Photocoupler Pending JPS60189709A (en)

Priority Applications (2)

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JP4483084A JPS60189709A (en) 1984-03-10 1984-03-10 Photocoupler
US06/709,300 US4691982A (en) 1984-03-10 1985-03-07 Optical coupler

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4483084A JPS60189709A (en) 1984-03-10 1984-03-10 Photocoupler

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