JPS6018672B2 - Method for producing 7-substituted phenylglycinamido-3-alkanoyloxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acids - Google Patents

Method for producing 7-substituted phenylglycinamido-3-alkanoyloxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acids

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JPS6018672B2
JPS6018672B2 JP8871774A JP8871774A JPS6018672B2 JP S6018672 B2 JPS6018672 B2 JP S6018672B2 JP 8871774 A JP8871774 A JP 8871774A JP 8871774 A JP8871774 A JP 8871774A JP S6018672 B2 JPS6018672 B2 JP S6018672B2
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acid
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alkanoyloxymethyl
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邦彦 田中
禎二 岸本
啓二 高井
芳治 中井
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Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規な7−置換フェニルグリシソァミドー3
ーアルカノイルオキシメチル一3ーセフェムー4ーカル
ボン酸類の製造法に関するものであり、これを式に示す
と次の通りである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention provides a novel 7-substituted phenylglycisamide 3
This relates to a method for producing -alkanoyloxymethyl-3-cephemu-4-carboxylic acids, and the formula is as follows.

(式中tR,はアルカノィル基、R2はアルキル基、X
はアミノ基または保護されたアミノ基をそれぞれ意味す
る)この発明で用いられるカルボン酸類(0)およびそ
のカルボキシ基における反応性誘導体は新規化合物であ
り、例えば次に図示する方法に従って製造することがで
きる。
(In the formula, tR is an alkanoyl group, R2 is an alkyl group,
(means an amino group or a protected amino group, respectively) The carboxylic acids (0) used in this invention and their reactive derivatives at the carboxy group are new compounds, and can be produced, for example, according to the method illustrated below. .

(式中、R2は前と同じ意味であり、X′は保護された
アミノ基を意味する)この発明の方法は7−アミノー3
ーアルカノィルオキシメチル−3−セフェムー4−カル
ボン酸類(1)またはそのアミノ基および(もしくは)
カルボキシ基における誘導体にカルボン酸類(ロ)また
はそのカルポキシ基における反応性誘導体を作用させる
ことにより行われる。
(wherein R2 has the same meaning as before and X' means a protected amino group).
-alkanoyloxymethyl-3-cephemu-4-carboxylic acids (1) or its amino group and/or
This is carried out by reacting a carboxylic acid (b) or a reactive derivative thereof with a carboxy group on a derivative with a carboxyl group.

この発明で用いられる7−アミノ−3−アルカノイルオ
キシメチルー3−セフエムー4−力ルボン酸類(1)は
前記の一般式(1)で表わされるがさらに詳細には、ホ
ルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ベンタノ
ィル等のアルカノイル基をR,として有する化合物を意
味する。これらの7ーアミノー3−アルカノイルオキシ
メチルー3−セフェム−4−カルボン酸類(1)のアミ
ノ基における譲導体としては化合物(1)とビストリメ
チルシリルアセトアミドのようなシリル化合物との反応
生成物が挙げられ、またカルボキシ基における誘導体と
しては、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、
カルシウム塩、トリェチルアミン塩等の塩類、メチルェ
ステル、エチルェステル、第3級ブチルヱステル、第3
級ベンチルヱステル、トリメチルシリルエステル、2−
メシルエチルエステル、トリクロ。メチルエステル、2
−ヨードエチルエステルY2,2,2−トリクロロエチ
ルエステル、ベンジルエステル、4ーメトシベンジルヱ
ステル、4ーメトキシベンジルエステル、4ーニトロベ
ンジルエステル、フエナシルエステル、フエネチルエス
テル、トリチルエステル、ビス(メトキシフエニル)メ
チルエステル、3,4−ジメトキシベンジルエステル、
(1−シクロプロピル)エチルエステル、エチニルェス
テル、4ーヒドロキシ−3,5ージ第3級プチルベンジ
ルエステル、ベンツヒドリルエステル等のェステル等が
挙げられる。もう一方の原料であるカルボン酸類は前記
の一般式(0)で表わされるが、さらに詳細には、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ィソブ
チル、第3級ブチル、ベンチル、ヘキシル等のアルキル
基をR2として有し、アミノ基または保護されたアミノ
基を×として有する化合物を意味する。
The 7-amino-3-alkanoyloxymethyl-3-cepheme-4-carboxylic acids (1) used in this invention are represented by the general formula (1) above, but more specifically, formyl, acetyl, propionyl, butyryl , refers to a compound having an alkanoyl group as R, such as bentanoyl. Examples of derivatives of the amino group of these 7-amino-3-alkanoyloxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acids (1) include reaction products of compound (1) and silyl compounds such as bistrimethylsilylacetamide. , and derivatives at the carboxy group include sodium salt, potassium salt, magnesium salt,
Salts such as calcium salts and triethylamine salts, methyl ester, ethyl ester, tertiary butyl ester, tertiary
Bentyl ester, trimethylsilyl ester, 2-
Mesyl ethyl ester, triclo. methyl ester, 2
-Iodoethyl ester Y2,2,2-trichloroethyl ester, benzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-methoxybenzyl ester, 4-nitrobenzyl ester, phenacyl ester, phenethyl ester, trityl ester, bis(methoxy phenyl) methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester,
Examples include esters such as (1-cyclopropyl)ethyl ester, ethynyl ester, 4-hydroxy-3,5-ditertiary butylbenzyl ester, and benzhydryl ester. The other raw material, carboxylic acids, is represented by the above-mentioned general formula (0), but more specifically, it includes alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, bentyl, hexyl, etc. It means a compound having R2 as R2 and an amino group or a protected amino group as x.

ここで保護されたアミノ基における保護基としては、た
とえばペンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジル
オキシカルボニル、4−プロモベンジルオキシカルボニ
ル、4ーメトキシベンジルオキシカルボニル、3,4ー
ジメトキシベンジルオキシカルポニル、4一(フエニル
アゾ)ペンジルオキシカルボニル、4一(4一メトキシ
フエニルアゾ)ペンジルオキシカルボニル、第3級プト
キシカルボニル、第3級ベンチルオキシカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、ジフエニルメトキシカルボニ
ル、2−ピリジルメトキシカルポニル、2,2,2ート
リクロロエトキシカルボニル、2,2,2ートリプロモ
エトキシカルボニル、1ーシクロプロピルエトキシカル
ポニル、3−ヨードプロポキシカルボニル、2−フルフ
リルオキシカルボニル、1−アダマンチルオキシカルボ
ニル、8−キ/リルオキシカルボニル、トリフルオロア
セチル等の脱離しやすいアシル基のほかトリチル、2−
ニトロフェニルチオ、2,4一ジニトロフエニルチオ、
2ーヒドロキシベンジリデン、2ーヒドロキシー5−ク
ロロベンジリデン、2−ヒド。キシー1ーナフチルメチ
レン、3ーヒドロキシー4ーピリジルメチレン、1−メ
トキシカルボニルー2ープロピリデン、1−ヱトキシカ
ルボニルー2ーブロピリデン、3ーエトキシカルボニル
−2−ブチリデン、1−アセチル−2ープロピリデン、
1ープロピオニルー2−プロピリデン、1ーベンゾイル
ー2ープロピリデン、1,3−ピス(エトキシカルボニ
ル)−2ープロピリデン、1−(N−メチルカルバモイ
ル)一2ーブロピリデン、1一(N,N−ジメチルカル
バモイル)−2ープロピリデン、1一{N−(2ーメト
キシフエニル)力ルバモイル}一2−プロピリデン、1
一{N一(4ーメトキシフエニル)カルバモイル}一2
−プロピリデン、1一(N一フエニルカルバモイル)−
2−プロピリデン、2ーエトキシカルボニルシクロベン
チリデン、2−アセチルシクロヘキシリデン、3,3ー
ジメチル−5ーオキソシクロヘキシリデン等の脱離しや
すい基が挙げられる(これらのうち、例えば1ーメトキ
シカルボニル一2−プロピリデンは1ーメトキシカルボ
ニル一1−プロベン−2ーイルと表わされることがあり
、また例えば2ーェトキシカルボニルシクロヘキシリデ
ンは2−エトキシカルボニル−1−シクロヘキセニルと
表わされることもある)。また、遊離のアミノ基の塩酸
塩、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩等の酸塩も保護された
アミノ基として例示される。これらのカルボン酸類(0
)のカルボキシ基における反応性誘導体としては、たと
えば酸ハラィド、酸無水物、活性アミド、活性ヱステル
等があげられるが、特に繁用されるものとしては酸クロ
ラィド、酸アジド、ジアルキル燐酸混合無水物、フェニ
ル燐酸混合無水物、ジフェニル燐酸混合無水物、ジベン
ジル燐酸混合無水物、ハロゲン化燐酸浪合無水物、ジア
ルキル函燐酸混合無水物、亜硫酸混合無水物、チオ硫酸
混合無水物、硫酸混合無水物、ァルキル炭酸混合無水物
、脂肪族カルボン酸(たとえばピバリン酸、ベンタン酸
、イソベソタン酸、2−エチルブタン酸、トリクロル酢
酸)混合無水物、対称形酸無水物等の酸無水物「ィミダ
ゾール、4−置換ィミダゾール、ジメチルピラゾール、
トリアゾール、テトラゾールとの醗アミド、シアノメチ
ルエステル、メトキシメチルエステル、ビニルエステル
、プロパルギルヱステル、4ーニトロフエニルエステル
、2,4−ジニトロフエニルエステル、トリクロロフエ
ニルエステル、ベンタクロロフエニルエステル、メタン
スルホニルフエニルエステル、フエニルアゾフエニルエ
ステル、フエニルチオエステル、4ーニトロフエニルチ
オエステル、pークレジルチオエステル、力ルボキシメ
チルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステ
ル、ピベリジルエステル、8一キノリルチオェステル等
のェステルのほかN,Nージメチルヒドロキシルアミン
、1ーヒドロキシ−2一(IH)−ピリドン、N−ヒド
ロキシサクシンイミドもしくはNーヒド。キシフタルィ
ミドとのェステル等が挙げられ、これらは使用するカル
ボン酸類(ロ)の種類に応じて適宜選択される。この反
応においてカルボン酸類(0)を遊離酸もしくはその塩
の枕態で使用する際は、たとえばN,N′ージシクロヘ
キシルカルボジイミド、N−シクロヘキシルーN′ーモ
ルホリノエチルカルボジイミド、Nーシクロヘキシルー
N′一(4ージエチルアミノシクロヘキシル)力ルボジ
イミド、N,N′ージエチルカルボジイミド、N,N′
−ジイソプロピルカルボジイミド、NーエチルーN′一
(3ージメチルアミノプロピル)力ルボジイミド、N,
N′ーカルボニルジ(2ーメチルイミダゾール)、ベン
タメチレンケテン−N÷シクロヘキシルイミン、ジフエ
ニルケテン−N−シクロヘキシルイミン、アルコキシア
セチレン、1−アルコキシ−1ークロロェチレン、亜燐
酸トリアルキルェステル、ポリ燐酸エチルェステル、ポ
リ燐酸ィソプロピルェステル、オキシ塩化燐、3塩化燐
、塩化チオニル、オキザリルクロラィド、トリフエニル
ホスフイン、2−エチル−7−ヒドロキシベンズイソキ
サゾリウム塩、2−エチル−5一(mースルホフエニル
)インキサゾリウムヒドロキサイド分子内塩、(クロロ
メチレン)ジメチルアンモニウムクロラィド等の縮合剤
の存在下に行うのが有利である。
Examples of the protecting group for the amino group protected here include penzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl, 4-promobenzyloxycarbonyl, 4-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 1-(phenylazo)penzyloxycarbonyl, 4-1(4-methoxyphenylazo)penzyloxycarbonyl, tertiary ptoxycarbonyl, tertiary benzyloxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 2- Pyridylmethoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 2,2,2-tripromoethoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, 3-iodopropoxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl, 1-adamantyloxycarbonyl , 8-ky/lyloxycarbonyl, trifluoroacetyl, trityl, 2-
nitrophenylthio, 2,4-dinitrophenylthio,
2-hydroxybenzylidene, 2-hydroxy-5-chlorobenzylidene, 2-hydro. xy-1naphthylmethylene, 3-hydroxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-bropylidene, 3-ethoxycarbonyl-2-butylidene, 1-acetyl-2-propylidene,
1-propionyl-2-propylidene, 1-benzoyl-2-propylidene, 1,3-pis(ethoxycarbonyl)-2-propylidene, 1-(N-methylcarbamoyl)-2-propylidene, 1-(N,N-dimethylcarbamoyl)-2-propylidene, 1-{N-(2-methoxyphenyl)rubamoyl}-2-propylidene, 1
-{N-(4-methoxyphenyl)carbamoyl}-2
-Propylidene, 1-(N-phenylcarbamoyl)-
Examples include groups that are easily eliminated such as 2-propylidene, 2-ethoxycarbonylcyclobentridene, 2-acetylcyclohexylidene, and 3,3-dimethyl-5-oxocyclohexylidene (among these, for example, 1-methoxycarbonyl- 2-propylidene is sometimes expressed as 1-methoxycarbonyl-1-proben-2-yl; for example, 2-ethoxycarbonylcyclohexylidene is sometimes expressed as 2-ethoxycarbonyl-1-cyclohexenyl). Further, acid salts of free amino groups such as hydrochloride, hydrobromide, and hydroiodide are also exemplified as protected amino groups. These carboxylic acids (0
Examples of reactive derivatives at the carboxyl group of ) include acid halides, acid anhydrides, activated amides, activated esters, etc., but especially frequently used ones include acid chlorides, acid azides, dialkyl phosphoric acid mixed anhydrides, Phenylphosphoric acid mixed anhydride, diphenylphosphoric acid mixed anhydride, dibenzylphosphoric acid mixed anhydride, halogenated phosphoric acid mixed anhydride, dialkyl phosphoric acid mixed anhydride, sulfurous acid mixed anhydride, thiosulfuric acid mixed anhydride, sulfuric acid mixed anhydride, alkyl carbonic acid Acid anhydrides such as mixed anhydrides, aliphatic carboxylic acids (e.g. pivalic acid, bentanoic acid, isobesotanoic acid, 2-ethylbutanoic acid, trichloroacetic acid), mixed anhydrides, symmetrical acid anhydrides, imidazole, 4-substituted imidazole, dimethyl pyrazole,
Triazole, amides with tetrazole, cyanomethyl ester, methoxymethyl ester, vinyl ester, propargyl ester, 4-nitrophenyl ester, 2,4-dinitrophenyl ester, trichlorophenyl ester, bentachlorophenyl ester, methane Sulfonylphenyl ester, phenyl azophenyl ester, phenyl thioester, 4-nitrophenyl thioester, p-cresyl thioester, hydroxymethyl thioester, pyranyl ester, pyridyl ester, piveridyl ester, 8-quinolylthio In addition to esters such as ester, N,N-dimethylhydroxylamine, 1-hydroxy-2-(IH)-pyridone, N-hydroxysuccinimide or N-hydride. Examples include esters with xyphthalimide, and these are appropriately selected depending on the type of carboxylic acid (b) used. When carboxylic acids (0) are used in the form of a free acid or a salt thereof in this reaction, examples thereof include N,N'-dicyclohexylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N'-morpholinoethylcarbodiimide, N-cyclohexyl-N'- (4-diethylaminocyclohexyl)carbodiimide, N,N'-diethylcarbodiimide, N,N'
-diisopropylcarbodiimide, N-ethyl-N'-(3-dimethylaminopropyl)carbodiimide, N,
N'-carbonyldi(2-methylimidazole), bentamethyleneketene-N÷cyclohexylimine, diphenylketene-N-cyclohexylimine, alkoxyacetylene, 1-alkoxy-1-chloroethylene, phosphorous trialkyl ester, polyphosphoric acid ethyl ester, polyphosphoric acid Sopropylester, phosphorus oxychloride, phosphorus trichloride, thionyl chloride, oxalyl chloride, triphenylphosphine, 2-ethyl-7-hydroxybenzisoxazolium salt, 2-ethyl-5-(m-sulfophenyl) ) It is advantageous to carry out the reaction in the presence of a condensing agent such as inxazolium hydroxide inner salt or (chloromethylene) dimethylammonium chloride.

なお、カルボン酸類(0)の塩としてはアルカリ金属塩
、アルカリ士類金属塩、アンモニウム塩またはトリメチ
ルアミン、ジシクロヘキシルアミン等の有機塩基との塩
があげられる。この反応は通常、溶媒中で行われる。溶
媒としてはアセトン、ジオキサン、アセトニトリル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、塩化工チレンくテトラヒド
ロフラン、酢酸エチル、ジメチルホルムアミド、ピリジ
ン等のこの発明の反応に悪影響を与えない一般有機溶媒
があげられ、これらのうち、親水性の溶媒は水と混合し
て使用することもできる。またこの反応は炭酸水素アル
カリ金属塩、トリアルキルアミン、N,N−ジアルキル
ベンジルアミン、ピリジン等の塩基の存在下に行っても
よく、塩基もしくは前述の縮合剤のうち液体のものは溶
媒を兼ねて使用することができる。反応温度は特に限定
されないが、通常冷却下ないいま室温で行われることが
多い。反応生成物は常法により単藤、採取される。保護
されたアミ/基をXとして有するカルボン酸類(0)を
原料として使用して上記の反応を行った場合、保護基の
種類ならびに反応および後処理の条件によっては該保護
基が脱離して遊離のアミ/基となった化合物が目的物(
m)として得られることもあるが、この場合もこの発明
に含まれる。
The salts of carboxylic acids (0) include alkali metal salts, alkali metal salts, ammonium salts, and salts with organic bases such as trimethylamine and dicyclohexylamine. This reaction is usually carried out in a solvent. Examples of solvents include general organic solvents that do not adversely affect the reaction of the present invention, such as acetone, dioxane, acetonitrile, chloroform, methylene chloride, chloromodified ethylene, tetrahydrofuran, ethyl acetate, dimethylformamide, and pyridine. The organic solvent can also be used in combination with water. This reaction may also be carried out in the presence of a base such as an alkali metal bicarbonate, trialkylamine, N,N-dialkylbenzylamine, or pyridine, and the base or the liquid condensing agent mentioned above can also serve as a solvent. can be used. Although the reaction temperature is not particularly limited, it is usually carried out under cooling or at room temperature. The reaction product is collected by a conventional method. When carrying out the above reaction using carboxylic acids (0) having a protected amine/group as The amyl/base compound is the target compound (
Although it may be obtained as m), this case is also included in this invention.

上記のァシル化反応の生成物にアミ/保護基が存在する
場合には、この反応生成物を次いでアミノ保護基の脱離
反応に付す。
If an amine/protecting group is present in the product of the above acylation reaction, the reaction product is then subjected to an amino protecting group elimination reaction.

ァミノ保護基の脱離反応は、保護基の種類に応じて酸に
よる処理、接触還元等の常用の方法で行われる。
The elimination reaction of the amino protecting group is carried out by a commonly used method such as treatment with an acid or catalytic reduction depending on the type of the protecting group.

酸による脱離反応は最も繁用される方法の1つであり、
例えばペンジルオキシカルボニル、鷹換ペンジルオキシ
カルボニル、アルコキシカルポニル、檀換ァルコキシカ
ルポニル、アラルコキシカルボニル、アダマンチルオキ
シカルボニル、トリチル、置換フェニルチオ、置換ァラ
ルキリデン、置換ァルキリデン、置換シクロアルキリデ
ン等に対して適用される。使用される酸は場合によって
異なるが、減圧下で容易に留去できる義酸、トリフルオ
ロ酢酸等が最も繁用される。酸による分解において溶媒
を使用する場合は親水性有機溶媒、水またはそれらの混
合溶媒が使用されることが多い。接触還元は例えばペン
ジルオキシカルボニル、置換ペンジルオキシカルボニル
、2−ピリジルメトキシカルボニル等に適用され、最も
繁用されるのはパラジウム触媒であるがその他の触媒も
用いられる。その他、トリフルオロアセチルは水で処理
することにより、またハロゲン置換アルコキシカルボニ
ルおよび8−キノリルオキシカルボニルは銅、亜鉛等の
重金属で処理することにより保護基の脱離反応を行うの
が普通である。また、遊離のアミノ基の酸塩が保護され
たアミノ基として存在するカルボン酸類(0)を原料物
質として使用したときの反応生成物のアミノ保護基の脱
離は、反応生成物をトリメチルァミン、トリエチルアミ
ン、Nーメチルピベラジン、N,N′−ジメチルアニリ
ン、ピリジン等の3級有機塩基のほか水酸化ナトリウム
、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウムのような塩基で処
理することにより行われる。これらのアミノ保護基の脱
離は反応生成物を特に単離、精製しないでそのまま行う
こともできる。このようにして得られる7−置換フェニ
ルグリシンアミドー3−アルカノイルオキシメチルー3
ーセフェムー4ーカルボン酸(m)は常法によりナトリ
ウム塩、カリウム塩、トリェチルアミン塩、ジシクロヘ
キシルアミン塩等の無機もしくは有機塩基との塩または
塩酸塩、硫酸塩、酒石酸塩等の無機もしくは有機との塩
など所望の塩に導くことができる。
Elimination reaction with acid is one of the most frequently used methods.
For example, for penzyloxycarbonyl, substituted penzyloxycarbonyl, alkoxycarbonyl, di-alkoxycarbonyl, aralkoxycarbonyl, adamantyloxycarbonyl, trityl, substituted phenylthio, substituted aralkylidene, substituted alkylidene, substituted cycloalkylidene, etc. Applicable. The acid used differs depending on the case, but the most commonly used are diprotic acid, trifluoroacetic acid, etc., which can be easily distilled off under reduced pressure. When a solvent is used in acid decomposition, a hydrophilic organic solvent, water, or a mixed solvent thereof is often used. Catalytic reduction is applied to penzyloxycarbonyl, substituted penzyloxycarbonyl, 2-pyridylmethoxycarbonyl, etc., and palladium catalysts are most often used, but other catalysts can also be used. In addition, protective group elimination reactions are usually carried out by treating trifluoroacetyl with water, and treating halogen-substituted alkoxycarbonyl and 8-quinolyloxycarbonyl with heavy metals such as copper and zinc. . In addition, when carboxylic acids (0) in which the acid salt of a free amino group is present as a protected amino group are used as a raw material, the removal of the amino protecting group from the reaction product can be performed by converting the reaction product into trimethylamine. , triethylamine, N-methylpiverazine, N,N'-dimethylaniline, pyridine, etc., as well as sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, etc. This is done by treatment with a base. The removal of these amino protecting groups can also be carried out as is without particularly isolating or purifying the reaction product. 7-substituted phenylglycinamide 3-alkanoyloxymethyl-3 thus obtained
-Cephemu-4-carboxylic acid (m) can be converted into salts with inorganic or organic bases such as sodium salt, potassium salt, triethylamine salt, dicyclohexylamine salt, etc., or salts with inorganic or organic bases such as hydrochloride, sulfate, tartrate, etc. by conventional methods. It can lead to the desired salt.

この発明の方法によって得られる目的物は(m)はすべ
て新規化合物で、酸およびべニシリナーゼに安定な抗菌
怪物質として有用である。
The target products (m) obtained by the method of the present invention are all new compounds and are useful as antibacterial monsters that are stable to acids and benicillinase.

次にこの発明の法方を実施例により説明する。実施例
1mD−N−第3級プトキシカルボニル−Q−(3−メ
チルアミノフェニル)グリシン9.9総、トリエチルア
ミン3.22gおよびテトラヒドロフラン140机【か
らなる溶液にクロル義酸ィソブチル3.9酸を−loo
0で加えて同温度で20分間燈梓する。
Next, the method of the present invention will be explained with reference to examples. Example
1mD-N-tertiary ptoxycarbonyl-Q-(3-methylaminophenyl)glycine 9.9 g, triethylamine 3.22 g, and tetrahydrofuran 140 g.
Add at 0 and heat for 20 minutes at the same temperature.

7ーァミノセフアロスポラン酸7.87g、トリエチル
アミン3.5g、テトラヒドロフラン40舷および水4
0の(からなる溶液を上記で製した溶液に一度に加えた
後、この溶液を氷袷下に1時間さらに室温で2時間燈拝
する。
7.87 g of 7-aminocephalosporanic acid, 3.5 g of triethylamine, 40 g of tetrahydrofuran and 4 g of water
A solution consisting of (0) was added all at once to the solution prepared above, and the solution was kept under ice for 1 hour and then at room temperature for 2 hours.

反応液からテトラヒドロフランを減圧蟹去し、残留物を
水100の‘に溶解する。これを冷却下に10%塩酸で
pH2.5に調整した後、酢酸エチルで抽出する。酢酸
エチル抽出液を水で2回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した後、酢酸エチルを減圧留去すると油状物質を得る
。これをエーテルで洗浄すると、無晶形のmp83〜8
4%(分解)の7−{D−N−第3級ブトキシカルボニ
ルーQ−(3−メシルアミノフエニル)グリシンアミド
}セフアロスポラン酸10.2gを得る。赤外線吸収ス
ペクトルレヌジヨール(仇‐1):1780 n○aX 核磁気共鳴吸収スペクトル 6oMS。
Tetrahydrofuran was removed from the reaction solution under reduced pressure, and the residue was dissolved in 100% of water. This was adjusted to pH 2.5 with 10% hydrochloric acid under cooling, and then extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate extract is washed twice with water, dried over magnesium sulfate, and then ethyl acetate is distilled off under reduced pressure to obtain an oily substance. When this is washed with ether, amorphous mp83-8
10.2 g of 4% (decomposed) 7-{D-N-tert-butoxycarbonyl-Q-(3-mesylaminophenyl)glycinamide}cephalosporanic acid are obtained. Infrared absorption spectrum Renudiol (Ki-1): 1780 n○aX Nuclear magnetic resonance absorption spectrum 6oMS.

‐d6(脚):1.43 (班,s)2.05
(細,s)3.03
(9日,s)3.30〜3.70 (が
) 5.06 (IH,d,J=5HZ) 5.55〜5.97 (IH)9.13〜9
.43 (IH)9.82
(IH)‘21 上記で得た7−{D
−N−第3級ブトキシカルボニルーQ一(3−メシルア
ミノフエニル)グリシンアミド}セフアロスボラン酸1
gおよび義酸15の‘からなる溶液を室温で3時間縄拝
する。
-d6 (leg): 1.43 (group, s) 2.05
(thin, s) 3.03
(9th, s) 3.30-3.70 (ga) 5.06 (IH, d, J=5HZ) 5.55-5.97 (IH) 9.13-9
.. 43 (IH) 9.82
(IH)'21 7-{D obtained above
-N-tertiary butoxycarbonyl Q-(3-mesylaminophenyl)glycinamide}cephalosboranic acid 1
A solution consisting of g and 15 g of acidic acid was allowed to stand at room temperature for 3 hours.

この反応液から義酸を減圧留去し、残留物に水10の‘
を加えた後、酢酸エチルで2回洗浄する。これをイオン
交換樹脂アンバーライトLA−1(オルガノ社製)を含
有したメチルィソプチルケトン溶液3の‘に加えて1時
間櫨梓する。水層を分取し、エーテルで4回洗浄した後
、凍結乾燥すると、mp240午0(分解)の無色粉末
の7−{D−Q一(3−メシルアミノフヱニル)グリシ
ンアミド}セファロスポラン酸0.63gを得る。赤外
線吸収スペクトル レヌジヨ一ル(抑−1):1770 nnaX 核磁気共鳴吸収スペクトル 6D20(脚):2.07 (斑,s)3.1
3 (3Hs)5.0
3(IH,d,J=5Hz)5.23 (IH
,s) 5.70(IH,d,J=5HZ) 7.30〜7.63 (虹日,m)
The acidic acid was distilled off under reduced pressure from the reaction solution, and the residue was diluted with 10% of water.
After addition, wash twice with ethyl acetate. This was added to methyl lysoptyl ketone solution 3' containing ion exchange resin Amberlite LA-1 (manufactured by Organo) and stirred for 1 hour. The aqueous layer was separated, washed four times with ether, and then lyophilized to produce 7-{D-Q-(3-mesylaminophenyl)glycinamide}cephalosporan as a colorless powder with an mp of 240 minutes (decomposition). 0.63 g of acid is obtained. Infrared absorption spectrum Renujol (reduction-1): 1770 nnaX Nuclear magnetic resonance absorption spectrum 6D20 (leg): 2.07 (spot, s) 3.1
3 (3Hs)5.0
3 (IH, d, J = 5Hz) 5.23 (IH
,s) 5.70 (IH, d, J=5HZ) 7.30-7.63 (Rainbow day, m)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中R_1はアルカノイル基を意味する)で示される7
−アミノ−3−アルカノイルオキシメチル−3−セフエ
ム−4−カルボン酸類またはそのアミノ基および(もし
くは)カルボキシ基における誘導体に、一般式▲数式、
化学式、表等があります▼ (式中、R_2はアルキル基、Xはアミノ基または保護
されたアミノ基をそれぞれ意味する)で示されるカルボ
ン酸類またはそのカルボキシ基における反応性誘導体を
作用させ、次いで得られる反応生成物に保護されたアミ
ノ基が存在する場合には、これをアミノ保護基の脱離反
応に付して、一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は前と同じ意味)で示され
る7−置換フエニルグリシンアミド−3−アルカノイル
オキシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸またはそ
のカルボキシ基における誘導体を得ることを特徴とする
7−置換フエニルグリシンアミド−3−アルカノイルオ
キシメチル−3−セフエム−4−カルボン酸類の製造法
[Claims] 1 7 represented by the general formula ▲ There are numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ In the formula, R_1 means an alkanoyl group)
-Amino-3-alkanoyloxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acids or derivatives thereof at the amino group and/or carboxy group, the general formula ▲ mathematical formula,
There are chemical formulas, tables, etc. ▼ (In the formula, R_2 means an alkyl group and X means an amino group or a protected amino group, respectively). When a protected amino group is present in the reaction product, it is subjected to the elimination reaction of the amino protecting group to form a general formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (in the formula, R_1 and R_2 7-substituted phenylglycinamido-3-alkanoyloxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid or its derivative at the carboxy group, represented by A method for producing amido-3-alkanoyloxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acids.
JP8871774A 1974-08-01 1974-08-01 Method for producing 7-substituted phenylglycinamido-3-alkanoyloxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acids Expired JPS6018672B2 (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11694984B2 (en) * 2019-08-30 2023-07-04 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Package structure including pillars and method for manufacturing the same

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