JPS6018720A - Contact-point holding mechanism in liquid level gage using thick film resistor - Google Patents

Contact-point holding mechanism in liquid level gage using thick film resistor

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Publication number
JPS6018720A
JPS6018720A JP12724683A JP12724683A JPS6018720A JP S6018720 A JPS6018720 A JP S6018720A JP 12724683 A JP12724683 A JP 12724683A JP 12724683 A JP12724683 A JP 12724683A JP S6018720 A JPS6018720 A JP S6018720A
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JP
Japan
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bracket
slider
thick film
contact
rotating body
Prior art date
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Pending
Application number
JP12724683A
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Japanese (ja)
Inventor
Shizuya Miyauchi
宮内 静也
Kiyoshi Yamashita
山下 清志
Taketoshi Fujigaya
藤ケ谷 武敏
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Koito Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Koito Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6018720A publication Critical patent/JPS6018720A/en
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01FMEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F23/00Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm
    • G01F23/30Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by floats
    • G01F23/32Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by floats using rotatable arms or other pivotable transmission elements
    • G01F23/36Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by floats using rotatable arms or other pivotable transmission elements using electrically actuated indicating means

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Abstract

PURPOSE:To stabilize the contact pressure between a slider and a thick paper resistor, by the constitution wherein the central part of rotation of the slider is rotated by a rotary between facing bracket and a holding plate with the central part being held by two rotary bodies. CONSTITUTION:A rotary body 39 is inserted into a rotary-body holding hole 5 of a bracket main body 1. A base part 54 of a slider 53 is coupled to a coupling projection 48 of the rotary body 39 from the outside. A coupling recess part 50 of a following rotary body 49 is coupled to the coupling projection 48 of the rotary body 39. Under this state, a holding plate 8 is fixed to a supporting piece of the bracket 1. Therefore, the slider 53 is held by the rotary body 39 and the following rotary body 49 between the bracket main body 1 and the holding plate 8, and rotated by the rotary body 39. In this constitution, the contact between the slider 53 and thick film resistor films 14A and 14B is always stabilized, and the occurrence of measurement errors can be prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規な厚膜抵抗を使用した液面計における接点
部保持機構に関する。詳しくは、カシメ手段を用いるこ
となく摺動子を回動自在に保持して摺動子の厚膜抵抗体
に対する接触圧が変化することなく常に一定に保たれる
ようにした新規な接点部保持機構を提供しようとするも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a contact holding mechanism in a liquid level gauge using a novel thick film resistor. In detail, this is a new contact holding device that rotatably holds the slider without using caulking means so that the contact pressure of the slider against the thick film resistor remains constant without changing. It is intended to provide a mechanism.

背景技術とその問題点 厚膜抵抗を使用した液面計における接点部保持機構とし
て、例えば、第1図及び第2図に示すものが知られてい
る。
BACKGROUND ART AND PROBLEMS There is known a contact holding mechanism in a liquid level gauge using a thick film resistor, for example, as shown in FIGS. 1 and 2.

aは液体収容タンクに対して固定的に設けられたブラケ
ット本体で、該ブラケット本体aと、該本体aから適宜
離間して平行に配置された保持板すとの間に水平回動軸
Cが回動自在に支持されている。そして、該水平回動軸
Cのブラケット本体aの外側面から突出された部分は直
角に折曲げられて回動腕dとされている。
A is a bracket main body fixedly provided to the liquid storage tank, and a horizontal rotation axis C is between the bracket main body a and a holding plate arranged parallel to the main body a at an appropriate distance. It is rotatably supported. A portion of the horizontal rotation shaft C protruding from the outer surface of the bracket body a is bent at a right angle to form a rotation arm d.

回動腕dの先端部にはフロートeが固定されており、タ
ンク内の液面の変動に応じてフロートeが上下動すると
、それに従って回動腕dがその基部を中心として回動す
るようにされている。
A float e is fixed to the tip of the rotating arm d, and when the float e moves up and down in response to fluctuations in the liquid level in the tank, the rotating arm d rotates around its base accordingly. It is being done.

水平回動軸Cの中間部には円筒状の摺動子保持体fが外
嵌状に固定され、該保持体fの反ブラケット本体側の端
面gにはそこから遠心方向に延びるように摺動子保持板
りが固定されており、更に該摺動子保持板りの先端には
板状の摺動子iが保持されている。
A cylindrical slider holder f is externally fixed to the middle part of the horizontal rotation axis C, and a slider holder f is fitted on the end face g of the holder f on the side opposite to the bracket main body so as to extend in the centrifugal direction from there. A slider holding plate is fixed, and a plate-shaped slider i is held at the tip of the slider holding plate.

該摺動子iの先端は扇状の厚膜抵抗体jに弾接せしめら
れており、フロートeの上下運動によって水平回動軸C
が回動されると該摺動子iの先端が厚膜抵抗体jの表面
上を摺動するようにされている。
The tip of the slider i is brought into elastic contact with a fan-shaped thick film resistor j, and the horizontal rotation axis C is caused by the vertical movement of the float e.
When the slider i is rotated, the tip of the slider i slides on the surface of the thick film resistor j.

しかして、このような機構によれば、液面の変化による
フロートeの上下運動をフロートeが支持された回動腕
dの回動運動に変換し、その回動が摺動子保持板りから
摺動子iに伝えられる。すると、摺動子iの厚膜抵抗体
jと接触する位置が弧状の軌跡を描いて変化し、それに
応じて厚膜抵抗体jの一端とその摺動子iとの間の抵抗
値が変化する。そして、その厚膜抵抗体jの一端と摺動
子iとの間には一定の電圧が加わるようにされているの
で、そこに流れる電流は液面の変化に基づくその抵抗値
の変化によって変化することになるところで、上記機構
における水平回動軸Cのブラケット本体a及び保持板す
による支承は具体的には次のようにして行なわれる。
According to such a mechanism, the vertical movement of the float e due to a change in the liquid level is converted into the rotational movement of the rotating arm d on which the float e is supported, and the rotation is caused by the movement of the slider holding plate. This is conveyed to Suriko I. Then, the contact position of the slider i with the thick film resistor j changes in an arcuate trajectory, and the resistance value between one end of the thick film resistor j and the slider i changes accordingly. do. Since a constant voltage is applied between one end of the thick film resistor j and the slider i, the current flowing there changes depending on the change in resistance value due to changes in the liquid level. Specifically, the horizontal rotation axis C in the above mechanism is supported by the bracket body a and the holding plate in the following manner.

即ち、水平回動軸Cの回動腕d側の端部kには塑性変形
させることによって、例えば軸方向に延びる数個の係合
突起1.1101.を設け、そして、ワッシャmを回動
軸Cの反回動腕d側から該係合突起1.1111.に衝
合する位置まで嵌合し、該水平回動軸Cを反回動腕d側
端部からブラケット本体aに挿通し、それからブラケッ
ト本体aと保持板すとの間にて水平回動軸Cに前述の円
筒状の摺動子保持体fを外嵌状に固定し、更に、その水
平回動軸Cの先端部を保持板すの保持孔nに挿通し、該
水平回動軸Cの保持板すから突出した先端部をカシメ0
、これによって水平回動軸Cがブラケット本体aと保持
板すとの間に回動自在に支持されるようにする。
That is, by plastically deforming the end k of the horizontal rotation axis C on the rotation arm d side, for example, several engaging protrusions 1.1101. , and then insert the washer m from the opposite rotational arm d side of the rotational shaft C to the engagement protrusion 1.1111. , insert the horizontal rotation shaft C into the bracket body a from the opposite end of the rotation arm d, and then insert the horizontal rotation shaft C between the bracket body a and the holding plate. The above-mentioned cylindrical slider holder f is fitted onto C, and the tip of the horizontal rotation axis C is inserted into the holding hole n of the holding plate, and the horizontal rotation axis C Caulk the tip protruding from the retaining plate.
, so that the horizontal rotation axis C is rotatably supported between the bracket body a and the holding plate.

ところで、水平回動軸Cの先端をカシメる場合、その水
平回動軸Cの保持板すからの突出量を少なくしてその先
端が保持板すにきちんと係合するようにすると水平回動
軸Cのずれをなくすことができるが、このようにした場
合にはカシメる際に保持板b、ブラケット本体aに大き
な力が加わり保持板b、ブラケット本体aがその力によ
って変形されてしまう慣れがある。そして、はなはだし
い場合には、水平回動軸Cが回動不能となることすらあ
る。そこで、その保持板す、ブラケット本体aの変形を
避けるため、水平回動軸Cの保持板すからの突出量を大
きくして、その先端のカシメ部と保持板すとの間に遊び
を持たせるすようにすればカシメ加工の際に保持板す、
ブラケット本体aにほとんど力が加わらないようにする
ことができるが、このようにすると水平回動軸Cに回動
中に軸方向へのずれが生じ易くなり、そのずれによって
摺動子iの厚膜抵抗体jに対する接触が不安定となり、
A111定誤差が大きくなったり、あるいは測定不能な
状態になったりする惧れがあった。
By the way, when caulking the tip of the horizontal rotation shaft C, it is best to reduce the amount of protrusion of the horizontal rotation shaft C from the holding plate so that the tip properly engages with the holding plate. Although it is possible to eliminate the misalignment of C, in this case, when crimping, a large force is applied to the retaining plate B and the bracket body A, and the retaining plate B and the bracket body A are deformed by that force. be. In extreme cases, the horizontal rotation axis C may even become unable to rotate. Therefore, in order to avoid deformation of the retaining plate and the bracket body a, the amount of protrusion of the horizontal rotation shaft C from the retaining plate is increased to create play between the caulked portion at the tip and the retaining plate. If you let it slide, the retaining plate will be removed during caulking.
Although it is possible to prevent almost any force from being applied to the bracket body a, in this case, the horizontal rotation axis C tends to shift in the axial direction during rotation, and this shift causes the thickness of the slider i to decrease. Contact with membrane resistor j becomes unstable,
There was a risk that the A111 constant error would become large or that measurement would become impossible.

発明の目的 本発明は以−Hの欠点を改善すべく為されたもので、カ
シメ手段を用いることなく、摺動子を回動自在に保持し
て摺動子の抵抗体に対する接触圧が変化することなく常
に一定に保たれるようにした新規な接点部保持機構を提
供しようとするものである。
Purpose of the Invention The present invention has been made in order to improve the following drawbacks, and it is possible to hold the slider rotatably without using caulking means and change the contact pressure of the slider against the resistor. The present invention aims to provide a novel contact holding mechanism that is always kept constant without causing any damage.

発明の概要 本発明厚膜抵抗を使用した液面計における接点部保持機
構は、上記目的を達成するために、液体収容容器に対し
て固定的に設けられるブラケットにその一部分と適宜離
間して対向する保持板を固定し、上記ブラケットと保持
板の互いに対向する位置にそれぞれ回転体保持孔が形成
され、上記ブラケットと保持板の間には、上記ブラケッ
トの回転体保持孔に回転自在に挿通された挿通部を有す
る伝動回転体と上記保持板の回転体保持孔に回動自在に
嵌合される嵌合部を有する従動回転体とを設け、その接
触端が厚膜抵抗体に摺接するように回動する摺動子の回
転中心部が上記2つの回転体の間に挟持されたことを特
徴とするものである。
Summary of the Invention In order to achieve the above object, the contact holding mechanism in the liquid level gauge using the thick film resistor of the present invention is provided with a contact holding mechanism that is mounted on a bracket that is fixedly provided to the liquid container and faces a part of the liquid container at an appropriate distance. A rotating body holding hole is formed at a position where the bracket and the holding plate face each other, and an insertion hole rotatably inserted into the rotating body holding hole of the bracket is formed between the bracket and the holding plate. and a driven rotor having a fitting portion that is rotatably fitted into the rotor holding hole of the holding plate, and the driven rotor is rotated so that its contact end is in sliding contact with the thick film resistor. The rotating center of the moving slider is sandwiched between the two rotating bodies.

実施例 以下に、本発明厚膜抵抗を使用した液面計における接点
部保持機構を添付図面に示した実施例に従って詳細に説
明する。
EXAMPLES Below, a contact holding mechanism in a liquid level gauge using the thick film resistor of the present invention will be explained in detail according to examples shown in the accompanying drawings.

第3図乃至第11図は本発明厚膜抵抗を使用した液面計
における接点部保持機構の実施の一例を示すもので、自
動車の燃料計における接点保持機構に適用したものであ
る。
3 to 11 show an example of a contact holding mechanism in a liquid level gauge using the thick film resistor of the present invention, which is applied to a contact holding mechanism in an automobile fuel gauge.

図面において、1は板状のブラケット本体で、その一端
部が直角に折曲げられて固定片2が形成されている。3
はブラケット本体1が取付けられる取付板で、液体収容
容器の天井に固定されるものである。4は取付板3の中
央部に形成された丘陵部で、該取付板3の中心部を液体
収容容器の天井に固定される面と反対側に隆起せしめて
形成したもので、該天井との間に空間ができるようにさ
れており、それによってその中央部に後述するターミナ
ルを貫設することができるようにされている。そして、
該取付板3中夫の丘陵部4の一側縁部にブラケット本体
lの固定片2が溶接等の手段によって固着され、取付板
3を液体収容容器の天井に固定したときにブラケット本
体lか液体収容容器の天井から垂下状に支持されるよう
になっている。
In the drawings, reference numeral 1 denotes a plate-shaped bracket main body, one end of which is bent at a right angle to form a fixing piece 2. 3
is a mounting plate to which the bracket body 1 is attached, and is fixed to the ceiling of the liquid container. Reference numeral 4 denotes a hilly portion formed at the center of the mounting plate 3, which is formed by raising the center of the mounting plate 3 on the side opposite to the surface fixed to the ceiling of the liquid container. A space is created in between, which allows a terminal, which will be described later, to be inserted through the center of the space. and,
The fixing piece 2 of the bracket main body l is fixed to one side edge of the hilly part 4 of the mounting plate 3 by means such as welding, and when the mounting plate 3 is fixed to the ceiling of the liquid container, the bracket main body l It is supported in a hanging manner from the ceiling of the liquid storage container.

ブラケット本体lの反固定片2側の端部から該ブラケッ
ト本体1の稍中央部寄りの部分には回転体保持孔5が穿
設されている。6.6はブラケット本体lの両側縁に設
けられた一対の支持片で、回転体保持孔5を挾んで互い
に反対側の位置でブラケット本体1の表面側に略直角に
折曲げられて互いに対向されている。7.7.7.7は
支持片6.6の先端部に形成されたカシメ用突起である
。8はブラケット本体1と対向する位置に設けられた保
持板であり、この保持板8の両側部に設けられた挿通孔
9.9に前記突起7.7.7,7が挿通され、その挿通
端がそれぞれ上下にカシメられそれによって保持板8は
一対の支持片6.6の先端間に支持されてブラケット本
体lと一足の間隔を置いて対向される。10は従動体保
持孔で前記保持板8の略中央部に設けられており、前記
回転体保持孔5と対向されている。
A rotating body holding hole 5 is bored in a portion of the bracket body 1 from the end on the side opposite to the fixed piece 2 toward the center of the bracket body 1. Reference numeral 6.6 denotes a pair of support pieces provided on both side edges of the bracket body 1, which are bent approximately at right angles to the surface side of the bracket body 1 at positions opposite to each other with the rotating body holding hole 5 in between, and are opposed to each other. has been done. 7.7.7.7 is a caulking projection formed at the tip of the support piece 6.6. Reference numeral 8 denotes a holding plate provided at a position facing the bracket main body 1, and the protrusions 7, 7, 7 are inserted into insertion holes 9.9 provided on both sides of this holding plate 8. The ends are caulked upward and downward, respectively, so that the retaining plate 8 is supported between the tips of the pair of supporting pieces 6.6, and is opposed to the bracket main body 1 at a distance of one foot. Reference numeral 10 denotes a driven body holding hole, which is provided approximately at the center of the holding plate 8, and is opposed to the rotary body holding hole 5.

11はブラケット本体1表面上にリベットで取り付けら
れた絶縁基板で、該絶縁基板11の前記ブラケット本体
1に形成された回転体保持孔5と対地する位置に該保持
孔5よりも大径の孔12が形成されている。13は該絶
縁基板11上に配置された厚膜抵抗形成基板で、セラミ
ック基板上に厚膜抵抗膜14A、14Bと後述するり−
ド剖及び電極部を形成して成るものであり、具体的には
貴金属の粉末を有機結合剤に混ぜて厚膜抵抗膜14A、
14B、リード部及び電極部を形成するペーストを作り
、これをセラミック基板上に印刷し、その後略730〜
1000℃の温度で燃成することによって製造される。
Reference numeral 11 denotes an insulating substrate mounted on the surface of the bracket main body 1 with rivets, and a hole having a larger diameter than the holding hole 5 is provided in the insulating substrate 11 at a position facing the rotating body holding hole 5 formed in the bracket main body 1. 12 are formed. Reference numeral 13 denotes a thick film resistance forming substrate disposed on the insulating substrate 11, and thick film resistance films 14A and 14B, which will be described later, are formed on the ceramic substrate.
Specifically, the thick film resistive film 14A is made by mixing precious metal powder with an organic binder.
14B, make a paste for forming lead parts and electrode parts, print this on a ceramic substrate, and then about 730~
It is produced by combustion at a temperature of 1000°C.

該厚膜抵抗膜14A、14Bは回転体保持孔5を中心に
略円弧を描くように並設されている。
The thick film resistive films 14A and 14B are arranged side by side in a substantially circular arc with the rotating body holding hole 5 as the center.

15は該厚膜抵抗形成基板13上に厚膜抵抗膜14A、
14Bと同じ材料で形成されたリード部であり、16a
、16b、16c、16d、16eは同じく基板13上
に形成された電極である。
15 is a thick film resistor film 14A on the thick film resistor forming substrate 13;
It is a lead part formed of the same material as 14B, and 16a
, 16b, 16c, 16d, and 16e are electrodes similarly formed on the substrate 13.

電極18aは第3図及び第4図における左上隅に位置さ
れ、電極16bは同じく左下隅に位置され、電極16c
は右下隅に設けられる。電極16dは厚膜抵抗膜14A
の左端稍」一方に設けられ、電極16eは基板13下縁
に沿って前記電極16bに近接した位置に設けられてい
る。そして、電極16aと電極16cとの間はリード部
15によって接続されている。
Electrode 18a is located at the upper left corner in FIGS. 3 and 4, electrode 16b is also located at the lower left corner, and electrode 16c
is located in the lower right corner. The electrode 16d is a thick resistive film 14A.
The electrode 16e is provided at a position close to the electrode 16b along the lower edge of the substrate 13. The electrode 16a and the electrode 16c are connected by a lead portion 15.

また、電極16bはリード部15によって一端が電極1
6dと接続され、また厚膜抵抗膜14Aの左端および厚
膜抵抗膜14Bの左端が該リード部15に直結されてい
る。
Further, one end of the electrode 16b is connected to the electrode 1 by the lead portion 15.
6d, and the left end of the thick film resistive film 14A and the left end of the thick film resistive film 14B are directly connected to the lead portion 15.

更に、電極16eはリード部15によって厚膜抵抗膜1
4Aの右端および厚膜抵抗膜14Bの右端と接続されて
いる。
Further, the electrode 16e is connected to the thick resistive film 1 by the lead portion 15.
4A and the right end of the thick film resistive film 14B.

17は厚膜抵抗形成基板13の第3図における左下部を
絶縁基板11に固定するための取付片であり、該取伺片
17の厚Hり抵抗形成基板13側半部17aは電極16
b上に半田付けされ、取付板3側の半部17bは絶縁基
板11にリベットで固定されている。尚、厚膜抵抗形成
基板13の電極16aが設けられた第3図における右上
部は後述する導電子の接続片を電極16aに半田付けす
ることによって絶縁基板11に固定される。しかして、
厚膜抵抗形成基板13は電極16a及び16bが設けら
れた対角部を押えることによって絶縁基板ll上に固定
される。
Reference numeral 17 denotes a mounting piece for fixing the lower left part of the thick film resistance forming substrate 13 in FIG.
b, and the half portion 17b on the mounting plate 3 side is fixed to the insulating substrate 11 with rivets. The upper right portion of the thick film resistor forming substrate 13 in FIG. 3, where the electrode 16a is provided, is fixed to the insulating substrate 11 by soldering a conductive connection piece, which will be described later, to the electrode 16a. However,
The thick film resistor formed substrate 13 is fixed onto the insulating substrate 11 by pressing the diagonal portions where the electrodes 16a and 16b are provided.

18a、18b、18c、18dは厚膜抵抗形成基板1
3を絶縁基板11に固定するにあたって位置決めするた
めに絶縁基板11表面に一体に形成された位置決め用の
突起で、突起18a、18bは厚膜抵抗形成基板13の
回転体保持孔5側、即ち、第3図における上側の側縁と
当接する位置に設けられており、18cは第3図におけ
る左側であって、厚膜抵抗形成基板13の取付板3側の
側縁、即ち第3図における下側の側縁と当接する位置に
設けられている。また、18dは電極16Cが設けられ
た厚膜抵抗形成基板13の右下部の隅部を斜めに切欠い
てなる傾斜辺19と当接する位置に設けられている。
18a, 18b, 18c, 18d are thick film resistance forming substrates 1
3 is a positioning protrusion integrally formed on the surface of the insulating substrate 11 for positioning when fixing the resistor 3 to the insulating substrate 11. 18c is located on the left side in FIG. 3 and is located on the side edge of the thick film resistor forming substrate 13 on the mounting plate 3 side, that is, the lower side edge in FIG. 3. It is provided at a position where it comes into contact with the side edge of the side. Further, 18d is provided at a position where it abuts on an inclined side 19 formed by obliquely cutting out the lower right corner of the thick film resistor forming substrate 13 on which the electrode 16C is provided.

20a、20bは取付板3の丘陵部4に設けられたター
ミナル取付孔21.21に貢通状に設けられたターミナ
ルで、前記厚膜抵抗膜14A、14Bとリード部15a
、15b、15cと後述の摺動子とから成る可変抵抗器
と、前体■1y容容器外部に設けられたところの図示し
ない液体検出回路との間を接続する役割を果す。このタ
ーミナル20a、20bのブラケッI・本体1側の端部
はリード線22.22を介してそれぞれ電極16b、1
6Cに接続されている。
20a and 20b are terminals provided in a terminal mounting hole 21.21 provided in the hilly portion 4 of the mounting plate 3 in the shape of a tributary, and are connected to the thick film resistive films 14A and 14B and the lead portion 15a.
, 15b, 15c and a slider to be described later, and a liquid detection circuit (not shown) provided outside the container of the front body 1y. The ends of the terminals 20a, 20b on the bracket I/main body 1 side are connected to the electrodes 16b, 1 via lead wires 22, 22, respectively.
Connected to 6C.

尚、ターミナル20aは棒状で中間部にフラン1 ジ23が一体に形成されており、そのフランジ23より
も第7図における上側の部分は円柱状に形成されてリー
ド線接続部24とされている。又、フランジ23よりも
下側の部分は正四角柱状に形成され、該部分の先端の円
柱部外周面にはねじ溝25が形成されている。26はタ
ーミナル20aと取付板3との間を絶縁するためのスペ
ーサで、ターミナル20aの四角柱状部分27を通す断
面形状が正方形の孔28を有し、一端部にはフランジ2
6aが一体に形成されている。該スペーサ26は、取付
板3のターミナル取付孔21にブラケット本体l側から
嵌挿され、そのフランジ26aがターミナル取付孔21
の縁部に係合せしめられる。そして、該スペーサ26の
フランジ26aには0リング29が外嵌され、該スペー
サ26の孔28にはブラケット本体l側からターミナル
20aの正四角柱部27が嵌挿される。尚、ターミナル
20aのターミナル取付孔21から突出された部分は取
付板3の反ブラケット本体側に配置された絶縁板30の
挿通孔31に嵌挿され、絶縁板32 0によって取付板30反ブラケット本体側の面とターミ
ナル20aとが絶縁せしめられる。そして、ターミナル
20aの絶縁板30の挿通孔31から突出した部分、つ
まり前記ねじ溝25が外周面に形成されている部分にナ
ツト32が螺着される33は絶縁板30とナツト32と
の間にターミナル20aに外嵌された状態で介挿された
導電材料から成るL字状のターミナル片で、該ターミナ
ル片33には図示しない液体検出回路に接続された図示
しないリード線が接続される。尚、上記0リング29は
前記スペーサ26のフランジ26aに外嵌された状態で
1ターミナル20aのフランジ23と取付板3の丘陵部
4との間に圧縮状に介在されており、液体が丘陵部4か
らその液体収容容器天井側に侵入するのを防止する役割
を果す。
The terminal 20a is rod-shaped and has a flange 23 integrally formed in its middle portion, and a portion above the flange 23 in FIG. 7 is formed into a cylindrical shape and serves as a lead wire connection portion 24. . Further, the portion below the flange 23 is formed into a regular square prism shape, and a thread groove 25 is formed on the outer peripheral surface of the cylindrical portion at the tip of the portion. 26 is a spacer for insulating between the terminal 20a and the mounting plate 3, and has a hole 28 with a square cross section through which the rectangular columnar portion 27 of the terminal 20a is passed, and a flange 2 at one end.
6a is integrally formed. The spacer 26 is fitted into the terminal mounting hole 21 of the mounting plate 3 from the bracket main body l side, and its flange 26a is inserted into the terminal mounting hole 21 of the mounting plate 3.
is engaged with the edge of the An O-ring 29 is fitted onto the flange 26a of the spacer 26, and a square prism 27 of the terminal 20a is fitted into the hole 28 of the spacer 26 from the bracket main body l side. The portion of the terminal 20a protruding from the terminal mounting hole 21 is fitted into the insertion hole 31 of the insulating plate 30 disposed on the side of the mounting plate 3 opposite to the bracket body, and the insulating plate 320 connects the mounting plate 30 to the opposite side of the bracket body. The side surface and the terminal 20a are insulated. A nut 32 is screwed into a portion 33 of the terminal 20a that protrudes from the insertion hole 31 of the insulating plate 30, that is, a portion where the thread groove 25 is formed on the outer peripheral surface, between the insulating plate 30 and the nut 32. The terminal piece 33 is an L-shaped terminal piece made of a conductive material that is inserted into the terminal 20a in a state that it is fitted onto the outside of the terminal 20a.A lead wire (not shown) connected to a liquid detection circuit (not shown) is connected to the terminal piece 33. The O-ring 29 is fitted onto the flange 26a of the spacer 26 and is compressed between the flange 23 of the first terminal 20a and the hill 4 of the mounting plate 3, so that the liquid does not flow into the hill. 4 to the ceiling side of the liquid storage container.

尚、丘陵部4には、ターミナル20aと共にターミナル
20bも設けられているが、ターミナル20bはその形
状、取付方法がターミナル20aと同じになっているの
でその説明を省略する。
Incidentally, a terminal 20b is provided in addition to the terminal 20a in the hilly portion 4, but since the terminal 20b has the same shape and mounting method as the terminal 20a, the explanation thereof will be omitted.

34は上記リード線22をクランプするクランプ片で、
その基部35は取付板3周縁の反ブラケット本体1例の
面にスポット溶接等の手段で固定されており、基部35
の一端寄りの両側縁に突出形成された一対の互いに長さ
の異なる翼片36.37を適宜に折り曲げることによっ
てリード!!22が把持されるようになっている。
34 is a clamp piece for clamping the lead wire 22;
The base 35 is fixed to the surface of the anti-bracket main body on the periphery of the mounting plate 3 by means such as spot welding.
Lead by appropriately bending a pair of wing pieces 36 and 37 of different lengths that are formed protrudingly on both side edges near one end! ! 22 is designed to be held.

尚、38.38.38.38は取付板3の周縁に設けら
れた取付孔で、液体収容容器に取付板3を取付けるため
の図示しないボルトが挿通されるものである。
Incidentally, reference numerals 38, 38, 38, 38 are mounting holes provided on the periphery of the mounting plate 3, through which bolts (not shown) for mounting the mounting plate 3 to the liquid storage container are inserted.

前記ブラケット本体1の回転体保持孔5には絶縁材料、
例えば合成樹脂から成る略円筒形の回転体39がブラケ
ット本体lの表面側から挿通されている。該回転体39
の略中央部周面にはその中心軸と垂直で目一つ互いに反
対方向に延びる一対の係合片40.40が一体に形成さ
れており、該保合片40.40はブラケット本体1の表
面に当接せしめられている。該回転体39のブラケット
本体lの裏面から突出した側の端面には回転体39の中
心孔41を通ってその端面を横切る回動腕係止溝42が
形成されている。そして、L字形に折曲げられた回動腕
43の連結腕44が回転体39の中心孔41内に圧入さ
れる共に、後述する従動回転体の中心孔41に嵌挿され
、回動腕部分45の基部が回動腕係止溝42に嵌合され
る。この回動腕部分45は中間部にてブラケット本体1
の裏側から見て〈字状に曲折されており、その先端には
フロート46が固定される。尚、ブラケット本体1の尺
取付板側の端部には回動規制片47.47か設けられ、
該回動規制片47.47で限定される範囲内に前記回動
腕部分45が位置するようにぎれ、液量がゼロのときは
その回動腕部分45が一方の回動規制片47と当接し、
液体が容器に略満杯のときはその回動腕部分45が他方
の回動規制片47と当接することによって、回動腕43
の回動が一定の範囲で行なわれるように規制されている
。また、回転体39の反回動腕係止溝42側の端面の略
中心に断面形状が非円形の嵌合突起5 48が形成されている。
The rotating body holding hole 5 of the bracket main body 1 is made of an insulating material,
A substantially cylindrical rotating body 39 made of, for example, synthetic resin is inserted through the bracket main body l from the surface side. The rotating body 39
A pair of engaging pieces 40.40 are integrally formed on the circumferential surface of the approximately central part of the bracket body 1, and the engaging pieces 40.40 are perpendicular to the central axis and extend in opposite directions. It is brought into contact with the surface. A rotating arm locking groove 42 is formed in the end surface of the rotating body 39 on the side protruding from the back surface of the bracket main body l, passing through the center hole 41 of the rotating body 39 and crossing the end surface. Then, the connecting arm 44 of the rotating arm 43 bent into an L shape is press-fitted into the center hole 41 of the rotating body 39, and is also fitted into the center hole 41 of the driven rotating body, which will be described later, so that the rotating arm portion 45 is fitted into the rotating arm locking groove 42. This rotating arm portion 45 is connected to the bracket main body 1 at the intermediate portion.
When viewed from the back side, it is bent into a shape, and a float 46 is fixed to the tip. Incidentally, a rotation regulating piece 47, 47 is provided at the end of the bracket body 1 on the side of the scale mounting plate.
The rotating arm portion 45 is positioned within the range limited by the rotation regulating pieces 47 and 47, and when the liquid level is zero, the rotating arm portion 45 comes into contact with one of the rotation regulating pieces 47. contact,
When the container is almost full of liquid, the rotating arm portion 45 comes into contact with the other rotation regulating piece 47, so that the rotating arm 43
The rotation is restricted within a certain range. Further, a fitting protrusion 548 having a non-circular cross-sectional shape is formed approximately at the center of the end surface of the rotating body 39 on the side opposite to the rotational arm locking groove 42 .

49は従動回転体で、その軸方向における一端面には断
面形状が非円形の嵌合凹部50が形成され、他端面の中
央部には保持板8の従動体保持孔10に回転可能に嵌挿
される断面形状円形の突起51がそれぞれ一体に突設さ
れている。該従動回転体49はその嵌合凹部50に回転
体39の嵌合突起48か嵌合され、上記円形の突起51
が保持板8の内側から従動体保持孔10に嵌挿されてお
り、それによって該従動回転体49と回転体39とはブ
ラケット本体1と保持板8との間において互いに一体的
に回転可能な状態で保持される。それと共に、該従動回
転体49の中心を貫通する中心孔52と回転体39の中
心孔41とが連通される。そして、これら中心孔41及
び52に前記回動腕43の連結腕44が圧入される。
Reference numeral 49 denotes a driven rotating body, which has a fitting recess 50 with a non-circular cross section formed on one end surface in the axial direction, and is rotatably fitted into the driven body holding hole 10 of the holding plate 8 at the center of the other end surface. A protrusion 51 having a circular cross section to be inserted is integrally provided. The driven rotating body 49 has the fitting protrusion 48 of the rotating body 39 fitted into the fitting recess 50, and the circular protrusion 51
is inserted into the driven body holding hole 10 from the inside of the holding plate 8, so that the driven rotating body 49 and the rotating body 39 can rotate integrally with each other between the bracket body 1 and the holding plate 8. maintained in the state. At the same time, the center hole 52 passing through the center of the driven rotating body 49 and the center hole 41 of the rotating body 39 are communicated with each other. The connecting arm 44 of the rotating arm 43 is press-fitted into these center holes 41 and 52.

53は回転体39の回転に応じてこれと一体に回動して
先端が厚膜抵抗11114A、14Bの表面を摺動する
ようにされた摺動子である。54は該摺動子53の略円
形の基部、55はその基部546 の周縁から突出せしめられた略長方形状の摺動片、56
は該摺動片55の先端に設けられた接触部で、厚膜抵抗
膜14A、14Bに接触せしめられる。
Reference numeral 53 denotes a slider which rotates together with the rotation of the rotating body 39 so that its tip slides on the surfaces of the thick film resistors 11114A and 14B. 54 is a substantially circular base of the slider 53; 55 is a substantially rectangular sliding piece protruding from the periphery of the base 546; 56;
is a contact portion provided at the tip of the sliding piece 55, which is brought into contact with the thick film resistive films 14A, 14B.

該摺動子53の基部54には回転体39の嵌合突起48
が挿通され、それと係合する係合孔57が形成されてお
り、嵌合突起48は該係合孔57 ゛に挿通された状態
で、前記従動回転体49の嵌合凹部50に嵌挿され、こ
れによって、摺動子53の基部54が回転体39と従動
回転体4′9との間に挾持せしめられる。
A fitting protrusion 48 of the rotating body 39 is provided at the base 54 of the slider 53.
is inserted into the engagement hole 57, and the engagement projection 48 is inserted into the engagement hole 57 and inserted into the engagement recess 50 of the driven rotary body 49. As a result, the base portion 54 of the slider 53 is held between the rotating body 39 and the driven rotating body 4'9.

尚、前記接触部56にはU字状の切込58が形成され、
該切込58によって摺動片55が内片59とそれを囲む
U字状の外片60とに分けられており、内片59及び外
片60の裏側、即ち厚膜抵抗形成基板13側の面の先端
部中央に接点61乃び62が固定されている。該内片5
9及び外片60はその先端部の接点61及び62が厚膜
抵抗形成基板13の厚膜抵抗膜14A、14B表面に弾
接されるように適宜に曲折されている。
Note that a U-shaped notch 58 is formed in the contact portion 56,
The notch 58 divides the sliding piece 55 into an inner piece 59 and a U-shaped outer piece 60 that surrounds it, and the back side of the inner piece 59 and the outer piece 60, that is, the thick film resistor forming substrate 13 side. Contact points 61 and 62 are fixed at the center of the tip of the surface. Said inner piece 5
9 and the outer piece 60 are bent as appropriate so that the contacts 61 and 62 at the tips thereof come into elastic contact with the surfaces of the thick film resistive films 14A and 14B of the thick film resistor forming substrate 13.

しかして、液面の変位に従って前記回動腕43が連結腕
部分44を中心に回動し、それに応じて回転体39が回
転すると、その回転力が互いに結合する嵌合突起48及
び係合孔57を介して摺動子53に伝達され、摺動子5
3先端の接点61.62が厚膜抵抗膜14A、14B表
面上に弾接せしめられた状態でその表面上を移動する。
Accordingly, when the rotating arm 43 rotates around the connecting arm portion 44 in accordance with the displacement of the liquid level, and the rotating body 39 rotates accordingly, the fitting protrusion 48 and the engaging hole combine the rotational forces with each other. 57 to the slider 53, and the slider 5
The contacts 61 and 62 at the third tip move on the surfaces of the thick film resistive films 14A and 14B while being in elastic contact with the surfaces.

63は弾性材料から成る導電子で、摺動子53と前記厚
膜抵抗形成基板13上の電極16aとの間を電気的に接
続する役割を果すもので、その長四角形の基部64が絶
縁基板11にリベットにより固定されている。65は導
電子63の基部64に厚膜抵抗形成基板13の電極16
aまで延びるように突出形成された接続端子で、その先
端部は電極16aに半田付けされている。この半田付け
によって前述の通り、厚膜抵抗形成基板13の第3図に
おける右上部か絶縁基板11に固定される。 66は導
電子63の基部64から回転体39側に延びる弾接片で
、該弾接片66はその先端がコ字状に切欠67れていて
、この切欠67の間を9 回転体39が通るようにされている。該弾接片66の回
転体39の上下両側に位置する2つの先端部の保持板8
側の面にはそぞれぞれ接点68.69が打出し状に形成
されており、そして導電子63の弾接片66を適宜に折
曲げることによって接点68.69が摺動子53の基部
54周縁のブラケット本体l側の面に弾接せしめられる
ようにされており、接続端子65によって摺動子53と
厚膜抵抗形成基板13の電極16aとが電気的に接続さ
れる。
A conductive element 63 is made of an elastic material and serves to electrically connect the slider 53 and the electrode 16a on the thick film resistance forming substrate 13, and its rectangular base 64 is connected to the insulating substrate. 11 with rivets. Reference numeral 65 indicates an electrode 16 of the thick film resistor forming substrate 13 on the base 64 of the conductor 63.
This is a connecting terminal that is formed in a protruding manner so as to extend to a point a, and its tip end is soldered to the electrode 16a. As described above, by this soldering, the upper right portion of the thick film resistor forming substrate 13 in FIG. 3 is fixed to the insulating substrate 11. Reference numeral 66 denotes an elastic contact piece extending from the base 64 of the conductive element 63 toward the rotating body 39. The elastic contact piece 66 has a U-shaped notch 67 at its tip, and the rotating body 39 passes between the notches 67. It is allowed to pass. Two holding plates 8 at the tip portions of the elastic contact piece 66 are located on both upper and lower sides of the rotating body 39.
Contact points 68 and 69 are formed in a embossed shape on each side surface, and by appropriately bending the elastic contact pieces 66 of the conductor 63, the contacts 68 and 69 are attached to the slider 53. It is made to come into elastic contact with the surface of the peripheral edge of the base portion 54 on the side of the bracket main body l, and the slider 53 and the electrode 16a of the thick film resistance forming substrate 13 are electrically connected by the connecting terminal 65.

しかして、ターミナル20a、20b間には回動腕43
の回動に応じて抵抗が変化する可変抵抗器が形成される
ことになり、この可変抵抗器は液体収容容器の外部に設
けられた液体検出回路と接続される。そして、該液体検
出回路によりその可変抵抗器の抵抗値を検出することに
よって回動腕43の回動角度、延いては液面の高さが検
出される。
Therefore, a rotating arm 43 is provided between the terminals 20a and 20b.
A variable resistor whose resistance changes according to the rotation of the liquid container is formed, and this variable resistor is connected to a liquid detection circuit provided outside the liquid container. Then, by detecting the resistance value of the variable resistor by the liquid detection circuit, the rotation angle of the rotation arm 43 and, by extension, the height of the liquid level are detected.

図示した液面計においては、ブラケット本体lの両側縁
の回転体保持孔5を挾んで互いに反対側0 の位置にブラケット本体1の表面側に直角に延びる一対
の支持片6.6が設けられ、ブラケット本体1の回転体
保持孔5にその表側から回転体39が挿通され、該回転
体39の中間部の保合片40.40がブラケット本体1
表面に当接せしめられている。該回転体39の反ブラケ
・ント本体l側に・ は回転体39の嵌合突起48に外
嵌された状態の摺動子53の基部54を挾んで従動回転
体49が配置され、この従動回転体49の嵌合凹部50
に回転体39の嵌合突起48を嵌合することによって摺
動子53の基部54が回転体39と従動回転体49とに
よって挾持されるようになっている。
In the illustrated liquid level gauge, a pair of support pieces 6.6 are provided at positions opposite to each other across the rotating body holding holes 5 on both side edges of the bracket body 1, and extend perpendicularly to the surface side of the bracket body 1. The rotating body 39 is inserted into the rotating body holding hole 5 of the bracket main body 1 from the front side, and the retaining pieces 40 and 40 at the middle part of the rotating body 39 are inserted into the rotating body holding hole 5 of the bracket main body 1.
It is brought into contact with the surface. A driven rotating body 49 is disposed on the opposite side of the rotating body 39 from the bracket main body L, sandwiching the base 54 of the slider 53 that is fitted onto the fitting protrusion 48 of the rotating body 39. Fitting recess 50 of rotating body 49
By fitting the fitting protrusion 48 of the rotary body 39 into the base portion 54 of the slider 53, the base portion 54 of the slider 53 is held between the rotary body 39 and the driven rotary body 49.

そして、その状態で保持板8を支持片6.6の先端部に
固定するようにされている。更に保持板8両端部の突起
挿通孔9.9に支持片6.6先端面のカシメ用突起7.
7.7.7が挿通されるようにして保持板8を支持片6
.6先端にあてがい、該保持板8の従動体保持孔10に
従動回転体49の突起51を挿通した状態で突起7.7
.7,7をカシメることによって保持板8を支持片6.
6先端間に支持せしめている。
In this state, the holding plate 8 is fixed to the tip of the support piece 6.6. Furthermore, the protrusion insertion holes 9.9 at both ends of the holding plate 8 are provided with caulking protrusions 7.
7.7.7 is inserted through the support plate 8 and the support piece 6
.. 6 and insert the protrusion 51 of the driven rotating body 49 into the driven body holding hole 10 of the holding plate 8.
.. By caulking 7, 7, the retaining plate 8 is attached to the support piece 6.
It is supported between 6 tips.

従って、摺動子53はブラケット本体1と保持板8との
間において回転体39及び従動回転体49によってしっ
かりと挾持され、回転体39の回転に伴って回動するよ
うに支持されており、従来におけるような摺動子の支持
のためにブラケット本体1の保持板が変形されたり、そ
の変形によって摺動子かスムースに回動しなくなったり
してしまう惧れは全くなく、従って、摺動子53を保持
するために遊びを設ける必要もない。依って、摺動子5
3の厚膜抵抗膜14A、14Bに対する接触が不安定と
なり、測定誤差が大きくなったり測定不能な状態になっ
たりする惧れかない。
Therefore, the slider 53 is firmly held between the bracket body 1 and the holding plate 8 by the rotating body 39 and the driven rotating body 49, and is supported so as to rotate with the rotation of the rotating body 39. There is no risk that the holding plate of the bracket body 1 will be deformed to support the slider as in the conventional case, or that the slider will not rotate smoothly due to the deformation, and therefore the slider will not rotate smoothly. There is no need to provide any play to hold the child 53. Therefore, slider 5
The contact with the thick film resistive films 14A and 14B of No. 3 becomes unstable, and there is a risk that the measurement error will increase or the measurement will become impossible.

変形例 第12図は本発明に係る厚膜抵抗を使用した液面計にお
ける接点部保持機構の変形例の要部を示すものである。
Modified Example FIG. 12 shows the main part of a modified example of the contact holding mechanism in a liquid level gauge using a thick film resistor according to the present invention.

本変形例においては、L字形のターミナル片33のかわ
りに回路実装基板70がターミナル20a、20bとナ
ツト32.32との間に保持される。そして、該回路実
装基#;I70には、抵抗やコンデンサ等の電子部位が
実装される尚、」二記取付板3の反丘陵部4側は車体な
ど取付面に対して空間ができるようにされているので、
その空間部分にモールド樹脂71が充填せしめられる。
In this modification, instead of the L-shaped terminal piece 33, a circuit mounting board 70 is held between the terminals 20a, 20b and the nuts 32, 32. Electronic parts such as resistors and capacitors are mounted on the circuit mounting board #; Since it has been
The space is filled with mold resin 71.

しかして、この変形例によれば、取付板3の反丘陵部4
側にモールド樹脂71を充填することによって回路実装
基板70−ヒに実装された抵抗、コンデンサー及びIC
等を塵、水滴、熱等から保護することができる。
According to this modification, the anti-hill portion 4 of the mounting plate 3
Resistors, capacitors, and ICs are mounted on the circuit mounting board 70-A by filling the side with mold resin 71.
etc. can be protected from dust, water droplets, heat, etc.

尚、本変形例を実施することにより外部に設けた液体検
出回路の回路実装基板70の実装基板面積を減らすこと
ができるので、液体検出回路をコンパクト化することも
できる。
Note that by implementing this modification, the mounting board area of the circuit mounting board 70 for the liquid detection circuit provided outside can be reduced, so the liquid detection circuit can also be made more compact.

発明の効果 以上に述べたところから明らかなように、本発明厚膜抵
抗を使用した液面計における接点部保持機構は、静体収
容容器に対して固定的に設けられるブラケットにその一
部分と適宜離間して対向する保持板を固定し、上記ブラ
ケットと保持板との互いに対向する位置にそれぞれ回転
体保持孔が形成され、上記ブラケットと保持板との間に
は、上記ブラケットの回転体保持孔に回転自在に挿通さ
れた挿通部を有する伝動回転体と上記保持板の回転体保
持孔に回動自在に嵌合される嵌合部を有する従動回転体
とを設け、その接触端が厚膜抵抗体に摺接するように回
動する摺動子の回転中心部が上記2つの回転体の間に挟
持されたことを特徴とするものである。
Effects of the Invention As is clear from the above description, the contact holding mechanism in the liquid level gauge using the thick film resistor of the present invention is provided by attaching a portion of the contact portion to a bracket fixedly provided to the static body container as appropriate. Holding plates facing each other at a distance are fixed, and rotating body holding holes are formed in positions where the bracket and the holding plate face each other, respectively, and between the bracket and the holding plate, the rotating body holding holes of the bracket are formed. A transmission rotating body having an insertion portion rotatably inserted into the holding plate, and a driven rotating body having a fitting portion rotatably fitted into the rotating body holding hole of the holding plate, the contact end of which has a thick film. This is characterized in that the center of rotation of the slider, which rotates so as to come into sliding contact with the resistor, is sandwiched between the two rotating bodies.

従って、本発明によれば、摺動子の回転中心部がブラケ
ットと保持板との互いに対向する部分間において2つの
回転体の間に挟持された状態で回転体の回動に伴って回
動するように保持されるので摺動子の厚膜抵抗体に対す
る接触圧が変化することがなく常に一定に保たれるよう
にすることが可能となる。
Therefore, according to the present invention, the rotational center of the slider is held between the two rotating bodies between the mutually opposing portions of the bracket and the holding plate, and rotates with the rotation of the rotating bodies. Since the slider is held in such a manner that the contact pressure of the slider against the thick film resistor does not change, it is possible to always keep it constant.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

3 第1図は従来の厚膜抵抗を使用した液面計における接点
部保持機構の一例を示す縦断面図、第2図は第1図にお
ける厚膜抵抗の摺動面を示す拡大図、第3図乃至第11
図は本発明厚膜抵抗を使用した液面形における接点部保
持機構の実施の一例を示し、第3図は分解斜視図、第4
図は厚膜抵抗形成基板の拡大正面図、第5図は正面図、
第6図は平面図、第7図は第3図のA−A線に沿うター
ミナル部の拡大断面図、第8図はターミナルに設けたス
ペーサの斜視図、第9図はコードクランプ部を示す拡大
斜視図、第10図は要部を示す縦断面図、第11図は要
部の拡大斜視図、第12図はターミナル取付部の変形例
を示す拡大断面図である。 符号の説明 1・・・ブラケット、5・・Φ回転体保持孔、8・・番
保持板、lO◆・・回転体保持孔、14e・・厚膜抵抗
体、39・Φ・伝動回転体、49幸・・従動回転体、5
1・・・嵌合部、54 3・・・摺動子、54命φ・回転中心部、61.62・
・・接触端 第5図 第7図 2 第8図 第9図
3. Figure 1 is a longitudinal cross-sectional view showing an example of a contact holding mechanism in a level gauge using a conventional thick film resistor, and Figure 2 is an enlarged view showing the sliding surface of the thick film resistor in Figure 1. Figures 3 to 11
The figures show an example of the implementation of a contact holding mechanism in a liquid level type using the thick film resistor of the present invention, FIG. 3 is an exploded perspective view, and FIG.
The figure is an enlarged front view of the thick film resistor forming substrate, Figure 5 is a front view,
Fig. 6 is a plan view, Fig. 7 is an enlarged sectional view of the terminal section taken along line A-A in Fig. 3, Fig. 8 is a perspective view of the spacer provided in the terminal, and Fig. 9 shows the cord clamp section. FIG. 10 is an enlarged perspective view, FIG. 10 is a longitudinal cross-sectional view showing the main part, FIG. 11 is an enlarged perspective view of the main part, and FIG. 12 is an enlarged cross-sectional view showing a modification of the terminal attachment part. Explanation of symbols 1... Bracket, 5... Φ Rotating body holding hole, 8... Holding plate, lO◆... Rotating body holding hole, 14e... Thick film resistor, 39... Φ Transmission rotating body, 49...Followed rotating body, 5
1... Fitting part, 54 3... Slider, 54 Life φ/Rotation center part, 61.62.
...Contact end Fig. 5 Fig. 7 Fig. 2 Fig. 8 Fig. 9

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 液体収容容器に対して固定的に設けられるブラケットに
その一部分と適宜離間して対向する保持板を固定し、「
上記ブラケットと保持板の互いに対向する位置にそれぞ
れ回転体保持孔か形成され」、上記ブラケットと保持板
との間には、上記ブラケットの回転体保持孔に回転自在
に挿通された挿通部を有する伝動回転体と上記保持板の
回転体保持孔に回動自在に嵌合される嵌合部を有する従
動回転体とを設け、その接触端が厚膜抵抗体に摺接する
ように回動する摺動子の回転中心部が上記2つの回転体
の間に挟持されたことを特徴とする厚膜抵抗を使用した
液面計における接点部保持機構
A holding plate facing a part of the liquid container at an appropriate distance is fixed to a bracket fixedly provided to the liquid storage container, and
A rotating body holding hole is formed in each of the bracket and the holding plate at positions facing each other, and an insertion portion is rotatably inserted into the rotating body holding hole of the bracket between the bracket and the holding plate. A sliding member includes a transmission rotating body and a driven rotating body having a fitting portion that is rotatably fitted into the rotating body holding hole of the holding plate, and the sliding member rotates so that its contact end slides into contact with the thick film resistor. A contact holding mechanism in a liquid level gauge using a thick film resistor, characterized in that the center of rotation of the mover is sandwiched between the two rotating bodies.
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