JPS60144702A - Antireflecting optical element - Google Patents

Antireflecting optical element

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Publication number
JPS60144702A
JPS60144702A JP59000215A JP21584A JPS60144702A JP S60144702 A JPS60144702 A JP S60144702A JP 59000215 A JP59000215 A JP 59000215A JP 21584 A JP21584 A JP 21584A JP S60144702 A JPS60144702 A JP S60144702A
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JP
Japan
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film
layer
oxide
antireflecting
contg
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JP59000215A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Saito
武 斎藤
Munenori Okada
岡田 統典
Satoshi Nagai
智 永井
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain an antireflecting film having durability by forming the innermost layer of the multilayered antireflecting film of a mixed film contg. at least yttrium oxide and zirconium oxide and the outermost layer of a film consisting of silicon dioxide. CONSTITUTION:A synthetic resin substrate subjected to surface hardening treatment is first subjected to cleaning of the surface by using an ordinary multi- stage cleaning device using Freon and is thereafter formed thereon with the three-layered antireflecting film consisting of a mixed film contg. zirconium oxide/yttrium oxide=40/60 (by wt.) as the 1st layer from the substrate side, the film contg. titanium oxide as the 2nd layer and the film contg. silicon dioxide as the 3rd layer by using a vacuum deposition device provided with an electron beam gun. The vapor deposition temp. is 80 deg.C. The surface reflecting interference color of the resulting antireflecting film is magenta and the reflectivity of visible rays is as low as about 0.5%. The adhesion between the antireflecting film and the surface hardened film is accepted in a peeling test by using a cellophane tape. The film is just slightly flawed in the surface hardness test involving rubbing with steel wool. Thus the antireflecting film exhibits excellent performance.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 ゛ 本発明は9合成樹脂基材に先ず有機系あるいは無機系の
表面硬化被膜を形成させ1次いで真空下で多層反射防止
膜を形成させることによって得られる光学素子に関する
ものであって、すぐれた反射防止特性と9表面かたさや
膜密着性等のすぐれた物性とを同時に満足する反射防止
性光学素子に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] [9] The present invention first forms an organic or inorganic surface hardening film on a synthetic resin base material, and then forms a multilayer antireflection film under vacuum. The present invention relates to an optical element obtained, and relates to an antireflection optical element that simultaneously satisfies excellent antireflection properties and excellent physical properties such as surface hardness and film adhesion.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート。 Polymethyl methacrylate, polycarbonate.

セルロー゛スアセテート、セルロースアセテートブチv
−)、セルロースアセテートプロピオネ−)。
Cellulose acetate, cellulose acetate v
-), cellulose acetate propione).

ポリエチレンテレフタレート、ジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート重合体等に代表される熱可塑性及
び熱硬化性合成樹脂は、その透明性。
Thermoplastic and thermosetting synthetic resins, such as polyethylene terephthalate and diethylene glycol bisallyl carbonate polymers, are known for their transparency.

軽量性、耐衝撃性、成形加工の容易性、染色性等の特性
を活かして、レンズ、プリズム、選択吸収透過及び反射
フィルター、カバーグラス等、光の透過、吸収、屈折1
反射を利用した高機能光学素子として利用が増々増大し
ている。このように合成樹脂を基材とする光学部品の応
用が増大している背景には9合成樹脂の欠点である表面
の柔らかさをカバーする各種の表面硬化処理技術の発展
と光線の透過吸収反射音コン上ロールする各種無機薄膜
形成技術の進歩がある。
By taking advantage of its characteristics such as lightness, impact resistance, ease of molding, and dyeability, it is used in lenses, prisms, selective absorption transmission and reflection filters, cover glasses, etc. that transmit, absorb, and refract light.
Its use as a high-performance optical element that utilizes reflection is increasing. The reason why the application of optical components based on synthetic resins is increasing in this way is the development of various surface hardening treatment techniques to overcome the softness of the surface, which is a drawback of synthetic resins, and the transmission, absorption, and reflection of light rays. There has been progress in forming various inorganic thin films that can be rolled on sound controls.

合成樹脂表面を硬化処理することによって、きすつきを
防止したり、耐薬品性を向上させる方法については、こ
れまでに種々の具体的技術が提案されているが9代表例
をあげるならば、有機系処理に属するものとしてアクリ
ル酸又はメタクリル酸とプロピレンオキサイド又はアル
キッド樹脂などの反応物を紫外線又は電子線で硬化させ
る技術に代表されるアクリル系硬化塗料、アルキルエー
テル化したメチロールメラミンをベースとしたメラミン
アルキッド樹脂系に代表されるアミン系硬化量F4.エ
チルシリクート、メチルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、γ−
グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロビルメチルジェトキシシラン等を代表原料ケ
イ素化合物とするオルガノポリシロキサン系硬化塗料等
による薄膜等があり、又無機系に属するものとして。
Various specific techniques have been proposed to date to prevent scratching and improve chemical resistance by hardening the surface of synthetic resins. Acrylic curing paints, which are typified by the technology of curing reactants such as acrylic acid or methacrylic acid and propylene oxide or alkyd resins with ultraviolet rays or electron beams, and melamine based on alkyl etherified methylol melamine, belong to system treatments. Amine type curing amount F4, which is typified by alkyd resin type. Ethylsilicate, methyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, phenyltriethoxysilane, γ-
There are thin films made of organopolysiloxane-based curing paints that use glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane, etc. as representative silicon compounds, and they also belong to inorganic systems.

Sin、や低融点ガラスを用いた真空蒸着による硬質薄
膜等があり、それぞれの特徴を活か′した応用製品が商
品化されている。− 捷だ1合成樹脂を基4]とする光学部品としての実用性
能を向上させるため、カメラレンズやめがねレンズに代
表されるレンズ表面への多層反射防止膜を形成させる無
機薄膜の形成技術について。
There are hard thin films made by vacuum deposition using Sin, low melting point glass, etc., and applied products that take advantage of the characteristics of each have been commercialized. - Regarding the formation technology of inorganic thin films to form multilayer anti-reflection coatings on the surfaces of lenses, such as camera lenses and eyeglass lenses, in order to improve the practical performance of optical components based on Kada 1 synthetic resin.

種々の知見が得られている。合成樹脂基材への反射防止
が上に用いられる低屈折率物質としては。
Various findings have been obtained. As a low refractive index material used on the synthetic resin base material for anti-reflection.

基材の耐熱温度限界のため、ガラス暴利の場合は普通一
般的に使用されるフッ化マグネシウムの使用は適さない
ため、低温度蒸着条件でも硬度のすぐれた蒸着膜が得ら
れる二酸化ケイ素が用いられることは良く知られている
。又。多層反射防止膜を形成させる場合に不可欠な高屈
折率物質としては、従来からガラス基材の反射防止を行
なう場合に使用されてきた拙々の無機酸化物が使用でき
ることも良く知られている。たとえば、酸化ジルコニウ
ム、酸化チタン、酸化セリウム、酸化インジウム、酸化
ハフニウム、酸化タンタル等である。
Due to the heat-resistant temperature limit of the base material, it is not suitable to use magnesium fluoride, which is commonly used in the case of glass profiteers, so silicon dioxide is used because it can provide a deposited film with excellent hardness even under low-temperature deposition conditions. This is well known. or. It is well known that inorganic oxides, which have been conventionally used for antireflection of glass substrates, can be used as high refractive index substances essential for forming multilayer antireflection films. Examples include zirconium oxide, titanium oxide, cerium oxide, indium oxide, hafnium oxide, and tantalum oxide.

さらに又、高性能の反射防止膜を形成させるために必良
な中間屈折率層形成物質として、これは設計高屈折率層
とのからみで選択されるが、−酸化ケイ素、酸化ジルコ
ニウム、酸化アルミニウム。
Furthermore, materials for forming intermediate refractive index layers that are necessary for forming high-performance anti-reflection coatings are selected in conjunction with the designed high refractive index layer: - silicon oxide, zirconium oxide, aluminum oxide. .

酸化イツトリウム等をそれぞれ使用する例が知られてい
る(特公昭56−15481.特公昭56−18922
)。三層反射防止膜を例として具体例をあげるならば、
暴利側から順に、第1層(中間屈折率)/第2層(高屈
折率)/第3層(低屈折率)として、 Al、0. /
 ZrO,/ Sin、 、 SiO/Tie、 / 
Sin、 、 Al、O,/ CeO,/ Sin、 
、、 Y、O,/ZrO,/ Sin、 、 Y、0.
 / Tie、 / Sin、 、 Y、0. /Ce
O,/ Sin、 、 Y、0. /工no、 / S
in、 、 Y、0. /HfO,/ Si、0. 、
 SiO/ 2rO,/ Sin、 、 ZrO,/T
ie。
Examples of using yttrium oxide, etc. are known (Japanese Patent Publication No. 56-15481; Japanese Patent Publication No. 56-18922).
). To give a specific example of a three-layer anti-reflection film,
In order from the profiteering side, the first layer (intermediate refractive index)/second layer (high refractive index)/third layer (low refractive index) includes Al, 0. /
ZrO, / Sin, , SiO/Tie, /
Sin, , Al, O, / CeO, / Sin,
, , Y,O,/ZrO,/Sin, , Y,0.
/ Tie, / Sin, , Y, 0. /Ce
O,/Sin, , Y,0. /Eng No, /S
in, , Y, 0. /HfO, /Si,0. ,
SiO/ 2rO,/Sin, , ZrO,/T
ie.

等である。etc.

反射防止膜は極めて厚みの薄い層であるため。This is because the anti-reflective coating is an extremely thin layer.

合成樹脂を基材とする場合、暴利上に直接反射防止膜加
工を施す方法では、 1IiJ久件のある反射防止膜を
得ることは困難である。このため、耐久性のある反射1
υj止膜を得る方法として、先ず合成樹脂基材に有機系
あるいは無機系の表面硬化被膜を形成させ1次いで反射
防止膜を形成させる′方法が知られている。
When a synthetic resin is used as a base material, it is difficult to obtain a long-established anti-reflection film by directly applying an anti-reflection film treatment to the surface. For this reason, durable reflection 1
A known method for obtaining a υj stop film is to first form an organic or inorganic surface hardening film on a synthetic resin base material, and then form an antireflection film.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、従来の技術知見では困難であった理想
の反射防止設計を安定的に満足させると同時に、膜密着
性や表面かたさ等の実用性能にっいてもすぐれた合成樹
脂基材の反射防止光学素子を有するために有効である新
しい多層反射防止膜組成を提供するものである。
The purpose of the present invention is to create a synthetic resin base material that stably satisfies the ideal anti-reflection design, which has been difficult with conventional technical knowledge, and that also has excellent practical performance such as film adhesion and surface hardness. A new multilayer antireflection coating composition is provided that is effective for having antireflection optical elements.

〔発明の構成] 本発明は2合成樹脂基材の少なくとも一つの面に先ず表
面硬化被膜を形成させ、その上に多層反射防止膜を形成
させてなる反射防止性光学素子において、該多層反射防
止膜の最内層が少なくとも酸化イツトリウムと酸化ジル
コニウムを含有する混合膜からなり、最外層は二酸化ケ
イ素の膜からなることを特徴とする反射防止性光学素子
である。
[Structure of the Invention] The present invention provides an antireflection optical element in which a surface hardening film is first formed on at least one surface of two synthetic resin base materials, and a multilayer antireflection film is formed thereon. This is an antireflection optical element characterized in that the innermost layer of the film is made of a mixed film containing at least yttrium oxide and zirconium oxide, and the outermost layer is made of a silicon dioxide film.

合成樹脂基材を用いて真空下において反射防止加工を行
なう場合9合成樹脂の物性」二の制約から実用上使用で
きる低屈折率及び高屈折率の蒸着物質全ガラスを基材と
する場合のように広範囲に選択することはできない。こ
のため理想の反射防止膜を形成させるために必要な中間
の屈折率を有する実用性のある蒸着物質を既知の知茸の
うちに見出すのはますます困難である。従来知られてい
る一酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニラム
、酸化イソ) IJウム等は、蒸着条件の変動によって
屈折率が大きくふらついたり9着色がおこること、又理
想の反射防止条件に対しては屈折率が低すきたり高すぎ
る欠点を有することである。
When performing anti-reflection treatment under vacuum using a synthetic resin base material, due to the limitations of 9. Physical Properties of Synthetic Resins, practically usable vapor-deposited materials with low and high refractive indexes, such as when using an all-glass base material, are used. It is not possible to make a wide selection. For this reason, it is increasingly difficult to find a practical vapor deposition material having an intermediate refractive index necessary for forming an ideal antireflection film among known mushrooms. Conventionally known silicon monoxide, aluminum oxide, zirconyl oxide, IJium oxide, etc., have large fluctuations in refractive index and coloration due to fluctuations in deposition conditions, and are not suitable for ideal anti-reflection conditions. The problem is that the refractive index is too low or too high.

本発明[120’O以下の低温蒸着条件下で、中間屈折
率を安定的に得る方法として混合蒸着のできる蒸着物質
の組合せに着目し選択検討を行なった結果、酸化イツト
リウムと酸化ジルコニラムラ主成分とする混合蒸着が非
常にう1く行くことを見出すことによって完成した。又
9各種の有機系及び無機系の表面硬化処理を施した合成
樹脂基材を用いて本発明による中間屈折率層を使用した
多層反射防止膜を形成した結果、膜密着性や表面かたさ
等の実用特性についても極めてすぐれたものであること
が確かめられた。従来、酸化イツトリウムあるいは酸化
ジルコニウムをそれぞれ単独に中間屈折率層として使用
する提案はこれまでにみあたらない。酸化イツトリウム
と酸化ジルコニウムの混合膜によってできる膜の屈折率
は、真空加工時の酸素導入条件等によって制御可能であ
るが。
The present invention [As a method for stably obtaining an intermediate refractive index under low-temperature deposition conditions of 120'O or less, we focused on the combination of deposition materials that can be mixed and examined, and found that yttrium oxide and zirconium oxide Rammura are the main components. It was completed by discovering that mixed vapor deposition is very effective. In addition, as a result of forming a multilayer anti-reflection film using the intermediate refractive index layer according to the present invention using synthetic resin base materials subjected to various organic and inorganic surface hardening treatments, improvements in film adhesion, surface hardness, etc. It was confirmed that the practical characteristics were also extremely excellent. Until now, there has been no proposal to use yttrium oxide or zirconium oxide alone as an intermediate refractive index layer. The refractive index of a film formed from a mixed film of yttrium oxide and zirconium oxide can be controlled by adjusting the oxygen introduction conditions during vacuum processing, etc.

約17〜1.9の間で連続的に可変である。さらに屈折
率の上下幅の拡大あるいは蒸着時の安定性を向上させる
等の目的によって、酸化アルミニウムあるいは酸化チタ
ン等を一部混合することも可能である。反射防止膜の最
外層には低屈折率物質が使用されるが9合成樹脂を基材
とする場合、蒸着時の加熱温度をガラス基材の場合のよ
うに品温にすること君不可能であるため、耐久性のある
反射防止膜を形成させるためには、二酸化ケイ素を使用
することが推奨される。また2反射防止層を形成させる
高屈折率物質としては、従来知られている各種の物質、
たとえば、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化セリウ
ム、酸化インジウム、酸化ハフニウム、酸化タンタル等
の単独あるいは混合したものを用いることができる。
Continuously variable between about 17 and 1.9. Furthermore, it is also possible to partially mix aluminum oxide, titanium oxide, etc. for the purpose of increasing the vertical range of the refractive index or improving stability during vapor deposition. A low refractive index substance is used for the outermost layer of the anti-reflection film, but when using synthetic resin as the base material, it is impossible to keep the heating temperature during vapor deposition to the same temperature as when using a glass base material. Therefore, it is recommended to use silicon dioxide to form a durable antireflection coating. In addition, as the high refractive index material for forming the anti-reflection layer, there are various conventionally known materials,
For example, zirconium oxide, titanium oxide, cerium oxide, indium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, etc. can be used alone or in combination.

合成樹脂基材に先ず有機系の表面硬化被膜を形成させ9
次いで真空下において反射防止膜を形成させる場合9反
射防止を形成させる前に有機系硬化被膜上に、物性向上
−あるいは着色等の効果を出すため真空下において無機
物を被覆することも本発明の意義を損するものではない
。寸た有機系表面硬化被膜と真空下において形成される
第1″の層との密着性をより強固なものとするため、あ
らかじめ表面硬化膜の表面処理を施すことも有意義であ
る。表面処理法としては、化学的、物理的、あるいは機
械的各種の方法が採用可能であり2例をあげれば、アル
カリ処理、酸処理、放電処理、プラズマ処理、ザンドブ
ラスト等である。
First, an organic surface hardening film is formed on the synthetic resin base material 9
Next, when an antireflection film is formed under vacuum, it is also the significance of the present invention to coat an inorganic substance on the organic cured film under vacuum in order to improve physical properties or produce an effect such as coloring before forming the antireflection film. It does not cause any loss. In order to further strengthen the adhesion between the thin organic surface hardening film and the first layer formed under vacuum, it is also meaningful to perform a surface treatment on the surface hardening film in advance.Surface treatment method Various chemical, physical, or mechanical methods can be employed for this purpose, and two examples include alkali treatment, acid treatment, discharge treatment, plasma treatment, and sandblasting.

真空下における反射防止膜形成技術としては。As an anti-reflection film formation technology under vacuum.

スパッタリング法等を単独あるいは組合せて応用するこ
とが可能である。
It is possible to apply a sputtering method or the like alone or in combination.

次に実施例により具体的に説明する。Next, a concrete explanation will be given using examples.

実施例1 表面硬化処理した合成樹脂基板として、市販の三菱レイ
ヨン製“アクリライトA R” (厚さ約21T111
1 、ポリメチルメタクリレートキャスト板に多官能ア
クリル樹脂系硬化塗膜を施したもの。硬化塗膜の組成−
、]j+SCA及びFT−JR分析法にょつて確認した
)′fl:入手した。この基月ヲ先ず1通常のフレオン
多段洗浄装置を用いて表面を清浄化させたのち、電子ビ
ームガンを備えた真空蒸着装置を用いて、基板側から第
1層として、酸化ジルコニウム/酸化イツトリウム−4
0760(重量比)による混合膜、第2層、酸化チタン
、第6層、二酸化ケイ素の組合せによる三層反射防止膜
(λ/4゜λ/2.λ/4 膜組成)を形成させた。蒸
着温1ム゛け80℃であった。
Example 1 A commercially available “Acrylite A R” manufactured by Mitsubishi Rayon (thickness approx. 21T111
1. Polymethyl methacrylate cast plate coated with a polyfunctional acrylic resin cured coating. Composition of cured coating film
,]j+SCA and FT-JR analysis method)'fl: Obtained. First, the surface of this base was cleaned using a normal Freon multi-stage cleaning device, and then a vacuum evaporation device equipped with an electron beam gun was used to coat zirconium oxide/yttrium oxide-4 as the first layer from the substrate side.
A three-layer antireflection film (film composition of λ/4°λ/2.λ/4) was formed by combining a mixed film of 0760 (weight ratio), a second layer, titanium oxide, a sixth layer, and silicon dioxide. The deposition temperature was 80°C, 1 difference.

得られた反射防止加工板の表面反射干渉色はマゼンタ色
であり、可視光線反射率は約05%とすぐれており9反
射防止膜と表面硬化膜の密着性はセロテープによる剥離
テストに合格し、スチールウール擦過(+00oo番手
)による表面硬さテストでもわずかにきすのつく程度と
優れた性能を示した。なお酸化ジルコニウム単独を第1
層とした場合は屈折率が高すぎるた約2寸た酸化イツト
リウム単独の場合は屈折率が低ずぎるため、可視光線反
射率を0.5係レベルにするのけ困難であった。
The surface reflection interference color of the obtained anti-reflection treated plate is magenta, the visible light reflectance is excellent at approximately 0.05%, and the adhesion between the anti-reflection film and the surface hardened film passed a peel test using cellophane tape. The surface hardness test by steel wool rubbing (+00oo grit) showed excellent performance with only slight scratches. Note that zirconium oxide alone is the first
When used as a layer, the refractive index was too high, and when using yttrium oxide alone, the refractive index was too low, so it was difficult to bring the visible light reflectance to the 0.5 factor level.

実施例2 γ−グリシドキシプロビルメチルジェトキシシランの加
水分解物、エポキシ樹脂、シリカゾルを主成分とするシ
リコーン系表面硬化剤(特開昭56−74202.実施
例2に示されているもの)で、射出成形して得たポリカ
ーボネート樹脂(“レキサン” 141 )のレンズ状
成形品(厚み約2mm ) fコーティングし、130
°Cで2時間加熱硬化して表面硬化被膜を施した樹脂基
材を得た。
Example 2 A silicone-based surface hardening agent whose main components are a hydrolyzate of γ-glycidoxypropyl methyljethoxysilane, an epoxy resin, and a silica sol (as shown in JP-A-56-74202. Example 2) ), a lens-shaped molded product (thickness approx. 2 mm) of polycarbonate resin ("Lexan" 141) obtained by injection molding, f-coated, 130
A resin base material with a surface hardening film was obtained by heat curing at °C for 2 hours.

次いで、この木材をプラズマリアクターに入れ。Next, put this wood into a plasma reactor.

酸素ガス雰囲気下で表面の活性化処理を行なった。Surface activation treatment was performed in an oxygen gas atmosphere.

次に実施例1の場合と同様にフレオン洗浄により基材の
表面を清浄化したのち、真空蒸着装置を用いて基板側か
ら第1層として、′ザブスタンス1″(メルク・ジャパ
ン社製蒸着薬品で、酸′化ジルコニウムと酸化チタンの
混合物)/酸化イツトリウム=65/35 (重量比)
による混合膜、第2層。
Next, as in Example 1, the surface of the substrate was cleaned by Freon cleaning, and then a vacuum evaporator was used to coat the substrate with 'Zubstance 1'' (deposition chemicals manufactured by Merck Japan) as the first layer from the substrate side. , mixture of zirconium oxide and titanium oxide)/yttrium oxide = 65/35 (weight ratio)
mixed film, second layer.

酸化タンタル、第6層、二酸化ケイ素の組合せによる三
層反射防止膜(λ/4.λ/4.λ/4膜構成)を形成
させた。蒸着温度は100℃であった。得られた友射防
止加工品の表面反射干渉色はグIJ−ン色であり、可視
光線反射率は約07係とすぐれており、また反射防止膜
の密着性はセロテープによる剥離テストに合格し、スチ
ールウール擦過(、#0000番手)による表面硬さテ
ストではほとんどきずつきが認められず優れた性能を示
した。
A three-layer antireflection film (λ/4.λ/4.λ/4 film configuration) was formed by combining tantalum oxide, the sixth layer, and silicon dioxide. The deposition temperature was 100°C. The surface reflection interference color of the obtained anti-reflection treated product is a green IJ-green color, the visible light reflectance is excellent at about 07, and the adhesion of the anti-reflection film has passed a peel test with cellophane tape. In the surface hardness test by rubbing with steel wool (#0000), almost no scratches were observed, showing excellent performance.

実施例ろ ジエチレングリコールビスアリルカーボネートを用いた
キャスト重合量(厚み約2 mm 、直径約70画のレ
ンズ状)を作成した。次いで実施例1の場合と同様にし
てフレオン洗浄により重合量の表面全清浄化したのち、
真空蒸着装置を用いて、二酸化ケイ素の層を約2μの厚
さに形成させた。この層は合成樹脂重合量の表面の硬さ
を向上させ、きすつきを防止する効果を有する。引きつ
づき蒸着槽内で、酸化ジルコニウム/酸化イツトリウム
−sD/so (重量比)による混合膜を第1層とし。
EXAMPLE A cast polymer (lens shape with a thickness of about 2 mm and a diameter of about 70 strokes) was prepared using diethylene glycol bisallyl carbonate. Next, in the same manner as in Example 1, the surface of the polymerized amount was completely cleaned by Freon cleaning, and then
A layer of silicon dioxide was applied to a thickness of approximately 2 microns using a vacuum evaporator. This layer has the effect of improving the surface hardness of the polymerized synthetic resin and preventing scratching. Subsequently, in a vapor deposition tank, a mixed film of zirconium oxide/yttrium oxide-sD/so (weight ratio) was formed as a first layer.

次に第2層を二酸化ケイ素とする二層反射防止膜(λ/
4.λ/4 膜構成)を形成させた。蒸着温度は80゛
Cであった。得られた反射防止加工品の表面反射干渉色
は強いマゼンタ色であり、可視光線反射・率は約04%
とすぐれ、また反射防止膜の密着性はセロテープによる
剥離テストに合格し、スチールウール擦過(−#、00
00番手)による表面硬さテストでは、はとんどきずが
つかないなど優れた性能を示した。
Next, a two-layer anti-reflection coating (λ/
4. λ/4 film configuration) was formed. The deposition temperature was 80°C. The surface reflection interference color of the obtained anti-reflection processed product is a strong magenta color, and the visible light reflection rate is approximately 0.4%.
Moreover, the adhesion of the anti-reflection film passed a peel test using cellophane tape, and the adhesion of the anti-reflection film passed a peel test with steel wool (-#, 00
In the surface hardness test using No. 00), it showed excellent performance with almost no scratches.

特許出願人 東し株式会社Patent applicant: Toshi Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 合成樹脂基材の少なくとも一つの面に、先ず表面硬化被
膜を形成させ、その上に多層反射防止膜を形成させてな
る反射防止性光学素子において。 該多層反射防止膜の最内層が少なくとも酸化イツトリウ
ムと酸化ジルコニウムを含有する混合膜からなり、最外
層は二酸化ケイ素の膜からなることk %徴とする反射
防止性光学素子、。
[Scope of Claims] An antireflection optical element comprising a surface hardening coating first formed on at least one surface of a synthetic resin base material, and a multilayer antireflection coating formed thereon. An antireflection optical element, wherein the innermost layer of the multilayer antireflection film is made of a mixed film containing at least yttrium oxide and zirconium oxide, and the outermost layer is made of a silicon dioxide film.
JP59000215A 1984-01-06 1984-01-06 Antireflecting optical element Pending JPS60144702A (en)

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JP59000215A JPS60144702A (en) 1984-01-06 1984-01-06 Antireflecting optical element

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JP59000215A JPS60144702A (en) 1984-01-06 1984-01-06 Antireflecting optical element

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