JPS6017440U - 高濃度・低濃度両用ガス検知装置 - Google Patents

高濃度・低濃度両用ガス検知装置

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Publication number
JPS6017440U
JPS6017440U JP10826183U JP10826183U JPS6017440U JP S6017440 U JPS6017440 U JP S6017440U JP 10826183 U JP10826183 U JP 10826183U JP 10826183 U JP10826183 U JP 10826183U JP S6017440 U JPS6017440 U JP S6017440U
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JP
Japan
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gas
concentration
detection device
passage
gas detection
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Pending
Application number
JP10826183U
Other languages
English (en)
Inventor
野沢　義尚
北垣　裕史
小林　明文
Original Assignee
新コスモス電機株式会社
大阪瓦斯株式会社
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Publication date
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Publication of JPS6017440U publication Critical patent/JPS6017440U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
  • Examining Or Testing Airtightness (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はサンプリング開始前の各ポーリング穴間の相対
ガス濃度を示す図、第２図はサンプリング時間とポーリ
ング穴内のガス濃度との関係を示す図、第３図はこの考
案の一実施例を示す構成略図、第４図は同じくこの考案
のガス検知装置の正面パネルを示す正面図である。 図中、１は希釈装置、２は本通路、３は三方コック、４
は副通路、５は絞り機構、６はガス吸引口、７．８は排
気口、９は切換つまみ、１０は零点調整つまみ、Ｓはガ
スセンサ、Ｐｌはメインポンプ、Ｐ２は補助ポンプ、Ａ
はガス流入口、Ｂは空気流入口、Ｃは流出口、Ｇ８３は
サンプリングガス、Ａ１．は希釈エアである。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ガス流入口と流出口とを連通ずる本通路と、この本通路
    に設けた三方コックと、この三方コックの切換えにより
    空気流入口と前記流出口とを連通ずる空気通路と、前記
    本通路と並列に設けられ、かつ、絞り機構を備えた副通
    路とからなるガス希釈装置と、一方前記流出口側に設け
    られたガスセンサおよびメインポンプとからなるガス濃
    度計において、ガス希釈時に作動し前記ガス流入口へ流
    入するガスを排出する補助ポンプを設けたことを特徴と
    する高濃度・低濃度両用ガス検知装置。
JP10826183U 1983-07-14 1983-07-14 高濃度・低濃度両用ガス検知装置 Pending JPS6017440U (ja)

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JPS6017440U true JPS6017440U (ja) 1985-02-06

Family

ID=30252653

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