JPS60139063A - Photoelectric conversion device - Google Patents
Photoelectric conversion deviceInfo
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- JPS60139063A JPS60139063A JP58246885A JP24688583A JPS60139063A JP S60139063 A JPS60139063 A JP S60139063A JP 58246885 A JP58246885 A JP 58246885A JP 24688583 A JP24688583 A JP 24688583A JP S60139063 A JPS60139063 A JP S60139063A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、例えばファクシミリの原稿読み取り系にお
いて、原稿幅と同一寸法をもち、原稿にほぼ密着して読
み取りを行なう光電変換装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a photoelectric conversion device that has the same dimension as the width of a document and reads the document in close contact with the document, for example in a facsimile document reading system.
従来この種の装置の1つとして第1図に示すものがあっ
た。図において、101はICイメージセンサ、102
はレンズ、103は原稿、104は上記原稿103を照
明する螢光灯である。One of the conventional devices of this type is shown in FIG. In the figure, 101 is an IC image sensor, 102
103 is a lens, 103 is a document, and 104 is a fluorescent lamp for illuminating the document 103.
このような光電変換装置では、螢光灯104によって照
明された原稿103の像は、レンズ102によってIC
イメージセンサ101上に縮小して結像される。上記I
Cイメージセンサ101は、受光素子が10〜20μm
間隔で一列に並んでいるもので、これはCCDなどによ
り電気的な走査ができるものである。In such a photoelectric conversion device, an image of an original 103 illuminated by a fluorescent lamp 104 is transferred to an IC by a lens 102.
A reduced image is formed on the image sensor 101. Above I
The C image sensor 101 has a light receiving element of 10 to 20 μm.
They are arranged in a line at intervals, and can be electrically scanned by a CCD or the like.
しかるにこのようなモノリシックIC技術を用いたIC
イメージセンサ101ば、受光素子の長さが3011I
11程度に制限されるため、通常、200Iを越える幅
をもつ原稿103を読み取る場合、どうしても第F図に
示すような縮小光学系が不可欠である。このため原稿1
03とICイメージセンサ101との間の距離は300
mm程度必要となり、これがこの種の光電変換装置の小
型化を妨げる大きな要因とな;′ている。However, ICs using such monolithic IC technology
For the image sensor 101, the length of the light receiving element is 3011I.
Since the width is limited to about 11, normally when reading a document 103 having a width exceeding 200I, a reduction optical system as shown in FIG. F is essential. For this reason, manuscript 1
The distance between 03 and IC image sensor 101 is 300
This is a major factor preventing miniaturization of this type of photoelectric conversion device.
そこで最近では、原稿幅と同一寸法をもち、原稿103
にほぼ密着してこれを読み取る密着形イメージセンサが
考えられている。この密着形イメージセンサの構成例を
第2図、あるいは第3図に示す。第2図および第3図に
おいて、201はセンサ基板、202は原稿103を照
明するためのLEDアレイ、2o3はファイバレンズア
レイ、204は上記原稿103のガイド板である。Therefore, recently, the original 103 has the same dimensions as the original width.
A close-contact image sensor is being considered that reads the image by coming in close contact with the image sensor. An example of the structure of this contact type image sensor is shown in FIG. 2 or 3. In FIGS. 2 and 3, 201 is a sensor board, 202 is an LED array for illuminating the original 103, 2o3 is a fiber lens array, and 204 is a guide plate for the original 103.
まず、第2図の光電変換装置について説明する。First, the photoelectric conversion device shown in FIG. 2 will be explained.
原稿103は2本のLEDアレイ202によって照明さ
れ、その像は上記ファイバレンズアレイ203によって
センサ基板201上に等倍の実像となって結像される。The original 103 is illuminated by two LED arrays 202, and its image is formed as a real image of the same size on the sensor substrate 201 by the fiber lens array 203.
そして上記センサ基板201上には受光素子が一列に8
素子/’myaの素子密度で配設されており、該受光素
子によって8画素/am解像度での光電変換が行なわれ
る。このように大形のセンサ基板201を用いることに
より、上記センサ基板201と原稿103との間の距離
は20+a+w程度となり、光電変換製置の大幅な小形
化が実現できる。On the sensor board 201, eight light receiving elements are arranged in a row.
The light receiving elements are arranged at an element density of 8 pixels/mya, and photoelectric conversion is performed at a resolution of 8 pixels/am. By using such a large sensor substrate 201, the distance between the sensor substrate 201 and the document 103 is approximately 20+a+w, and the photoelectric conversion equipment can be significantly downsized.
次に第3図の光電変換装置について説明する。Next, the photoelectric conversion device shown in FIG. 3 will be explained.
この装置では、第2図に示す装置におけるファイバレン
ズアレイ203が設けられておらず、センサ基板201
は原稿103に接触しており、照明はLEDアレイ20
2によってセンサ基板201の裏面より行なわれる。第
4図はこの装置に用いるセンサ基板201の断面を示し
、図において、ガラス基板401より入射された光(図
中矢印で示されている)は、透明電極403および透明
保護層405を通過し、原稿103を照明する。上記原
稿103の表面において反射された光は、再び上記透明
保護層405および透明電極403を通過し、受光素子
(光電変換素子)404に入射される。また図中、40
2は金属電極である。In this device, the fiber lens array 203 in the device shown in FIG. 2 is not provided, and the sensor substrate 201
is in contact with the original 103, and illumination is provided by the LED array 20.
2 from the back surface of the sensor substrate 201. FIG. 4 shows a cross section of the sensor substrate 201 used in this device. In the figure, light incident from the glass substrate 401 (indicated by an arrow in the figure) passes through a transparent electrode 403 and a transparent protective layer 405. , illuminates the original 103. The light reflected on the surface of the original 103 passes through the transparent protective layer 405 and the transparent electrode 403 again, and enters the light receiving element (photoelectric conversion element) 404. Also in the figure, 40
2 is a metal electrode.
このような第3図に示す構造の装置では、センサ基板2
01を原稿103に接触させて読み取るため、第2図に
示す従来例に比べ、ファイバレンズアレイ203を用い
る必要がなく、より一層の小形化及び低価格化が実現出
来るという利点を有する。In the device having the structure shown in FIG. 3, the sensor board 2
01 is read by contacting with the original 103, there is no need to use the fiber lens array 203 compared to the conventional example shown in FIG. 2, which has the advantage of further downsizing and cost reduction.
しかしながらこのような構成の従来装置では、受光素子
404での光量を確保するためには保護層をある程度厚
くする必要があるが、レンズ系を用いていないため、保
護層が厚(なるにしたがって解像度が劣化するという欠
点があり、又原稿と接触するため、保護層405の表面
がすぐ汚れてしまうという欠点があった。However, in conventional devices with such a configuration, it is necessary to make the protective layer thick to some extent in order to ensure the amount of light at the light receiving element 404, but since no lens system is used, the protective layer is thick (the resolution increases as the thickness increases). There is also a drawback that the surface of the protective layer 405 is easily contaminated due to contact with the original.
この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するた
めになされたもので、透明保護層上に隣接する光電変換
素子の間の部分を覆って第2の保護層を設けることによ
り、解像度特性がまくがっ安価な光電変換装置を提供す
ることを目的としている。This invention was made in order to eliminate the drawbacks of the conventional ones as described above, and by providing a second protective layer on the transparent protective layer to cover the area between adjacent photoelectric conversion elements, the resolution characteristics can be improved. The purpose of this invention is to provide a photoelectric conversion device that is extremely inexpensive.
以下、本発明の実施例を図について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
第5図は本発明の一実施例による光電変換装置を示す。FIG. 5 shows a photoelectric conversion device according to an embodiment of the present invention.
図において、401はガラス基板(透明基板)、404
はガラス基板401上に所定の間隔をあけて一線上に配
列された複数の受光素子(光電変換素子)で、該素子4
04の上下には金属電極402と透明電極403とが形
成されている。In the figure, 401 is a glass substrate (transparent substrate), 404
are a plurality of light receiving elements (photoelectric conversion elements) arranged in a line on a glass substrate 401 at predetermined intervals;
A metal electrode 402 and a transparent electrode 403 are formed above and below 04.
405はガラス基板401上に受光素子404を覆って
形成された第1の透明保護層、501は第1の透明保護
[405上に隣接する受光素子4゜4の間の部分を覆っ
て形成された遮光層、502は遮光層502上に形成さ
れた第2の透明保護層、503は遮光層501と第2の
透明保護層502とからなる第2の保護層であり、以上
のようにしてセンサ基板201が構成されている。405 is a first transparent protective layer formed on the glass substrate 401 to cover the light receiving element 404, and 501 is a first transparent protective layer [formed on the glass substrate 401 to cover the portion between the adjacent light receiving elements 4. The light-shielding layer 502 is a second transparent protective layer formed on the light-shielding layer 502, and 503 is a second protective layer composed of the light-shielding layer 501 and the second transparent protective layer 502. A sensor substrate 201 is configured.
次に作用効果について説明する。第5図はセンサ基板2
01を受光素子の配列方向に沿った平面で切断した時の
断面図である。ガラス基板401上には金属電極402
および透明電極403にはさまれた受光素子404が1
25μmピッチで一列に配設され、これらは第1の透明
保護層405によって覆われており、また第1の透明保
護層405上には遮光層501及び第2の透明保護層5
03が形成されている。Next, the effects will be explained. Figure 5 shows the sensor board 2
01 is a cross-sectional view taken along a plane along the arrangement direction of the light receiving elements. A metal electrode 402 is placed on the glass substrate 401.
and a light receiving element 404 sandwiched between transparent electrodes 403.
They are arranged in a line at a pitch of 25 μm, and are covered with a first transparent protective layer 405. Also, on the first transparent protective layer 405, a light shielding layer 501 and a second transparent protective layer 5 are arranged.
03 is formed.
また受光素子の配列方向に垂直な面での断面図は第4図
と同じであり、照明用のLEDアレイ202からの光は
、第4図の矢印のように、センサ基板201の背後から
ガラス基板401に入射して原稿103表面に当たり、
該原稿103表面からの反射光は、透明保護層405を
通過して受光素子404に到達する。Also, the cross-sectional view in a plane perpendicular to the arrangement direction of the light-receiving elements is the same as that in FIG. The light enters the substrate 401 and hits the surface of the original 103,
The reflected light from the surface of the original 103 passes through the transparent protective layer 405 and reaches the light receiving element 404 .
そして本装置では、第5図に示すように、隣接する受光
素子404の間に相当する部分に遮光層501及び第2
の透明保護N502が配設されているため、原稿103
面上の点Aからの反射光のうち隣接する受光素子404
への光a及びCは第2の透明保護層502の垂直壁面で
反射されるとともに、これを通過した光a、Cは遮光層
501においてカットされる。このため、本装置では、
第2図に示したファイバレンズアレイ203のようなレ
ンズ光学系を用いずに、優れた解像度特性を得ることが
できる。In this device, as shown in FIG. 5, a light shielding layer 501 and a second
Since the transparent protection N502 is provided, the original 103
Among the reflected light from point A on the surface, adjacent light receiving elements 404
The lights a and C are reflected by the vertical wall surface of the second transparent protective layer 502, and the lights a and C that have passed through the second transparent protective layer 502 are cut off by the light shielding layer 501. Therefore, in this device,
Excellent resolution characteristics can be obtained without using a lens optical system such as the fiber lens array 203 shown in FIG.
また、上記遮光層501の上にさらに、第2の透明保護
層502が形成されているため、原稿面との接触はこの
透明保護層502の表面のみでおこり、第1の透明保護
M405の表面、つまり受光素子404上の保護層表面
が、原稿面と接触し、汚れる恐れがないため、當に安定
した光電変換を行なうことができる。Further, since a second transparent protective layer 502 is further formed on the light shielding layer 501, contact with the document surface occurs only on the surface of this transparent protective layer 502, and the surface of the first transparent protective layer M405 In other words, there is no risk that the surface of the protective layer on the light receiving element 404 will come into contact with the surface of the document and become dirty, so that very stable photoelectric conversion can be performed.
ここで2層の透明保護層40−5,502としては、酸
化珪素、窒化珪素、酸化タンタルなどを数〜50μm程
度形成し、遮光層501としては、クロム、ニクロム、
アルミニウム等の金属ヲ50〜数百nm形成するのが適
当である。Here, the two transparent protective layers 40-5, 502 are made of silicon oxide, silicon nitride, tantalum oxide, etc., with a thickness of about 50 μm, and the light shielding layer 501 is made of chromium, nichrome, tantalum oxide, etc.
It is appropriate to form a metal such as aluminum to a thickness of 50 to several hundred nm.
また第6図は本発明の第2の実施例を示し、本実施例で
は、第5図に示した遮光層501上の透明保護層502
が形成されておらず、遮光層501の膜圧が厚く形成さ
れており、即ち、第2の保護層503を全て遮光層50
1としたものである。Further, FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention, and in this embodiment, a transparent protective layer 502 on the light-shielding layer 501 shown in FIG.
is not formed, and the film thickness of the light shielding layer 501 is formed thick, that is, the second protective layer 503 is entirely covered with the light shielding layer 50.
1.
このように構成すると、原稿103面上の点Aからの反
射光は、図中矢印a、b、cで示すように、はとんどが
一つの受光素子404へ入射されるため、第1の実施例
と同様に優れた解像度特性を得ることができる。With this configuration, most of the reflected light from point A on the surface of the original 103 is incident on one light receiving element 404, as shown by arrows a, b, and c in the figure. It is possible to obtain excellent resolution characteristics as in the embodiment.
ここで本装置における遮光層501の膜圧は数〜数百μ
mが適当である。またこの遮光[501の形成法として
は、金属の真空蒸着法あるいはスパッタリング法などの
厚膜形成法が採用できるが、特に本装置においては、遮
光層の膜厚の増加による解像度の劣化がないため、スク
リーン印刷法。Here, the film thickness of the light-shielding layer 501 in this device is several to several hundred μ.
m is appropriate. In addition, thick film formation methods such as metal vacuum evaporation or sputtering can be used to form the light shielding layer [501]; however, in this device, there is no deterioration in resolution due to an increase in the thickness of the light shielding layer. , screen printing method.
あるいは金属箔、金属板等を表面に接着後写真製版技術
によりバターニングを行なう方法なども有効な遮光層形
成法である。Alternatively, a method of adhering a metal foil, metal plate, etc. to the surface and then buttering it by photolithography is also an effective method for forming a light-shielding layer.
なお上記2つの実施例では第2の保護層として遮光層を
有するものを示したが、この第2の保護層は全て透明保
護層であってもよい。また上記第1の実施例では遮光層
を第2の透明保護層の底面全部に形成したが、この遮光
層は第2の透明保護層の底面の一部に形成するようにし
てもよい。In the above two embodiments, the second protective layer includes a light-shielding layer, but the second protective layer may be entirely a transparent protective layer. Further, in the first embodiment, the light-shielding layer is formed on the entire bottom surface of the second transparent protective layer, but this light-shielding layer may be formed on a part of the bottom surface of the second transparent protective layer.
以上のようにこの発明によれば、透明保護層上に隣接す
る光電変換素子の間の部分を覆って第2の保護層を設け
るようにしたので、小形でかつ低価格であるという利点
を損なうことなく、解像度特性及び光電変換特性を大幅
に改善できる効果がある。As described above, according to the present invention, the second protective layer is provided on the transparent protective layer so as to cover the portion between adjacent photoelectric conversion elements, which impairs the advantages of being small and inexpensive. There is an effect that resolution characteristics and photoelectric conversion characteristics can be significantly improved without any problems.
第1は従来の縮小光学系を有する光電変換装置の1例の
斜視図、第2図は従来の密着形光電変換装置の1例の斜
視図、第3図は従来の密着形光電変換装置の他の例の斜
視図、第4図は第3図の装置におけるセンサ基板の構成
を示す断面側面図、第5図は本発明の一実施例による光
電変換装置におけるセンサ基板の構成を示す断面図、第
6図は本発明の他の実施例の断面図である。
201・・・センサ基板、405・・・第1の透明保護
層、404・・・受光素子(光電変換素子)、401・
・・ガラス基板(透明基板)、501・・・遮光層、5
02・・・第2の透明保護層、503・・・第2の保護
層。
なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
代理人 大岩増雄
第3図
第4図
手続補正書(自発)
21発明の名称
光電変換装置
3、補正をする者
代表者片山仁へ部
4、代理人
5、補正の対象
明細書の発明の詳細な説明の欄
6、補正の内容
(11明細書第7頁第13行のr03が形成」を「02
が形成」に訂正する。
(2)同第9頁第7行の「膜圧」をrlit厚」に訂正
する。
(3) 同第17行の「厚膜」を「薄膜」に訂正する。
以 上1 is a perspective view of an example of a conventional photoelectric conversion device having a reduction optical system, FIG. 2 is a perspective view of an example of a conventional contact type photoelectric conversion device, and FIG. 3 is a perspective view of an example of a conventional contact type photoelectric conversion device. A perspective view of another example, FIG. 4 is a cross-sectional side view showing the structure of the sensor substrate in the device of FIG. 3, and FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of the sensor substrate in the photoelectric conversion device according to an embodiment of the present invention. , FIG. 6 is a sectional view of another embodiment of the present invention. 201... Sensor substrate, 405... First transparent protective layer, 404... Light receiving element (photoelectric conversion element), 401...
... Glass substrate (transparent substrate), 501 ... Light shielding layer, 5
02...Second transparent protective layer, 503...Second protective layer. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or equivalent parts. Agent Masuo Oiwa Figure 3 Figure 4 Procedural amendment (voluntary) 21 Name of the invention Photoelectric conversion device 3 Person making the amendment Representative Hitoshi Katayama Department 4 Agent 5 Details of the invention in the specification to be amended Explanation column 6, content of amendment (formed by r03 on page 7, line 13 of 11 specification) is changed to “02
is corrected to "formation". (2) Correct "membrane thickness" in line 7 of page 9 to "rlit thickness". (3) Correct "thick film" in line 17 to "thin film."that's all
Claims (4)
板背後からの光の上記原稿による反射光を光電変換して
上記原稿の読取りを行なう光電変換装置であって、上記
センサ基板が、透明基板と、該透明基板上に所定の間隔
をあけて一線上に配列された複数の光電変換素子と、上
記透明基板上に上記光電変換素子を覆って形成された第
1の透明保護層と、該第1の透明保護層上に上記隣接す
る光電変換素子の間の部分を覆って形成された第2の保
護層とにより構成されていることを特徴とする光電変換
装置。(1) A photoelectric conversion device that reads the document by photoelectrically converting light reflected from the document from behind the sensor substrate by a sensor substrate that is in contact with the document, wherein the sensor substrate is made of a transparent substrate. a plurality of photoelectric conversion elements arranged in a line at predetermined intervals on the transparent substrate; a first transparent protective layer formed on the transparent substrate to cover the photoelectric conversion elements; A photoelectric conversion device comprising: a first transparent protective layer; and a second protective layer formed to cover a portion between the adjacent photoelectric conversion elements.
一体に形成された第2の透明保護層であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の光電変換装置。(2) The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein the second protective layer is a second transparent protective layer formed integrally with the first transparent protective layer.
形成された第2の透明保護層と、該第2の透明保護層の
底面の一部又は全部に形成された遮光層とからなること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光電変換装置
。(3) The second protective layer includes a second transparent protective layer formed on the first transparent protective layer, and a light shielding layer formed on a part or all of the bottom surface of the second transparent protective layer. The photoelectric conversion device according to claim 1, characterized in that the photoelectric conversion device comprises a layer.
に形成された遮光層であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項°記載の光電変換装置。(4) The photoelectric conversion device according to claim 1, wherein the second protective layer is a light shielding layer formed on the first transparent protective layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58246885A JPS60139063A (en) | 1983-12-27 | 1983-12-27 | Photoelectric conversion device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58246885A JPS60139063A (en) | 1983-12-27 | 1983-12-27 | Photoelectric conversion device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60139063A true JPS60139063A (en) | 1985-07-23 |
Family
ID=17155188
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58246885A Pending JPS60139063A (en) | 1983-12-27 | 1983-12-27 | Photoelectric conversion device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60139063A (en) |
-
1983
- 1983-12-27 JP JP58246885A patent/JPS60139063A/en active Pending
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