JPS60184206A - 偏光パタ−ン形成方法 - Google Patents
偏光パタ−ン形成方法Info
- Publication number
- JPS60184206A JPS60184206A JP3862484A JP3862484A JPS60184206A JP S60184206 A JPS60184206 A JP S60184206A JP 3862484 A JP3862484 A JP 3862484A JP 3862484 A JP3862484 A JP 3862484A JP S60184206 A JPS60184206 A JP S60184206A
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- pattern
- polarization
- forming
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、公知の偏光形成フィルムに光吸収性の物質を
浸透させることにより、フィルム面上に偏光性をもった
パターンを形成する偏光パターン形成方法に関する。
浸透させることにより、フィルム面上に偏光性をもった
パターンを形成する偏光パターン形成方法に関する。
従来から、偏光形成フィルムは公知であり、例えば、互
いに９０１をなづ方向性をもつ物質から形成された２層
の透明な表面層をもった偏光形成フィルムが広く知られ
ている。この偏光形成フィル１１に、平行に連列する特
性を右づる光吸収性の物質（例えば偏光形成インキと言
う）を浸透させることにより、偏光形成フィルム面上に
１方向の偏光特性を右づる１つのパターンあるいは互い
に９０°をなす方向の偏光特性を右する１つのパターン
を形成することは、偏光パターン形成方法として知られ
ている。
いに９０１をなづ方向性をもつ物質から形成された２層
の透明な表面層をもった偏光形成フィルムが広く知られ
ている。この偏光形成フィル１１に、平行に連列する特
性を右づる光吸収性の物質（例えば偏光形成インキと言
う）を浸透させることにより、偏光形成フィルム面上に
１方向の偏光特性を右づる１つのパターンあるいは互い
に９０°をなす方向の偏光特性を右する１つのパターン
を形成することは、偏光パターン形成方法として知られ
ている。
従来、この種の偏光パターン形成方法においては、パタ
ーンのネガフィルムを用いて、あらかじめ偏光形成イン
キを吸着する特性をもつ別の転写フィルム（以下たんに
転写フィルムという）にパターンの焼付・現像を行ない
、この転写フィルム面に偏光形成インキを吸６さ１１た
後、ぞの転写フィルムを偏光形成フィルム面に密着さＵ
ることににり偏光形成フィルムにパターンを形成してい
た。
ーンのネガフィルムを用いて、あらかじめ偏光形成イン
キを吸着する特性をもつ別の転写フィルム（以下たんに
転写フィルムという）にパターンの焼付・現像を行ない
、この転写フィルム面に偏光形成インキを吸６さ１１た
後、ぞの転写フィルムを偏光形成フィルム面に密着さＵ
ることににり偏光形成フィルムにパターンを形成してい
た。
しかしながら、このような従来の方法におい−Ｃは、転
写フィルムを製作する工程と、その転写フィルムに偏光
形成インキを吸容させる−１−稈が繁雑であるばかりで
なく、転写フィルムと偏光形成フィルムとの密巻性の問
題から、パターンににじみが出来るのをさＧノられず、
微細なパターンを高精度に形成づることが出来ないとい
う欠点があった。
写フィルムを製作する工程と、その転写フィルムに偏光
形成インキを吸容させる−１−稈が繁雑であるばかりで
なく、転写フィルムと偏光形成フィルムとの密巻性の問
題から、パターンににじみが出来るのをさＧノられず、
微細なパターンを高精度に形成づることが出来ないとい
う欠点があった。
本発明はこのＪ、うな従来技術の問題点を解決するため
になされたものであり、製造工程の短縮化を図るど同時
に高精度かつ高解像のパターンを形成することが可能な
新規な偏光パターン形成方法を提供することを目的とす
るものである。
になされたものであり、製造工程の短縮化を図るど同時
に高精度かつ高解像のパターンを形成することが可能な
新規な偏光パターン形成方法を提供することを目的とす
るものである。
この目的を達成づるための本発明の要旨とするところは
偏光形成フィルムに光吸収性の物質を浸透さぜることに
Ｊ：り偏光性をもつＩこパターンを形成する偏光パター
ン形成方法において、偏光形成フィルムの表面に感光性
樹脂膜を形成する工程と、感光性樹脂膜にパターンを焼
付・現像する工程と、感光性樹脂膜が形成されていない
部分にのみ光吸収性の物質を浸透させる工程と、そのあ
と偏光形成フィルムの表面から感光性樹脂膜を除去づる
工程とからなる偏光パターン形成方法にある。
偏光形成フィルムに光吸収性の物質を浸透さぜることに
Ｊ：り偏光性をもつＩこパターンを形成する偏光パター
ン形成方法において、偏光形成フィルムの表面に感光性
樹脂膜を形成する工程と、感光性樹脂膜にパターンを焼
付・現像する工程と、感光性樹脂膜が形成されていない
部分にのみ光吸収性の物質を浸透させる工程と、そのあ
と偏光形成フィルムの表面から感光性樹脂膜を除去づる
工程とからなる偏光パターン形成方法にある。
以下、図面を参照して、この発明の詳細な説明する。
第１図ないし第５図はこの発明による偏光パターン形成
方法の一例を示すものであり、第１図から第５図に順に
偏光パターン形成方法の諸工程が例示しである。
方法の一例を示すものであり、第１図から第５図に順に
偏光パターン形成方法の諸工程が例示しである。
まず第１図において、偏光形成フィルム１の片面ｌ−に
感光↑１樹脂股２を塗イｆｉして形成する１、この偏光
形成フィルム１は従来公知のもの、例えばボラロイドベ
タ１〜グラフフイルムを採用づることができるので、こ
こでは詳細な説明を省略−づる。感光性樹脂膜２も従来
公知の材料を採用Ｊることができる。例えば感光性樹脂
膜２はシュブレー社製ＡＺ−１３５０、Ｊ〈ポジ型）を
用いることができる。感光性樹脂膜２の厚みは０．００
１ｍｍ 〜０．００３ｍｍに１６のが好ましい。
感光↑１樹脂股２を塗イｆｉして形成する１、この偏光
形成フィルム１は従来公知のもの、例えばボラロイドベ
タ１〜グラフフイルムを採用づることができるので、こ
こでは詳細な説明を省略−づる。感光性樹脂膜２も従来
公知の材料を採用Ｊることができる。例えば感光性樹脂
膜２はシュブレー社製ＡＺ−１３５０、Ｊ〈ポジ型）を
用いることができる。感光性樹脂膜２の厚みは０．００
１ｍｍ 〜０．００３ｍｍに１６のが好ましい。
偏光形成フィルム１の片面に感光性樹脂膜２を前述のよ
うに塗布形成した後、所望パターンのネガフィルム３を
その感光性樹脂膜２に密着させる。そのあと、従来のよ
うに焼付露光を行なう。
うに塗布形成した後、所望パターンのネガフィルム３を
その感光性樹脂膜２に密着させる。そのあと、従来のよ
うに焼付露光を行なう。
’ＩＪ′／ｃＫわら、第２図に示すように、偏光形成フ
ィルム１、感光性樹脂膜２及びネガフィルム３を順に重
ね合わせて３層とし、矢印の方向から光をあて−Ｃ焼付
露光を行なうのである。
ィルム１、感光性樹脂膜２及びネガフィルム３を順に重
ね合わせて３層とし、矢印の方向から光をあて−Ｃ焼付
露光を行なうのである。
その後、現像及び乾燥を行なうと、感光すう樹脂膜２の
うち光があたった部分（すなわち形成すべきパターンの
部分）以外の部分２ａのみが第３図に承りように偏光形
成フィルム１の表面上に形成され゛る。
うち光があたった部分（すなわち形成すべきパターンの
部分）以外の部分２ａのみが第３図に承りように偏光形
成フィルム１の表面上に形成され゛る。
しかるのち、表面層の分子に平行に連列づる特性を有Ｊ
る光吸収↑４の物質例えば偏光形成インキを前述の偏光
形成フィルム１に接触させる。
る光吸収↑４の物質例えば偏光形成インキを前述の偏光
形成フィルム１に接触させる。
例えば、第４図に示Ｊにうに、偏光形成フィルム１を偏
光形成インキ４のなかに完全に浸漬する。すると、偏光
形成インキ４は感光性樹脂膜２の形成されていない偏光
形成フィルム１の部分すなわちパターンの部分にのみ浸
透して、そこに偏光性パターン５を形成する。
光形成インキ４のなかに完全に浸漬する。すると、偏光
形成インキ４は感光性樹脂膜２の形成されていない偏光
形成フィルム１の部分すなわちパターンの部分にのみ浸
透して、そこに偏光性パターン５を形成する。
そのあと偏光形成フィルム１を偏光形成イン１４からと
り出して、１１機溶剤等にＪ、り感光すノ１樹脂膜２の
残った部分２ａを偏光形成フィルム１から完全に除去Ｊ
−ると、第５図に示１Ｊ、うに、偏光形成フィルム１に
偏光パターン５が形成される。
り出して、１１機溶剤等にＪ、り感光すノ１樹脂膜２の
残った部分２ａを偏光形成フィルム１から完全に除去Ｊ
−ると、第５図に示１Ｊ、うに、偏光形成フィルム１に
偏光パターン５が形成される。
実験例を説明しで、この発明を更に具体的に説明する。
１１１１１光形成フイルム１とし“でポラロイドペクト
グラフフィルムを使用し、その偏光形成フィルム１の片
面に感光性樹脂膜２としてシコプレーン１ り！ΔＺ−
１３５０Ｊ （ポジ型）を０゜００１１ＩＩ１１１の厚
みで塗布した。他方、一般に市販されているフィルムで
所望パターンのネガフィルム３を形成した。そして、そ
のようなネガフィルム３を前述の感光性樹脂膜２の全体
に完全に密着させてから、周知のやり方で焼付露光を行
ない、更に現像・乾燥を行なったところ、ネガフィルム
３のパターン部分以外の部分に対応する感光性樹脂ＩＱ
２の部分２ａが偏光形成フィルム１の而」−に残留した
。
グラフフィルムを使用し、その偏光形成フィルム１の片
面に感光性樹脂膜２としてシコプレーン１ り！ΔＺ−
１３５０Ｊ （ポジ型）を０゜００１１ＩＩ１１１の厚
みで塗布した。他方、一般に市販されているフィルムで
所望パターンのネガフィルム３を形成した。そして、そ
のようなネガフィルム３を前述の感光性樹脂膜２の全体
に完全に密着させてから、周知のやり方で焼付露光を行
ない、更に現像・乾燥を行なったところ、ネガフィルム
３のパターン部分以外の部分に対応する感光性樹脂ＩＱ
２の部分２ａが偏光形成フィルム１の而」−に残留した
。
そのようにした偏光形成フィルム１をヨードカリウムの
複合塩のごとき偏光形成インキ４の中に完全に浸漬して
、感光性樹脂膜２が残留していない部分（これは所望パ
ターンの部分に相当する）に偏光形成インキ４を浸透さ
せた。その結果、偏光形成フィルム１に偏光性パターン
が形成された。最後に、トリクロール・エチレンのごと
ぎ有機溶剤にＪ：す、偏光形成フィルム１に残っていた
感光性樹脂膜２の部分２ａを完全に除去した。
複合塩のごとき偏光形成インキ４の中に完全に浸漬して
、感光性樹脂膜２が残留していない部分（これは所望パ
ターンの部分に相当する）に偏光形成インキ４を浸透さ
せた。その結果、偏光形成フィルム１に偏光性パターン
が形成された。最後に、トリクロール・エチレンのごと
ぎ有機溶剤にＪ：す、偏光形成フィルム１に残っていた
感光性樹脂膜２の部分２ａを完全に除去した。
なお、前述の実施例では説明の簡略化のために透明な偏
光性フィルムが１Ｍである場合について述べたが、偏光
形成フィルム１の表面側と裏面側に互いに９０°をなず
方向性をもつ物質からなる２層の透明な偏光性フィルム
の場合にも同様にパターンを形成することが−Ｃ゛きる
。
光性フィルムが１Ｍである場合について述べたが、偏光
形成フィルム１の表面側と裏面側に互いに９０°をなず
方向性をもつ物質からなる２層の透明な偏光性フィルム
の場合にも同様にパターンを形成することが−Ｃ゛きる
。
本発明によれば、偏光形成フィル１１面に形成した感光
性樹脂膜を利用してパターンを焼付・現像し、＋６接偏
光形成インキを浸透させることににす、パターンを形成
するものであり、転写用ノイルムを用いる従来の転写パ
ターン形成方法に比べＣ製造工程を短縮化づることがで
きる。また従来の転写パターン形成方法に比べ−ＣｉＩ
８１ｉｌ＋￥度かつ高解像のパターンを形成できるとい
う顕著な効果を有するものである。
性樹脂膜を利用してパターンを焼付・現像し、＋６接偏
光形成インキを浸透させることににす、パターンを形成
するものであり、転写用ノイルムを用いる従来の転写パ
ターン形成方法に比べＣ製造工程を短縮化づることがで
きる。また従来の転写パターン形成方法に比べ−ＣｉＩ
８１ｉｌ＋￥度かつ高解像のパターンを形成できるとい
う顕著な効果を有するものである。
第１図ないし第５図【、Ｌこの発明ににる偏光パターン
形成方法の一つの実施例を示すための枚数の■稈を順次
示した説明図である。 １、、、、、偏光形成フィルム ２、、、、、感光性樹脂膜 ３、、、、、ネガフィルム ４、、、、、偏光形成インキ ５、、、、、パターン部分 特許出願人 東京光学機械株式会ネ：
形成方法の一つの実施例を示すための枚数の■稈を順次
示した説明図である。 １、、、、、偏光形成フィルム ２、、、、、感光性樹脂膜 ３、、、、、ネガフィルム ４、、、、、偏光形成インキ ５、、、、、パターン部分 特許出願人 東京光学機械株式会ネ：
Claims (1)
- （１）偏光形成フィルムに光吸収性の物質を浸透さ１！
ることにより偏光性をもったパターンを形成する偏光パ
ターン形成方法において、偏光形成フィルムの表面に感
光性樹脂膜を形成Ｊる工程と、感光性樹脂膜にパターン
を焼イー１・現像づ−る■稈ど、感光性樹脂膜が形成さ
れていない部分にのみ光吸収性の物質を浸透さ１互る］
７稈と、そのあと偏光形成フィルムの表面から感光性樹
脂膜を除去する工程とからなる偏光パターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3862484A JPS60184206A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | 偏光パタ−ン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3862484A JPS60184206A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | 偏光パタ−ン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60184206A true JPS60184206A (ja) | 1985-09-19 |
Family
ID=12530392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3862484A Pending JPS60184206A (ja) | 1984-03-02 | 1984-03-02 | 偏光パタ−ン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60184206A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0444703A2 (en) * | 1990-03-02 | 1991-09-04 | Hitachi, Ltd. | Polarizers, a method for producing the same and liquid crystal display devices |
| KR101196231B1 (ko) | 2006-12-19 | 2012-11-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 와이어 그리드 편광자의 제조방법 |
-
1984
- 1984-03-02 JP JP3862484A patent/JPS60184206A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0444703A2 (en) * | 1990-03-02 | 1991-09-04 | Hitachi, Ltd. | Polarizers, a method for producing the same and liquid crystal display devices |
| KR101196231B1 (ko) | 2006-12-19 | 2012-11-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 와이어 그리드 편광자의 제조방법 |
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