JPS60151945A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPS60151945A JPS60151945A JP59008303A JP830384A JPS60151945A JP S60151945 A JPS60151945 A JP S60151945A JP 59008303 A JP59008303 A JP 59008303A JP 830384 A JP830384 A JP 830384A JP S60151945 A JPS60151945 A JP S60151945A
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- JP
- Japan
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- current
- plasma
- plate
- high voltage
- capacitor
- Prior art date
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- Granted
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/52—Generating plasma using exploding wires or spark gaps
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高温高密度プラズマの２ピンチを応用した軟Ｘ
線発生装置の動作安定に関するものである。
線発生装置の動作安定に関するものである。
本装置は２極の相対向する電極間にコンデンサ放電によ
ってパルス的な大電流を流し２、そしてアークプラズマ
を生成させて、その後自己磁場によってプラズマをピン
チさせ軟Ｘ線を得るもので、超ＬＳＩなどの製造時に使
用されるＸ線露光用軟Ｘ線源として使用される。
ってパルス的な大電流を流し２、そしてアークプラズマ
を生成させて、その後自己磁場によってプラズマをピン
チさせ軟Ｘ線を得るもので、超ＬＳＩなどの製造時に使
用されるＸ線露光用軟Ｘ線源として使用される。
従来この種の装置はコンデンサとプラズマ生成室との電
力伝送には１、低抵抗でかつ低インダクタンス化を目的
に％複数本の高圧同軸ケーブルや広幅状の平行平板が用
いられ、神々の改善がなされてきた。しかし軟Ｘ線の出
力方向が、下方向や横方向とした場合、作業空間を必要
とすることから配ＩＲ上コンデンサ群をプラズマ生成室
に対し円周上に配置することができず、ある程度片寄っ
た面に集中設置するため、同軸状の密閉構造に作られた
プラズマ生成室に、円周上均等な電流が流れず、不均衡
な磁気圧によりプラズマの位置安定がならず、そのため
安定したスポットのＸ線源ができない欠点があった。
力伝送には１、低抵抗でかつ低インダクタンス化を目的
に％複数本の高圧同軸ケーブルや広幅状の平行平板が用
いられ、神々の改善がなされてきた。しかし軟Ｘ線の出
力方向が、下方向や横方向とした場合、作業空間を必要
とすることから配ＩＲ上コンデンサ群をプラズマ生成室
に対し円周上に配置することができず、ある程度片寄っ
た面に集中設置するため、同軸状の密閉構造に作られた
プラズマ生成室に、円周上均等な電流が流れず、不均衡
な磁気圧によりプラズマの位置安定がならず、そのため
安定したスポットのＸ線源ができない欠点があった。
本発明はこれらの欠点を１余去するため、コンデンサに
蓄えられた静電エネルギーをプラズマ生成室に設けられ
たプラズマ生成用放電電極に伝送するだめの電力伝送ラ
インに導電性の板状平板を用い、その半板の途中にスリ
ットを設けて電流の集中流入化全阻止し、プラズマ生成
室に同軸状の均等な電Ｍｆ ７ｊｆ：流し、ヤしてプラ
ズマ全安定化させようとするものである。
蓄えられた静電エネルギーをプラズマ生成室に設けられ
たプラズマ生成用放電電極に伝送するだめの電力伝送ラ
インに導電性の板状平板を用い、その半板の途中にスリ
ットを設けて電流の集中流入化全阻止し、プラズマ生成
室に同軸状の均等な電Ｍｆ ７ｊｆ：流し、ヤしてプラ
ズマ全安定化させようとするものである。
以下、本発明を第１図〜４３図に示す実施例により胱明
する。
する。
第１図はＸ線発生装置の回路図である。１はコンデンサ
３の充電用１に源、２は充電用抵抗、４は放電スイッチ
、５はプラズマ生成室、６は保間抵抗、７は重力伝送ラ
インを示す。
３の充電用１に源、２は充電用抵抗、４は放電スイッチ
、５はプラズマ生成室、６は保間抵抗、７は重力伝送ラ
インを示す。
この動１・μ説明をすると、過当に制御された充電用屯
關１より充電用抵抗２を介してコンデンサ３に電力を供
給し、所定の電圧まで充電される。その後、放心スイッ
チ４を図示しｌｋい外的要因により閉じで、電力伝送ラ
イン７を経由し、プラズマ生成室５の有する２棚のプラ
ズマ生成用電柩に、上記電圧を印加して放電を起こさせ
、そしてプラズマを生成し、それ以後コンデンサに番え
られたエネルギーを供給することによってプラズマピン
チを生じ強いＸ線を放出する。また保縛抵抗６はプラズ
マ生成室５で、何らかの理由で放電が生じなかった場合
、コンデンサ３のエネルギーを吸収させるために設けた
ものである。
關１より充電用抵抗２を介してコンデンサ３に電力を供
給し、所定の電圧まで充電される。その後、放心スイッ
チ４を図示しｌｋい外的要因により閉じで、電力伝送ラ
イン７を経由し、プラズマ生成室５の有する２棚のプラ
ズマ生成用電柩に、上記電圧を印加して放電を起こさせ
、そしてプラズマを生成し、それ以後コンデンサに番え
られたエネルギーを供給することによってプラズマピン
チを生じ強いＸ線を放出する。また保縛抵抗６はプラズ
マ生成室５で、何らかの理由で放電が生じなかった場合
、コンデンサ３のエネルギーを吸収させるために設けた
ものである。
第２図は第１図を立体的構造で示したＸ線発生装置の一
笑施例である。
笑施例である。
以下、動作説明をさらに詳述する。 ゛充電用電源１よ
シ充電用抵抗２を介して所定の電圧まで充電されたコン
デンサ３は、放電スイッチ４の動作によシ、そのエネル
ギーを絶縁板１０により絶縁された高圧伝送板８と低圧
伝送板９で形成される電力伝送ライン７によりプラズマ
生成室５へ伝送さｎる。一方高圧伝送板８と電気的に接
続さ−れた高圧電極１】と同様、低圧伝送＆９に通気的
に接続された低圧電極１２とで形成される放電電極隙１
３は、当初高インピーダンスのため、高電圧が印加され
る。このため両電極間で放電を生じ、インピーダンスの
低下とともに電流が増加して放電市極隙１３でプラズマ
ピンチが生じ、Ｘ線１４を放出する。放出されたＸ線１
４は、Ｘ線取り出し窓１５とＸ線マスクｌ（ｉを通して
、レジストを塗布したウェハ１′ｌに照射し露光する。
シ充電用抵抗２を介して所定の電圧まで充電されたコン
デンサ３は、放電スイッチ４の動作によシ、そのエネル
ギーを絶縁板１０により絶縁された高圧伝送板８と低圧
伝送板９で形成される電力伝送ライン７によりプラズマ
生成室５へ伝送さｎる。一方高圧伝送板８と電気的に接
続さ−れた高圧電極１】と同様、低圧伝送＆９に通気的
に接続された低圧電極１２とで形成される放電電極隙１
３は、当初高インピーダンスのため、高電圧が印加され
る。このため両電極間で放電を生じ、インピーダンスの
低下とともに電流が増加して放電市極隙１３でプラズマ
ピンチが生じ、Ｘ線１４を放出する。放出されたＸ線１
４は、Ｘ線取り出し窓１５とＸ線マスクｌ（ｉを通して
、レジストを塗布したウェハ１′ｌに照射し露光する。
このようにして設けられた成力ｆム送ライン７は、絶縁
板］０を薄くすることによって、また１１圧伝送板８、
低圧伝送板９の幅を広くすることによってインダクタン
スを小さくすることができるため、使用する電圧によっ
て両者を返択して調整できるので、平行平板を用いるこ
とはいたって便利である。
板］０を薄くすることによって、また１１圧伝送板８、
低圧伝送板９の幅を広くすることによってインダクタン
スを小さくすることができるため、使用する電圧によっ
て両者を返択して調整できるので、平行平板を用いるこ
とはいたって便利である。
保護抵抗６はエネルギー吸収用抵抗、絶縁スペーサ１８
は高圧伝送板８とプラズマ生成室５とを電気的に絶縁し
ている。架台１９には図示しないがＸ線マスク１０やウ
ェハ１７の位置介せ６Ｊ ａ３や、プラズマ生成室５の
支えなどの役目、全はたす。
は高圧伝送板８とプラズマ生成室５とを電気的に絶縁し
ている。架台１９には図示しないがＸ線マスク１０やウ
ェハ１７の位置介せ６Ｊ ａ３や、プラズマ生成室５の
支えなどの役目、全はたす。
？Ｊ３図は第２図のプラズマ生成室５の上部を取シ去っ
た平面図で、コンデンサ３が１台の場合をボす。
た平面図で、コンデンサ３が１台の場合をボす。
第３図（イ）では、′放電スイッチ４の動作により流れ
出した電流２１）は、ｆＩ（矢印）で示すように高圧電
極１１と低圧電極１２の片面（図では左方向）に集中す
るため、第２図に示した放電電極隙１：３中に生成され
たプラズマは、片前った磁気圧によって、電流集中とは
反対面（図では右方向）に押しやられ゛不安定な状態に
なるため、Ｘ線のスポットは移動して位置が定まらない
欠点があった。そのため第３図←）に同一符号で示す形
状の電流阻止用スリッ） ２１ ｅ設けて電流２（Ｊｆ
ｆｉ両端に押しやり、高圧電ＩＭ’ １１と低圧電極１
２に対し、両面（図では上と下方向ンよシ流入させると
七によ多安定したＸ線を発生させることができた。理想
的には円周上に均等な電流を上記電極に供給するのが望
まし込。
出した電流２１）は、ｆＩ（矢印）で示すように高圧電
極１１と低圧電極１２の片面（図では左方向）に集中す
るため、第２図に示した放電電極隙１：３中に生成され
たプラズマは、片前った磁気圧によって、電流集中とは
反対面（図では右方向）に押しやられ゛不安定な状態に
なるため、Ｘ線のスポットは移動して位置が定まらない
欠点があった。そのため第３図←）に同一符号で示す形
状の電流阻止用スリッ） ２１ ｅ設けて電流２（Ｊｆ
ｆｉ両端に押しやり、高圧電ＩＭ’ １１と低圧電極１
２に対し、両面（図では上と下方向ンよシ流入させると
七によ多安定したＸ線を発生させることができた。理想
的には円周上に均等な電流を上記電極に供給するのが望
まし込。
したがって本発明のＸ線発生装置Ｍにおいては、両面よ
シ疏入する電流２０は高圧電極１１と低圧電極１２に対
し軸対称にほぼ均等な電流が流れるようにするため、放
電電極隙１：３に生成されたプラズマは、両面よりほぼ
均等な磁気圧で押されるため、中央部に位置しプラズマ
固有のキング不安定性などのプラズマ破壊が生じるまで
安定に維持し、はぼ同一スポットの点よりＸ線が放出さ
れる。上述の電流阻止用スリット２１は、第３図（ロ）
のようにくの字状に設けたが、これは電流バランスを考
えて決定したものでどじ状の直線スリットやＣ状の円形
スリットであっても同様な効果がある。また、この電流
阻止用スリッ）２１は、高圧伝送板８と低圧伝送板９の
両方に同一形状のスリットを設けるのがよいが、その片
方に設けてもその効果はある。
シ疏入する電流２０は高圧電極１１と低圧電極１２に対
し軸対称にほぼ均等な電流が流れるようにするため、放
電電極隙１：３に生成されたプラズマは、両面よりほぼ
均等な磁気圧で押されるため、中央部に位置しプラズマ
固有のキング不安定性などのプラズマ破壊が生じるまで
安定に維持し、はぼ同一スポットの点よりＸ線が放出さ
れる。上述の電流阻止用スリット２１は、第３図（ロ）
のようにくの字状に設けたが、これは電流バランスを考
えて決定したものでどじ状の直線スリットやＣ状の円形
スリットであっても同様な効果がある。また、この電流
阻止用スリッ）２１は、高圧伝送板８と低圧伝送板９の
両方に同一形状のスリットを設けるのがよいが、その片
方に設けてもその効果はある。
一方、プラズマ生成室５と放心スイッチ４の間が孕情に
よシ遠距離を必財とする場合は、通常同軸ケーブルが使
用される。この場合はプラズマ生成室より平行平板の電
力伝送フィンを引き出し、その先喘に同軸ケーブル接続
用の集電板を設けておけば、年１比板よシ稀、入する電
流は、その成力伝送ラインに設けられた電流（（１１止
用スリツトによシ同じ効果を示す。すなわち、本発明は
プラズマ生成室へ平行平板の市；力伝送ラインによシミ
力倉供給する方式のものであれば、すべてに採用するこ
とがｆｉＪ能である。
よシ遠距離を必財とする場合は、通常同軸ケーブルが使
用される。この場合はプラズマ生成室より平行平板の電
力伝送フィンを引き出し、その先喘に同軸ケーブル接続
用の集電板を設けておけば、年１比板よシ稀、入する電
流は、その成力伝送ラインに設けられた電流（（１１止
用スリツトによシ同じ効果を示す。すなわち、本発明は
プラズマ生成室へ平行平板の市；力伝送ラインによシミ
力倉供給する方式のものであれば、すべてに採用するこ
とがｆｉＪ能である。
本発明、のＸ線発生装置を用いて数百回の放電を行なっ
たところ、銅を使用した高圧電極１１の中央部に深さ約
１国にも及ぶ鋭い孔が生じたことは、プラズマピンチに
対する安定性を鉦明したものである。
たところ、銅を使用した高圧電極１１の中央部に深さ約
１国にも及ぶ鋭い孔が生じたことは、プラズマピンチに
対する安定性を鉦明したものである。
以上説明したように、プラズマ生成室への電力伝送ライ
ンに導電性平行平板音用い、かつこの伝送板に電流阻止
用スリットを設けたことは、円周上に均等に近い電流を
流すことができてプラズマ生成の安定性に重要な役割金
はだすと共に、プラズマ生成室よシＸ線を下方向に取シ
出しても、その周囲を広く取ることも可能で、Ｘ線マス
クやウェハの位置合せ装置の機構設計にも自由度は大き
く、その作業性も向上する。また複数個のコンデンサを
″電力電送ラインに取υ付け、エネルギーアップをはか
る場合でも、同様な効果を生ずるなど、工業的ならびに
実用的価値の大なるものである。
ンに導電性平行平板音用い、かつこの伝送板に電流阻止
用スリットを設けたことは、円周上に均等に近い電流を
流すことができてプラズマ生成の安定性に重要な役割金
はだすと共に、プラズマ生成室よシＸ線を下方向に取シ
出しても、その周囲を広く取ることも可能で、Ｘ線マス
クやウェハの位置合せ装置の機構設計にも自由度は大き
く、その作業性も向上する。また複数個のコンデンサを
″電力電送ラインに取υ付け、エネルギーアップをはか
る場合でも、同様な効果を生ずるなど、工業的ならびに
実用的価値の大なるものである。
第１図はＸ線発生装置の原理回路図、第２図は本発明の
Ｘ線発生装置の要部切欠１ｔｌｌ１面図、第３図ビ）は
従来のＸ線発生装置のプラズマ生成室の要部（７） 平
面Ｍ、仲）嫌水発明のＸ線発生シ装置のプラズマ生成室
の留部の平面図である。 ３：コンデンサ ４：放電スイッチ ５：プラズマ生成室 ７：通力伝送ライン １３：放〒ｉ醒極隙 １４：Ｘ線 ２に電り；Ｌ阻止用スリット 特許出１〜１１人 日本コンデンサ工業株式会社 − 日本′［イ１ｄ電話公社 第１図 ７ 第２図 第３図 （イ） （ロ） 第１頁の続き ■Ｉｎｔ、Ｃ１，４識別記号 庁内整理番号Ｈ０５Ｇ
１１００ ６４０４−４Ｃ ＠発 明 者 斉 藤 保 直 厚木市小野所内 ０発 明 者 吉 原 秀 雄 厚木市小野所内
Ｘ線発生装置の要部切欠１ｔｌｌ１面図、第３図ビ）は
従来のＸ線発生装置のプラズマ生成室の要部（７） 平
面Ｍ、仲）嫌水発明のＸ線発生シ装置のプラズマ生成室
の留部の平面図である。 ３：コンデンサ ４：放電スイッチ ５：プラズマ生成室 ７：通力伝送ライン １３：放〒ｉ醒極隙 １４：Ｘ線 ２に電り；Ｌ阻止用スリット 特許出１〜１１人 日本コンデンサ工業株式会社 − 日本′［イ１ｄ電話公社 第１図 ７ 第２図 第３図 （イ） （ロ） 第１頁の続き ■Ｉｎｔ、Ｃ１，４識別記号 庁内整理番号Ｈ０５Ｇ
１１００ ６４０４−４Ｃ ＠発 明 者 斉 藤 保 直 厚木市小野所内 ０発 明 者 吉 原 秀 雄 厚木市小野所内
Claims (3)
- （１）コンデンサに蓄えた静電エネルギーを放電スイッ
チを介してプラズマ生成室に電力伝送し、プラズマ生成
用？匡極間で放′亀させてプラズマを生成し、その自己
ピンチによりＸ線を放出するＸ線発生装置において、ト
記プラズマ生成室への電））１ｔ〆１１に用いる２らビ
；・氏性で板状の電力伝送ラインに電流阻止用スリット
を設けたことを特徴とするＸ線発生装置。 - （２）Ｌ記’１１１’（ｉｌ阻止用スリットの形状がく
の字状であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載のＸ線発生装置。 - （３）上記電流阻止用スリットの形状がＣの字状である
ととｔ Ｑ′ｉｆａとする特許請求の範囲第１項記載の
Ｘ月４１疎う自生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59008303A JPS60151945A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59008303A JPS60151945A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | Ｘ線発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60151945A true JPS60151945A (ja) | 1985-08-10 |
| JPH0234440B2 JPH0234440B2 (ja) | 1990-08-03 |
Family
ID=11689380
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59008303A Granted JPS60151945A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60151945A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6240163B1 (en) | 1998-06-19 | 2001-05-29 | Advanced Laser & Fusion Technology | Radiation E.G. X-ray pulse generator mechanisms |
| JP2010541155A (ja) * | 2007-10-01 | 2010-12-24 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 高圧電気接続線 |
-
1984
- 1984-01-19 JP JP59008303A patent/JPS60151945A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6240163B1 (en) | 1998-06-19 | 2001-05-29 | Advanced Laser & Fusion Technology | Radiation E.G. X-ray pulse generator mechanisms |
| JP2010541155A (ja) * | 2007-10-01 | 2010-12-24 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 高圧電気接続線 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0234440B2 (ja) | 1990-08-03 |
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