JPS6018673B2 - Method for producing 7-(2-substituted phenylglycinamide)cephalosporanic acid derivative - Google Patents

Method for producing 7-(2-substituted phenylglycinamide)cephalosporanic acid derivative

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JPS6018673B2
JPS6018673B2 JP518675A JP518675A JPS6018673B2 JP S6018673 B2 JPS6018673 B2 JP S6018673B2 JP 518675 A JP518675 A JP 518675A JP 518675 A JP518675 A JP 518675A JP S6018673 B2 JPS6018673 B2 JP S6018673B2
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規な7一(2−置換フェニルグリシンアミ
ド)セフアロスポラン酸誘導体の製造法に関するもので
あり、その祖数略を式で示すと次の通りである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a novel 7-(2-substituted phenylglycinamide) cephalosporanic acid derivative, which is represented by the following formula.

(式中、Rはアルキル基、Xは保護されたアミノ基をそ
れぞれ意味する)この発明の方法はセフアロスポリンC
の4位カルボキシ基における誘導体をィミノハロゲン化
し、次いでィミノェーテル化し、得られる反応生成物に
2一層襖フェニルグリシン(1)またはそのカルポキシ
基における反応性誘導体を作用させ、次いで反応生成物
を加溶媒分解反応に付し、得られる反応生成物のアミノ
基が保護されているときには次いでそのアミノ保護基の
脱離反応に付すことによって行なわれる。
(In the formula, R means an alkyl group and X means a protected amino group, respectively.) The method of this invention uses cephalosporin C
The derivative at the carboxyl group at the 4-position is iminohalogenated and then iminoetherized, the resulting reaction product is treated with phenylglycine (1) or its reactive derivative at the carpoxy group, and then the reaction product is subjected to a solvolysis reaction. When the amino group of the resulting reaction product is protected, the reaction product is then subjected to an elimination reaction of the amino protecting group.

セファロスポリンCの4位カルボキシ基における議導体
としては、メチルェステル、エチルェステル、第3級ブ
チルェステル、第3級ベンチルェステル、トリメチルシ
リルエステル、2−メシルヱチルエステル、トリクロロ
メチルエステル、2−ヨードエチルエステル、2,2,
2一クロロエチルエステル、ベンジルエステル、4ーメ
トキシベンジルエステル、4ーニトロベンジルエステル
、フエナシルエステル、フエネチルエステル、ジフエニ
ルメチルエステル、トリチルエステル、ビス(メトキシ
フエニル)メチルエステル、3,4−ジメトキシベンジ
ルエステル、1−シクロプロピルエチルエステル、エチ
ニルエステル、4一ヒドロ*シー3,5−ジ第3級ブチ
ルベンジェステル等のェステルのほか、セファロスポリ
ンCとジクロロジメチルシランもしくはジクロロジメト
キシシランなどとの反応生成物であるェステル、アミド
などが挙げられる。
Examples of the conductor at the 4-carboxy group of cephalosporin C include methyl ester, ethyl ester, tertiary butyl ester, tertiary bentylester, trimethylsilyl ester, 2-mesylethyl ester, trichloromethyl ester, 2-iodoethyl ester, ,2,
2-chloroethyl ester, benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenacyl ester, phenethyl ester, diphenylmethyl ester, trityl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3,4- In addition to esters such as dimethoxybenzyl ester, 1-cyclopropylethyl ester, ethynyl ester, 4-hydro*cy-3,5-ditertiary butylbengester, cephalosporin C and dichlorodimethylsilane or dichlorodimethoxysilane, etc. Examples include esters, amides, etc., which are reaction products with.

ィミノハロゲン化はセフアロスポリンCの4位カルボ*
シ基における誘導体にィミノハロゲン化剤を作用させる
こにより行なわれる。
Iminohalogenation is at the 4-position carbo* of cephalosporin C.
This is carried out by allowing an iminohalogenating agent to act on the derivative at the silyl group.

ここで使用されるィミノハロゲン化剤としては、たとえ
ば3塩化燐、5塩化燐、3臭化燐、5臭化燐、オキシ塩
化燐、塩化チオニル、ホスゲン等が特に繁用される。反
応温度は特に限定されないが、通常室温から冷却下で反
応が行なわれる。このようにして得られる反応生成物を
次いでィミノェーテル化反応に付す。
As the iminohalogenating agent used here, for example, phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus tribromide, phosphorus pentabromide, phosphorus oxychloride, thionyl chloride, phosgene, etc. are particularly frequently used. Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out at room temperature or under cooling. The reaction product thus obtained is then subjected to an iminoetherification reaction.

ィミノェーテル化反応は上記の反応生成物に有機ヒドロ
キシ化合物またはその塩類を作用させることにより行な
われる。ここで使用される有機ヒドロキシ化合物または
その塩類としては、アルコール類もしくは金属アルコキ
シサィド類が挙げられ、アルコール類としてはメタノー
ルエタノール、ブロパノール、インプロピルアルコール
、ブタノール、エチレングリコールプロピレングリコー
ル、第3級ブチルアルコール等のアルカノール類または
これらのアルキル部分がメトキシ、ェトキシ、プロポキ
シ、イソフ。ロポキシ、ブトキシ、第3級ブトキシ等の
アルコキシ基等で置換された化合物が挙げられる。また
、金属アルコキサィド類としては、上記のようなアルコ
ール類から誘導されるナトリウムアルコキサィド、カリ
ウムアルコキサイド等のアルカリ金属アルコキサイドお
よびカルシウムアルコキサィド、バリウムアルコキサィ
ド等のアルカリ士類金属アルコキサィドなどが例示され
る。反応温度は特に限定されないが、通常冷却下〜室温
で反応が行なわれる。このようにして得られる反応生成
物に次いで2−置換フェニルグリシン(1)またはその
カルボキシ基における反応性議導体を作用させる。
The iminoetherization reaction is carried out by reacting the above reaction product with an organic hydroxy compound or a salt thereof. Examples of the organic hydroxy compound or its salts used here include alcohols or metal alkoxides, and the alcohols include methanol ethanol, propanol, inpropyl alcohol, butanol, ethylene glycol propylene glycol, tertiary butyl Alkanols such as alcohol, or their alkyl moieties are methoxy, ethoxy, propoxy, isof. Examples include compounds substituted with alkoxy groups such as lopoxy, butoxy, and tertiary butoxy. In addition, metal alkoxides include alkali metal alkoxides such as sodium alkoxide and potassium alkoxide derived from the alcohols mentioned above, and alkali metal alkoxides such as calcium alkoxide and barium alkoxide. Examples include metal alkoxides. Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out under cooling to room temperature. The reaction product thus obtained is then treated with 2-substituted phenylglycine (1) or a reactive catalyst at its carboxy group.

2一層襖フェニルグリシンは前記の一般式(1)で表わ
され、さらに詳細にはメチル、エチル、フ。
2 One-layer phenylglycine is represented by the general formula (1) above, and more specifically, phenylglycine is methyl, ethyl, or phenylglycine.

ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第3級ブ
チル、ベンチル、ヘキシル等のアルキル基をRとして有
し、保護されたアミノ基をXとして有する化合物を意味
する。ここで保護されたァミノ基における保護基として
はペンジルオキシカルポニル、4ーニトロベンジルオキ
シカルボニル、4−プロモベンジルオキシカルボニル、
4ーメトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメ
トキシベンジルオキシカルボニル、4一(フヱニルアゾ
)ペンジルオキシカルボニル、4一(4−メトキシフエ
ニルアゾ)ペンジルオキシカルボニル、第3級ブトキシ
カルボニル、第3級ベンチルカルボニル、イソフ。ロポ
キシカルボニル、ジフエニルメトキシカルボニル、2−
ピリジルメトキシカルボニル、2,2,2ートリクロロ
エトキシカルボニル、2,2,2−トリプロモエトキシ
カルボニル、1ーシクロプロピルエトキシカルボニル、
3ーヨードプロポキシカルボニル、2−フリフリルオキ
シカルボニル、1ーアダマンチルオキシカルボニル、8
−キノリルオキシカルボニル、トリフルオロアセチル等
の脱離しやすいアシル基のほかトリチル、2−ニトロフ
ェニルチオ、2,4一ジニトロフエニルチオ、2ーヒド
ロキシベンジリデン、2ーヒドロキシ−5−クロロベン
ジリデン、2ーヒドロキシ−1−ナフチルメチレン、3
ーヒドロキシ−4−ピリジルメチレン、1ーメトキシカ
ルボニル一2ープロピリデン、1ーエトキシカルボニル
一2ープロピリデン、3−工トキシカルボニルー2−ブ
テリデン、1ーアセチルー2ープロピリデン、1−プロ
ピオニルー2−プロピリデン、1−ペンゾイル−2ープ
ロピリデン、1,3−ビス(エトキシカルボニル)一2
ープロピリデン、1−(N−メチルカルバモイル)一2
ープロピリデン、1一N,N−ジメチルカルバモイル)
一2ープロピリデン、1−{N一(2−メトキシフエニ
ル)カルバモイル}、一2ープロピリデン、1−{N(
4ーメトキシフエニル)カルバモイル}一2ープロピリ
デン、1−(N−フエニルカルバモイル)一2ープロピ
リデン、2ーエトキシカルボニルシクロベンチリデン、
2ーアセチルシク0へキシリデン、3,3ージメチルー
5ーオキソシクロヘキシリデン等の脱雄しやすい基が挙
げられる(これらのうち、例えば1−メトキシカルボニ
ルー2−プロピリデンは1ーメトキシカルボニル−1ー
プロベン−2ーィルと表わされることがあり、また例え
ば2−ェトキシカルボニルシクoヘキシリデンは2ーエ
トキシカルボニル−1ーシクロヘキセニルと表わされる
こともある)。また、遊離のァミノ基の塩酸基、臭化水
素酸塩、沃化水素酸塩等の酸塩も保護されたアミ/基と
して例示される。これらの2一置換フェニルグリシン(
1)のカルボキシル基における反応性誘導体としては醗
ハラィド、酸無水物、活性アミド、活性ェステル等が挙
げられるが、特に繁用されるものとしては酸クロラィド
、酸アジド、アルキル炭酸混合無水物、脂肪族カルボン
酸(たとえばピバリン酸、ベンタン酸、ィソベンタン酸
、2ーェチルブタン酸)混合無水物、芳香族カルボン酸
(たとえば安息香酸)混合無水物、対称形酸無水物等の
酸無水物、ィミダゾール、4−置換ィミダゾール、ジメ
チルピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、等との
活性酸アミド、シアノメチルェステル、メトキシメチル
エステル、ビニルエステル、1−〆トキシビニルエステ
ル、1ーエトキシビニルエステル、プロ/ぐルギルエス
テル、pーニトロフエニルエステル、トリクロロフエニ
ルエステル、ベンタクロロフエニルエステル、メタンス
ルホニルフエニルエステル、フエニルアゾフエニルエス
テル、フエニルチオヱステル、pーニトロフエニルチオ
エステル、p一クレジルチオエステル、力ルボキシメチ
ルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル
、ピベリジルエステル、8一キノリルチオエステル、N
,N−ジメチルヒドロキシアミン、1−ヒドロキシー2
(IH)ーピリドン、N−ヒドロキシサクシンイミドも
しくはN−ヒドロキシフタルィミドとのェステル等の活
性ェステル類等が挙げられ、これらは使用する2一層襖
フェニルグリシン(1)の種類に応じて適宜選択される
It means a compound having as R an alkyl group such as propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, bentyl, hexyl, etc. and having as X a protected amino group. Protective groups for the amino group protected here include penzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl, 4-promobenzyloxycarbonyl,
4-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4-(phenylazo)penzyloxycarbonyl, 4-methoxyphenylazo)penzyloxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, tertiary Bentylcarbonyl, isof. Ropoxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 2-
Pyridylmethoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 2,2,2-tripromoethoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl,
3-iodopropoxycarbonyl, 2-furifuryloxycarbonyl, 1-adamantyloxycarbonyl, 8
- In addition to easily leaving acyl groups such as quinolyloxycarbonyl and trifluoroacetyl, trityl, 2-nitrophenylthio, 2,4-dinitrophenylthio, 2-hydroxybenzylidene, 2-hydroxy-5-chlorobenzylidene, and 2-hydroxy -1-naphthylmethylene, 3
-Hydroxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-propylidene, 3-ethoxycarbonyl-2-buteridene, 1-acetyl-2-propylidene, 1-propionyl-2-propylidene, 1-penzoyl-2 -propylidene, 1,3-bis(ethoxycarbonyl)-2
-Propylidene, 1-(N-methylcarbamoyl)-2
-propylidene, 1-N,N-dimethylcarbamoyl)
12-propylidene, 1-{N-(2-methoxyphenyl)carbamoyl}, 12-propylidene, 1-{N(
4-methoxyphenyl)carbamoyl}-2-propylidene, 1-(N-phenylcarbamoyl)-2-propylidene, 2-ethoxycarbonylcyclobentridene,
Examples include groups that are easily demasculinized such as 2-acetylcyclohexylidene and 3,3-dimethyl-5-oxocyclohexylidene (among these, for example, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene is 1-methoxycarbonyl-1-proben-2). For example, 2-ethoxycarbonylcyclohexylidene is sometimes expressed as 2-ethoxycarbonyl-1-cyclohexenyl). Further, acid salts of free amino groups such as hydrochloric acid, hydrobromide, and hydroiodide are also exemplified as protected amino/groups. These 2-monosubstituted phenylglycines (
Examples of reactive derivatives at the carboxyl group in 1) include acid halides, acid anhydrides, active amides, active esters, etc., but particularly frequently used ones include acid chlorides, acid azides, alkyl carbonic acid mixed anhydrides, and fatty acids. Acid anhydrides such as group carboxylic acids (e.g. pivalic acid, bentanoic acid, isobentanoic acid, 2-ethylbutanoic acid) mixed anhydrides, aromatic carboxylic acids (e.g. benzoic acid) mixed anhydrides, symmetrical acid anhydrides, imidazole, 4- Active acid amides with substituted imidazoles, dimethylpyrazoles, triazoles, tetrazoles, etc., cyanomethyl esters, methoxymethyl esters, vinyl esters, 1-toxy vinyl esters, 1-ethoxy vinyl esters, pro/grugyl esters, p-nitro Phenyl ester, trichlorophenyl ester, bentachlorophenyl ester, methanesulfonylphenyl ester, phenyl azophenyl ester, phenylthioester, p-nitrophenyl thioester, p-cresyl thioester, hydroxymethyl thioester , pyranyl ester, pyridyl ester, piveridyl ester, 8-quinolylthioester, N
, N-dimethylhydroxyamine, 1-hydroxy-2
Examples include active esters such as esters with (IH)-pyridone, N-hydroxysuccinimide, or N-hydroxyphthalimide, and these are appropriately selected depending on the type of phenylglycine (1) used. Ru.

この反応は有機塩基の存在下に行なうこともでき、その
場合に使用される有機塩基としては例えばトリアルキル
アミン、N,N−ジアルキルベンジルアミン、ピリジン
等が挙げられる。反応温度は特に限定されないが、通常
、室温〜加温下に反応が行なわれる。この反応において
前段の反応の反応液をそのまま使用してもよく、また反
応液を一旦減圧下に濃縮し、過剰のィミ/ハロゲン化剤
およびアルコール類などを留去したものを使用してもよ
い。このようにして得られる反応生成物を最後に加溶媒
分解反応に付す。
This reaction can also be carried out in the presence of an organic base, and examples of the organic base used in that case include trialkylamine, N,N-dialkylbenzylamine, and pyridine. Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out at room temperature to elevated temperature. In this reaction, the reaction solution from the previous reaction may be used as it is, or the reaction solution may be concentrated under reduced pressure and excess immi/halogenating agent and alcohols distilled off. good. The reaction product thus obtained is finally subjected to a solvolysis reaction.

加溶媒分解反応は、前段で得られる反応液に、水もしく
はメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール
、インプロピルァルコール等のアルコール類またはそれ
らの混合物を加えることにより行なわれる。この反応は
炭酸水素アルカリ金属、トリァルキルアミン等の塩基も
しくは希塩酸、酢酸等の酸の存在下に行なうこともでき
る。反応生成物である7−(2−置換フェニルグリシン
アミド)セフアロスポラン酸誘導体(ロ)は常法により
単離、採取される。この発明の反応は、最後の加溶媒分
解反応の他はすべて無水の条件下で行なうのが望ましい
。なお、セフアロスポリンCのカルボキシ基における誘
導体の種類および反応の条件によっては、遊離のカルボ
キシ基を有する目的化合物(0)が得られることもある
ことが、この場合もこの発明に含まれる。また、化合物
(0)のアミノ基における保護基の種類および反応の条
件によっては、該保護基が脱離した目的化合物(ロ)が
直接得られることもあり、この場合もこの発明に含まれ
る。上記の加溶媒分解反応により得られる生成物のアミ
ノ基が保護されているときには、次いで該生成物をアミ
ノ保護基の脱離反応に付す。
The solvolysis reaction is carried out by adding water or an alcohol such as methanol, ethanol, propanol, butanol, inpropyl alcohol, or a mixture thereof to the reaction solution obtained in the first step. This reaction can also be carried out in the presence of an alkali metal hydrogencarbonate, a base such as a trialkylamine, or an acid such as dilute hydrochloric acid or acetic acid. The reaction product, 7-(2-substituted phenylglycinamide) cephalosporanic acid derivative (b), is isolated and collected by a conventional method. It is preferable that all reactions of this invention are carried out under anhydrous conditions except for the final solvolysis reaction. Note that depending on the type of derivative of the carboxy group of cephalosporin C and the reaction conditions, the target compound (0) having a free carboxy group may be obtained, and this case is also included in the present invention. Further, depending on the type of protecting group on the amino group of compound (0) and the reaction conditions, the target compound (b) from which the protecting group has been removed may be directly obtained, and this case is also included in the present invention. When the amino group of the product obtained by the above-mentioned solvolysis reaction is protected, the product is then subjected to an amino-protecting group elimination reaction.

ァミノ保護基の脱藤反応は、保護基の種類に応じて酸に
よる処理、接触還元等の常用の方法で行なわれる。
The dehydrogenation reaction of the amino protecting group is carried out by conventional methods such as treatment with an acid or catalytic reduction depending on the type of the protecting group.

酸による脱離反応は最も繁用される方法の1つであり、
例えばペンジルオキシカルポニル、置換ペンジルカルボ
ニル、ァルコキシカルボニル、置換アルコキシカルボニ
ル、アラルコキシカルボニル、アダマンチルオキシカル
ボニル、トリチル、置換フェニルチオ、置換ァラルキリ
デン、置換ァルキリデン、置換シクロァルキリデン等に
対して適用される。使用される酸は場合によって異なる
が、減圧下で容易に留去できる義酸、トリフルオロ酢酸
等が最も繁用される。酸による分解において溶媒を使用
する場合は親水性有機溶媒、水またはそれらの混合溶媒
が使用されることが多い。接触還元は例えばペンジルオ
キシカルボニル、置換ペンジルオキシカルボニル、2−
ピリジルメトキシカルボニル等に適用され、最も繁用さ
れるのはパラジウム触媒であるがその他の触媒も用いら
れる。その他、トリフルオロアセチルは水で処理するこ
とにより、またハロゲン置換アルコキシカルボニルおよ
び8ーキノリルオキシカルボニルは銅、亜鉛等の重金属
で処理することにより保護基の脱離反応を行なうのが普
通である。また、遊離のアミノ基の酸塩が保護されたア
ミノ基として存在する化合物(1)を原料物質として使
用したときの反応生成物のァミノ保護基の脱離は、反応
生成物をトリメチルアミン、トリェチルアミン、N−メ
チルピベラジン、N,N−ジメチルアニリン、ピリジン
等の3級有機塩基のほか水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸アンモニウムのような塩基で処理するこせに
より行われる。これらのアミノ保護基の脱離は反応生成
物を特に単離、精製しないでそのまま行なうこともでき
る。このようにして得られる7一(2−置換フェニルグ
リシンアミド)セフアロスポラン酸誘導体(ロ)は常法
によりナトリウム塩、カリウム塩、トリェチルアミン塩
、ジシクロヘキシルアミン塩等の無機もしくは有機塩基
との塩または塩酸塩、硫酸塩、酒石酸塩等の無機もしく
は有機酸との塩など所望の塩に導くことができる。この
発明の方法によって得られる目的物(n)はすべて新規
化合物で、酸およびべニシリナーゼに安定な抗菌性物質
として有用である。
Elimination reaction with acid is one of the most frequently used methods.
For example, applicable to penzyloxycarbonyl, substituted penzylcarbonyl, alkoxycarbonyl, substituted alkoxycarbonyl, aralkoxycarbonyl, adamantyloxycarbonyl, trityl, substituted phenylthio, substituted aralkylidene, substituted alkylidene, substituted cycloalkylidene, etc. be done. The acid used differs depending on the case, but the most commonly used are diprotic acid, trifluoroacetic acid, etc., which can be easily distilled off under reduced pressure. When a solvent is used in acid decomposition, a hydrophilic organic solvent, water, or a mixed solvent thereof is often used. Catalytic reduction is performed, for example, on penzyloxycarbonyl, substituted penzyloxycarbonyl, 2-
It is applied to pyridylmethoxycarbonyl, etc., and the most frequently used catalyst is palladium, but other catalysts are also used. In addition, protective group elimination reactions are usually carried out by treating trifluoroacetyl with water, and treating halogen-substituted alkoxycarbonyl and 8-quinolyloxycarbonyl with heavy metals such as copper and zinc. . Furthermore, when the compound (1) in which a free amino acid salt of an amino group exists as a protected amino group is used as a raw material, the amino protecting group of the reaction product can be removed by converting the reaction product into trimethylamine, triethylamine, It is carried out by straining, which is treated with a tertiary organic base such as N-methylpiverazine, N,N-dimethylaniline, and pyridine, as well as bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, and ammonium carbonate. be exposed. The removal of these amino protecting groups can also be carried out as is without particularly isolating or purifying the reaction product. The thus obtained 7-(2-substituted phenylglycinamide) cephalosporanic acid derivative (b) can be prepared by a conventional method as a salt with an inorganic or organic base such as sodium salt, potassium salt, triethylamine salt, dicyclohexylamine salt, or hydrochloride. , sulfates, tartrates, and other salts with inorganic or organic acids. The objects (n) obtained by the method of this invention are all novel compounds and are useful as acid- and benicillinase-stable antibacterial substances.

次にこの発明の方法を実施例により説明する。Next, the method of the present invention will be explained using examples.

実施例 1‘1)セフアロスポリンCO.83夕を2塩
化メタン20机上に懸濁し、これにトリェチルアミン0
.33机上、クロロトリメチルシラン0.磯机およびN
,N−ジメチルアニリン1.87夕を加え、室温で1時
間蝿拝する。
Example 1'1) Cephalosporin CO. 83 chloride was suspended in 20 ml of dichloromethane, and triethylamine was added to this.
.. 33 desktop, chlorotrimethylsilane 0. Isokki and N
, N-dimethylaniline (1.87 g) was added, and the mixture was incubated at room temperature for 1 hour.

これをアセトン・ドライアイスで−6000に冷却し、
5塩化燐0.88夕を強く燈拝しながら加え、一40〜
一50ooで2時間鷹拝する。これに、N,N−ジメチ
ルアニリン0.11叫およびn−ブタノール8.25柵
を加え、同温度で3び分溜拝した後、徐々に温度を上げ
−15〜一1oo○で3時間蝿拝するこれにN,Nージ
メチルアニリン1.1鰍を−1030以下で滴下し、N
多第3級ブトキシカルボニルー2−(3一メシルアミノ
フエニル)−D−グリシンとクロル義酸ィソブチルとの
混合酸無水物〔調整法:N−第3級ブトキシカルボニル
ー2一(3ーメシルアミノフエニル)−Dーグリシン8
80の9および塩化メチレン5の‘からなる溶液にトリ
ェチルアミン222のoおよびN,Nージメチルベンジ
ルアミン1滴を加る。この溶液をクロル義酸ィソブチル
300の9および塩化メチレン5の‘からなる溶液に蝿
梓下、−15午○で18分間を要して滴下した後、一1
5〜一1400で45分間蝿拝する。〕の塩化メチレン
溶液10の‘を縄梓下、一15〜一100○で5分間を
要して滴下して、一10〜一8℃で1時間、室温で2時
間縄拝する。反応液から溶媒を減圧蟹去し、残留物に酢
酸エチル20の上を加えた後、3%塩酸10机【で2回
、水10地で1回、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液10
の【で2回そして塩化ナトリウム飽和水溶液10の‘で
1回洗浄する。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、減
圧下に溶媒を蟹去する。残留分をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー〔展開溶媒:酢酸エチル(10)十酢酸
(1)に付し、主流出分を減圧下に濃縮乾固する。残留
油状分にエーテルを加えてこすると固化する。固形分を
炉取し、エーテルで洗浄すると、mp83〜84qo(
分解)の無晶形の7一 {N−第3級ブトキシカルボニ
ル−2−(3−メシルアミノフエニル)一Dーグリシン
アミド}セフアロスポラン酸340の9を得る。赤外線
吸収スペクトル ひさぎ寿−ル(肌4):1780 核磁気共鳴吸収スペクトル 60MSo−d6(柳): 1.43(班,s)2.0
5(祖,s)3.03(細,s) 3.30〜3.70(が) 5.06(IH,・d,J=8セ) 5.55〜5.97(IH) 9.13〜9.43(IH) 9.82(IH) } 上記で得た7−{D−N−第3級ブトキシカルボニ
ルーa一(3−メシルアミノフエニル)グリシンアミド
}セフアロスポラン酸1夕および義酸15の【からなる
溶液を室温で3時間擬梓する。
Cool this to -6000 with acetone/dry ice,
Add 0.88 g of 5-phosphorus chloride while stirring strongly, and boil for 140~
I worshiped the hawk for 2 hours for 150 oo. To this, 0.11 ml of N,N-dimethylaniline and 8.25 ml of n-butanol were added, and after incubating at the same temperature for 3 minutes, the temperature was gradually increased and the flies were incubated at -15 to 1100 for 3 hours. Add 1.1 drops of N,N-dimethylaniline to this mixture at -1030 or less, and
Mixed acid anhydride of polytertiary-butoxycarbonyl-2-(3-mesylaminophenyl)-D-glycine and isobutyl chloroformate [Preparation method: N-tertiary-butoxycarbonyl-2-(3-mesylaminophenyl)-D-glycine aminophenyl)-D-glycine 8
To a solution consisting of 9 of 80 and 5 of methylene chloride is added 222 o of triethylamine and 1 drop of N,N-dimethylbenzylamine. This solution was added dropwise to a solution consisting of 300 parts of isobutyl chloroformate and 5 parts of methylene chloride at -15 pm over a period of 18 minutes.
5-11400 and worship for 45 minutes. ] was added dropwise over a period of 5 minutes at 115°C to 1100°C, and the mixture was allowed to stand at 110°C to 18°C for 1 hour and at room temperature for 2 hours. The solvent was removed from the reaction solution under reduced pressure, and 20 parts of ethyl acetate was added to the residue, which was then diluted with 10 parts of 3% hydrochloric acid twice, once with 10 parts of water, and 10 parts of saturated aqueous sodium bicarbonate solution.
and once with 10 ml of saturated aqueous sodium chloride solution. The organic layer is dried over magnesium sulfate and the solvent is removed under reduced pressure. The residue was subjected to silica gel column chromatography [developing solvent: ethyl acetate (10), decaacetic acid (1)], and the main effluent was concentrated to dryness under reduced pressure. Add ether to the remaining oil and rub it to solidify. When the solid content is taken out in a furnace and washed with ether, mp83-84qo (
9 of 7-{N-tert-butoxycarbonyl-2-(3-mesylaminophenyl)-D-glycinamide}cephalosporanic acid 340 is obtained in the amorphous form of (decomposition). Infrared absorption spectrum Hisagi Juru (skin 4): 1780 Nuclear magnetic resonance absorption spectrum 60MSod6 (willow): 1.43 (ban, s) 2.0
5 (so, s) 3.03 (thin, s) 3.30-3.70 (ga) 5.06 (IH, d, J = 8 ce) 5.55-5.97 (IH) 9. 13-9.43 (IH) 9.82 (IH) } 7-{D-N-tertiary-butoxycarbonyl-a-(3-mesylaminophenyl)glycinamide} cephalosporanic acid obtained above and A solution consisting of chloric acid 15 is simulated at room temperature for 3 hours.

この反応液から義酸を減圧蟹去し、残留物に水10羽を
加えた後、酢酸エチルで2回洗浄する。これをイオン交
換樹脂アンバーライトLA−1(オルガノ社製)を含有
したメチルィソブチルケトン溶液3の【に加えて1時間
縄拝する。水層を分取し、エーテルで4回洗浄した後、
凍結乾燥すると、mp240qo(分解)の無色紛末の
7一{D−a一(3一メシルアミノフエニル)グリシン
アミド}セフアロスポラン酸0.63夕を得る。赤外線
吸収スベクトル し釜まま−ル(伽「):1770 核磁気共鳴吸収スペクトル 60の(脚): 2.07(SH,s) 3.13(3日,s) 5.03(IH,d,J=9セ) 5.23(IH,s) 5.70(IH,d,J=8セ) 7.30〜7.63(4日,m)
The acidic acid was removed from the reaction solution under reduced pressure, and 10 pieces of water were added to the residue, which was then washed twice with ethyl acetate. This was added to methyl isobutyl ketone solution 3 containing ion exchange resin Amberlite LA-1 (manufactured by Organo) and left for 1 hour. After separating the aqueous layer and washing it with ether four times,
Freeze-drying yields 0.63 of D-a-(3-mesylaminophenyl)glycinamide}cephalosporanic acid as a colorless powder of mp 240 qo (degraded). Infrared absorption spectrum (leg): 1770 Nuclear magnetic resonance absorption spectrum 60 (leg): 2.07 (SH, s) 3.13 (3 days, s) 5.03 (IH, d , J=9 ce) 5.23 (IH, s) 5.70 (IH, d, J=8 ce) 7.30-7.63 (4 days, m)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 セフアロスポリンCの4位カルボキシ基における誘
導体をイミノハロゲン化し、次いでイミノエーテル化し
、得られる反応生成物に一般式▲数式、化学式、表等が
あります▼ (式中、Rはアルキル基、Xは保護された
アミノ基をそれぞれ意味する)で示される2−置換フエ
ニルグリシンまたはそのカルボキシル基における反応性
誘導体を作用させ、次いで反応生成物を加溶媒分解反応
に付し、得られる反応生成物のアミノ基が保護されてい
るときには次いでそのアミノ保護基の脱離反応に付して
一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは前と同じ意味) で示される7−(2−置換フエニルグリシンアミド)セ
フアロスポラン酸またはそのカルボキシ基における誘導
体を得ることを特徴とする7−(2−置換フエニルグリ
シンアミド)セフアロスポラン酸誘導体の製造法。
[Claims] 1. The derivative at the 4-position carboxy group of cephalosporin C is iminohalogenated and then iminoetherified, and the resulting reaction product has a general formula ▲a mathematical formula, a chemical formula, a table, etc.▼ (in the formula, R is 2-substituted phenylglycine represented by an alkyl group (X means a protected amino group) or a reactive derivative thereof at a carboxyl group, and then the reaction product is subjected to a solvolysis reaction to obtain a When the amino group of the reaction product is protected, the general formula ▲mathematical formula, chemical formula, table, etc. is given for the elimination reaction of the amino protecting group▼ (in the formula, R has the same meaning as before). A method for producing a 7-(2-substituted phenylglycinamide)cephalosporanic acid derivative, which is characterized in that the following 7-(2-substituted phenylglycinamide)cephalosporanic acid or a derivative thereof at the carboxy group is obtained.
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