JPS60138761A - Magnetic recording and reproducing device - Google Patents

Magnetic recording and reproducing device

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Publication number
JPS60138761A
JPS60138761A JP25056783A JP25056783A JPS60138761A JP S60138761 A JPS60138761 A JP S60138761A JP 25056783 A JP25056783 A JP 25056783A JP 25056783 A JP25056783 A JP 25056783A JP S60138761 A JPS60138761 A JP S60138761A
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JP
Japan
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tape
running system
magnetic recording
thin layer
post
Prior art date
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Pending
Application number
JP25056783A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Yamamoto
博之 山本
Motoyasu Momoki
百木 元康
Toshihito Kawachi
河内 利仁
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To prevent damage to be inflicted on a running system even if a tape which wears the tape running system is used by coating a thin layer of a silicon compound onto a magnetic tape contact face of prescribed members in each member constituting the tape running system. CONSTITUTION:The thin layer of a silicon compound is coated to an outer circumference face of a base made of stainless steel in each member of the tape running system such as a tension post 15 and tilted posts 17 and 23 or the like. The thin layer of the silicon compound is coated to the outer circumference face of the base of a drum form made of a conventional Al in a drum 22. Even if a tape of a kind liable to be sticked to the tape running system such as a thin vapor-deposition tape is used, no sticking takes place, the friction coefficient of the tape running system is small and the excellent running characteristic is ensured. Moreover, no tape sticking takes place in a humid atmosphere.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明はビデオテープレコーダ(以下VTRと略称する
)等に用いられる磁気記録再生装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to a magnetic recording and reproducing device used in a video tape recorder (hereinafter abbreviated as VTR) and the like.

〔従来技術〕。[Prior art].

近年、磁気記録再生装置に関する技術の進歩は著しく、
特にVTR技術の発展は目覚ましい。このような情勢の
中にあって現在VTRの方式は、VHS方式,β方式,
V−2000方式あるいはCVC方式等互換性を有して
いない種々の方式のものが併存したまま普及している。
In recent years, technology regarding magnetic recording and reproducing devices has made remarkable progress.
In particular, the development of VTR technology is remarkable. In this situation, the current VTR systems are VHS system, β system,
Various incompatible systems, such as the V-2000 system and the CVC system, coexist and are widespread.

このため、ユーザー側で混乱を招くといった不都合な問
題が生じている。上述したような背景の中で、次世代の
機種として開発がすすめられているいわゆる8#VTR
に関しては、メーカー各社間で完全な規格統一がはから
れた。この8 rra V T Rに適用される磁気テ
ープは、メタルテープまたは蒸着テープである。これら
のうちメタルテープを適用する場合は磁気テープ(以下
単にテープという)走行系を従来の各種方式のVTRに
おいて採用されてきた構成と同様に構成すると、メタル
テープによりテープ走行系各部の摩耗が著しくなる。
This creates an inconvenient problem of confusion on the user side. Against the background described above, the so-called 8# VTR is being developed as a next-generation model.
Regarding this, complete standardization has been achieved among manufacturers. The magnetic tape applied to this 8 rra VTR is a metal tape or a vapor deposited tape. When metal tape is used, if the magnetic tape (hereinafter simply referred to as tape) running system is constructed in the same way as that used in conventional VTRs, metal tape will cause significant wear and tear on various parts of the tape running system. Become.

また一方、膜厚が薄く癲械的強度が比較的低い蒸着テー
プを適用する場合は、他の種々の問題が生ずる。すなわ
ち従来同様に、たとえばステンレス鋼製の固定ポストや
アルミニウム製の回転ドラムを用い、φ−40厘の回転
ドラムに対するテープ巻付け角を2109 に設定して
テープ走行系を構成すると、テープが固定ポストや回転
ドラムの周面に粘り付いたり、テープと固定ポストや回
転ドラム周面との摩擦係数が増大して、テープ走行速度
にムラが生じ、その結果再生画像が劣化するといった問
題が起こる。このような問題は湿度の高い雰囲気で装置
を使用した場合には特に顕著なものとなる。多湿雰囲気
中におけるこの種の問題は、VTR一般の問題として特
開昭58−98868号公報にも開示されており、一応
の解決策も示されている。これはテープ走行系の部材の
表面に高級脂肪酸としてたとえばステアリン酸、高級脂
肪酸塩としてたとえばステアリン酸亜鉛、高級脂肪酸ア
ミドとしてたとえばステアリン酸アミド、反応性有機ア
ミドとしてたとえばシランカップリング剤、反応性有握
チタンとしてたとえば有観チタン酸エステルなどの物質
を溶剤中に溶かし、濃度1重量%程度に調整した処理液
中に上記部材を侵潰したのち、高速熱風で乾燥させるこ
とにより上記部材の表面に上記物質からなる薄膜層を形
成し、上記部材が撥水性を有するようにするものである
。しかしながら、上述の開示された方法による薄膜層は
到底長時間のテープ走行による摩耗に耐え得るものでは
なく実用性がない。
On the other hand, when a vapor-deposited tape with a thin film thickness and relatively low mechanical strength is used, various other problems arise. In other words, if a tape running system is constructed in the same way as in the past, using a fixed post made of stainless steel or a rotating drum made of aluminum, and setting the tape winding angle to the rotating drum of φ-40 mm to 2109 degrees, the tape will be attached to the fixed post. Problems arise in that the tape sticks to the circumferential surface of the rotating drum, and the coefficient of friction between the tape and the fixed post or the circumferential surface of the rotating drum increases, resulting in uneven tape running speed and, as a result, the reproduced image deteriorates. Such problems become particularly noticeable when the device is used in a humid atmosphere. This kind of problem in a humid atmosphere is also disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 58-98868 as a general problem of VTRs, and a tentative solution is also presented. This is applied to the surface of the tape running member as a higher fatty acid such as stearic acid, as a higher fatty acid salt such as zinc stearate, as a higher fatty acid amide such as stearic acid amide, as a reactive organic amide such as a silane coupling agent, or as a reactive organic amide. As titanium, for example, a substance such as a visible titanate ester is dissolved in a solvent, and the above-mentioned member is crushed in a treatment liquid whose concentration is adjusted to about 1% by weight.The above-mentioned material is then applied to the surface of the above-mentioned member by drying with high-speed hot air. A thin film layer made of a substance is formed to make the above-mentioned member water repellent. However, the thin film layer produced by the method disclosed above cannot withstand wear caused by running the tape for a long period of time and is therefore impractical.

〔目的〕〔the purpose〕

本発明の目的は、蒸着テープのように走行性の点で難が
ある磁気テープを適用した場合においても、テープ走行
系における摩擦係数が小さく、テープ走行速度にムラが
生じたり、テープが走行系の部材に粘り付いたりするこ
とがなく、かつテープの損傷が少なく、また多湿雰囲気
中においても上述のような良好なテープ走行特性が得ら
れ、さらにメタルテープのようにテープ走行系を摩耗さ
せる作用の大きい磁気テープを適用した場合でも、テー
プ走行系の損傷が抑制され得る磁気記録再生装置を提供
することにある。
It is an object of the present invention to solve the problem that even when using a magnetic tape that is difficult to run, such as a vapor-deposited tape, the coefficient of friction in the tape running system is small, and the tape running speed becomes uneven and the tape runs smoothly. It does not stick to other components, causes less damage to the tape, provides good tape running characteristics as mentioned above even in humid atmosphere, and has the ability to wear out the tape running system like metal tape. An object of the present invention is to provide a magnetic recording/reproducing device in which damage to a tape running system can be suppressed even when a magnetic tape having a large diameter is used.

〔概要〕〔overview〕

本発明は上記目的を達成するために次の如く構成したこ
とを特徴としている。すなわち、磁気テ−プ走行系を構
成する各部材のうち、たとえば回転ドラム,バックテン
ションポストまたは固定ポストのような所定部材の少な
くとも磁気テープ摺接面を、ケイ素化合物よりなる薄層
を前記所定部材における当該母材にコートすることによ
って形成するようにしたことを特徴としている。
In order to achieve the above object, the present invention is characterized by the following configuration. That is, among the members constituting the magnetic tape running system, at least the sliding contact surface of the magnetic tape of a predetermined member such as a rotating drum, a back tension post, or a fixed post is coated with a thin layer made of a silicon compound. It is characterized in that it is formed by coating the base material.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面に示す実施例によって本発明を明らかにする
Hereinafter, the present invention will be clarified by examples shown in the drawings.

第1図は本発明の一実施例であるVTRのテープ走行系
を示す系統図である。第1図において、テープ10はカ
セット11内の供給リール12より出て、以下の経路を
とる。
FIG. 1 is a system diagram showing a tape running system of a VTR which is an embodiment of the present invention. In FIG. 1, tape 10 exits from supply reel 12 in cassette 11 and takes the following path.

カセット内ボスト13→カセット内ポスト14→テンシ
ョンボスト15→回転ローラ16→傾斜ボスト17→回
転ローラ18→テープリーダ19→全巾消去ヘッド20
→テープガイド21→ドラム22→傾斜ボスト23→オ
ーディオ消去ヘッド24→オーディオコントロールヘッ
ド25→ポスト26→キャプスタン27およびピンチ口
ーラ28→カセツト内ポスト29→カセツト内ポスト3
0゜ テープ10は以上の経路を経て巻取りリール31へと至
ることになる。
Cassette inner post 13 → Cassette inner post 14 → Tension post 15 → Rotating roller 16 → Inclined boss 17 → Rotating roller 18 → Tape leader 19 → Full width erasing head 20
→ Tape guide 21 → Drum 22 → Inclined post 23 → Audio erase head 24 → Audio control head 25 → Post 26 → Capstan 27 and pinch roller 28 → Inner cassette post 29 → Inner cassette post 3
The 0° tape 10 reaches the take-up reel 31 via the above-described route.

上述のテープ走行系における各部材のうち、例えばテン
ションポスト15.傾斜ポスト17及び傾斜ポスト23
は、ステンレス鋼製の母材の外周面(テープ摺接面)に
ケイ素化合物(Si3N+SiO2,SiCなど)の薄
層をコートして形成されている。またドラム22は従来
のこの種の装置同様のアルミニウム類のドラム状の母材
の外周面に上述したケイ素化合物の薄層をコートして形
成されている。
Among the members in the tape running system described above, for example, the tension post 15. Inclined post 17 and inclined post 23
is formed by coating a thin layer of a silicon compound (Si3N+SiO2, SiC, etc.) on the outer peripheral surface (tape sliding surface) of a base material made of stainless steel. The drum 22 is formed by coating the outer peripheral surface of a drum-shaped base material made of aluminum with a thin layer of the silicon compound described above, similar to the conventional apparatus of this type.

第2図は上記母材41にケイ素化合物の薄層42がコー
トされている状態を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing the base material 41 coated with a thin layer 42 of a silicon compound.

上述した薄層42を形成する手段としては、当該母材4
1の表面に上記物質を物理蒸着法(PVD法)あるいは
化学蒸着法(CVD法)により被着させる方法を用いる
とよい。
As a means for forming the thin layer 42 described above, the base material 4
It is preferable to use a method of depositing the above-mentioned substance on the surface of 1 by physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD).

、■ 第3図は前記ケイ素化合物のうちS +z N4をPV
D法の−っであるRFマグネトロンスパッタリングによ
り被着させる工程のフローチャートを示す図である。
,■ Figure 3 shows that among the silicon compounds, S +z N4 is PV
It is a figure which shows the flowchart of the process of depositing by RF magnetron sputtering which is the first part of method D.

まず工程51においては試料すなわちテンションポスト
15.傾斜ポスト23あるいはドラム22を、アルカリ
製洗剤、蒸溜水、有機溶tS<アセトン)といった順序
で超音波洗浄を行ないながら洗浄する。次に工程52に
おいて上記試料をイソプロピルアルコールに浸す。次に
工程53において上記試料をフロン蒸気中にて乾燥させ
る。次に工程54において上記乾燥した試料をスパッタ
装置チャンバ内にセットする。次に工程55においてチ
ャンバ内にセットされた上記試料を加熱しながら、クラ
イオポンプにより前記チャンバ内を11 OTorr台まで背圧する。次に工程56において上記
試料を100’C位にセットしたのち、スパッタガスと
してArガスを10mTo r r程度上記チャンバ内
へ流入する。この場合のターゲットは、5iaN4焼結
体の4インチターゲットのものを用いる。そして次に工
程57において13’、56Ml−1zもの高周波電源
からの200Wのスパッタ電力によりプリスパッタを1
時間行なったのち、スパッタ膜付けを行なう。
First, in step 51, the sample, that is, the tension post 15. The inclined post 23 or the drum 22 is cleaned using an alkaline detergent, distilled water, and an organic solution tS<acetone, in this order, while performing ultrasonic cleaning. Next, in step 52, the sample is soaked in isopropyl alcohol. Next, in step 53, the sample is dried in freon vapor. Next, in step 54, the dried sample is placed in a sputtering apparatus chamber. Next, in step 55, while heating the sample set in the chamber, a cryopump backpressures the inside of the chamber to about 11 OTorr. Next, in step 56, the sample is set at about 100'C, and then Ar gas is flowed into the chamber at about 10 mTorr as a sputtering gas. The target used in this case is a 4-inch target made of a 5iaN4 sintered body. Then, in step 57, pre-sputtering is performed once with a sputtering power of 200W from a high frequency power source of 13', 56Ml-1z.
After a certain period of time, sputter film deposition is performed.

またケイ素化合物としてSiO2をRFマグネトロンス
パッタリングにより被着させるには、ターゲットとして
5iQ2の4インチサイズのものを用い、Arガスを7
mTorrチャンバ内に流入する。他の工程は5iaN
+の場合と同様である。
Furthermore, in order to deposit SiO2 as a silicon compound by RF magnetron sputtering, a 4-inch size 5iQ2 target is used, and Ar gas is
into the mTorr chamber. Other processes are 5iaN
The same is true for +.

またケイ素化合物としてSiCをRFマグネトロンスパ
ッタリングにより被着させる場合は、ターゲットとして
SICの4インチサイズのものを用いる。その他はSi
O2の場合と同様である。
Further, when depositing SiC as a silicon compound by RF magnetron sputtering, a 4-inch size SIC is used as a target. Others are Si
The same is true for O2.

上述の如く構成された本発明の装置では、従来5US3
03などのステンレス鋼により全体がつくられていたテ
ンションポスト或いは傾斜ポスト等に代えて、ステンレ
ス鋼等の母材の外面に例えば上述のようなケイ素化合物
の薄層が形成されたポストを適用しているので、これら
ポストに対するテープの巻つけ角が大きくても当該ポス
ト周辺における摩擦係数が少なく、ポスト、テープ双方
の摩耗が極めて少なくなる。従来のこの種の装置では両
傾斜ポスト(本発明の傾斜ポスト17.23に対応する
もの)に対するテープ巻っけ角の和は約1000程度に
なり、これらポスト周面におけるテープ走行時の摩擦抵
抗或いはポスト周面とテープ面との静摩擦力が極めて大
きくなり、テープ走行速度にムラが生じたり、ポスト、
テープ双方の摩耗が著しい等の問題が生じていたが、本
発明によりこれらの問題は一掃された。更にまた第1図
の本発明の実加例では、回転ドラムについてもアルミニ
ウム類またはプラスチック製の母材の上に例えばケイ素
化合物をコートしてドラムを構成しているので、ドラム
外周面(テープ摺接面)とテープ面との摩擦に関して生
じる、上述のポストに関すると同様の問題は完全に解決
される。
In the device of the present invention configured as described above, the conventional 5US3
Instead of tension posts or inclined posts made entirely of stainless steel such as 03, a post with a thin layer of silicon compound as described above, for example, formed on the outer surface of a base material such as stainless steel, is used. Therefore, even if the wrapping angle of the tape around these posts is large, the coefficient of friction around the posts is small, and wear on both the posts and tape is extremely reduced. In conventional devices of this kind, the sum of the tape wrapping angles for both inclined posts (corresponding to the inclined posts 17 and 23 of the present invention) is about 1000, and the frictional resistance when the tape runs on the circumferential surface of these posts is Alternatively, the static friction between the post circumferential surface and the tape surface may become extremely large, causing uneven tape running speed or causing the post,
Problems such as significant wear of both tapes had occurred, but these problems have been eliminated by the present invention. Furthermore, in the practical example of the present invention shown in FIG. 1, the rotating drum is constructed by coating a silicon compound on a base material made of aluminum or plastic. The same problem with the posts mentioned above, which arises with respect to friction between the tape surface and the tape surface, is completely resolved.

第4図は本発明装置のテープ走行系における摩擦係数を
測定するための計測システムを示す系統図である。
FIG. 4 is a system diagram showing a measurement system for measuring the coefficient of friction in the tape running system of the apparatus of the present invention.

第4図において、磁気テープ100は、供給す−ル10
1→固定ポスト102→ガイドローラ103→固定ボス
ト104→試料(ドラムまたはポスト)200→テンシ
ヨンアナライザボスト106→固定ボスト107→キヤ
プスタン108およびピンチローラ109→ガイドロー
ラ110→固定ボスト111→巻取りリール112の順
に張り廻らされている。上記テンションアナライザポス
ト105および106にはそれぞれ対応してテンション
ゲージを有するテンションアナライザ121.122が
連接され、これらテンションアナライザ121,122
にはそれぞれ信号変換回路131.132が接続されて
いる。各信号変換回路131.132の出力は演算回路
140に入力するものとなっている。上記各テンション
アナライザポスト105.106は両者の間隔を更に広
くあるいは狭く変化させられるようになされており、こ
れにより試料200に対するテープ100の巻付は角が
変えられるようになっている。第4図の計測システムに
より試料200の摩擦係数μを測定するには、キャプス
タン108を回転駆動してこのキャプスタン108とピ
ンチローラ109により挟持されたテープ100を所定
角度で走行させて、試料200に向かう側のテープの張
力T1をテンションアナライザ121により検出し、ま
た試料200より離れていく側のテープの張力T2をテ
ンションアナライザ122により検出する。
In FIG. 4, the magnetic tape 100 is
1 → Fixed post 102 → Guide roller 103 → Fixed post 104 → Sample (drum or post) 200 → Tension analyzer post 106 → Fixed post 107 → Capstan 108 and pinch roller 109 → Guide roller 110 → Fixed post 111 → Take-up reel They are strung out in the order of 112. Tension analyzers 121 and 122 each having a tension gauge are connected to the tension analyzer posts 105 and 106, respectively.
Signal conversion circuits 131 and 132 are connected to each of them. The outputs of each signal conversion circuit 131 and 132 are input to an arithmetic circuit 140. The distance between the tension analyzer posts 105 and 106 can be changed to be wider or narrower, so that the angle at which the tape 100 is wrapped around the sample 200 can be changed. To measure the friction coefficient μ of the sample 200 using the measuring system shown in FIG. A tension analyzer 121 detects the tension T1 of the tape on the side facing the sample 200, and a tension analyzer 122 detects the tension T2 of the tape on the side moving away from the sample 200.

そして、信号変換回路131,132および演算回路1
40を通して u= I n (T2/T1 >/θ (θはテープ巻
付は角) なる演算を行なって摩擦係数μの値をめる。所定の温度
および湿度の条件下における摩擦係数μを測定する場合
は、第4図の計測システムを恒温恒湿槽に入れて計測を
行なう。
Then, signal conversion circuits 131, 132 and arithmetic circuit 1
40, calculate the value of the friction coefficient μ by performing the calculation u = I n (T2/T1 >/θ (θ is the angle of tape winding). Measure the friction coefficient μ under the specified temperature and humidity conditions. If this is the case, the measurement system shown in Figure 4 should be placed in a constant temperature and humidity bath.

上記計測システムにより本装置のテープ走行系の摩擦係
数μの値をめたところ、摩擦係数μは0.2〜0.3程
度の極めて小さなものとなることが明らかになった。
When the value of the friction coefficient .mu. of the tape running system of the present apparatus was measured using the above measurement system, it was found that the friction coefficient .mu. was extremely small, on the order of 0.2 to 0.3.

(発明の効果〕 本発明によれば、蒸着テープのように薄くてテープ走行
系に粘り付きやすい種類のテープを適用した場合におい
ても粘り付きが起こらず、テープ走行系の摩擦係数が小
さく、良好な走行特性が確保される。また適用するテー
プの種類を問わず、テープ走行系の摩擦が少ないため、
テープの摩耗が少なく、またテープ走行系自体の摩耗も
極めて少ない。また更に多湿雰囲気中においてもテープ
の粘り付き現象が起こらず、テープ走行系の*m係数が
小さい理想的状態が保たれる。またケイ素化合物を用い
て薄層を形成しているので、安い材料費でしかも従来技
術の応用で簡単に作成できる。
(Effects of the Invention) According to the present invention, even when a type of tape such as a vapor-deposited tape that is thin and tends to stick to the tape running system is applied, sticking does not occur, and the friction coefficient of the tape running system is small, making it suitable for use. In addition, regardless of the type of tape used, the friction in the tape running system is low, so
There is little wear on the tape, and there is also very little wear on the tape running system itself. Further, even in a humid atmosphere, the tape does not stick, and the ideal state in which the *m coefficient of the tape running system is small is maintained. Furthermore, since the thin layer is formed using a silicon compound, the material cost is low and it can be easily produced by applying conventional technology.

さらに無線化合物なので耐膜性に冨んでいるという効果
をも奏する。
Furthermore, since it is a wireless compound, it also has the effect of being highly film resistant.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第4図は本発明の一実施例を示す図で、第1図
はテープ走行系を示す系統図、第2図は母材に薄層がコ
ートされている状態を示す断面図、第3図はケイ素化合
物をコートする工程の流れ図、第4図はテープ走行系に
おける摩擦係数を測定するシステムを示す系統図である
。 10.100−・・磁気テープ、13.14.29゜3
0・・・カセッ1−内ポスト、15・・・テンションポ
スト、17.23・・・傾斜ポスト、22・・・ドラム
、26・・・ポスト、41・・・母材、42・・・薄層
、105゜106・・・テンションアナライザポスト、
121゜122・・・テンションアナライザ、13L 
132・・・信号変換回路、140・・・演算回路、2
00・・・試料。 出願人代理人 弁理士 坪井 淳 第1図 第2図
Figures 1 to 4 are diagrams showing one embodiment of the present invention, with Figure 1 being a system diagram showing the tape running system, and Figure 2 being a sectional view showing a state in which the base material is coated with a thin layer. , FIG. 3 is a flowchart of the process of coating with a silicon compound, and FIG. 4 is a system diagram showing a system for measuring the coefficient of friction in a tape running system. 10.100--Magnetic tape, 13.14.29゜3
0...Cassette 1-inner post, 15...Tension post, 17.23...Slanted post, 22...Drum, 26...Post, 41...Base material, 42...Thin Layer, 105°106...Tension analyzer post,
121゜122...Tension analyzer, 13L
132... Signal conversion circuit, 140... Arithmetic circuit, 2
00...Sample. Applicant's agent Patent attorney Atsushi Tsuboi Figure 1 Figure 2

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)テープ供給側からテープ巻取り側に至る磁気テー
プ走行系を有する磁気記録再生装置において、前記磁気
テープ走行系を構成する各部材のうち所定部材の少なく
とも磁気テープ摺接面が、ケイ素化合物よりなる薄層を
前記所定部材における当該母材にコートして形成された
ものであることを特徴とする磁気記録再生装置。
(1) In a magnetic recording and reproducing device having a magnetic tape running system extending from the tape supply side to the tape winding side, at least the magnetic tape sliding contact surface of a predetermined member of each member constituting the magnetic tape running system is made of a silicon compound. A magnetic recording/reproducing device characterized in that the base material of the predetermined member is coated with a thin layer of the following.
(2)前記所定部材は、磁気テープを所定の巻付は角に
わたって巻回、走行させるべきドラムである特許請求の
範囲第(1)項記載の磁気記録再生装置。
(2) The magnetic recording and reproducing apparatus according to claim (1), wherein the predetermined member is a drum on which the magnetic tape is wound and run over a predetermined angle.
(3)前記ドラムはアルミニウム製もしくはプラスチッ
ク製の回転ドラムである特許請求の範囲第(2)項記載
の磁気記録再生装置。
(3) The magnetic recording and reproducing apparatus according to claim (2), wherein the drum is a rotating drum made of aluminum or plastic.
(4)前記所定部材はパックテンションポスト。 固定ポストまたはそれら両者である特許請求の範囲第(
1)項記載の磁気記録再生装置。
(4) The predetermined member is a pack tension post. The fixed post or both claims (
1) The magnetic recording and reproducing device described in item 1).
(5)前記バックテンションポストおよび固定ポストの
少なくとも一方はステンレス鋼製の円柱状のものである
特許請求の範囲第(4)項記載の磁気記録再生装置。
(5) The magnetic recording and reproducing apparatus according to claim (4), wherein at least one of the back tension post and the fixed post is made of stainless steel and has a cylindrical shape.
(6)前記薄層は物理蒸着法により前記母材にコートし
て形成されたものである特許請求の範囲第(1)項ない
し第(5)項のいずれかに記載の磁気記録再生装置。
(6) The magnetic recording/reproducing device according to any one of claims (1) to (5), wherein the thin layer is formed by coating the base material by a physical vapor deposition method.
(7)前記薄層は化学蒸着法により前記母材にコートし
て形成されたものである特許請求の範囲第(1)項ない
し第(5)項のいずれかに記載の磁気記録再生装置。
(7) The magnetic recording/reproducing device according to any one of claims (1) to (5), wherein the thin layer is formed by coating the base material by a chemical vapor deposition method.
JP25056783A 1983-12-27 1983-12-27 Magnetic recording and reproducing device Pending JPS60138761A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63113853A (en) * 1986-10-29 1988-05-18 Kyocera Corp Tape guide
JPH0289644U (en) * 1988-12-27 1990-07-16

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