JPS60188426A - Material for optical instrument and device - Google Patents

Material for optical instrument and device

Info

Publication number
JPS60188426A
JPS60188426A JP59044068A JP4406884A JPS60188426A JP S60188426 A JPS60188426 A JP S60188426A JP 59044068 A JP59044068 A JP 59044068A JP 4406884 A JP4406884 A JP 4406884A JP S60188426 A JPS60188426 A JP S60188426A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
repeating unit
polyformal
polymer
methylene chloride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP59044068A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6362528B2 (en
Inventor
Kazuyoshi Shigematsu
重松 一吉
Takashi Nakagawa
隆 中川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Idemitsu Kosan Co Ltd filed Critical Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority to JP59044068A priority Critical patent/JPS60188426A/en
Publication of JPS60188426A publication Critical patent/JPS60188426A/en
Publication of JPS6362528B2 publication Critical patent/JPS6362528B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:The titled material having a small photoelastic constant and a high sensitivity of reading information recorded on a disk, obtained by reacting a specified compound with a halogenated methane. CONSTITUTION:4,4'-Dihydroxytetraphenylmethane of formula I , 1-phenyl-1,1-bis(4- hydroxyphenyl)ethane of formula II, or a compound of formula III (wherein m is 4-10) is reacted with a halogenated methane (e.g., CH2Cl2) in the presence of a catalyst and an MW modifier to obtain a material for optical instruments and devices comprising a polyformal polymer having repeating units of formula IV(wherein R<1> is a group of one of formulas V-VII) and a reduced viscosity [etasp/ c] as measured in a methylene chloride solution at a concentration of 0.5g/dl at 20 deg.C, >=0.2dl/g. USE:Audiodisk and optical memory disk.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学機器6材に関し、特にデジタルオーディオ
ディスクや光メモリ−ディスクに適した素材に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an optical device 6 material, and particularly to a material suitable for digital audio discs and optical memory discs.

一般に、上述したような光学機器用素材には様々な性能
が要求されており、例えば透明性、耐熱性、耐湿性1機
械的強度にすぐれていると共に、光学的な性質として光
弾性係数の小さいものが適している。このような性能を
有する素材としては、従来からメタクリル樹脂などが知
られているが、このものは耐熱性や耐湿性、耐衝撃性の
点で未だ充分なものとは言い難いという欠点がある。ま
た、ビスフェノールA (2,2−ビス(4′−ヒドロ
キシフェニル)プロパン)をホスゲンや炭酸ジフェニル
等と反応させて得られるポリカーメネート樹脂は、耐熱
性、耐湿性、耐衝撃性などにおいてすぐれているものの
、光弾性係数が大きいため、これに起因して複屈折が大
きくなり、ディスクに記録された情報の読み取シ感度が
低下したり、エラーが発生するという難点がある。
Generally, materials for optical devices as mentioned above are required to have various performances, such as transparency, heat resistance, moisture resistance, excellent mechanical strength, and optical properties such as low photoelastic coefficient. things are suitable. Although methacrylic resin and the like have been known as materials having such properties, this material has the disadvantage that it is still difficult to say that it is sufficient in terms of heat resistance, moisture resistance, and impact resistance. In addition, polycarmenate resin obtained by reacting bisphenol A (2,2-bis(4'-hydroxyphenyl)propane) with phosgene, diphenyl carbonate, etc. has excellent heat resistance, moisture resistance, and impact resistance. However, since the photoelastic coefficient is large, birefringence becomes large due to this, and there are problems in that the sensitivity of reading information recorded on the disk decreases and errors occur.

本発明の目的は上記従来の欠点を解消した光学機器用素
材を提供することにあり、特に光学的性質として光弾性
定数が小さく、ディスクに記録された情報の読み取り感
度の高い光学機器用素材を提供することを目的とするも
のである。
The purpose of the present invention is to provide a material for optical equipment that eliminates the above-mentioned conventional drawbacks, and in particular, to provide a material for optical equipment that has a small photoelastic constant as an optical property and has high sensitivity for reading information recorded on a disk. The purpose is to provide

すなわち本発明は第1に 一般式 いずれかを示す。但し、mは4〜10を示す。)で表わ
される繰返し単位CI)を有し、かつ濃度0.5P/J
の塩化メチレン溶液の20°Cにおける還元粘度[’7
sp/ ’ )がo、2 ”/ tJA上o ホ!J 
ホpv Y中 −ル系重合体からなる光学機器用素材を提供するもので
ある。
That is, the present invention first shows any one of the general formulas. However, m indicates 4 to 10. ), and the concentration is 0.5P/J.
The reduced viscosity at 20°C of a methylene chloride solution of ['7
sp/') is o, 2''/tJA on o Ho!J
The present invention provides a material for optical equipment made of a hopv Y medium-based polymer.

 5− さらに本発明は第2に 一般式 ずれかを示す。但し、mは4〜1oを示す。)で表わさ
れる繰返し単位CI)および 一般式 ずれかを示す。但し、mは4〜1oを示す。)で表わさ
れる繰返し単位(If)を有し、かつ前記繰返し単位C
I)および〔■〕のモル分率をそれぞれに 4− およびtとしたときのに/に十tの値が0.5を超える
ものであると共に、濃度0.5f/diの塩化〉チレン
溶液の20°Cにおける還元粘度〔η、1p10)が0
.2dl/f以上のポリホルマール系共重合体からなる
光学機器di材を提供するものである。
5- Furthermore, the present invention secondly shows the general formula. However, m represents 4 to 1o. ) and the general formula. However, m represents 4 to 1o. ), and the repeating unit C
When the molar fractions of I) and [■] are 4- and t, respectively, the value of 2/10t exceeds 0.5, and the tyrene chloride solution has a concentration of 0.5 f/di. The reduced viscosity [η, 1p10) at 20°C of
.. The present invention provides a di material for optical equipment made of a polyformal copolymer with a yield of 2 dl/f or more.

本発明の第1において、上記繰返し単位〔I〕を有する
ポリホルマール系重合体の重合度は光学機器の種類に応
じて適宜選定すればよいが、濃度0.5fI−/aの塩
化メチレン溶液の2o”Cにおける還元粘度〔ηsp/
 a )が0・2d/1以上・好ましくは0.6〜0.
8dl/fのものとなるように重合させるべきである。
In the first aspect of the present invention, the degree of polymerization of the polyformal polymer having the above-mentioned repeating unit [I] may be appropriately selected depending on the type of optical equipment. Reduced viscosity at 2o”C [ηsp/
a) is 0.2d/1 or more, preferably 0.6 to 0.
It should be polymerized so that it becomes 8 dl/f.

なお、上記繰返し単位CI)においてmは4〜1゜を示
しているが、ここでmが4未満であると、得られる重合
体の成形加工時における流動性が低下し、またmが10
を超えると耐熱性が低下するので好ましくない。
In addition, m is 4 to 1° in the above repeating unit CI), but if m is less than 4, the fluidity of the obtained polymer during molding will decrease, and if m is less than 10
Exceeding this is not preferable because heat resistance decreases.

また、本発明の第2は、上記第1の発明における繰返し
単位CI)とともに、前記繰返し単位(II)ヲ有t 
ルホリホルマール系共重合体からなるものである。ここ
で本発明の第2においては、上記繰返し単位〔■〕をモ
ル分率で全体の50%を超えて含むように調節する。す
なわち、上記繰返し単位CI)のモル分率をに1繰返し
単位〔■〕のモル分率をtとしたとき−に/に十tの値
が0.5を超えるように調節する。k/に十tの値が0
.5以下であると、光弾性定数の低下と、成形性の低下
をきたし成形歪に基く複屈折の増大をもたらすので好ま
しくない。
Moreover, the second invention has the repeating unit (II) in addition to the repeating unit CI in the first invention.
It is made of a fluoroformal copolymer. In the second aspect of the present invention, the repeating unit [■] is adjusted to contain more than 50% of the total mole fraction. That is, the mole fraction of the above-mentioned repeating unit CI) is adjusted so that the value of t exceeds 0.5, where t is the mole fraction of one repeating unit [■]. The value of 10t in k/ is 0
.. If it is less than 5, the photoelastic constant and moldability decrease, resulting in an increase in birefringence due to molding distortion, which is not preferable.

また、本発明の第2において、上記繰返し単位CI)お
よび繰返し単位(If)を有するポリホルマール系共重
合体の重合度は、光学機器の種類に応じて適宜選定すれ
ばよいが、第1の発明と同じく、濃度0.5f/diの
塩化メチレン溶液の20°Cにおける還元粘度〔ηap
/ O)が04#/7以上、好ましくは0.5〜0.8
dt/fのものとなるように重合させるべきである。
In the second aspect of the present invention, the degree of polymerization of the polyformal copolymer having the repeating unit CI) and the repeating unit (If) may be appropriately selected depending on the type of optical equipment. As in the invention, the reduced viscosity [ηap
/O) is 04#/7 or more, preferably 0.5 to 0.8
It should be polymerized so that it becomes dt/f.

上述の繰返し単位〔I〕を有するポリホルマール系重合
体は様々な方法により製造することができるが、例えば で表わされる4、4′−ジヒドロキシテトラ7エ二ルメ
タン。
The polyformal polymer having the above-mentioned repeating unit [I] can be produced by various methods, and for example, 4,4'-dihydroxytetra-7enylmethane.

式 テ表ワサれる1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)エタンおよび 一般式 (式中、mは前記と同じ。) で表わされる化合物のいずれかを適当な触媒9分子量調
節剤などを用いてOH204+ OH2B rfiなど
のハロゲン化メチレンと反応させたシ、またこのハロゲ
ン化メチレンおよびNaOHなどの塩基と反応さ 7− せて製造することができる。ここで分子量調節剤として
は様々なものを挙げることができるが、例えば (P3は炭素数1〜10のアルキル基まだはアルアルキ
ル基を示す。) などが挙げられる。また、このように分子量調節剤ヲ用
いずに、ハロゲン化メチレン等の使用量を適宜選択する
ことにより、上記繰返し単位CI)を有するポリホルマ
ール系重合体の重合度を上記の如くにせしめることもで
きる。
1-phenyl-1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane having the formula (wherein m is the same as above) is added to a suitable catalyst (9) and a molecular weight regulator. It can be produced by reacting with halogenated methylene such as OH204+ OH2B rfi, or by reacting this halogenated methylene with a base such as NaOH. Here, various molecular weight modifiers can be used, and examples thereof include (P3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aralkyl group). In addition, the degree of polymerization of the polyformal polymer having the above-mentioned repeating unit CI) can be made to be as described above by appropriately selecting the amount of halogenated methylene, etc., without using a molecular weight regulator. can.

また、上記一般式〔■〕で表わされる化合物としては様
々なものがあるが、例えば 式 で表わされる1、1−ビス(4−ヒドロキシ7エ B 
− ニル)シクロペンタン。
In addition, there are various compounds represented by the above general formula [■], but for example, 1,1-bis(4-hydroxy7E B
- cyclopentane.

式 で表わされる1、1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘキサン。
1,1-bis(4-hydroxyphenyl) represented by the formula
Cyclohexane.

式 で表わされる1、1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
シクロヘプタンなどを挙げることができる。
1,1-bis(4-hydroxyphenyl) represented by the formula
Examples include cycloheptane.

さらに、上述の繰返し単位[11)を有する重合体も様
々な方法により製造することができるが、例えば前記式
Cm)で表わされる4、4′−ジヒドロキシテトラフェ
ニルメタン、式(IV)で表わされる1−フェニル−1
,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタンおよび一
般式〔■〕で表わされる化合物のいずれかを、ホスゲン
を用いて重縮合させて製造することができる。また、こ
のようなホスゲン法ポリカーCネートの製法に従う方法
の他に、炭酸ジフェニルなどを用いるエステル交換法ポ
リカーボネートの製法に従って行なうこともできる1し
たがって、上記繰返し単位CI)とともに繰返し単位(
II)を有する本発明の第2のポリホルマール系共重合
体を製造するには、例えば上述の如く式Cm)で表わさ
れる4、4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、式
[、IV)で表わされる1−7エ二ルー1,1−ビス(
4−ヒドロキシフェニル)エタンおよび一般式(V)で
表わされる化合物のいずれかを、単独で或いはこれらの
混合物をハロゲン化メチレン等と反応させて線返し単位
CI)を有するポリホルマール系低重合体を製造し、そ
の末端の7エノール性水酸基をホスゲン等を用いて重縮
合させればよい。
Furthermore, polymers having the above-mentioned repeating unit [11) can also be produced by various methods, such as 4,4'-dihydroxytetraphenylmethane represented by the above-mentioned formula Cm), and 4,4'-dihydroxytetraphenylmethane represented by the formula (IV). 1-phenyl-1
, 1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane and a compound represented by the general formula [■], using phosgene. In addition to the method for producing polycarbonate using the phosgene method, it can also be carried out according to the method for producing polycarbonate using the transesterification method using diphenyl carbonate, etc.1 Therefore, the repeating unit (CI) as well as the repeating unit
In order to produce the second polyformal copolymer of the present invention having II), for example, as described above, 4,4'-dihydroxytetraphenylmethane represented by the formula Cm), 4,4'-dihydroxytetraphenylmethane represented by the formula [, IV) 1-7 enyl 1,1-bis(
4-Hydroxyphenyl)ethane and a compound represented by the general formula (V), alone or in a mixture thereof, are reacted with halogenated methylene, etc. to produce a polyformal-based low polymer having linear return units CI). It is sufficient to produce a polycondensate, and polycondense the terminal 7-enolic hydroxyl group using phosgene or the like.

なお、この重合の際の条件は所望する共重合体の重合度
などにより一義的に定めることはできないが、通常適当
な触媒2分子鮒調節剤などを用いればよい。ここで分子
it調節剤としては前記したものなどが挙げられる。
Although the conditions for this polymerization cannot be determined uniquely depending on the degree of polymerization of the desired copolymer, etc., a suitable catalyst bimolecular regulator may generally be used. Here, the molecular IT regulators include those mentioned above.

本発明の第2のポリホルマール系共重合体を構成する繰
返し単位CI)は式(m)で表わされる4゜4′−ジヒ
ドロキシテトラフェニルメタン、式[IV)で表わされ
る1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタンおよび一般式(V)で表わされる化合物のい
ずれかと、ハロゲン化メチレン等との反応によ多形成さ
れ、また繰返し単位(n)は式〔■1〕で表わされる4
、4′−ノヒドロキシテトラフェニルメタン1式(IV
)で表わされる1−フェニル−1,1−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)エタンおよび一般式[V)で表わされ
る化合物のいずれかと、ホスゲン等との反応により形成
される。
The repeating unit CI) constituting the second polyformal copolymer of the present invention is 4゜4'-dihydroxytetraphenylmethane represented by formula (m), 1-phenyl-1 represented by formula [IV), It is formed by the reaction of 1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane and any of the compounds represented by the general formula (V) with halogenated methylene, etc., and the repeating unit (n) is represented by the formula [1]. 4 represented
, 4'-nohydroxytetraphenylmethane formula 1 (IV
) is formed by the reaction of 1-phenyl-1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethane represented by formula [V] with phosgene or the like.

従って、共重合体における繰返し単位CI)、 (II
)の所望するモル分率に応じて式(III)で表わされ
る4゜4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン、式(
IV)で表わされる1−フェニル−1,1−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)エタンおよび一般式(V)で表わ
される化合物の使用量を適宜選定すればよく、また上記
の一般式EV)で表わされる化合物の種類も、所望する
繰返し単位CI)或いは繰返し単位印〕の種類により、
上述した具体し1]の中あるいはそれ−11− 以外から選定すればよい。
Therefore, repeating units CI), (II
), 4°4'-dihydroxytetraphenylmethane of formula (III), 4°4'-dihydroxytetraphenylmethane of formula (III),
1-phenyl-1,1-bis(4-
The amount of hydroxyphenyl)ethane and the compound represented by the general formula (V) to be used may be appropriately selected, and the type of the compound represented by the above general formula EV) can also be changed to the desired repeating unit CI) or repeating unit mark] Depending on the type of
It may be selected from the above-mentioned Specification 1] or other than Specification 1-11-.

なお、本発明の光学機器用素材を用いてディスク等を成
形するにあたっては、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの
通常の添加剤を配合してもよい。
In addition, when molding a disk or the like using the material for optical equipment of the present invention, usual additives such as antioxidants and ultraviolet absorbers may be added.

このようにして得られる本発明の第1のポリホルマール
系重合体は従来のポリカーボネート樹脂に比し光弾性定
数が小さく、光の複屈折率の小さい成形品を得ることが
できる。また、この重合体は耐熱性に関し、従来のポリ
カーボネート樹脂と同等乃至やや劣るものの、メタクリ
ル樹脂(ガラス転移温度:105°C)に比し十分に高
い耐熱性を有しいてる。
The first polyformal polymer of the present invention obtained in this way has a smaller photoelastic constant than conventional polycarbonate resins, and a molded article with a smaller optical birefringence can be obtained. In addition, this polymer has heat resistance that is equivalent to or slightly inferior to conventional polycarbonate resins, but is sufficiently higher than that of methacrylic resins (glass transition temperature: 105°C).

さらに、本発明の第2のポリホルマール系共重合体は従
来のポリカーボネート樹脂に比し光弾性定数および耐熱
性のどちらについても格段にすぐれたものである。
Furthermore, the second polyformal copolymer of the present invention is significantly superior to conventional polycarbonate resins in both photoelastic constant and heat resistance.

したがって、本発明のポリホルマール系重合体或いは共
重合体を各種光学機器の素材として用いれば、光学的性
質が改良されているためにディスクに記録された情報の
読み取シ感度が高く、エラ12− 一の発生の少ない光学機器が得られると同時に、熱的に
も強度的にも良好な素材であるため、これを用いて作ら
れた光学機器は様々な条件下で安定して作動する。
Therefore, if the polyformal polymer or copolymer of the present invention is used as a material for various optical devices, the improved optical properties will improve the reading sensitivity of information recorded on the disk, and error 12- Since it is a material that has good thermal and strength properties, optical devices that are made using it operate stably under a variety of conditions.

それ故、本発明の素材は、デジタルオーディオディスク
、光メモリ−ディスクなどの光学機器用素材として有効
に利用することができる。
Therefore, the material of the present invention can be effectively used as a material for optical equipment such as digital audio discs and optical memory discs.

次に本発明を実施例によ〕説明する〇 実施例1 4.4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン55.2
7 (0,1モル)、塩化メチレン40 fco、47
モル)、水酸化ナトリウム16.o’j (o、4モル
)およびN−メチルピロリドン80icjの混合液を攪
拌しなから80’Cにおいて、5時間反応を行なった。
Next, the present invention will be explained with reference to examples.〇Example 1 4.4'-dihydroxytetraphenylmethane 55.2
7 (0.1 mol), methylene chloride 40 fco, 47
mole), sodium hydroxide 16. A mixture of o'j (o, 4 mol) and 80 icj of N-methylpyrrolidone was reacted for 5 hours at 80'C with stirring.

反応終了後、生成物を塩化メチレン200dで希釈して
、稀塩酸、水の順で洗浄し、次いでメタノ−中に投入し
て重合体を析出回収した。
After the reaction was completed, the product was diluted with 200 d of methylene chloride, washed successively with dilute hydrochloric acid and water, and then poured into methanol to precipitate and collect the polymer.

得られた重合づ本は、溶媒として塩化メチレンを用い濃
度o、5i/#の溶液につき2o’Cで測定した還元粘
度C?sp/ a )が0.46dt/lであった。
The resulting polymerized product had a reduced viscosity of C? measured at 2o'C for a solution of concentration o and 5i/# using methylene chloride as a solvent. sp/a) was 0.46 dt/l.

また、この重合体のガラス転移温度は160°Cであっ
た。さらに、この重合体を500 ”Cにおいてプレス
成形し、肉厚0.5關のシートとし、波長635闘にお
いて光弾性定数を測定したところ、26.6 X 10
−” cd / dyneであった。
Moreover, the glass transition temperature of this polymer was 160°C. Furthermore, this polymer was press-molded at 500''C to form a sheet with a wall thickness of about 0.5 mm, and the photoelastic constant was measured at a wavelength of 635 mm, and it was found to be 26.6 x 10
-" CD/dyne.

実施例2 実施例1において、4.4’−ジヒドロキシテトラフェ
ニルメタンに代えてビス(4−ヒドロキシフェニル)シ
クロヘキサン26.87 (0,1モル)を用いたこと
以外は実施例1と同様にして重合体を得た。
Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that 26.87 (0.1 mol) of bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane was used in place of 4,4'-dihydroxytetraphenylmethane. A polymer was obtained.

得られた重合体の濃度0.5f/dlの塩化メチレン溶
液の20℃における還元粘度〔ηsp/ O)はo、4
5 dll ?であった。また、この重合体のガラス転
移温度は116℃であった。さらに、実施例1と同様に
して光弾性定数を測定したところ50.Ox 1o −
” cd/ dyneであった。
The reduced viscosity [ηsp/O) at 20°C of a methylene chloride solution with a concentration of 0.5 f/dl of the obtained polymer is o, 4
5 dll? Met. Further, the glass transition temperature of this polymer was 116°C. Furthermore, when the photoelastic constant was measured in the same manner as in Example 1, it was 50. Ox 1o −
” It was CD/Dyne.

実施例5 4.4′−ジヒドロキシテトラフェニルメタン55.2
7 (0,1モル)、塩化メチレン25SNo、5モル
)およびN−メチルピロリドン40tt+lの混合液を
攪拌しながら加熱し、還流下に1時間反応を行なった。
Example 5 4.4'-dihydroxytetraphenylmethane 55.2
A mixture of 7 (0.1 mol), methylene chloride 25SNo, 5 mol) and N-methylpyrrolidone (40 tt+l) was heated with stirring and reacted under reflux for 1 hour.

反応終了後、反応生成物を塩化メチレン100dで希釈
し、稀塩酸、水の順で洗浄し、次いでメタノール中に投
入してポリホルマールの低重合体を析出回収した。
After the reaction was completed, the reaction product was diluted with 100 d of methylene chloride, washed with dilute hydrochloric acid and then with water, and then poured into methanol to precipitate and recover a polyformal low polymer.

得られたポリホルマール低重合体を塩化メチレン150
Klとピリジン5oiuの混合溶媒に溶解し、これにホ
スゲンガス200Hlを室温で吹込み、1時間反応させ
た。反応終了後、生成物を濃度1規定の塩i!オよび水
で順次洗浄し・次いでメタノール中に投入してポリホル
マール・ポリカーボネート樹脂を析出させ回収した。
The obtained polyformal low polymer was mixed with 150% methylene chloride.
It was dissolved in a mixed solvent of Kl and 5 oiu of pyridine, 200 Hl of phosgene gas was blown into it at room temperature, and the mixture was reacted for 1 hour. After the reaction is complete, the product is diluted with 1N salt i! The resin was washed successively with water and water, and then poured into methanol to precipitate and recover the polyformal/polycarbonate resin.

得られた樹脂の濃度0.5 p/Jの塩化メチレン溶液
の20°Cにおける還元粘度(’7sp/ O)は’ 
0.56 dll 54であり、またガラス転移温度は
189°Cであった。さらに、実施例1と同様にして光
弾性定数を測定したところ、2 C5X 10−’cd
/dyneであった。
The reduced viscosity ('7 sp/O) of the resulting resin in methylene chloride solution with a concentration of 0.5 p/J at 20°C is '
0.56 dll 54, and the glass transition temperature was 189°C. Furthermore, when the photoelastic constant was measured in the same manner as in Example 1, it was found that 2 C5X 10-'cd
/dyne.

比較例1 15− 2.2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを用
いて、通常のホスゲン法によりポリカーボネート樹脂を
製造した。このものの濃度a、5f/dlの塩化メチレ
ン溶液の20°Cにおける還元粘度〔η8p10〕は0
.51 J/ pであり、またガラス転移温度は148
℃であった。さらに、実施例1と同様にして光弾性定数
を測定したところ、71.9X 1 o ” cd/ 
dyneであった。
Comparative Example 1 A polycarbonate resin was produced using 15-2.2-bis(4-hydroxyphenyl)propane by a normal phosgene method. The reduced viscosity [η8p10] of a methylene chloride solution with a concentration a and 5 f/dl at 20°C is 0.
.. 51 J/p, and the glass transition temperature is 148
It was ℃. Furthermore, when the photoelastic constant was measured in the same manner as in Example 1, it was found to be 71.9X 1 o ” cd/
It was dyne.

特許出願人 出光興産株式会社 16一Patent applicant: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 16 one

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、一般式 いずれかを示す。但し、mは4〜10を示す。)で表わ
される繰返し単位CI)を有し、かつ濃度0.5f/d
iの塩化メチレン溶液の20°Cにおける還元粘度(?
ap/ O)がo、2dl/g−以上のポリホルマール
系重合体からなる光学機器ml素材。 2一般式 いずれかを示す。但し、mは4〜10を示す。)で表わ
される繰返し単位CI)および 一般式 いずれかを示す。但し、mは4〜10を示す。)で表わ
される繰返し単位〔■〕を有し、かつ前記繰返し単位C
I)および[II)のモル分率をそれぞれkおよびtと
したときのk / k −) tの値が0.5を超える
ものであると共に、濃度o、sy−/dtの塩化メチレ
ン溶液の20°Cにおける還元粘度C9ap/ O)が
0.2d//g以上のポリホルマール系共重合体からな
る光学機器II材。
[Claims] 1. Any of the general formulas is shown. However, m indicates 4 to 10. ), and has a concentration of 0.5 f/d.
Reduced viscosity (?) of methylene chloride solution of i at 20°C
An optical equipment ml material made of a polyformal polymer having ap/O) of o, 2 dl/g- or more. Show either of the two general formulas. However, m indicates 4 to 10. ) and any of the general formulas are shown. However, m represents 4 to 10. ) has a repeating unit [■], and the repeating unit C
k/k-) where the molar fractions of I) and [II) are k and t, respectively, the value of t is greater than 0.5, and the methylene chloride solution with a concentration o, sy-/dt is Optical equipment II material made of a polyformal copolymer having a reduced viscosity C9ap/O) of 0.2 d//g or more at 20°C.
JP59044068A 1984-03-09 1984-03-09 Material for optical instrument and device Granted JPS60188426A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59044068A JPS60188426A (en) 1984-03-09 1984-03-09 Material for optical instrument and device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59044068A JPS60188426A (en) 1984-03-09 1984-03-09 Material for optical instrument and device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60188426A true JPS60188426A (en) 1985-09-25
JPS6362528B2 JPS6362528B2 (en) 1988-12-02

Family

ID=12681309

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59044068A Granted JPS60188426A (en) 1984-03-09 1984-03-09 Material for optical instrument and device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60188426A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01157926A (en) * 1987-12-14 1989-06-21 Idemitsu Kosan Co Ltd Novel bisphenols and production thereof
WO2005012379A3 (en) * 2003-07-25 2005-04-21 Bayer Materialscience Ag Polyformals and copolyformals with reduced water absorption, production and use thereof
WO2014073559A1 (en) 2012-11-07 2014-05-15 三菱瓦斯化学株式会社 Polyformal resin copolymer and production method

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3069386A (en) * 1959-02-04 1962-12-18 Union Carbide Corp Thermoplastic aromatic polyformal resins and process for preparing same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3069386A (en) * 1959-02-04 1962-12-18 Union Carbide Corp Thermoplastic aromatic polyformal resins and process for preparing same

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01157926A (en) * 1987-12-14 1989-06-21 Idemitsu Kosan Co Ltd Novel bisphenols and production thereof
WO2005012379A3 (en) * 2003-07-25 2005-04-21 Bayer Materialscience Ag Polyformals and copolyformals with reduced water absorption, production and use thereof
JP2007500760A (en) * 2003-07-25 2007-01-18 バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト Polyformal and copolyformal with reduced water absorption, their production and use
US7199208B2 (en) 2003-07-25 2007-04-03 Bayer Materialscience Ag Polyformals and copolyformals with reduced water absorption, production and use thereof
WO2014073559A1 (en) 2012-11-07 2014-05-15 三菱瓦斯化学株式会社 Polyformal resin copolymer and production method
KR20150082427A (en) 2012-11-07 2015-07-15 미츠비시 가스 가가쿠 가부시키가이샤 Polyformal resin copolymer and production method
US9321887B2 (en) 2012-11-07 2016-04-26 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Polyformal resin copolymer and method for producing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6362528B2 (en) 1988-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6210160A (en) Material for optical instrument
JP2828699B2 (en) Polymer compound and optical molded product comprising the same
JPS60188426A (en) Material for optical instrument and device
JPH0645678B2 (en) Material for optical disc
JPH0319248B2 (en)
WO1992014772A1 (en) Branched polycarbonate
JPH07292095A (en) Method of modifying aromatic polycarbonate resin
JPH11199663A (en) Polycarbonate polymer
JPS61149901A (en) Material for optical instrument
JPS60188422A (en) Material for optical instrument and device
JPS61223025A (en) Material for optical instrument
JPS60166321A (en) Material for optical device
JPS61213218A (en) Material for optical instrument
JPS61268725A (en) Material for use in optical equipment
JPS6236457A (en) Material for optical instrument
JPS62185709A (en) Material for optical instrument
JPH073481B2 (en) Materials for optical equipment
JP2520096B2 (en) Polycarbonate copolymer and method for producing the same
JP2529164B2 (en) Polycarbonate resin composition
JP2625906B2 (en) Optical material resin
US4923962A (en) Optical disk substrate comprising aromatic polycarbonate
JPH01223121A (en) Resin composition for optical material
TW561166B (en) Copolycarbonates based on indanebisphenols
JPH01292031A (en) Resin composition for optical material
JP2516883B2 (en) Polymer and method for producing the same